Procédé de préparation de substances très pures, de préférence pour emploi comme semi-conducteurs, dispositif pour sa réalisation et produits conformes à ceux obtenus
Номер патента: FR77018E
Опубликовано: 08-01-1962
Автор(ы):
Принадлежит: SIEMENS AG, Siemens and Halske AG
Опубликовано: 08-01-1962
Автор(ы):
Принадлежит: SIEMENS AG, Siemens and Halske AG
Process for the plasma-chemical preparation of halogenated oligosilanes from tetrachlorosilane
Номер патента: DE102014007766A1. Автор: Christian Bauch,Sven Holl. Владелец: Psc Polysilane Chemicals Gmbh. Дата публикации: 2015-11-26.