• Главная
  • Verfahren zum Herstellen von Kontaktierungsanschlüssen

Verfahren zum Herstellen von Kontaktierungsanschlüssen

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Fabrication of a diffusion barrier cap on copper containing conductive elements

Номер патента: US20100044865A1. Автор: Joaquin Torres,Vincent Arnal,Laurent Gosset,Sonarith Chhun. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2010-02-25.

Fabrication method of semiconductor integrated circuit device

Номер патента: US20070259522A1. Автор: Shinichi Nakabayashi,Hirofumi Tsuchiyama,Ryousei Kawai,Toshiyuki Arai,Fumiyuki Kanai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-08.

Contact Structure of Semiconductor Device and Method for Fabricating the Same

Номер патента: US20070141837A1. Автор: In Cheol Ryu. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-06-21.

Method for the anisotropic etching of metal films in the fabrication of interconnects

Номер патента: US5350484A. Автор: Xiao-Chun Mu,Donald S. Gardner,David B. Fraser. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 1994-09-27.

Method of forming patterns of semiconductor device

Номер патента: US20240194521A1. Автор: JungHan LEE,Kwanyoung Chun,Jisoo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Manufacturing method of semiconductor structure, semiconductor structure, transistor, and memory

Номер патента: US20220231146A1. Автор: Xiaobo Mei. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-07-21.

Barrier layer for contact structures of semiconductor devices

Номер патента: US20220130678A1. Автор: Tsung-Yu CHIANG,Hsinhsiang Tseng,Chi-Ruei YEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-04-28.

Method for forming a line of semiconductor device

Номер патента: US20020090807A1. Автор: Tae Kwon. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Method for forming a line of semiconductor device

Номер патента: US6548377B2. Автор: Tae Seok Kwon. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Selective carbon deposition on top and bottom surfaces of semiconductor substrates

Номер патента: US12125699B2. Автор: Qian Fu,Chung Liu,Kuan-Ting Liu,Abhijeet S. Bagal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Selective capping of contact layer for cmos devices

Номер патента: US20240014076A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Avgerinos V. Gelatos,Nicolas Louis BREIL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Selective capping of contact layer for cmos devices

Номер патента: WO2024010660A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Avgerinos V. Gelatos. Владелец: Breil, Nicolas Louis. Дата публикации: 2024-01-11.

Pmd layer of semiconductor device

Номер патента: US20080157399A1. Автор: Kyung-Min Park. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-07-03.

Method for improving size of contact holes of FDSOI device

Номер патента: US11271012B1. Автор: Tonghui Wang,Changfeng Wang,Duanquan LIAO. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-03-08.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20200279917A1. Автор: Yu-Chih Su,Yao-Jhan Wang,Che-Hsien Lin,Chun-jen Huang,Cheng-Yeh Huang,Te-Chang Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Formation method of contact/ through hole

Номер патента: US6001734A. Автор: John Mark Drynan. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-12-14.

Method for forming multi-layer metal line of semiconductor device

Номер патента: US20030129825A1. Автор: Jun Yoon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-10.

Manufacturing method of semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20240071916A1. Автор: Shuai Guo. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

CMOS-MEMS integrated device including a contact layer and methods of manufacture

Номер патента: US09718680B2. Автор: Peter Smeys,Jongwoo Shin,Daesung Lee,Jong Il Shin. Владелец: InvenSense Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Methods for electrochemical deposition of isolated seed layer areas

Номер патента: US11875996B2. Автор: Marvin Louis Bernt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Selective stress relaxation of contact etch stop layer through layout design

Номер патента: SG133476A1. Автор: Quek Elgin,TEO Lee Wee,Sohn Dong Kyun. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2007-07-30.

