Dry-etching method and apparatus

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: US9164374B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: US20130034806A1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-07.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: TWI457697B. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2014-10-21.

Etching method and photomask blank processing method

Номер патента: EP2251741A3. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki,Yoshinori Kinase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Dry etching method for film layer structure and film layer structure

Номер патента: US20210010140A1. Автор: Chong HU,Xianwang WEI. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Dry-etching method

Номер патента: US10192749B2. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Dry-etching method

Номер патента: US20170162397A1. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Dry etching method

Номер патента: US5733820A. Автор: Kazuo Sugimoto,Satoshi Morishita,Kouichiro Adachi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1998-03-31.

Local dry etching method

Номер патента: US6649528B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-18.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220325418A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-10-13.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US20240282583A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor device, and etching device

Номер патента: US20220056593A1. Автор: Akifumi YAO,Kunihiro Yamauchi,Yuuta TAKEDA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Dry etching method and apparatus for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US5990016A. Автор: Byong-dong Kim,Jung-kyu Lee,Sung-il Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-11-23.

Dry etching method

Номер патента: US20140008322A1. Автор: Kazuya Abe,Toshiyasu Sakai,Hiroyuki Abo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

Dry etching method

Номер патента: US09905431B2. Автор: Masahito Mori,Takao Arase,Satoshi Terakura,Ryuta Machida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US11972955B2. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4159892A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2023-04-05.

Dry etching method and dry etching agent

Номер патента: US9929021B2. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4354490A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Dry Etching Method and Dry Etching Agent

Номер патента: US20170084467A1. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Dry Etching Method

Номер патента: US20210358762A1. Автор: Hiroyuki Oomori,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Silicon Dry Etching Method

Номер патента: US20160005612A1. Автор: Isamu Mori,Akiou Kikuchi,Masanori WATARI. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-07.

Silicon dry etching method

Номер патента: US9524877B2. Автор: Isamu Mori,Akiou Kikuchi,Masanori WATARI. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Dry etching method

Номер патента: US20100255612A1. Автор: Hitoshi Kobayashi,Toru Ito,Yoshiharu Inoue,Toshiaki Nishida,Hiroaki Ishimura,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Dry etching method

Номер патента: US5366590A. Автор: Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-11-22.

Multi-step local dry etching method for SOI wafer

Номер патента: US20040063329A1. Автор: Yasuhiro Horiike,Kazuyuki Tsuruoka,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Dry etching method

Номер патента: US4406733A. Автор: Shinichi Tachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-09-27.

Dry etching method for a gallium nitride type compound semiconductor

Номер патента: US5693180A. Автор: Satoshi Sugahara,Katsuki Furukawa. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1997-12-02.

Dry etching Method

Номер патента: US5635021A. Автор: Kenji Harafuji. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-06-03.

Dry etching method of mgo thin film

Номер патента: KR101394651B1. Автор: 정지원,이일훈. Владелец: 인하대학교 산학협력단. Дата публикации: 2014-05-12.

Dry etching method for metal film

Номер патента: US8961805B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-02-24.

Silicon dry etching method

Номер патента: US20220044938A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Toshiyuki SAKUISHI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-02-10.

Silicon dry etching method

Номер патента: KR20220017837A. Автор: 토시유키 나카무라,켄타 도이,토시유키 사쿠이시,야스히로 모리카와. Владелец: 가부시키가이샤 아루박. Дата публикации: 2022-02-14.

Dry etching methods

Номер патента: US7368396B2. Автор: Girish S. Patil,Karthik Vaideeswaran,James M. Mrvos. Владелец: Lexmark International Inc. Дата публикации: 2008-05-06.

Dry etching methods

Номер патента: US20070004215A1. Автор: Girish Patil,James Mrvos. Владелец: Lexmark International Inc. Дата публикации: 2007-01-04.

Dry etching method

Номер патента: US9330888B2. Автор: Xi Chen,Liangliang LI,Yao Liu,Xiaowei Liu,Jinchao BAI,Xiangqian Ding. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Dry etching method

Номер патента: US20180233376A9. Автор: Yueping Zuo,Yinghai Ma,Liangjian Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Dry etching method of manufacturing semiconductor light emitting device substrate

Номер патента: US09748441B2. Автор: Kei Shinotsuka,Kotaro Dai,Yoshihisa Hatta,Yasuhito KAJITA. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Dry Etching Agent, Dry Etching Method and Method for Producing Semiconductor Device

Номер патента: US20190345385A1. Автор: Yao Akifumi,Kashiwaba Takashi,OOMORI Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-14.

DRY-ETCHING METHOD

Номер патента: US20170162397A1. Автор: KUWAHARA Kenichi,ENOKIDA Syuji. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-08.

Dry etching method

Номер патента: JP2956602B2. Автор: 秀行 庄司,隆一 楠木. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-04.

Dry etching method for semiconductor

Номер патента: JP3078821B2. Автор: 雅文 橋本,勝英 真部,正樹 森,正宏 小滝. Владелец: Japan Science and Technology Corp. Дата публикации: 2000-08-21.

Dry etching method

Номер патента: US09728422B2. Автор: Hiroyuki Oomori,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Dry Etching Method, Semiconductor Device Manufacturing Method, and Chamber Cleaning Method

Номер патента: US20190355590A1. Автор: Akifumi YAO,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Dry etching method

Номер патента: US5880035A. Автор: Seiichi Fukuda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-03-09.

Dry etching method

Номер патента: US20190080928A1. Автор: Lei Zhao,Qingzhao Liu,Jiushi WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-14.

Dry etching method

Номер патента: US10468271B2. Автор: Lei Zhao,Qingzhao Liu,Jiushi WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-05.

Dry etching method of copper or copper alloy interconnection layer employing plasma of an iodine compound

Номер патента: US5240559A. Автор: Tomoaki Ishida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1993-08-31.

Dry etching method

Номер патента: US20010055886A1. Автор: Teiichi Kimura,Yoshihiro Yanagi,Kiyohiko Takagi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-27.

DRY ETCHING GAS COMPOSITION COMPRISING SULFUR-CONTAINING FLUOROCARBON COMPOUND AND DRY ETCHING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20220135882A1. Автор: KATO Korehito,SHIMIZU Hisashi. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

Dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: JP5808697B2. Автор: 勝 伊澤,政士 森,森 政士,伊澤 勝,勝嗣 八木. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

Dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: JPWO2008140012A1. Автор: 俊雄 林,泰宏 森川,紅コウ 鄒,森川 泰宏,鄒 紅コウ,林 俊雄. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-08-05.

Dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: TW200903632A. Автор: Toshio Hayashi,Yasuhiro Morikawa,Kou-Kou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-01-16.

Dry etching method

Номер патента: TW527441B. Автор: Teiichi Kimura,Yoshihiro Yanagi,Kiyohiko Takagi. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-11.

Dry etching method and apparatus

Номер патента: US20030066817A1. Автор: Hiroshi Tanabe,Tomohiro Okumura,Hiroshi Imai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-10.

Dry-etching method and apparatus

Номер патента: US20090181545A1. Автор: Masaru Izawa,Masatsugu Arai,Nobuyuki Negishi. Владелец: Nobuyuki Negishi. Дата публикации: 2009-07-16.

Dry Etching Method

Номер патента: US20180204728A1. Автор: Yao Akifumi,OOMORI Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

Dry etching method

Номер патента: KR100677039B1. Автор: 김상권. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-01-31.

Dry etching method of wafer backside using remote plasma generator

Номер патента: KR101131740B1. Автор: 김승기,장덕현,서정혁. Владелец: 주식회사 테라텍. Дата публикации: 2012-04-05.

Dry etching method

Номер патента: KR100225552B1. Автор: 다쓰미데쓰야. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 1999-10-15.

Dry etching method

Номер патента: KR101087514B1. Автор: 야스히로 모리카와,커우커우 쑤우. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2011-11-28.

Dry etching method

Номер патента: JPWO2008032627A1. Автор: 泰宏 森川,紅コウ 鄒,森川 泰宏,鄒 紅コウ. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-01-21.

Dry etching method

Номер патента: TWI512826B. Автор: Kenichi Kuwabara,Go Saito,Tomoyoshi Ichimaru. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-12-11.

Dry etching method

Номер патента: CN1535473A. Автор: , ,清水昭贵,高明辉,栉引理人,山下朝夫,樋口文彦,三浦利仁,深泽孝之. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-10-06.

Dry etching method

Номер патента: US10741406B2. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-11.

Dry etching method for semiconductor device

Номер патента: EP1148535B1. Автор: Takeshi Yamashita,Hideo Niko,Takao 490-503 Kuya-cho Yamaguchi. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-06-16.

Dry etching method of semiconductor substrate and dry etching method of silicon oxide film

Номер патента: EP4152362A1. Автор: Tatsuo Abe,Tsuyoshi Ohtsuki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-22.

Dry etching method of semiconductor substrate and dry etching method of silicon oxide film

Номер патента: EP4152362A4. Автор: Tatsuo Abe,Tsuyoshi Ohtsuki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Method and apparatus for etching the silicon oxide layer of a semiconductor substrate

Номер патента: US20120196445A1. Автор: Kwon-Taek Lim. Владелец: Pukyong National University. Дата публикации: 2012-08-02.

Dry etching agent and dry etching method

Номер патента: TW201217500A. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-01.

Wiring layer dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW541579B. Автор: Kenji Kawai,Atsunori Nishiura,Ryoichi Yoshifuku. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-07-11.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20010005632A1. Автор: Hideo Ichinose,Shoji Seta. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2001-06-28.

Dry etchant and dry etching method

Номер патента: TWI444456B. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-11.

Dry etching method, dry etching agent and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6788177B2. Автор: 章史 八尾,啓之 大森,辰徳 上田. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-25.

Dry Etching Gas and Dry Etching Method

Номер патента: US20180066187A1. Автор: Yao Akifumi,FUJIWARA Masaki,NAKAMURA Yosuke,OOMORI Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

Dry Etching Agent and Dry Etching Method Using the Same

Номер патента: US20140242803A1. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

DRY ETCHING GAS COMPOSITION AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20200234962A1. Автор: KATO Korehito,IKETANI Yoshihiko,SHIMIZU Hisashi,SHIBUSAWA Yukinobu. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-23.

Dry etching gas and dry etching method

Номер патента: JP5407101B2. Автор: 新吾 中村,博一 青山,充司 板野,全孝 廣瀬. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-05.

Dry etching composition and dry etching method

Номер патента: JP6323540B1. Автор: 勇 毛利,章史 八尾,啓之 大森. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-16.

Dry etching agent and dry etching method

Номер патента: EP2595179A1. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Dry etching agent and dry etching method

Номер патента: US9017571B2. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-28.

Dry etching agent and dry etching method using the same

Номер патента: TW201137088A. Автор: Isamu Mori,Yasuo Hibino,Satoru Okamoto,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-01.

Dry etching method

Номер патента: AU2008239010A1. Автор: Koukou Suu,Yasuhiro Morikawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-10-23.

Dry etching method of insulating film

Номер патента: TW200818301A. Автор: Masatoshi Oyama,Nobuyuki Negishi,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2008-04-16.

Dry etching method

Номер патента: TW364168B. Автор: Kazunori Tsujimoto,Naoyuki Kofuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-07-11.

Dry etching method and apparatus therefor

Номер патента: JPS6175529A. Автор: Haruo Okano,晴雄 岡野,誠 関根,Yasuhiro Horiike,靖浩 堀池,Makoto Sekine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1986-04-17.

Dry etching method, method for producing semiconductor device, and etching device

Номер патента: EP4047636A4. Автор: Akifumi YAO,Kunihiro Yamauchi,Hikaru KITAYAMA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: EP3971322A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-03-23.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: EP3971322A4. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-07-27.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3283477B2. Автор: 秀夫 二河,伸一 今井,信浩 地割. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2002-05-20.

Dry etching method and semiconductor device fabrication method

Номер патента: TW201209913A. Автор: Yasuhiro Morikawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-03-01.

Dry Etching Method and Beta-Diketone-Filled Container

Номер патента: US20190348307A1. Автор: Akifumi YAO,Takashi Masuda,Kunihiro Yamauchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Dry etching method, production method for semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US20220230888A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-07-21.

