Photosensitive resin composition, photosensitive element, semiconductor device, and method for forming resist pattern
Номер патента: JP6477479B2
Опубликовано: 06-03-2019
Автор(ы): 健一 岩下, 加藤 哲也, 哲也 加藤, 泰治 村上
Принадлежит: Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-03-2019
Автор(ы): 健一 岩下, 加藤 哲也, 哲也 加藤, 泰治 村上
Принадлежит: Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive resin composition, photosensitive element, cured product, semiconductor device, method for forming resist pattern, and method for producing circuit substrate
Номер патента: KR102442746B1. Автор: 히로시 오노,아키히로 나카무라,켄이치 이와시타,테츠야 카토,아키오 나카노. Владелец: 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-09-14.