Contact structure of semiconductor device and manufacturing method therefor

Номер патента: US20240178058A1. Автор: Chenhan WANG. Владелец: Hangzhou Silicon Magic Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US12080629B2. Автор: Ming-Fa Chen,Hsien-Wei Chen,Sen-Bor Jan,Chih-Chia Hu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09818638B1. Автор: Yu-Yun Peng,Chung-Chi Ko,Shing-Chyang Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Systems and methods for fabrication of superconducting integrated circuits

Номер патента: US09768371B2. Автор: Jeremy P. Hilton,Paul I. Bunyk,Eric Ladizinsky,Byong Hyop Oh. Владелец: D Wave Systems Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20150235901A1. Автор: Tamotsu Owada,Hirosato Ochimizu,Hikaru Ohira. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Production method of semiconductor device

Номер патента: US20020127880A1. Автор: Yoshiyuki Tanaka,Masaki Saito,Yoshiyuki Enomoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Fabrication of embedded die packaging comprising laser drilled vias

Номер патента: US20220115319A1. Автор: Cameron MCKNIGHT-MACNEIL. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2022-04-14.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09659811B1. Автор: Yu-Yun Peng,Chung-Chi Ko,Shing-Chyang Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Increasing contact areas of contacts for MIM capacitors

Номер патента: US11764143B2. Автор: Yao-Te Huang,Yung-Shih Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Increasing Contact Areas of Contacts for MIM Capacitors

Номер патента: US20210391248A1. Автор: Yao-Te Huang,Yung-Shih Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Manufacturing method of semiconductor device, processing method of semiconductor wafer, semiconductor wafer

Номер патента: US8883613B2. Автор: Tamotsu Owada. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Method for improving size of contact holes of fdsoi device

Номер патента: US20220068971A1. Автор: Tonghui Wang,Changfeng Wang,Duanquan LIAO. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Method for forming interconnection of semiconductor device

Номер патента: US5801099A. Автор: Nae Hak Park,Yong Kwon Kim. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-01.

Method of making a grooved gate structure of semiconductor device

Номер патента: US5776835A. Автор: Ching-Fa Yeh,Jwinn Lein Su. Владелец: National Science Council. Дата публикации: 1998-07-07.

In situ deposition of a dielectric oxide layer and anti-reflective coating

Номер патента: US6156149A. Автор: Wai-Fan Yau,David Cheung,Judy H. Huang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Method for fabricating an Al-Ge alloy wiring of semiconductor device

Номер патента: US5846877A. Автор: Jun-Ki Kim. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-08.

Chip and method for self-aligned etching of contacts of chips

Номер патента: US20220102524A1. Автор: Dong Zhang,Peng Huang,Shaojun Sun. Владелец: Hua Hong Semiconductor Wuxi Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Manufacturing method of semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20230361187A1. Автор: Zhaohong LV. Владелец: Changxin Jidian Beijing Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Deposition of low fluorine tungsten by sequential CVD process

Номер патента: US09613818B2. Автор: Lawrence Schloss,Raashina Humayun,Michal Danek,Xiaolan Ba. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Manufacturing method of semiconductor device including forming a recess filling pattern

Номер патента: US20230260828A1. Автор: Jonghyuk Park,Youngin Kim,Byoungho Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-17.

Method of fabrication of semiconductor structures by ion implantation

Номер патента: US20020013039A1. Автор: Fernando Gonzalez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Fabrication of infra-red charge coupled devices

Номер патента: US4276099A. Автор: John M. Keen,Arthur F. W. Willoughby. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 1981-06-30.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20170178897A1. Автор: Takuya Hagiwara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-06-22.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09847226B2. Автор: Takuya Hagiwara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09627203B2. Автор: Takuya Hagiwara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Self-aligned epitaxial method for the fabrication of semiconductor devices

Номер патента: US4101350A. Автор: Glen G. Possley,Robert G. Massey,Billy B. Williams. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1978-07-18.

Formation method of semiconductor structure

Номер патента: US12080589B2. Автор: Hong Lin,Weijun Wang. Владелец: Shanghai IC R&D Center Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09691767B2. Автор: Taiji Ema,Mitsuaki Hori,Yasunobu TORII,Kazushi FUJITA. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Method of forming isolation layer of semiconductor device

Номер патента: US7682928B2. Автор: Myung IL Kang. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-23.

Fabrication of silicon germanium-on-insulator finFET

Номер патента: US09899253B2. Автор: Hong He,Qing Liu,Bruce Doris. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2018-02-20.

Process for fabrication of a structure with a view to a subsequent separation

Номер патента: US09607879B2. Автор: Didier Landru. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2017-03-28.

Method of fabrication of dielectrically isolated cmos device with an isolated slot

Номер патента: CA1186808A. Автор: Sidney I. Soclof. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1985-05-07.

Fabrication of semiconductor devices

Номер патента: WO2002027768A3. Автор: Daniel Shepard. Владелец: Nuep2 Inc. Дата публикации: 2002-08-22.