Dry etching method, manufacturing method of semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: TWI765581B. Автор: 松井一真. Владелец: 日商昭和電工股份有限公司. Дата публикации: 2022-05-21.

Dry etching method and there apparatus

Номер патента: KR920005349B1. Автор: 하루오 오카노,야스히로 호리이케,마고토 세키네,츠네토시 아리가도. Владелец: 아오이 죠이치. Дата публикации: 1992-07-02.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4159892A4. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Dry etching method and container filled with β-diketone

Номер патента: TWI661088B. Автор: 八尾章史,增田隆司,山內邦裕. Владелец: 日商中央硝子股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Dry etching method, production method for semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4113582A4. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: IL294508A. Автор: . Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-09-01.

METHOD FOR REMOVING ADHERING MATTER AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20170200602A1. Автор: Tsubota Yasutoshi,Kameda Kenji,HIYAMA Shin,KIKUCHI Akiou,Watari Masanori. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-13.

Silicon Dry Etching Method

Номер патента: US20160005612A1. Автор: Mori Isamu,KIKUCHI Akiou,Watari Masanori. Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2016-01-07.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20150099368A1. Автор: ONO Tetsuo,SHEN Ze,YASUNAMI Hisao. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20220172956A1. Автор: Yao Akifumi,SUZUKI Shoi. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-02.

Dry Etching Method

Номер патента: US20140206196A1. Автор: Mori Isamu,Umezaki Tomonori. Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2014-07-24.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20150221518A1. Автор: MORI Masahito,ARASE Takao,TERAKURA Satoshi,Machida Ryuta. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-06.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20160307765A1. Автор: ONO Tetsuo,SHEN Ze,YASUNAMI Hisao. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2016-10-20.

Dry Etching Method

Номер патента: US20200365411A1. Автор: Yao Akifumi,SUZUKI Shoi. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

Dry etching method

Номер патента: JP4865373B2. Автор: 謙一 桑原,聡 宇根,朋祥 市丸,正道 坂口,尚輝 安井. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Dry etching method using hbr or br

Номер патента: KR930001500B1. Автор: 모리다까 나까무라,다까시 구리모또,가쯔히꼬 이이즈까. Владелец: 후지쓰 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1993-03-02.

Dry etching method

Номер патента: KR950009963A. Автор: 신고 가도무라. Владелец: 소니 가부시기가이샤. Дата публикации: 1995-04-26.

Dry etching method

Номер патента: JP4865361B2. Автор: 謙一 桑原,聡 宇根,朋祥 市丸,正道 坂口. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Dry etching method

Номер патента: KR100272644B1. Автор: 신고 가도무라. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2000-12-01.

Dry etching method

Номер патента: KR100238691B1. Автор: 신고 가도무라,데쓰야 다쓰미,데쓰지 나가야마. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2000-01-15.

Dry etching method

Номер патента: JPS60169140A. Автор: Norio Nakazato,Makoto Nawata,Ryoji Fukuyama,良次 福山,Masaharu Saikai,誠 縄田,西海 正治,仲里 則男. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-09-02.

Dry etching method

Номер патента: JPS5928341A. Автор: Yasuhiro Horiike,靖浩 堀池,Masahiro Shibagaki,柴垣 正弘. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-02-15.

Dry etching method

Номер патента: JP3298161B2. Автор: 淳一 佐藤,新吾 門村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-07-02.

Dry etching method of platinum thin film

Номер патента: KR970072162A. Автор: 정지원. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-11-07.

Dry etching method

Номер патента: KR0176715B1. Автор: 신고 가도무라. Владелец: 소니 가부시기가이샤. Дата публикации: 1999-04-15.

Dry etching method

Номер патента: JP2023001302A. Автор: Akifumi YAO,章史 八尾,聖唯 鈴木,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-04.

Dry etching method

Номер патента: KR100274080B1. Автор: 가도무라신고. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2000-12-15.

Dry etching method for interlayer insulating film

Номер патента: TWI437633B. Автор: Koukou Suu,Yasuhiro Morikawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-05-11.

Dry etching method

Номер патента: KR102419013B1. Автор: 아키후미 야오,쇼이 스즈키. Владелец: 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2022-07-08.

Crystal plane anisotropic dry etching method

Номер патента: JP3184988B2. Автор: 健二 山本,潤一 西澤. Владелец: Japan Science and Technology Corp. Дата публикации: 2001-07-09.

Dry etching method of high melting point metal film

Номер патента: KR950015619A. Автор: 히데유끼 쇼지. Владелец: 닛뽕덴끼 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1995-06-17.

Semiconductor wafer dry etching method

Номер патента: JP4387801B2. Автор: カン,ヒョサン. Владелец: カン,ヒョサン. Дата публикации: 2009-12-24.

Dry etching method

Номер патента: KR950021175A. Автор: 쥰이찌 사또. Владелец: 소니 가부시기가이샤. Дата публикации: 1995-07-26.

Dry etching method

Номер патента: JP3013446B2. Автор: 啓二 篠原. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-02-28.

Dry etching method

Номер патента: JP3798491B2. Автор: 公 輿石,竜二 本多. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-07-19.

Dry etching method

Номер патента: JP7177344B2. Автор: 章史 八尾,聖唯 鈴木. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Dry etching method

Номер патента: TWI490943B. Автор: Kazuhiro Watanabe,Manabu Yoshii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2015-07-01.

Dry etching method of film containing silicon

Номер патента: KR101153679B1. Автор: 히사오 도사카. Владелец: 가시오게산키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-06-18.

Low-temperature dry etching method

Номер патента: JPS6432627A. Автор: Kazunori Tsujimoto,Shinichi Taji,Sadayuki Okudaira. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1989-02-02.

Dry etching method

Номер патента: JPS5954226A. Автор: 守孝 中村,Moritaka Nakamura,Naomichi Abe,阿部 直道. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-03-29.

Dry-etching method by low pressure capacitively coupled plasma

Номер патента: KR101207447B1. Автор: 이제원. Владелец: 인제대학교 산학협력단. Дата публикации: 2012-12-03.

Dry etching method

Номер патента: EP0795896A3. Автор: Kenji Kaneda,Akira c/o Rohm Co. Ltd. Kamisawa,Takashi c/o Rohm Co. Ltd. Nakamura. Владелец: Plasma System Corp. Дата публикации: 1999-06-02.

Dry etching method

Номер патента: TWI555080B. Автор: Masahito Mori,Takao Arase,Satoshi Terakura,Ryuta Machida. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2016-10-21.

Dry etching method for silicon thin film

Номер патента: JP3009975B2. Автор: 仁志 氏政,優 梶谷,幹雄 片山,猛久 桜井,厚志 伴,勝博 川合. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2000-02-14.

Dry etching method

Номер патента: TW200710274A. Автор: Takayuki Sakai. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2007-03-16.

Dry etching method

Номер патента: KR100218772B1. Автор: 신고 가도무라,데쓰지 나가야마. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 1999-09-01.

Dry etching method

Номер патента: AU2008252203A1. Автор: Toshio Hayashi,Koukou Suu,Yasuhiro Morikawa,Tadayuki Satou. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Dry etching method for si material

Номер патента: JPS61141139A. Автор: 和之 富田,Kazuyuki Tomita,Masuo Tanno,丹野 益男. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-06-28.

Dry etching method for multilayer film

Номер патента: KR100259351B1. Автор: 지승헌,하재희. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2000-08-01.

Dry etching method

Номер патента: EP0516043A3. Автор: Haruo Okano,Masaru Hori,Masao Ito,Yoshio Ishikawa,Keiji Horioka,Masahito Hiratsuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1993-10-06.

Dry etching method

Номер патента: JPS61121440A. Автор: 隆三 宝珍,Riyuuzou Houchin,Ichiro Nakayama,一郎 中山,Masuo Tanno,丹野 益男. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-06-09.

Dry etching method

Номер патента: JP3109253B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-11-13.

Dry etching method

Номер патента: EP0644582A2. Автор: Kadomura C/O Sony Corporation Shingo. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1995-03-22.

Dry etching method.

Номер патента: DE3854561D1. Автор: Haruo C O Patent Divisio Okano,Makoto C O Patent Divis Sekine,Tsunetoshi C O Patent Arikado,Yasuhiro C O Patent Div Horike. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1995-11-16.

Dry etching method for organic material layers

Номер патента: EP0123813A3. Автор: Iwao C/O Patent Division Higashikawa,Tsunetoshi C/O Patent Division Arikado. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-11-09.

Dry etching method

Номер патента: EP2755229A1. Автор: Isamu Mori,Tomonori Umezaki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-16.

Dry etching method

Номер патента: CN111029254A. Автор: 李树宏,李三三,汤伟杰,刘一川. Владелец: Suzhou Keyang Photoelectric Science & Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-04-17.

Dry etching method

Номер патента: JPS60165724A. Автор: Haruo Okano,晴雄 岡野,誠 関根,Yasuhiro Horiike,靖浩 堀池,Makoto Sekine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1985-08-28.

Dry etching method

Номер патента: TW201923039A. Автор: 八尾章史,鈴木聖唯. Владелец: 日商中央硝子股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-16.

Interlayer dielectric film dry etching method

Номер патента: JPWO2007135906A1. Автор: 泰宏 森川,弘綱 鄒,森川 泰宏. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-10-01.

Dry etching method

Номер патента: JP3116569B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-12-11.

Dry etching method of multilayer for semiconductor device

Номер патента: KR100259352B1. Автор: 지승헌,하재희. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2000-08-01.

Dry etching method

Номер патента: JPS60743A. Автор: Haruo Okano,晴雄 岡野,Takashi Yamazaki,隆 山崎,Yasuhiro Horiike,靖浩 堀池. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1985-01-05.

Directional dry etching method

Номер патента: JPS56104441A. Автор: Junichi Nishizawa,Yukihisa Takahashi. Владелец: Semiconductor Research Foundation. Дата публикации: 1981-08-20.

Dry etching method of metal oxide/photoresist film laminate

Номер патента: SG65090A1. Автор: Mitsuru Sadamoto,Noriyuki Yanagawa,Satoru Iwamori,Kenju Sasaki. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 1999-05-25.

Dry etching method, and dry etching agent and storage container therefor

Номер патента: US12100600B2. Автор: Shinya Ikeda,Hiroyuki Oomori,Tatsunori Kamida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Dry etching method

Номер патента: US20060108323A1. Автор: Shuichi Okawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-25.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

A dry-etching method and an equipment for dry-etching

Номер патента: EP1063691A2. Автор: Takashi Matsuura,Junichi Murota. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2000-12-27.

DRY ETCHING APPARATUS AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20210335625A1. Автор: Kofuji Naoyuki,KUWAHARA Kenichi. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-28.

Dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: CN100362632C. Автор: 及川弘太. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Dry etching method and apparatus

Номер патента: KR100551392B1. Автор: 오쿠무라도모히로,기무라다다시,미츠하시아키오. Владелец: 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-02-09.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6697372B2. Автор: 明生 宇井,陽介 佐藤,香織 成宮,久貴 林,圭介 菊谷. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2020-05-20.

Dry etching method and gas processing device

Номер патента: JP2871632B2. Автор: 正敏 徳島. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-17.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20180025915A1. Автор: ZUO Yueping,MA Yinghai,LI Liangjian. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-01-25.

Dry etching method

Номер патента: US20180233376A9. Автор: Yueping Zuo,Yinghai Ma,Liangjian Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Dry Etching Method

Номер патента: US20150311039A1. Автор: Xi Chen,Liangliang LI,Yao Liu,Xiaowei Liu,Jinchao BAI,Xiangqian Ding. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Dry etching method

Номер патента: US20020119667A1. Автор: Mitsuhiro Okuni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-29.

Dry etching method, microfabrication process and dry etching mask

Номер патента: US20020028359A1. Автор: Kenji Uchiyama,Kazuhiro Hattori. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2002-03-07.

Dry etching gas and dry etching method using the same

Номер патента: TW200948934A. Автор: Shingo Nakamura. Владелец: Daikin Ind Ltd. Дата публикации: 2009-12-01.

