Dry-etching method and apparatus
Номер патента: US5409562A
Опубликовано: 25-04-1995
Автор(ы): Kazunori Tsujimoto, Shinichi Tachi, Takao Kumihashi
Принадлежит: HITACHI LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-04-1995
Автор(ы): Kazunori Tsujimoto, Shinichi Tachi, Takao Kumihashi
Принадлежит: HITACHI LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Dry-etching method and apparatus, photomasks and method for the preparation thereof, and semiconductor circuits and methods for the fabrication thereof
Номер патента: US6391791B1. Автор: Satoshi Aoyama,Takaei Sasaki,Noriyuki Harashima,Shouichi Sakamoto. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 2002-05-21.