Fin isolation structures of semiconductor devices

Номер патента: US20190096769A1. Автор: Yen-Ming Chen,Chih-Hao Wang,Kuan-Lun Cheng,Kuo-Cheng Ching. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US12107002B2. Автор: Wei-Ming Liao,Chuan-Lin HSIAO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Micromachined ultra-miniature piezoresistive pressure sensor and method of fabrication of the same

Номер патента: US09708175B2. Автор: Bin QI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-18.

Manufacturing method of semiconductor package

Номер патента: US20200105715A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-04-02.

Isolation structure of semiconductor and method of forming the same

Номер патента: US20210376074A1. Автор: Yoshinori Tanaka,Wei-Che Chang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Method of making a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US09859184B2. Автор: Hans-Martin Ritter,Frank Burmeister. Владелец: Nexperia BV. Дата публикации: 2018-01-02.

Backside and sidewall metallization of semiconductor devices

Номер патента: US20240194486A1. Автор: Wen Hung HUANG,Yufu Liu,Kuan-Hsiang Mao,Che Ming Fang. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Process for fabrication and assembly of semiconductor devices

Номер патента: US3965568A. Автор: Roland W. Gooch. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1976-06-29.

Backside and sidewall metallization of semiconductor devices

Номер патента: US11935753B2. Автор: Wen Hung HUANG,Yufu Liu,Kuan-Hsiang Mao,Che Ming Fang. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-03-19.

Backside and sidewall metallization of semiconductor devices

Номер патента: US20230187211A1. Автор: Wen Hung HUANG,Yufu Liu,Kuan-Hsiang Mao,Che Ming Fang. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2023-06-15.

Method of separating a wafer of semiconductor devices

Номер патента: US09608016B2. Автор: Stefano Schiaffino,Grigoriy Basin,Jipu Lei,Alexander H. Nickel. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-03-28.

Precision breaking of semiconductor wafer into chips by applying an etch process

Номер патента: US6075280A. Автор: Hao-Chieh Yung,Gene Jing-Chiang Chang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2000-06-13.

Area selective atomic layer deposition of metal oxide or dielectric layer on patterned substrate

Номер патента: US20230340660A1. Автор: Chad Michael BRICK. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Area selective atomic layer deposition of metal oxide or dielectric layer on patterned substrate

Номер патента: WO2023205332A1. Автор: Chad Michael BRICK. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2023-10-26.

Method of forming fine island patterns of semiconductor devices

Номер патента: US20190074182A1. Автор: Shing-Yih Shih,Chiang-Lin Shih. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2019-03-07.

Secure inspection and marking of semiconductor wafers for trusted manufacturing thereof

Номер патента: US20210134682A1. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Composite substrate for fabrication of beta gallium oxide devices

Номер патента: US20240347339A1. Автор: Alexander Usenko,Yash Suresh Mirchandani,Nishita Suresh Mirchandani. Владелец: Syrnatec Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09543289B2. Автор: Hitoshi Abe,Noriaki Yao. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for controlling sheet resistance of poly in fabrication of semiconductor device

Номер патента: US20090077509A1. Автор: Nan Soon CHOI. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-03-19.

Fabricating method of semiconductor element

Номер патента: US20130109163A1. Автор: Po-Chao Tsao,Ming-Tsung Chen,Ming-Te Wei. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Method of contact formation between metal and semiconductor

Номер патента: EP3513427A1. Автор: Hua Chung,Yi-Chiau Huang,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-24.

Methods for protecting film layers while removing hardmasks during fabrication of semiconductor devices

Номер патента: US20110086495A1. Автор: Rohit Pal,Janice MONZET. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2011-04-14.

Method for fabrication of floating gate in semiconductor device

Номер патента: US20090176320A1. Автор: Jin-Ho Kim,Ki-Min Lee. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Ammonia pre-treatment in the fabrication of a memory cell

Номер патента: US20100155815A1. Автор: Bernard John Fischer. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

Thermal deposition of silicon-germanium

Номер патента: US11830734B2. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Huiyuan WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Fabrication Of Semiconductor Substrates

Номер патента: US20200083042A1. Автор: Heinz Schmid,Lukas Czornomaz,Philipp Staudinger,Yannick Baumgartner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-03-12.