Dry etching method and apparatus for use in the LCD device

Номер патента: US20010020517A1. Автор: Byung-Young Ahn. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2001-09-13.

Dry etching method

Номер патента: US5338399A. Автор: Toshiharu Yanagida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-08-16.

Dry etching method and dry etching device

Номер патента: KR940006216A. Автор: 신이찌 이마이,노리히코 타마키. Владелец: 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤. Дата публикации: 1994-03-23.

Dry Etching Method and Dry Etching Agent

Номер патента: US20170084467A1. Автор: Yao Akifumi,OOMORI Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-23.

FILTER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, DRY ETCHING APPARATUS, AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20190105588A1. Автор: HIRANO Takaaki,HYAKUTAKE Munehiro. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2019-04-11.

Filter, method for producing same, dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: TW201800139A. Автор: 百武宗洋,平野孝明. Владелец: 日本瑞翁股份有限公司. Дата публикации: 2018-01-01.

Filter, method for producing same, dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: WO2017169809A1. Автор: 孝明 平野,宗洋 百武. Владелец: 日本ゼオン株式会社. Дата публикации: 2017-10-05.

Gas composition for dry etching and dry etching method

Номер патента: US20190057878A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Tetsuya FUKASAWA,Yoshihiko IKETANI. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

GAS COMPOSITION FOR DRY ETCHING AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20180108537A1. Автор: TAKAHASHI Yoshinao,KATO Korehito,FUKASAWA Tetsuya,IKETANI Yoshihiko. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

DRY ETCHING METHOD, DRY ETCHING APPARATUS, METAL FILM, AND DEVICE INCLUDING THE METAL FILM

Номер патента: US20140352716A1. Автор: Takeda Yuta,KIKUCHI Akiou. Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2014-12-04.

Dry Etching Agent Composition and Dry Etching Method

Номер патента: US20190287812A1. Автор: Mori Isamu,Yao Akifumi,OOMORI Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

Gas composition for dry etching and dry etching method

Номер патента: US10431472B2. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Tetsuya FUKASAWA,Yoshihiko IKETANI. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-01.

Silicon nitride film dry etching method

Номер патента: TW200901316A. Автор: Hisao Tosaka. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-01.

Dry Etching Method, Semiconductor Device Manufacturing Method, and Chamber Cleaning Method

Номер патента: US20190355590A1. Автор: Akifumi YAO,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Dry etching method and device manufacturing method

Номер патента: US20140076842A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-03-20.

DRY ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20160148851A1. Автор: Okamoto Keiji,OZEKI Kazuyuki,ARAI Hiromasa. Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2016-05-26.

Dry etching method and method for producing semiconductor device

Номер патента: TW202100805A. Автор: 古谷俊太,大森啓之. Владелец: 日商中央硝子股份有限公司. Дата публикации: 2021-01-01.

Dry etching method and method of manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US6723652B1. Автор: Seiichi Fukuda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-04-20.

Dry etching method and device manufacturing method

Номер патента: JP5766027B2. Автор: 高橋 秀治,秀治 高橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-08-19.

Dry etching method and method for manufacturing device

Номер патента: WO2012161026A1. Автор: 高橋 秀治. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2012-11-29.

Dry etching method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9818657B2. Автор: Hiromasa Arai,Keiji Okamoto,Kazuyuki Ozeki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Dry etching method and its application

Номер патента: EP0504912B1. Автор: Masaru C/O Shimadzu Corporation Koeda,Tetsuya C/O Shimadzu Corporation Nagano. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 1997-12-17.

Method for supplying composition, and dry etching method

Номер патента: CN115461843A. Автор: 大森启之,八尾章史,谷口敬寿. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-09.

Method for supplying composition, composition and dry etching method

Номер патента: US20230167361A1. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori,Takahisa Taniguchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20190080928A1. Автор: Zhao Lei,Wang Jiushi,Liu Qingzhao. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

Dry Etching Method

Номер патента: US20160218015A1. Автор: OOMORI Hiroyuki,KIKUCHI Akiou. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20150357200A1. Автор: INUI Hirotoshi. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-10.

Dry etching method

Номер патента: JPS6053025A. Автор: Takeshi Kimura,剛 木村,Kozo Mochiji,Akihiko Kishimoto,Hidehito Obayashi,広造 持地,大林 秀仁,岸本 晃彦. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-03-26.

Dry etching method for metallization pattern profiling

Номер патента: KR102279612B1. Автор: 야닉 페르쁘리에. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-07-19.

Non-plasma dry etching method

Номер патента: CN108847391B. Автор: 王晓娟,王春,郑波,马振国,吴鑫. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-08.

Dry etching method of iridium electrode

Номер патента: KR100338808B1. Автор: 정지원. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-05-31.

Plasma dry etching method

Номер патента: KR0171070B1. Автор: 이병하. Владелец: 문정환. Дата публикации: 1999-03-30.

Dry etching method

Номер патента: JPS63238288A. Автор: Takashi Kurimoto,孝志 栗本,守孝 中村,Moritaka Nakamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

Dry etching method

Номер патента: JPS6065533A. Автор: Tatsumi Mizutani,Kazunori Tsujimoto,和典 辻本,Sadayuki Okudaira,水谷 巽,奥平 定之. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-04-15.

Drying etching method

Номер патента: KR100188455B1. Автор: 후미히코 히구치,요시오 후카자와. Владелец: 도오교오 에레구토론 가부시키가이샤. Дата публикации: 1999-06-01.

Dry etching method

Номер патента: CN103871847A. Автор: 黄海,洪齐元. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-18.

Dry etching method of layered structure oxide thin film

Номер патента: JP3114916B2. Автор: ビー. デスー セシュ,パン ウェイ. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2000-12-04.

Dry etching method

Номер патента: JPS6043829A. Автор: Hideki Takahashi,勉 塚田,Tsutomu Tsukada,高橋 秀輝. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1985-03-08.

Dry etching method using plasma

Номер патента: KR100866495B1. Автор: 안효준,이규홍,심규환,문성훈,이진효,신희천,양전욱. Владелец: (주) 알에프세미. Дата публикации: 2008-11-03.

Dry etch method for silicon oxide

Номер патента: KR100870914B1. Автор: 이상선. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2008-11-28.

Dry etching method

Номер патента: KR0181513B1. Автор: 신고 가도무라. Владелец: 오오가 노리오. Дата публикации: 1999-04-15.

Dry etching method

Номер патента: JPWO2003007357A1. Автор: 昭貴 清水,隆 榎本,明輝 高,清水 昭貴,敬 鶴田,榎本 隆,広実 岡. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-04.

Dry etching method of PbZrxTi₁-xO₃ thin films

Номер патента: KR970077313A. Автор: 정지원. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-12-12.

Dry etching method

Номер патента: EP2808423B1. Автор: Yuta Takeda,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-02.

Dry etching method

Номер патента: KR100252471B1. Автор: 야나기타토시하루. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2000-04-15.

Dry etching method

Номер патента: KR100229241B1. Автор: 신고 가도무라. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 1999-11-01.

Dry etching method for semiconductor device

Номер патента: US7955963B2. Автор: Akira Takahashi. Владелец: Oki Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-07.

Dry etching method

Номер патента: JPWO2014104290A1. Автор: 裕俊 乾. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-01-19.

Semiconductor Dry Etching Method

Номер патента: KR970023814A. Автор: 이강현,민경진,한민석. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-05-30.

Dry etching method

Номер патента: WO2003007357A1. Автор: Takashi Enomoto,Takashi Tsuruta,Hiromi Oka,Akitaka Shimizu,Meiki Koh. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2003-01-23.

Dry etching method for forming tungsten wiring in a semiconductor device

Номер патента: EP1071124A3. Автор: Hideomi Suzawa,Koji Ono. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-24.

Dry etching method on silicon nitride film

Номер патента: JPS56111222A. Автор: Tsunetoshi Arikado. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1981-09-02.

Dry etching methods for reducing fluorocarbon-containing gas emissions

Номер патента: US20240212988A1. Автор: Chun-Chieh Wang,Tzu-Ming Ou Yang,Yuan-Hao Su. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Dry etching method

Номер патента: JP3816484B2. Автор: 晃子 鈴木,明伸 佐藤,二郎 松尾,エマニュエル ブーレル,利夫 瀬木,学聡 青木. Владелец: Japan Aviation Electronics Industry Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Method of manufacturing displays and apparatus for manufacturing displays

Номер патента: US7527658B2. Автор: Eiji Shibata,Terushige Hino,Takuji Oda,Kazuaki Tanoue. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2009-05-05.

Method of manufacturing displays and apparatus for manufacturing displays

Номер патента: US20060014395A1. Автор: Eiji Shibata,Terushige Hino,Takuji Oda,Kazuaki Tanoue. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-01-19.

Dry etching method for magnetic material

Номер патента: TW200508418A. Автор: Yoshimitsu Kodaira,Taichi Hiromi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2005-03-01.

Dry etching method for magnetic material

Номер патента: EP2184380A1. Автор: Yoshimitsu Kodaira,Taichi Hiromi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-05-12.

Dry etching method for magnetic material

Номер патента: CN1603468A. Автор: 小平吉三,广见太一. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2005-04-06.

Dry etching method, and dry etching agent and storage container therefor

Номер патента: SG11202107622UA. Автор: Shinya Ikeda,Hiroyuki Oomori,Tatsunori Kamida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-30.

Dry etching method and dry etching apparatus by using high density plasma source

Номер патента: KR100419033B1. Автор: 김준태,석창길,손상현,강순석. Владелец: (주)울텍. Дата публикации: 2004-02-21.

Dry Etching Method of Wafer Backside Using Remote Plasma Generator

Номер патента: KR101276318B1. Автор: 김승기,장덕현,서정혁. Владелец: 주식회사 테라텍. Дата публикации: 2013-06-18.

Dry etching method or dry cleaning method

Номер патента: US11814726B2. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Katsuya Fukae. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Dry-etching method and plasma

Номер патента: US4948461A. Автор: Dilip K. Chatterjee. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1990-08-14.

Dry etching device and dry etching method

Номер патента: WO2014024216A1. Автор: 満 小荒井,甲二 埴原,敏夫 横内. Владелец: パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社. Дата публикации: 2014-02-13.

Dry etching method or dry cleaning method

Номер патента: JP6952766B2. Автор: 高橋 至直,至直 高橋,深江 功也,功也 深江,惟人 加藤. Владелец: Kanto Denka Kyogyo Co.,Ltd.. Дата публикации: 2021-10-20.

Dry etching method or dry cleaning method

Номер патента: US20210108311A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Katsuya Fukae. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

A kind of method that silicon carbide substrates are obtained using dry etching method

Номер патента: CN105632901B. Автор: 王锡铭. Владелец: Century Goldray Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-25.

Dry etching method for semiconductor device

Номер патента: JP2005197475A. Автор: Masahiro Takahashi,昌弘 ▲高▼橋. Владелец: Miyagi Oki Electric Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-21.

Oxide semiconductor film dry etching method

Номер патента: JP5028033B2. Автор: 建六 張. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-09-19.

Dry etch method of zinc oxide

Номер патента: KR20020014202A. Автор: 박성주,최원국,김경국,이지면. Владелец: 김효근. Дата публикации: 2002-02-25.

Dry etch method for texturing silicon and device

Номер патента: US20160351734A1. Автор: Talia S. Gershon,Yun Seog Lee,Jeehwan Kim,Richard A. Haight. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-12-01.

Dry etching gas and dry etching method

Номер патента: WO2016163184A1. Автор: 昌生 藤原,章史 八尾,陽介 中村,啓之 大森. Владелец: セントラル硝子株式会社. Дата публикации: 2016-10-13.

Dry etching gas and dry etching method

Номер патента: TW201700443A. Автор: Akifumi YAO,Masaki Fujiwara,Yosuke Nakamura,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-01.

DRY ETCH METHOD FOR TEXTURING SILICON AND DEVICE

Номер патента: US20160351733A1. Автор: Kim Jeehwan,GERSHON TALIA S.,LEE YUN SEOG,Haight Richard A.. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-01.

DRY ETCH METHOD FOR TEXTURING SILICON AND DEVICE

Номер патента: US20160351734A1. Автор: Kim Jeehwan,GERSHON TALIA S.,LEE YUN SEOG,Haight Richard A.. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-01.

