METHOD FOR PROCESSING A CARRIER, A METHOD FOR OPERATING A PLASMA PROCESSING CHAMBER, AND A METHOD FOR PROCESSING A SEMICONDUCTOR WAFER
Номер патента: US20160093500A1
Опубликовано: 31-03-2016
Автор(ы): Brencher Lothar, RENNER Michael
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-03-2016
Автор(ы): Brencher Lothar, RENNER Michael
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for manufacturing metal fluoride-containing organic polymer film, patterning method, and method for manufacturing semiconductor device
Номер патента: US20230089206A1. Автор: Koji Asakawa,Ryosuke Yamamoto,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.