Thermal deposition of silicon-germanium

Номер патента: WO2022245903A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Huiyuan WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Fabrication of M-plane Gallium Nitride

Номер патента: US20170345650A1. Автор: Jenn-Kai Tsai,I-Kai LO,Shuo-Ting You. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2017-11-30.

Secure inspection and marking of semiconductor wafers for trusted manufacturing thereof

Номер патента: US11804411B2. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Preserving Underlying Dielectric Layer During MRAM Device Formation

Номер патента: US20210126051A1. Автор: Michael RIZZOLO,Ashim Dutta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Cell layout of semiconductor device

Номер патента: US12039251B2. Автор: Yun-Han Lee,Yi-Lin Chuang,Huang-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Fabrication of a strained region on a substrate

Номер патента: US20180308976A1. Автор: Isaac Lauer,Renee T. Mo,Jiaxing Liu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Planarization of semiconductor devices

Номер патента: US20200395224A1. Автор: Mark Somervell,Ryan Burns,Corey Lemley. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Method for forming silicide of semiconductor device

Номер патента: US8105910B2. Автор: Hee-Jae Shin. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2012-01-31.

Methods of forming a plurality of semiconductor layers using trench arrays

Номер патента: WO2001063654A2. Автор: Robert F. Davis,Kevin J. Linthicum,Thomas Gehrke. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2001-08-30.

Fabrication of a strained region on a substrate

Номер патента: US09793398B1. Автор: Isaac Lauer,Renee T. Mo,Jiaxing Liu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Barrier Layer On Polymer Passivation For Integrated Circuit Packaging

Номер патента: US20110012239A1. Автор: Shiqun Gu,Yiming Li,Arvind Chandrasekaran,Urmi Ray. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2011-01-20.

Fabrication of electronic devices using sacrificial seed layers

Номер патента: US11799016B2. Автор: Michael Everett Babb,Harlan Rusty Harris. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2023-10-24.

Fabrication of electronic devices using sacrificial seed layers

Номер патента: US20210083076A1. Автор: Michael Everett Babb,Harlan Rusty Harris. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2021-03-18.

Fabrication of electronic devices using sacrificial seed layers

Номер патента: US20220223719A1. Автор: Michael Everett Babb,Harlan Rusty Harris. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2022-07-14.

Process for collectively fabricating a plurality of semiconductor structures

Номер патента: US11876073B2. Автор: David Sotta. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-16.

Packaging structure of semiconductor chip and formation method thereof

Номер патента: US12119308B2. Автор: Honghui Wang,Xiaoyong MIAO. Владелец: Tongfu Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Method of fabricating an oxide layer on a silicon carbide layer utilizing an anneal in a hydrogen environment

Номер патента: CA2442929A1. Автор: Mrinal Kanti Das,Lori A. Lipkin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

High speed fabricating of solar cells devices with added rubidium and/or cesium

Номер патента: EP3414781A1. Автор: Patrick Reinhard,Adrian CHIRILA,Stephan Brunken,Moritz WEHRLE. Владелец: FLISOM AG. Дата публикации: 2018-12-19.

Gate Dielectric Of Semiconductor Device

Номер патента: US20140091400A1. Автор: Kuang-Yuan Hsu,Da-Yuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Metallizing process of semiconductor industry

Номер патента: US20010000496A1. Автор: Ting Wang,John Chu,Der-Tsyr Fan,Chon-Shin Jou. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2001-04-26.

Process for the preparation of semiconductor devices

Номер патента: US5158904A. Автор: Takashi Ueda. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1992-10-27.

Method of collective fabrication of 3D electronic modules configured to operate at more than 1 GHz

Номер патента: US09899250B2. Автор: Christian Val. Владелец: 3D Plus SA. Дата публикации: 2018-02-20.

Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09607836B2. Автор: Hirokazu Fujiwara,Narumasa Soejima. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Interface between a I/III/VI2 layer and a back contact layer in a photovoltaic cell

Номер патента: US09478695B2. Автор: Stephanie Angle,Ludovic Parissi. Владелец: Nexcis SAS. Дата публикации: 2016-10-25.

Fabrication of lateral superjunction devices using selective epitaxy

Номер патента: US20210376067A1. Автор: Michael Everett Babb,Harlan Rusty Harris. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2021-12-02.