Dry etching method of surface texture formation on silicon wafer

Номер патента: EP2635513A4. Автор: Young Kyu Cho. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2014-04-16.

Dry etch method for texturing silicon and device

Номер патента: US9716195B2. Автор: Talia S. Gershon,Yun Seog Lee,Jeehwan Kim,Richard A. Haight. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Method and apparatus for indicating a low battery level

Номер патента: US09488695B2. Автор: Martin Simeth. Владелец: Braun GmbH. Дата публикации: 2016-11-08.

DRY ETCHING DEVICE AND DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20160260586A1. Автор: CHAI Li. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-08.

Dry etching equipment and dry etching method

Номер патента: JP3385528B2. Автор: 英樹 原野. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2003-03-10.

Dry etching method

Номер патента: JPS5953684A. Автор: 守孝 中村,Moritaka Nakamura,Takashi Maruyama,隆司 丸山. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-03-28.

Dry etching method

Номер патента: JPS6155925A. Автор: Haruo Okano,晴雄 岡野,Takashi Yamazaki,隆 山崎. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1986-03-20.

Dry etching method

Номер патента: JPS57169241A. Автор: Norio Hirashita,Jun Kanamori. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1982-10-18.

Dry-etching method

Номер патента: JPS6159832A. Автор: Masao Hirano,平野 雅夫. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-03-27.

Dry etching method

Номер патента: JPS5669374A. Автор: Tsunetoshi Arikado,Hiroshi Kinoshita. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1981-06-10.

Dry etching method

Номер патента: JPH0760815B2. Автор: 伸裕 遠藤,昌雄 田島. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-06-28.

Dry etching method

Номер патента: JPS613410A. Автор: Yasumi Hikosaka,康己 彦坂. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-01-09.

Method and apparatus for determining interaction mode

Номер патента: RU2529191C2. Автор: Филлип ЛИНДБЕРГ,Йонан ФРОССЕН. Владелец: Нокиа Корпорейшн. Дата публикации: 2014-09-27.

Box body, battery, electrical apparatus, and method and apparatus for preparing battery

Номер патента: EP4404344A1. Автор: Wenchao Luo. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Box, battery, electrical apparatus, and method and apparatus for preparing battery

Номер патента: US20240313330A1. Автор: Wenchao Luo. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Method and apparatus for creating a panorama

Номер патента: RU2664674C2. Автор: Тао ЧЭНЬ,Хуаицзюнь ЛЮ,Минюн ТАН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-08-21.

Information Transmission Method and Apparatus

Номер патента: US20200162934A1. Автор: Tao Wu,Teyan CHEN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Image processing system, portable terminal, image processing apparatus identifying method, and recording medium

Номер патента: US20160004485A1. Автор: Naoko Sasase. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2016-01-07.

Apparatus, method, and computer program for allowing an authenticator to authenticate a supplicant

Номер патента: GB2628405A. Автор: De Vleeschauwer Danny. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-09-25.

System, method and apparatus for intelligent device grouping

Номер патента: RU2662362C2. Автор: Хун ЧЭНЬ,Эньсин ХОУ,Вэйгуан ЦЗЯ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-07-25.

Method and apparatus for issuing a notification

Номер патента: RU2769974C2. Автор: Дзонг-хиун РИУ,Хан-дзоо ЧАЕ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2022-04-12.

Product positioning method and device, apparatus, and storage medium

Номер патента: EP3779840A1. Автор: YANG Zhao,Min Liang,QI JIANG,Jun Chen,Shiguo HOU. Владелец: Zhejiang Hanshow Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-17.

Communication method and apparatus

Номер патента: US20230366972A1. Автор: Jia He,Xianfeng DU,Oupeng LI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Method and apparatus for running mobile device software

Номер патента: US20200081696A1. Автор: Peter Marek ZMIJEWSKI,Scott Matthew DOWDELL. Владелец: Iron Gaming Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

User interface method and apparatus for mobile terminal having touchscreen

Номер патента: US09983777B2. Автор: Jung Yeob Oh,Soon Hwa KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-29.

Method and apparatus for securing computer interfaces

Номер патента: US09684805B2. Автор: Michael Wang,Sofin Raskin,Joshua Porten,Shaoan Chin,Alexander INDENBAUM. Владелец: Janus Technologies Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Data processing method and device

Номер патента: EP4354310A1. Автор: Zhibing WANG,Zhenbao LIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Methods and apparatus for tile-based stitching and encoding of images

Номер патента: US20240273851A1. Автор: Juan Zhao,WEI Zong,Gang Shen,Changliang Wang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Content sharing method and apparatus, and electronic device

Номер патента: EP4404037A1. Автор: Bingsong LUO. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Method and apparatus for traffic safety

Номер патента: US10163342B2. Автор: Jung-Soo Jung,Young-Bin Chang,Kyung-Kyu Kim,Jung-Min Moon,Ki-Suk Kweon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-12-25.

Dry etching method for novel phase change material Cr-SbTe

Номер патента: CN111081871A. Автор: 王芳,张楷亮,胡凯,李宇翔,黄金荣,王路广. Владелец: Tianjin University of Technology. Дата публикации: 2020-04-28.

METHOD AND AND APPARATUS FOR TRANSMITTING CONTROL INFORMATION IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20130100919A1. Автор: Chung Jae Hoon,Lee Hyun Woo,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-25.

DRY ETCHING METHOD FOR FILM LAYER STRUCTURE AND FILM LAYER STRUCTURE

Номер патента: US20210010140A1. Автор: HU Chong,WEI Xianwang. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

Dry etching method of conductive high polymerized membrane using microwave source

Номер патента: KR100865485B1. Автор: 박영환,강정원. Владелец: 단국대학교 산학협력단. Дата публикации: 2008-10-27.

Dry etching method

Номер патента: JPS57149733A. Автор: Tokuo Kure,Keijiro Uehara,Nobuo Hasegawa,Hiroshi Yanagisawa,Sadayuki Okudaira. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-09-16.

Methods and apparatus for resistive loads imitation

Номер патента: RU2476040C2. Автор: Игорь А. ЛИЗ. Владелец: Филипс Солид-Стейт Лайтинг Солюшнз, Инк. Дата публикации: 2013-02-20.

Method and device for acquiring access authority

Номер патента: RU2674328C2. Автор: Эньсин ХОУ,Яньлу ЧЖАН,Дэго МЭН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-12-06.

Method and apparatus for identifying the telephone call

Номер патента: RU2594755C1. Автор: Юйсян ЛЮ,Чжунлян ЦЯО,Чжиюн БАЙ,Ботянь ВАН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2016-08-20.

Method and apparatus for receiving CPRI data stream, method and apparatus for receiving ethernet frame, and system

Номер патента: US11736978B2. Автор: Fan Zhang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Device connection method and apparatus, and device and storage medium

Номер патента: EP4322693A1. Автор: Ling Huang,Jialiang HUANG,Jingzhi Ye,Jianlei Chen. Владелец: Guangzhou Shirui Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Data transmission method and apparatus

Номер патента: EP4195570A1. Автор: Lei Wang,Lei Zhang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-14.

Resource determining method and apparatus

Номер патента: US20240205886A1. Автор: Lei Lu,Ting Wang,Hongjia SU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4152633A1. Автор: JIANMIN Lu,Gaoning HE,JIanbiao XU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-22.

Data transmission method and apparatus

Номер патента: US20220014319A1. Автор: Yiming Wang,Chenji HUANG,Luyao Hu,Wangsheng Zhao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Wireless communication method and apparatus

Номер патента: EP4418763A1. Автор: Rong Li,Jun Wang,Hejia LUO,Xiaolu Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Deskewing method and apparatus, and data reception apparatus using the deskewing method and apparatus

Номер патента: US20100260299A1. Автор: Young-don Choi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-14.

Resource sharing method and apparatus

Номер патента: US12114300B2. Автор: BO Lin,Kun Yang,Haifeng Yu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Apparatus, method, and computer program

Номер патента: EP4447340A1. Автор: Aliye KAYA,Faris Mismar. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2024-10-16.

Apparatus, Method, and Computer Program

Номер патента: US20240348326A1. Автор: Aliye KAYA,Faris Mismar. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2024-10-17.

Traffic adjustment method and apparatus

Номер патента: US9602429B2. Автор: Zhonghua Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4033852A1. Автор: Lei Lu,Zhengzheng XIANG,Pu YUAN,Chunxu JIAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-27.

Signal transmitting method and device

Номер патента: EP3672271A1. Автор: Peng Dong,Guanghao SHAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-24.

Feedback method, and apparatus

Номер патента: CA3222956A1. Автор: Xiao Han,Xun Yang,Yunbo Li,Rui Du,Yi Lv,Chenchen LIU,Mengshi HU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Feedback method and apparatus

Номер патента: AU2022291191A1. Автор: Xiao Han,Xun Yang,Yunbo Li,Rui Du,Yi Lv,Chenchen LIU,Mengshi HU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Method and apparatus for controlling intra-refreshing in a video telephony communication system

Номер патента: EP2100458A1. Автор: Kyung-Hun Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-09-16.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4401488A1. Автор: YING Chen,Yue Zhou,Hejia LUO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Communication method and apparatus

Номер патента: US20230098191A1. Автор: JIANMIN Lu,Gaoning HE,JIanbiao XU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Action camera, selfie control method and apparatus, movable platform, and storage medium

Номер патента: US12069364B2. Автор: GE ZHANG. Владелец: SZ DJI Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4418716A1. Автор: Xiao Han,YAN Long,Xun Yang,Yunbo Li,Rong He,Rui Du,Xuming Fang,Yi Lv,Mengshi HU,Yifei Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Signal sending method and apparatus

Номер патента: US20200235818A1. Автор: Peng Dong,Guanghao SHAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Information transmission method and apparatus

Номер патента: US20160226765A1. Автор: Shuo Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Communication method and apparatus

Номер патента: US20240314839A1. Автор: Xiao Han,YAN Long,Xun Yang,Yunbo Li,Rong He,Rui Du,Xuming Fang,Yi Lv,Mengshi HU,Yifei Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Resource determination method and device

Номер патента: EP4456639A1. Автор: Lei Lu,Yi Zhang,Hongjia SU,Zhengzheng XIANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Display apparatus, and method and apparatus for setting up and controlling the same

Номер патента: US09906841B2. Автор: Wan-su KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-27.

Signal scrambling method and apparatus, and signal descrambling method and apparatus

Номер патента: CA3072679C. Автор: Ting Wang,Hao Tang,Zhenfei Tang,Yuanjie Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Communication method and apparatus

Номер патента: US12016063B2. Автор: Zaifeng Zong,Wenfu Wu,Chengchen ZHANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Feedback method and apparatus

Номер патента: EP4354936A1. Автор: Xiao Han,Xun Yang,Yunbo Li,Rui Du,Yi Lv,Chenchen LIU,Mengshi HU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Information feedback method and apparatus, and information receiving method and apparatus

Номер патента: US20240260053A1. Автор: Lei Zhang,Qinyan Jiang. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Communication method and apparatus

Номер патента: US20240251462A1. Автор: Hui Jin,Fenghui DOU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4017180A1. Автор: Chaojun Li,Hailong HOU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-22.

Signal sending method and apparatus

Номер патента: US11121777B2. Автор: Peng Dong,Guanghao SHAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-14.

Communication method and communication apparatus

Номер патента: US20240283666A1. Автор: Fei Liu,Wei Tan,Chenchen YANG,Donghui Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Communication method and apparatus

Номер патента: US20240121050A1. Автор: BRUNO Clerckx,WEI Han,Yiqun WU,Yunhao Zhang,Onur DİZDAR,Yijie MAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Communication method and communication device

Номер патента: EP4422153A1. Автор: Fei Liu,Wei Tan,Chenchen YANG,Donghui Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP4354995A1. Автор: BRUNO Clerckx,WEI Han,Yiqun WU,Yunhao Zhang,Onur DİZDAR,Yijie MAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Microgrid control method and apparatus and regional power system

Номер патента: AU2022425740A1. Автор: Wei Zhang,DAN Wei,Dehua Zheng,Fuhao GOU,Solomon Netsanet ALEMU. Владелец: Beijing Etechwin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Optical transmission method and apparatus

Номер патента: EP4443770A1. Автор: Juan Wei,Kang Xiao,Yannian LOU,Dongsheng Zheng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Optical transmission method and apparatus

Номер патента: US20240356644A1. Автор: Juan Wei,Kang Xiao,Yannian LOU,Dongsheng Zheng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Communication method and apparatus

Номер патента: US12047912B2. Автор: Xiao Xiao,Junren Chang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Data transmission method and apparatus

Номер патента: EP4156788A1. Автор: Jian Wang,Changqing Yang,Hang Liu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-29.

