Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system
Номер патента: WO2006076253A3
Опубликовано: 15-11-2007
Автор(ы): Steven Fink
Принадлежит: Steven Fink, Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-11-2007
Автор(ы): Steven Fink
Принадлежит: Steven Fink, Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma Processing Method
Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.