Enhancement of carrier concentration in As-containing contact layers

Номер патента: US20020175344A1. Автор: Claude Reynolds,Marlin Focht,Ronald Leibenguth. Владелец: Agere Systems LLC. Дата публикации: 2002-11-28.

Mid-processing removal of semiconductor fins during fabrication of integrated circuit structures

Номер патента: US11887860B2. Автор: Anurag Jain,Szuya S. LIAO,Mehmet O. BAYKAN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Mid-processing removal of semiconductor fins during fabrication of integrated circuit structures

Номер патента: US20230343599A1. Автор: Anurag Jain,Szuya S. LIAO,Mehmet O. BAYKAN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Apparatus of semiconductor memory and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200118976A1. Автор: Jung Seok AHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-16.

Manufacturing method of semiconductor module

Номер патента: US20160190085A1. Автор: Akira Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-06-30.

Electronic package module and method for fabrication of the same

Номер патента: US20240266236A1. Автор: Li-Cheng Shen,Chao-Hsuan Wang. Владелец: Usi Science And Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Methods and assemblies related to fabrication of acoustic wave devices

Номер патента: US12074581B2. Автор: Michio Kadota,Shuji Tanaka,Yoshimi Ishii. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Forming method of semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20230282537A1. Автор: Huiwen TANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Metal line of semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20020058401A1. Автор: CHANG Kim. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-16.

Manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US20180301465A1. Автор: Erh-Kun Lai,Hsiang-Lan Lung. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

A method for transferring and stacking of semiconductor devices

Номер патента: EP1252654A2. Автор: Eric Beyne,Staf Borghs,Raf Vandersmissen. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2002-10-30.

Etch stop region based fabrication of bonded semiconductor structures

Номер патента: US09865747B2. Автор: Stephen A. Fanelli. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Fabrication of complementary modulation-doped filed effect transistors

Номер патента: US4603469A. Автор: Craig A. Armiento,Peter E. Norris. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1986-08-05.

Preparation of semiconductor devices

Номер патента: US4981814A. Автор: Andrew Nelson,Simon Cole,Michael J. Harlow,Stanley Y. K. Wong. Владелец: British Telecommunications plc. Дата публикации: 1991-01-01.

Mid-processing removal of semiconductor fins during fabrication of integrated circuit structures

Номер патента: US20200227267A1. Автор: Anurag Jain,Szuya S. LIAO,Mehmet O. BAYKAN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Method for forming silicide of semiconductor device

Номер патента: US20100072521A1. Автор: Hee-Jae Shin. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

Graphene device and method of fabrication of a graphene device

Номер патента: US20240213353A1. Автор: Elías Torres Alonso. Владелец: Graphenea Semiconductor SLU. Дата публикации: 2024-06-27.

Metallization of semiconductor wafer

Номер патента: EP4256605A1. Автор: Lan Wang,Erwei Liu,Fangzhong Shen,Kai-Ulrich Boldt. Владелец: Heraeus Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2023-10-11.

Method for improving flatness of semiconductor thin film

Номер патента: US20210043442A1. Автор: Gongbai Cao,Chihhsin Lin,Chenhua Dong. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US12041766B2. Автор: Zhan Ying,Kui Zhang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma-assisted mocvd fabrication of p-type group iii-nitride materials

Номер патента: WO2012122331A3. Автор: Olga Kryliouk,Karl Brown,David Bour,Kevin Griffin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-11-22.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US11721560B2. Автор: Cheng-Chi Wang,Chin-Lung Ting,Chia-Chieh FAN,Ming-Tsang Wu. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2023-08-08.

Packaging methods of semiconductor devices

Номер патента: US20230047166A1. Автор: Peiyan CAO,Yurun LIU. Владелец: Shenzhen Xpectvision Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Method for eliminating inverse narrow width effects in the fabrication of DRAM device

Номер патента: US20050003608A1. Автор: Yinan Chen,Tieh-Chiang Wu,Ming-Cheng Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2005-01-06.

Method of preventing charge accumulation in manufacture of semiconductor device

Номер патента: US09881785B2. Автор: Chang-Won Lee,Un-Jeong Kim,Young-geun Roh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-30.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09741578B2. Автор: Tohru Oka,Noriaki Murakami,Kota YASUNISHI. Владелец: Toyoda Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Method of connecting multilevel semiconductor devices

Номер патента: RU2629904C2. Автор: Цзюньфэн ЧЖАО. Владелец: Интел Корпорейшн. Дата публикации: 2017-09-04.