Multi-antenna noise power measuring method and apparatus

Номер патента: US09967041B1. Автор: Yan-Neng Chang. Владелец: Ambit Microsystems Shanghai Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Methods and apparatus for access, enablement and control by devices in TV white space

Номер патента: US09603027B2. Автор: WEN Gao,Hou-Shin Chen. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2017-03-21.

Method and apparatus for busbar subscriber activation and corresponding subscriber

Номер патента: RU2566948C2. Автор: ХАРТВИХ Флориан. Владелец: Роберт Бош Гмбх. Дата публикации: 2015-10-27.

Pilot signal allocation method and apparatus

Номер патента: RU2458470C2. Автор: Ксин КИ,Джианфенг КАНГ,Чао ВЕИ. Владелец: Нокиа Сименс Нетуоркс Ой. Дата публикации: 2012-08-10.

Mask material for reactive ion etching, mask and dry etching method

Номер патента: JP4170165B2. Автор: 秀一 大川,一博 服部. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2008-10-22.

Dry etching method, fine structure formation method, mold and mold fabrication method

Номер патента: US7919005B2. Автор: Tomoyasu Murakami,Masaru Sasago,Hideo Nakagawa. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-04-05.

Dry etching method, fine structure forming method, mold and manufacturing method thereof

Номер патента: JP4783169B2. Автор: 友康 村上,勝 笹子,秀夫 中川. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-09-28.

Dry etching method, fine structure formation method, mold and mold fabrication method

Номер патента: US20070187362A1. Автор: Tomoyasu Murakami,Masaru Sasago,Hideo Nakagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-16.

Dry etching method, fine structure formation method, mold and mold fabrication method

Номер патента: US20090017259A1. Автор: Tomoyasu Murakami,Masaru Sasago,Hideo Nakagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-15.

Dry Etching Method for Magnetic Tunnel Junction(MTJ) stack

Номер патента: KR101222190B1. Автор: 김은호,정지원. Владелец: 인하대학교 산학협력단. Дата публикации: 2013-01-14.

Method and and apparatus for measuring a physical parameter in mammal soft tissues by propagating shear waves

Номер патента: IL217726A0. Автор: . Владелец: Univ Paris Diderot Paris 7. Дата публикации: 2012-03-29.

Dry Etching Agent and Dry Etching Method

Номер патента: US20130105728A1. Автор: Mori Isamu,Umezaki Tomonori,Hibino Yasuo,OKAMOTO Satoru,KIKUCHI Akiou. Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20140008322A1. Автор: Sakai Toshiyasu,Abo Hiroyuki,Abe Kazuya. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-09.

Dry etching method for metal having high fusion point

Номер патента: JPS6148924A. Автор: Sadao Adachi,Nobuhiko Susa,定雄 安達,須佐 信彦. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1986-03-10.

Dry etching method

Номер патента: JP3202466B2. Автор: 秀行 庄司. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-08-27.

Improvements in building structures and in methods and and apparatus for constructing same

Номер патента: GB644890A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1950-10-18.

Method and and apparatus for recycling livestock excretions using reverse osmosis

Номер патента: KR102029623B1. Автор: 이준행,박노섭,김귀봉. Владелец: 김귀봉. Дата публикации: 2019-10-08.

Method and apparatus for reducing positive pressure of actuating cylinder of universal hinged support

Номер патента: EP4389580A1. Автор: Fangyuan HAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-26.

Method and apparatus for digitising impedance

Номер патента: RU2499226C2. Автор: Дэвид Кеннет ТОМАС. Владелец: РЕНИШОУ ПиэЛСи. Дата публикации: 2013-11-20.

Method and apparatus for detecting and measuring thickness of ice on aircraft

Номер патента: EP1336564A3. Автор: Raymond Vopat. Владелец: Lockheed Corp. Дата публикации: 2004-04-21.

Method and apparatus for detecting and measuring thickness of ice on aircraft

Номер патента: US20030169186A1. Автор: Raymond Vopat. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Method and system for interlingua-based machine translation

Номер патента: WO2010002286A3. Автор: Mihu Mircea Toma. Владелец: Mihu Mircea Toma. Дата публикации: 2010-07-01.

Method and system for interlingua-based machine translation

Номер патента: WO2010002286A4. Автор: Mihu Mircea Toma. Владелец: Mihu Mircea Toma. Дата публикации: 2010-07-29.

Method and apparatus for verifying a well model

Номер патента: RU2683608C2. Автор: Йенс БАРФОЕД,НИЛЬСЕН Малене УЛЛЕРИКС. Владелец: Веллтек А/С. Дата публикации: 2019-03-29.

Method and apparatus for hardware rotation

Номер патента: US8780129B2. Автор: Frido Garritsen. Владелец: Silicon Motion Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Method and apparatus for hardware rotation

Номер патента: US20100214287A1. Автор: Frido Garritsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-26.

Method and apparatus for hardware rotation

Номер патента: US7719541B2. Автор: Frido Garritsen. Владелец: Silicon Motion Inc. Дата публикации: 2010-05-18.

Method and apparatus for entertainment comprising rfid tags

Номер патента: WO2006136168A3. Автор: Jan Oechsle Hansen. Владелец: Jan Oechsle Hansen. Дата публикации: 2007-02-15.

Methods and apparatus for secure data processing and transmission

Номер патента: WO2006052017A2. Автор: Masakazu Suzuoki,Akiyuki Hatakeyama. Владелец: SONY COMPUTER ENTERTAINMENT INC.. Дата публикации: 2006-05-18.

Method and apparatus for hardware rotation

Номер патента: US20050099425A1. Автор: Frido Garritsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-12.

Method and apparatus for using gestures across multiple devices

Номер патента: US20200089374A1. Автор: Taco Van Ieperen,Doug Hill. Владелец: Nureva, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

Information processing method and apparatus

Номер патента: EP4424565A1. Автор: Zheng Zhou,Sha Ma,Sida SONG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Inexpensive computer-aided learning methods and apparatus for learners

Номер патента: US20020098464A1. Автор: Peter Tong,Chi Ho, John Del Favero. Владелец: IpLearn LLC. Дата публикации: 2002-07-25.

Method and apparatus for event rate prospecting and application to wind prospecting

Номер патента: US4325122A. Автор: Stephen I. Parks,Bennett A. Parks. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-04-13.

Umbilical cord clamp and wireless tag systems, methods and apparatus

Номер патента: US12064299B2. Автор: Dean Trivisani. Владелец: Divergent Medical Technologies LLC. Дата публикации: 2024-08-20.

Computer-aided methods and apparatus to access materials in a network environment

Номер патента: US09792659B2. Автор: Peter P. Tong,Chi Fai Ho,John P. Del Favero. Владелец: IpLearn LLC. Дата публикации: 2017-10-17.

Method and apparatus for generating noises

Номер патента: RU2469420C2. Автор: Либинь ЧЖАН,Цзиньлян ДАЙ. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2012-12-10.

Method and system for monitoring in online mode

Номер патента: RU2372981C2. Автор: Джонни ЛУНДБЕРГ. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Бв. Дата публикации: 2009-11-20.

Method and apparatus for non-invasive analysis of saliva

Номер патента: WO2010008989A3. Автор: Randice-Lisa Altschul. Владелец: Randice-Lisa Altschul. Дата публикации: 2010-04-08.

Methods and apparatus to inspect characteristics of multichannel audio

Номер патента: US20190221221A1. Автор: Khaldun Karazoun. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2019-07-18.

Method and apparatus for analyzing chemical systems

Номер патента: US5604686A. Автор: James J. P. Stewart. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1997-02-18.

Method and apparatus for calculating biometric index using biometric information

Номер патента: US10966665B2. Автор: Dae Ho Lee. Владелец: Onesoftdigm Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-06.

Methods and apparatus for measurement and correction of optical aberration

Номер патента: WO2002025347A2. Автор: Robert H. Webb,Stephen A. Burns. Владелец: Schepens Eye Research Institute. Дата публикации: 2002-03-28.

Method and apparatus for non-invasive analysis of saliva

Номер патента: WO2010008989A2. Автор: Randice-Lisa Altschul. Владелец: Randice-Lisa Altschul. Дата публикации: 2010-01-21.

Method and apparatus with augmented reality pose determination

Номер патента: US20220277476A1. Автор: Hyun Sung Chang,Donghoon SAGONG,Hojin JU,Jaehwan Pi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-01.

Traffic control method and apparatus

Номер патента: US20040204819A1. Автор: Weiping Meng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-14.

Data processing method and apparatus, and electronic device and storage medium

Номер патента: EP4421660A1. Автор: Jie Han. Владелец: Hygon Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Method and apparatus for calculating biometric index using biometric information

Номер патента: US20190000398A1. Автор: Dae Ho Lee. Владелец: Onesoftdigm Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Mirrored memory configuration method and apparatus, and computer storage medium

Номер патента: US12086430B2. Автор: Gang Liu,Fei Zhang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Method and apparatus for measuring surface temperature of object

Номер патента: ZA202400303B. Автор: Chao Wang. Владелец: Jilin Zhong Ying High Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Methods and apparatuses for temperature measurement

Номер патента: WO2017122006A1. Автор: Robin CAIRNS,Michael James HOLT. Владелец: Cairns Intellectual Property Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for detecting dental caries and X-ray imaging apparatus

Номер патента: US09801603B2. Автор: Tae Hee Han,Dong Wan Seo,Se Yeol IM. Владелец: Vatech Ewoo Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Method and apparatus for providing integrated search and web browsing history

Номер патента: US09576035B2. Автор: YUAN Feng,Ying Liu,Huanglingzi Liu,Wenli Zhou,Yongguang Guo. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2017-02-21.

User location-based display method and apparatus

Номер патента: US09507424B2. Автор: Seung-Kwon Park,Hee-seob Ryu,Jong-Hyuk Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Method and apparatus for controlling a phase varying apparatus

Номер патента: US09416689B2. Автор: Takumi Totsuka,Yutaka Kishiki. Владелец: Nittan Valve Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Method and apparatus for managing services using reusable bearer tags

Номер патента: RU2523184C2. Автор: Аджай БАМ,Дамьен БАЛЬСАН. Владелец: Нокиа Корпорейшн. Дата публикации: 2014-07-20.

Button interaction method and apparatus

Номер патента: RU2651194C2. Автор: Хао ЧЭНЬ,Ян ВАН,Цянь ФУ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-04-18.

Method and apparatus for error code correction

Номер патента: RU2318294C1. Автор: Джонатан ЧЕН. Владелец: Вайа Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2008-02-27.

Method and apparatus for processing black liquor of pulp mill

Номер патента: RU2553882C2. Автор: Тимо ХОНКОЛА. Владелец: Валмет Пауэр Ой. Дата публикации: 2015-06-20.

Method and apparatus for producing urea

Номер патента: RU2412163C2. Автор: Федерико ЗАРДИ,Паоло СТИКЧИ,Паоло БРУНЕНГО. Владелец: Уреа Касале С.А.. Дата публикации: 2011-02-20.

Method and apparatus for conditioning sludge before drying

Номер патента: RU2449955C2. Автор: Клод ПРЕВО,Марсель ЛЕЗУАЛЛЬ,Андрэ ОБРИ. Владелец: Дегремон. Дата публикации: 2012-05-10.

Method for moving logs in cutting-off machine tools and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2307732C2. Автор: Фабио ПЕРИНИ. Владелец: Фабио ПЕРИНИ. Дата публикации: 2007-10-10.

Method and apparatus for percutaneous valve repair

Номер патента: WO2005112831A3. Автор: Fidel Realyvasquez. Владелец: Fidel Realyvasquez. Дата публикации: 2006-06-29.

Method and apparatus for enzymatic hydrolysis

Номер патента: RU2745988C2. Автор: Сами ТУРУНЕН,Юха ТАМПЕР. Владелец: ЮПМ-Кюммене Корпорейшн. Дата публикации: 2021-04-05.

Cooktop, cooktop system, control method and apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4022225A1. Автор: YE Lu,Lei Zhang,Tong Xie,Mingzhi Wang. Владелец: BSH HAUSGERAETE GMBH. Дата публикации: 2022-07-06.

Cooktop, cooktop system, control method and apparatus, and storage medium

Номер патента: WO2021037821A1. Автор: YE Lu,Lei Zhang,Tong Xie,Mingzhi Wang. Владелец: BSH HAUSGERÄTE GMBH. Дата публикации: 2021-03-04.

Clot sensing methods and apparatuses

Номер патента: WO2024145533A2. Автор: Vahid Saadat,William Jason Fox,Michael Pare,Neekon Saadat,Eyal AKLIVANH. Владелец: Inquis Medical, Inc.. Дата публикации: 2024-07-04.

Clot sensing methods and apparatuses

Номер патента: WO2024145533A3. Автор: Vahid Saadat,William Jason Fox,Michael Pare,Neekon Saadat,Eyal AKLIVANH. Владелец: Inquis Medical, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Method and apparatus for thermal hydrolysis of organic material

Номер патента: RU2504521C2. Автор: Марианна БУХМЮЛЛЕР. Владелец: Штульц Х+Е Гмбх. Дата публикации: 2014-01-20.

Method and apparatus for producing biogas

Номер патента: RU2561460C2. Автор: Кай РОШТАЛЬСКИ,Преер ШПРИНГЕР. Владелец: КСБ Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2015-08-27.

Method and apparatus for automatic charging of meat products into doubled film-netted casing

Номер патента: RU2293695C2. Автор: ЛОПЕС Хуан АРИАС. Владелец: Вискофан С.А.. Дата публикации: 2007-02-20.

Method and apparatus for producing sulphuric acid

Номер патента: RU2406691C2. Автор: Карл-Хайнц Даум. Владелец: Оутотек Ойй. Дата публикации: 2010-12-20.

A threaded connector port cleaning system, method, and apparatus

Номер патента: EP3291874A1. Автор: Jeffrey S. Nordquist,Crystal KOELPER,Shawn Purnell,Robert McVey. Владелец: Corpak Medsystems Inc. Дата публикации: 2018-03-14.

Threaded connector port cleaning system, method, and apparatus

Номер патента: US20160325088A1. Автор: Jeffrey S. Nordquist,Crystal KOELPER,Shawn Purnell,Robert McVey. Владелец: Corpak Medsystems Inc. Дата публикации: 2016-11-10.

Threaded Connector Port Cleaning System, Method, and Apparatus

Номер патента: US20220096814A1. Автор: Jeffrey S. Nordquist,Crystal KOELPER,Shawn Purnell,Robert McVey. Владелец: Avent Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Method and apparatus for torque controlling of electric bicycle

Номер патента: EP4434869A1. Автор: Chanheung Park. Владелец: HL Mando Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Method and apparatus for automatic charging of an electrically powered vehicle

Номер патента: US09873347B2. Автор: Wendell Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-23.

Method for moving and positioning of glass sheets and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2266263C2. Автор: Петер ЛИЗЕЦ. Владелец: Текнопат Аг. Дата публикации: 2005-12-20.

Method and apparatus for purifying of aluminum by segregation process

Номер патента: RU2234545C2. Автор: Мишель ЛЕРУА. Владелец: Алюминиюм Пешинэ. Дата публикации: 2004-08-20.

Cleaning method and apparatus, and base station and storage medium

Номер патента: EP4397223A1. Автор: PAN Cheng. Владелец: Beijing Rockrobo Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Method and apparatus for treating materials with electrical fields having varying orientations

Номер патента: US20030070939A1. Автор: Alan King,Richard Walters,Derin Walters. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-17.

Method and apparatus for molding an interlocking tab in a single molding and formatting step

Номер патента: WO2007050226A3. Автор: Wayne Moore,Monty Cochran. Владелец: Monty Cochran. Дата публикации: 2007-06-21.

Method and apparatus for improving crocheting procedures

Номер патента: US4991410A. Автор: Jean Donatelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-02-12.

Method and apparatus for culturing microorganisms

Номер патента: WO2001012774A1. Автор: David Grant Piggott,Gordon Robert Wills,George David Carr Clark. Владелец: George David Carr Clark. Дата публикации: 2001-02-22.

Method and apparatus for molding an interlocking tab in a single molding and formatting step

Номер патента: CA2638161A1. Автор: Wayne Moore,Monty Cochran. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-03.

Method and apparatus for molding an interlocking tab in a single molding and formatting step

Номер патента: WO2007050226A2. Автор: Wayne Moore,Monty Cochran. Владелец: Wilbert, Inc.. Дата публикации: 2007-05-03.

Method and apparatus for disinfecting and deodorizing toilet system

Номер патента: EP2475404A1. Автор: Chi Keung Rudy Chan,Yee Lam Chan,Lam Lung Yeung,Ka Tung Ho. Владелец: Win Union Dev Ltd. Дата публикации: 2012-07-18.

Method and apparatus for producing dispersion

Номер патента: US10086353B2. Автор: Kana Ueda,Hirotomo Banko,Akihiro WAKISAKA,Hitomi Kobara,Toshiki Kounishi,Daiki Nakai. Владелец: Nicca Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-02.

Method and apparatus for treating digestible and odiferous waste

Номер патента: EP1280561A1. Автор: Gary L. Rapp,Carrie L. Rapp. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-05.

Method and apparatus for maintaining a position of a bone fragment in relationship to another bone part

Номер патента: US20240277390A1. Автор: Robert Medoff. Владелец: TriMed Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Teat treatment method and apparatus

Номер патента: US09826709B2. Автор: Henrik OLANDER,Kerstin HOLMSTRÖM. Владелец: DELAVAL HOLDING AB. Дата публикации: 2017-11-28.

Method and apparatus for creating a reconstructive graft

Номер патента: US09622845B2. Автор: Barry Markman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-18.

Method and apparatus for skin resurfacing

Номер патента: US09439673B2. Автор: William G. Austen. Владелец: General Hospital Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and apparatus for hair lengthening and thickening and for hair parts fastening

Номер патента: RU2140182C1. Автор: Гайде-Розе Гэнг. Владелец: Гайде-Розе Гэнг. Дата публикации: 1999-10-27.

Method and apparatus for producing organic molecules from fermented biomass

Номер патента: RU2688413C2. Автор: Режи НУЕЛЬ,Жереми ПЕССЬЕ. Владелец: Афирен. Дата публикации: 2019-05-21.

Fuel, method and apparatus for producing heat energy from biomass

Номер патента: RU2505588C2. Автор: Милан ПТАШЕК. Владелец: Милан ПТАШЕК. Дата публикации: 2014-01-27.

DRY ETCHING METHOD AND DRY ETCHING APPARATUS

Номер патента: US20120094500A1. Автор: SUZUKI Hiroyuki,OKUNE Mitsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-19.

Dry etching method and dry etching apparatus

Номер патента: JP3339136B2. Автор: 哲也 辰巳. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-10-28.

Dry etching method and dry etching apparatus

Номер патента: JP2794963B2. Автор: 徳彦 玉置,正文 久保田,登 野村. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-10.

Sample dry etching method and dry etching apparatus

Номер патента: JP4068986B2. Автор: 大本  豊,良次 福山,守 薬師寺. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Dry etching method and dry etching apparatus

Номер патента: JP4595431B2. Автор: 典仁 福上. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2010-12-08.

Method for determining dry etching time and dry etching method

Номер патента: JP5163894B2. Автор: 慎一 五十嵐. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-13.

Dry Etching Agent and Dry Etching Method Using the Same

Номер патента: US20120298911A1. Автор: . Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2012-11-29.

Dry etching apparatus and dry etching method using it

Номер патента: JPH1041277A. Автор: 英規 乾,Hidenori Inui. Владелец: Miyazaki Oki Electric Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-13.

Dry etching apparatus and dry etching method

Номер патента: JP4713851B2. Автор: 俊雄 林,泰宏 森川,紅コウ 鄒. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-06-29.

Dry etching method

Номер патента: JPS54123875A. Автор: Hiroshi Takeuchi. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1979-09-26.

Dry etching method of gallium nitride based compound semiconductor

Номер патента: TW200303051A. Автор: Shinji Nakagami,Hiramoto Michihiko,Furuto Nobusuke,Hiroyuki Ogiya. Владелец: Shamk Internat Inst Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-16.

Dry etching method of gallium nitride based compound semiconductor

Номер патента: TWI267136B. Автор: Shinji Nakagami,Hiromichi Ogiya,Michihiro Hiramoto,Shinsuke Furuto. Владелец: Samco Internat Inc. Дата публикации: 2006-11-21.

Dry etching method and apparatus

Номер патента: JP4056316B2. Автор: 宏之 鈴木,浩 田辺,宏 今井,裕也 原田,佳則 中川. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2008-03-05.

Dry etching method and apparatus

Номер патента: JPH0828345B2. Автор: 豊 掛樋,則男 仲里. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-03-21.

Etching mask and dry etching method

Номер патента: JP4654811B2. Автор: 浩 杉村. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2011-03-23.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3816494B2. Автор: 武志 山下,秀樹 堂下,光一 川嶋. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-08-30.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3295172B2. Автор: 加津雄 高野. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-24.

Dry etching method and X-ray mask manufacturing method

Номер патента: JP3995784B2. Автор: 明典 栗川,勉 笑喜,亮 大久保. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-10-24.

Dry etching method and method for cleaning inside of apparatus

Номер патента: JPH11345802A. Автор: Makoto Okawa,大川  誠. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 1999-12-14.

Semiconductor device forming substrate manufacturing method and dry etching method

Номер патента: JP5691357B2. Автор: 久雄 登坂. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-01.

Dry etching method and plasma ashing method

Номер патента: JP4425370B2. Автор: 悟 岡本. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-03.

Dry etching method and target film used for it

Номер патента: JPS5437580A. Автор: Yukinori Kuroki,Makoto Asakawa,Masao Tajima,Koji Mizusawa. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-03-20.

Dry etching method, microlens array and manufacturing method thereof

Номер патента: JP4399310B2. Автор: 俊雄 林,泰宏 森川,紅コウ 鄒,正則 小澤. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-01-13.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20120129278A1. Автор: Watanabe Kazuhiro,Yoshii Manabu. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-05-24.

DRY ETCHING METHOD OF SURFACE TEXTURE FORMATION ON SILICON WAFER

Номер патента: US20120138139A1. Автор: . Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 2012-06-07.

DRY ETCHING METHOD

Номер патента: US20130015158A1. Автор: Saito Go,KUWABARA Kenichi,ICHIMARU Tomoyoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-17.

DRY-ETCHING METHOD

Номер патента: US20130025789A1. Автор: IIJIMA Etsuo,Yamada Norikazu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-01-31.

DRY ETCHING METHOD FOR METAL FILM

Номер патента: US20130098868A1. Автор: Nishimura Eiichi,SONE Takashi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-04-25.

Dry etching method

Номер патента: JPS5789477A. Автор: Tsunetoshi Arikado. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-06-03.

Dry etching method

Номер патента: JPS5430781A. Автор: Shinya Iida,Hisayuki Higuchi,Tatsumi Mizutani,Seitaro Matsuo,Hideo Komatsu,Makoto Asakawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1979-03-07.

Dry etching method

Номер патента: JP2824584B2. Автор: 誠太郎 松尾,蕃 中島,美佐雄 関本,千春 高橋. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1998-11-11.

Dry etching method

Номер патента: JP4546667B2. Автор: 克典 平井,昭貴 清水. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-09-15.

Dry etching method

Номер патента: JP2804037B2. Автор: 伸夫 早坂,晴雄 岡野,弘剛 西野,啓治 堀岡. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-09-24.

Dry etching method

Номер патента: JPS6474727A. Автор: Hiroyuki Miyashita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1989-03-20.

Plasma apparatus and dry etching method using the same

Номер патента: JP3263852B2. Автор: 哲治 長山. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-03-11.

Dry etching method

Номер патента: JPS58113375A. Автор: Toshio Oshima,利雄 大島. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-07-06.

Dry etching method

Номер патента: JP3291889B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-06-17.

Metal gate dry etching method

Номер патента: JP4994161B2. Автор: 譲 山本,昭人 河内,敏明 西田. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-08-08.

Dry etching method

Номер патента: JPS5623276A. Автор: Kazuo Tokitomo,Hitoshi Hoshino,Chuichi Takada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-03-05.

Dry etching method

Номер патента: JP3154128B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-04-09.

Silicon Oxide Dry Etching Method

Номер патента: KR940012059A. Автор: 박해성. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1994-06-22.

Dry etching method

Номер патента: JP3111640B2. Автор: 哲治 長山,敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-11-27.

Dry etching method

Номер патента: JP3104388B2. Автор: 新吾 門村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-10-30.

Dry etching method

Номер патента: JP3830560B2. Автор: 米一 小河原. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2006-10-04.

Dry etching method of aluminum

Номер патента: JPS6033367A. Автор: Naoki Kasai,直記 笠井. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1985-02-20.

Dry etching method

Номер патента: JPS6039175A. Автор: Tatsumi Mizutani,Kazunori Tsujimoto,和典 辻本,Sadayuki Okudaira,水谷 巽,奥平 定之. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-02-28.

Selective dry etching method for copper thin film

Номер патента: JP3077178B2. Автор: 啓二 篠原. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-08-14.

Dry etching method

Номер патента: JPS5923875A. Автор: Yoshitsugu Nishimoto,新吾 門村,Shingo Kadomura,西本 佳嗣. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1984-02-07.

Dry etching method

Номер патента: JP3108929B2. Автор: 哲也 辰巳. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-11-13.

Dry etching method

Номер патента: JP4060450B2. Автор: 仁 松尾,大輔 田島,孝則 西澤,宏樹 笹野. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-03-12.

Semiconductor dry etching method

Номер патента: KR970077314A. Автор: 이선훈. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-12-12.

Dry etching method

Номер патента: JPH10209124A. Автор: Kenji Tawara,賢治 田原. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-08-07.

Dry etching method

Номер патента: JP3079656B2. Автор: 新吾 門村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-08-21.

Dry etching method

Номер патента: JP2713903B2. Автор: 博宣 川原,豊 掛樋,良次 福山,勝義 工藤. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-02-16.

Dry etching method

Номер патента: JPS5511167A. Автор: Takehisa Nitta,Yoshinori Kureishi. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1980-01-25.

Dry etching method

Номер патента: JP3208596B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-09-17.

Low Temperature Dry Etching Method of Semiconductor Devices

Номер патента: KR940027080A. Автор: 최봉호,강효상. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1994-12-10.

Dry etching method of compound semiconductor maultilayer film

Номер патента: JP2003234342A. Автор: 真也 布上,Tsutomu Tezuka,勉 手塚,Shinya Nunogami. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-22.

Dry etching method

Номер патента: JPH11111682A. Автор: 新吾 門村,Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-04-23.

Dry etching method for refractory metal film

Номер патента: JP3164789B2. Автор: 雅人 伊藤,世烈 朴. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-05-08.

Dry etching method for oxide film

Номер патента: JP2950785B2. Автор: 洋司 齋藤. Владелец: SENTORARU GARASU KK. Дата публикации: 1999-09-20.

Dry etching method

Номер патента: JP3296392B2. Автор: 哲 奥. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2002-06-24.

Dry etching method

Номер патента: JP3418045B2. Автор: 浩一郎 足立,敏 森下,和雄 杉本. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2003-06-16.

Dry etching method

Номер патента: JPS6224627A. Автор: Junichi Sato,淳一 佐藤. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1987-02-02.

Dry etching method for low dielectric constant interlayer insulating film

Номер патента: JP4500029B2. Автор: 泰宏 森川,紅コウ 鄒. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-14.

Dry etching method

Номер патента: JPS62192589A. Автор: Yoshiaki Kageura,Yasuo Hashino,Eigo Terada,能章 影浦,橋野 康雄,寺田 栄吾. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-24.

Dry etching method

Номер патента: JP2650970B2. Автор: 喜一郎 向,和典 辻本,新一 田地,定之 奥平. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-09-10.

Dry etching method

Номер патента: JPS58150429A. Автор: Sadao Okano,貞夫 岡野,Noboru Akiyama,登 秋山. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-09-07.

Dry etching method

Номер патента: JP4215294B2. Автор: 哲也 高垣,章 関屋,俊郎 山田,邦明 後藤. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2009-01-28.

Dry etching method

Номер патента: JP3986808B2. Автор: 昭貴 清水,理人 櫛引,孝之 深澤,朝夫 山下,文彦 樋口. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-03.

Dry etching method

Номер патента: JPH11162941A. Автор: Takeshi Tokashiki,健 渡嘉敷. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-06-18.

Dry etching method

Номер патента: JP3398896B2. Автор: 泰三 於久,淳一 青木. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-04-21.

Dry etching method

Номер патента: JPS63124419A. Автор: Haruo Okano,晴雄 岡野,誠 関根,Makoto Sekine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-05-27.

Reactive dry etching method

Номер патента: JP2949744B2. Автор: 晃 石橋,健次 船戸,正道 小川,幸代 新田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-09-20.

Dry etching method

Номер патента: JP2650313B2. Автор: 隆三 宝珍,益男 丹野,洋 小倉. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-03.

Dry etching method

Номер патента: JPS6231126A. Автор: Nobuo Hayasaka,伸夫 早坂,Haruo Okano,晴雄 岡野,Sayaka Sudou,須藤 さやか. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1987-02-10.

Dry etching method of germanium

Номер патента: CN105304480A. Автор: 邱鹏,王宇翔,顾佳烨,段立帆. Владелец: SHANGHAI XIRUI TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-03.

Dry etching method

Номер патента: JP3362372B2. Автор: 勝 伊澤,賢悦 横川,新一 田地,清二 山本,伸幸 根岸. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-01-07.

Dry etching method

Номер патента: JP3887123B2. Автор: 森 大 晃 ▲吉▼. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2007-02-28.

Dry etching method

Номер патента: JPS63166230A. Автор: Kikuo Yamabe,紀久夫 山部. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-07-09.

Low temperature dry etching method

Номер патента: JP2834129B2. Автор: 和典 辻本,新一 田地,定之 奥平. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-12-09.

Dry etching method

Номер патента: JPS58100684A. Автор: Seitaro Matsuo,松尾 誠太郎. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1983-06-15.

Dry etching method

Номер патента: JP5305734B2. Автор: 宗徳 日▲高▼. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-02.

Dry etching method for sacrifice layer of micro-electro-mechanical system

Номер патента: CN104261345A. Автор: 雷述宇,史晔. Владелец: NORTH GUANGWEI TECHNOLOGY Inc. Дата публикации: 2015-01-07.

Dry etching method

Номер патента: JP3128837B2. Автор: 啓二 篠原. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-01-29.

Dry etching method

Номер патента: JP3326864B2. Автор: 正文 久保田,秀夫 中川,章夫 三坂,憲司 服藤. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2002-09-24.

Dry etching method

Номер патента: JP3454051B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-10-06.

Dry etching method

Номер патента: JPS589983A. Автор: Shinichi Nagai,Toshiyuki Chiba,Toyokazu Nagano,Kazunori Imai,慎一 永井,千葉 敏之,今井 和典,長野 豊和. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-01-20.

Interlayer dielectric film dry etching method

Номер патента: JP4761502B2. Автор: 俊雄 林. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Dry etching method of semiconductor device

Номер патента: KR960035869A. Автор: 최상준. Владелец: 엘지 반도체 주식회사. Дата публикации: 1996-10-28.

Dry etching method

Номер патента: JPH1046372A. Автор: Makoto Muto,藤 真 武. Владелец: Shibaura Engineering Works Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-17.

Dry etching method

Номер патента: JPS63492A. Автор: Hideki Takahashi,高橋 秀輝. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1988-01-05.

Dry etching method

Номер патента: JPS5470772A. Автор: Hiroshi Kinoshita,Takeshi Matsuo. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1979-06-06.

Dry etching method

Номер патента: JP3264035B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-03-11.

Dry etching method

Номер патента: JPS62163325A. Автор: 和之 富田,Kazuyuki Tomita,Masuo Tanno,丹野 益男. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-20.

Dry etching method

Номер патента: JP3662275B2. Автор: 敏治 柳田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-06-22.

Dry etching method

Номер патента: JP3222726B2. Автор: 浩一郎 足立,敏 森下,和雄 杉本. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2001-10-29.

Dry etching method

Номер патента: JP6544215B2. Автор: 啓之 大森,亜紀応 菊池. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-17.

Dry etching method

Номер патента: JP6295130B2. Автор: 哲郎 小野,久夫 安並,小野 哲郎,ゼ 申. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-03-14.

Dry etching method for metal wiring

Номер патента: JP3324466B2. Автор: 靖彦 上田. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-09-17.

Dry etching method

Номер патента: JPS6474728A. Автор: Hiroyuki Miyashita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1989-03-20.

Dry etching method

Номер патента: JP3067289B2. Автор: 徳彦 玉置,正文 久保田,登 野村,敦浩 山野,憲司 服藤. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2000-07-17.

Dry etching method

Номер патента: JPS5470771A. Автор: Hiroshi Takeuchi. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1979-06-06.

Dry etching method

Номер патента: JPS61295634A. Автор: Masayoshi Kanetani,金谷 政好. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1986-12-26.

Dry etching method

Номер патента: JP2591209B2. Автор: 哲也 辰巳,新吾 門村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-03-19.

Semiconductor dry etching method

Номер патента: JP3639144B2. Автор: 雅文 橋本,勝英 真部,正樹 森,正宏 小滝. Владелец: Toyota Central R&D Labs Inc. Дата публикации: 2005-04-20.

Dry etching method

Номер патента: JPS62198125A. Автор: Hisahiro Okumura,寿浩 奥村,Akira Kuroyanagi,Shigeo Kanazawa,晃 黒柳,重雄 金澤. Владелец: NipponDenso Co Ltd. Дата публикации: 1987-09-01.

Dry etching method for low dielectric constant interlayer insulating film

Номер патента: JP4681215B2. Автор: 俊雄 林,泰宏 森川,紅コウ 鄒. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-05-11.

Dry etching method

Номер патента: JPS63137428A. Автор: Hitoshi Yonemura,均 米村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-06-09.

Dry etching method

Номер патента: JP3077224B2. Автор: 啓二 篠原. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-08-14.

Dry etching method

Номер патента: JP3282243B2. Автор: 新吾 門村. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-05-13.

Dry etching method

Номер патента: JP4368244B2. Автор: 謙一 桑原,剛 斉藤,康博 西森,益法 石原,美臣 甲斐. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-11-18.

Dry etching method

Номер патента: JP2690900B2. Автор: 佳恵 田中. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-12-17.

Dry etching method

Номер патента: JP3399169B2. Автор: 哲也 辰巳. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-04-21.

Dry etching method

Номер патента: JP4854874B2. Автор: 悦夫 飯嶋. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-01-18.

Dry etching method

Номер патента: JPS57181378A. Автор: Tsunetoshi Arikado. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-08.

Dry etching method

Номер патента: AU2002318618A1. Автор: Takashi Enomoto,Takashi Tsuruta,Hiromi Oka,Akitaka Shimizu,Meiki Koh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-01-29.

Dry etching method of the silicon dioxide

Номер патента: TW405181B. Автор: Hung-Yuan Tau,Jia-Shiung Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-09-11.

Dry etching method

Номер патента: TW387111B. Автор: Mitsuru Sadamoto,Noriyuki Yanagawa,Satoru Iwamori,Kenju Sasaki. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-04-11.

Dry-etching method

Номер патента: AU2002311154A1. Автор: Meiki Koh,Ethuo Iijima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-01-08.

Method of and apparatus for scattered resisted yarns dyeing method and and apparatus for hand bundles

Номер патента: JPS5249386A. Автор: Masaji Hirai,Manzou Makita. Владелец: HIRAI SENSHIYOKU KK. Дата публикации: 1977-04-20.

METHOD FOR MANUFACTURING PASTE-TYPE ELECTRODE OF LEAD-ACID BATTERY AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120000070A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR DISPENSING MOIST SMOKELESS TOBACCO

Номер патента: US20120000165A1. Автор: Williams Dwight D.. Владелец: ALTRIA CLIENT SERVICES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and an Apparatus for Grouping Discrete Laminar Articles Into Batches of Predetermined Count

Номер патента: US20120000748A1. Автор: Chauhan Vijay. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR APPLYING METALLIC CLADDING TO INTERIOR SURFACES OF PIPE ELBOWS

Номер патента: US20120000966A1. Автор: GREENWALL Norman Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENERGY GENERATION

Номер патента: US20120001431A1. Автор: SMITH George. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Implementing a Multiple Display Mode

Номер патента: US20120001829A1. Автор: JUNG Younghee,Anttila Akseli,Tanaka Yumiko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CALCULATING A POWER CONSUMPTION SEGMENT AND DISPLAYING A POWER CONSUMPTION INDICATOR

Номер патента: US20120001883A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for encoding/decoding graphic data

Номер патента: US20120002891A1. Автор: Ahn Jeong-hwan,Han Mahn-jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR VERIFICATION OF A TELEPHONE NUMBER

Номер патента: US20120003957A1. Автор: Agevik Niklas,Idren Bjorn. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUSPENDING AND SPINNING A SPHERICAL OBJECT

Номер патента: US20120004054A1. Автор: McKendrick Jason S.,Jewkes Rodney R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatuses for Full-Thickness Hollow Organ Biopsy

Номер патента: US20120004573A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TESTING ON-LINE SERVICES

Номер патента: US20120004895A1. Автор: . Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Drying Goods

Номер патента: US20120000090A1. Автор: Mühlherr Christian,Lieberherr Kurt. Владелец: Buhler AG. Дата публикации: 2012-01-05.

INNER ELECTRODE FOR BARRIER FILM FORMATION AND APPARATUS FOR FILM FORMATION

Номер патента: US20120000771A1. Автор: UEDA Atsushi,YAMAKOSHI Hideo,GOTO Seiji,Okamoto Kenichi,Asahara Yuji,Danno Minoru. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATION OF FREE-SURFACE WAVES USING CAVITY RESONATOR

Номер патента: US20120001434A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method And Apparatus For Measuring The Thickness Of A Metal Layer Provided On A Metal Object

Номер патента: US20120001624A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for obtaining spatial information and measuring the dielectric constant of an object

Номер патента: US20120001628A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM, METHOD, AND APPARATUS FOR TRIGGERING AN ALARM

Номер патента: US20120001756A1. Автор: Eckert Lee H.,MERCIER MICHAEL,SHAFER Gary Mark. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING METHOD AND DEVICE FOR DOWNLINK SERVICE IN LONG TERM EVOLUTION SYSTEM

Номер патента: US20120002595A1. Автор: . Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PREVENTING SIGNAL INTERFERENCE IN WIRELESS RELAY NETWORK BASED ON SYNCHRONOUS HARQ

Номер патента: US20120002597A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING DATA ON RELAY COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002598A1. Автор: Kim Byoung-Hoon,Seo Han-Byul. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING AND RECEIVING HARQ BURST

Номер патента: US20120002619A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COMPRESSING FRAME

Номер патента: US20120002683A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR REGION-BASED FILTER PARAMETER SELECTION FOR DE-ARTIFACT FILTERING

Номер патента: US20120002722A1. Автор: Zheng Yunfei,Yin Peng,Sole Joel,Xu Qian,Lu Xiaoan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Codebook-Based Precoding in MIMO Systems

Номер патента: US20120002750A1. Автор: Tiirola Esa Tapani,Pajukoski Kari Pekka,Hooli Kari Juhani. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BREATHING ADAPTED IMAGING

Номер патента: US20120002780A1. Автор: . Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

Immunohistochemical staining method and immunohistochemical staining apparatus

Номер патента: US20120003669A1. Автор: OGAWA Jun-ichi,MINAMIYA Yoshihiro,Toda Hiroshi,Akagami Yoichi,Kagaya Masami. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, METHODS AND APPARATUSES FOR MAGNETIC PROCESSING OF SOLAR MODULES

Номер патента: US20120003777A1. Автор: . Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CELL SELECTION IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120003978A1. Автор: LIM Chi-Woo,Lee Mi-Hyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Prolapse Repair

Номер патента: US20120004501A1. Автор: Beyer Roger D.. Владелец: AMS Research Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROL BATTERY AND SPECIFICATION DETERMINING METHOD OF BATTERY

Номер патента: US20120004787A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for reducing tin oxide in float glass production

Номер патента: US20120000248A1. Автор: Nelson Douglas M.. Владелец: Pilkington Group Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Generating Mood-Based Haptic Feedback

Номер патента: US20120001749A1. Автор: . Владелец: IMMERSION CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus Using Volume Holographic Wavelength Blockers

Номер патента: US20120002197A1. Автор: MOSER Christophe,HAVERMEYER Frank. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COEXISTENCE OF MULTIPLE OPERATING ENTITY SYSTEMS

Номер патента: US20120002662A1. Автор: LI YANG,Lv Yongxia,HOU Yunzhe,Wan Lei,Ren Xiaotao. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BLOCK BASED IMAGE COMPRESSION WITH MULTIPLE NON-UNIFORM BLOCK ENCODINGS

Номер патента: US20120002873A1. Автор: . Владелец: ATI TECHNOLOGIES ULC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING A VISIBLE HYDROGEN FLAME

Номер патента: US20120003593A1. Автор: Conrad Wayne Ernest. Владелец: G.B.D. CORP. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR FOCUSED RESONANCE NANOPERMEABILIZATION (FORN)

Номер патента: US20120004591A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR IMPROVED CEMENT PLUG PLACEMENT

Номер патента: US20120000650A1. Автор: Rondeau Joel,Daccord Gerard,Samuel Mathew,Montgomery Michael,James Simon,Piot Bernard,Rolovic Radovan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HIGH SOLIDS CONTENT SLURRY METHODS AND SYSTEMS

Номер патента: US20120000653A1. Автор: . Владелец: SCHLUMBERGER TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENCODING/DECODING VIDEO DATA TO IMPLEMENT LOCAL THREE-DIMENSIONAL VIDEO

Номер патента: US20120002006A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINT SHOP MANAGEMENT METHOD AND PROGRAM FOR PRINTING MIXED COLOR AND BLACK AND WHITE DOCUMENTS

Номер патента: US20120002219A1. Автор: . Владелец: KONICA MINOLTA SYSTEMS LABORATORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MINITURIZATION TECHNIQUES, SYSTEMS, AND APPARATUS RELATNG TO POWER SUPPLIES, MEMORY, INTERCONNECTIONS, AND LEDS

Номер патента: US20120002455A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING AND MAINTAINING A SPECTRALLY EFFICIENT MULTICAST GROUP CALL

Номер патента: US20120002581A1. Автор: . Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL SIGNAL TRANSMITTING METHOD AND APPARATUS IN RELAY STATION

Номер патента: US20120002593A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR TRANSMITTING CONTROL SIGNAL TO RELAY NODE AT BASE STATION IN MIMO WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120002596A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING ENCODED CONTENT USING DYNAMICALLY OPTIMIZED CONVERSION

Номер патента: US20120002716A1. Автор: Gasparri Massimiliano,Antonellis Darcy. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS TO SUPPORT SCALABILITY IN A MULTICARRIER NETWORK

Номер патента: US20120002738A1. Автор: Jacobsen Eric A.,Foerster Jeff,Dahle Dan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Providing a Copy-Protected Video Signal

Номер патента: US20120002950A1. Автор: Tan Baolin,Abdin Mazen. Владелец: DCS Copy Protection Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROGRESSIVELY DELETING MEDIA OBJECTS FROM STORAGE

Номер патента: US20120002951A1. Автор: REISMAN Richard R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING A GROUP CALL

Номер патента: US20120003969A1. Автор: Hiben Bradley M.,ANDERSON JEFF S.,Anderson Henry W.. Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR PROVIDING PORTABLE PHOTOGRAPHIC IMAGES

Номер патента: US20120002095A1. Автор: Lehrman Mikel A.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Improving the Reliability of Solder Joints

Номер патента: US20120002386A1. Автор: Pykari Lasse Juhani,Lu David L.. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING AND COMPOSING SEISMIC WAVES

Номер патента: US20120002505A1. Автор: . Владелец: Institue of Geology and Geophysics, Chinese Academy of Sciences. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUPPORTING CARRIER AGGREGATION

Номер патента: US20120002635A1. Автор: Kim So Yeon,Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS USING A SPLIT CASE DIE TO PRESS A PART AND THE PART PRODUCED THEREFROM

Номер патента: US20120003443A1. Автор: . Владелец: KENNAMETAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GRINDING A WORKPIECE SURFACE OF ROTATION

Номер патента: US20120003904A1. Автор: SCHMITZ Roland. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for efficiently querying and identifying multiple items on a communication channel

Номер патента: US20120001736A1. Автор: Hulvey Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR COOLING ELECTRONIC DEVICES

Номер патента: US20120002342A1. Автор: . Владелец: Apple Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Uplink Multi-Carrier Transmit Diversity

Номер патента: US20120002630A1. Автор: . Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for scalable video coding

Номер патента: US20120002726A1. Автор: Lei Zhibin,WU Yannan,Fang Laifa. Владелец: Hong Kong Applied Science and Technology Research Institute Company Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR STORING A LASER OPTICAL FIBER

Номер патента: US20120002933A1. Автор: Williams Richard Alan,Seftel Allen D.,Pastor Stephen T.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003193A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003279A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003324A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Supersonic shaving method and apparatus

Номер патента: RU2320476C2. Автор: Евгений Юрьевич Хайсанов. Владелец: Евгений Юрьевич Хайсанов. Дата публикации: 2008-03-27.

Method and Apparatus for Automatic Pattern Analysis

Номер патента: US20120002888A1. Автор: Ishikawa Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ASSEMBLING ROTATING MACHINES

Номер патента: US20120003076A1. Автор: Cummins Josef Scott,Wilson Ian David. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for emulsion production

Номер патента: RU2062141C1. Автор: Николай Васильевич Юрьев. Владелец: Николай Васильевич Юрьев. Дата публикации: 1996-06-20.

MANURE SEPARATION FOR DIGESTER METHOD AND APPARATUS

Номер патента: US20120000863A9. Автор: DeWaard David C.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING A REFERENCE SIGNAL IN A WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002740A1. Автор: Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Calculating and Reporting Slump in Delivery Vehicles

Номер патента: US20120004790A1. Автор: . Владелец: VERIFI LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for crystallisation of polymer particles

Номер патента: RU2446944C2. Автор: Джеймс Ф. МакГИ. Владелец: Юоп Ллк. Дата публикации: 2012-04-10.

INTEGRATED GRAPHICS PROCESSOR DATA COPY ELIMINATION METHOD AND APPARATUS WHEN USING SYSTEM MEMORY

Номер патента: US20120001927A1. Автор: . Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING ENHANCED ADDRESS BOOK WITH AUTOMATIC CONTACT MANAGEMENT

Номер патента: US20120004015A1. Автор: . Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and apparatus for flow restoration

Номер патента: AU2020202421A1. Автор: Thomas McCarthy,Earl Howard Slee,Thomas WILDER III,David Franco,Mark Philip Ashby,Sanjay Shrivastava. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2020-04-30.

Improvements in Method of and Apparatus for Taking Stereoscopic Photographs.

Номер патента: GB190605267A. Автор: . Владелец: GUSTAV BARNACK. Дата публикации: 1907-06-03.

METHOD AND APPARATUS FOR SELECTING VIDEO CODEC TO BE USED BETWEEN STATIONS

Номер патента: US20120002718A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BASE STATION SELF-CONFIGURATION

Номер патента: US20120003961A1. Автор: . Владелец: INTERDIGITAL TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.