Method for etching Pt film of semiconductor device

Номер патента: US6004882A. Автор: Byong-sun Ju,Hyoun-woo Kim,Byeong-Yun Nam,Won-jong Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-12-21.

Methods of forming silicide layer of semiconductor device

Номер патента: US20050142727A1. Автор: Jin Jung. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Fabrication of grooved semiconductor devices

Номер патента: CA1225465A. Автор: Daniel P. Wilt,William C. Dautremont-Smith. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1987-08-11.

Passivating point defects in high-k gate dielectric layers during gate stack formation

Номер патента: SG193698A1. Автор: Trentzsch Martin,Erben Elke,j carter Richard. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-10-30.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20220005957A1. Автор: Chia-Jung Hsu,Chih-Kai Hsu,Ssu-I Fu,Chun-Ya Chiu,Chin-Hung Chen,Yu-Hsiang Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-01-06.

Production Method of Semiconductor Device and Semiconductor Device

Номер патента: US20090283773A1. Автор: Takuto Yasumatsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-19.

Method of forming pattern of semiconductor device

Номер патента: US20150118852A1. Автор: Yool Kang,Hyung-Rae Lee,Seong-Ji Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-04-30.

Re-oxidation process of semiconductor device

Номер патента: US20040106281A1. Автор: June-Min Yao,Jui-Neng Tu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-03.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20190214288A1. Автор: Cheng-Chi Wang,Chin-Lung Ting,Chia-Chieh FAN,Ming-Tsang Wu. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Electronic package module and method for fabrication of the same

Номер патента: US20240266295A1. Автор: Li-Cheng Shen. Владелец: Usi Science And Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: US7666738B2. Автор: Dong-Woo Shin,Jin-woong Kim,Jong-Min Lee,Hyung-Bok Choi. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-02-23.

Method for the manufacture of semiconductor devices and circuits

Номер патента: US20020109139A1. Автор: Kramadhati Ravi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Formation of semiconductor structures employing selective removal of fins

Номер патента: US09722024B1. Автор: Ruilong Xie,Min Gyu Sung,Catherine B. Labelle. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Fabrication of nanowire field effect transistor structures

Номер патента: US09576856B2. Автор: Hui Zang,Bingwu Liu. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Insitu epitaxial deposition of front and back junctions in single crystal silicon solar cells

Номер патента: US09397239B2. Автор: Tirunelveli S. Ravi,Ashish Asthana. Владелец: Crystal Solar Inc. Дата публикации: 2016-07-19.

Technique and apparatus for depositing layers of semiconductor for solar cell and module fabrication

Номер патента: WO2007056224A3. Автор: Bulent Basol. Владелец: SoloPower Inc. Дата публикации: 2008-04-10.

Method of semiconductor manufacture using an inverse self-aligned mask

Номер патента: US5132236A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1992-07-21.

Method of forming contact layers on substrates

Номер патента: US20070066054A1. Автор: Homayoun Talieh,Bulent Basol,Cyprian Uzoh,Hung-Ming Wang. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2007-03-22.

Fabrication method and structure of semiconductor device

Номер патента: US20230369051A1. Автор: Yi Tang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Interlayer design for epitaxial growth of semiconductor layers

Номер патента: US20150187572A1. Автор: Erol Girt,Mariana Rodica Munteanu. Владелец: Zetta Research and Development LLC AQT Series . Дата публикации: 2015-07-02.

Method and System for Wafer Level Testing of Semiconductor Chips

Номер патента: US20120013359A1. Автор: Zhaojun SHAO. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2012-01-19.

Quantum doping method and use in fabrication of nanoscale electronic devices

Номер патента: US10510876B2. Автор: Anatoly Feygenson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-12-17.

Physical vapor deposition of low-stress nitrogen-doped tungsten films

Номер патента: US09938616B2. Автор: Michael Ng,Michael Rumer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Quantum doping method and use in fabrication of nanoscale electronic devices

Номер патента: US09870925B1. Автор: Anatoly Feygenson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-16.

Removal of semiconductor growth defects

Номер патента: US09842741B2. Автор: Soon-Cheon Seo,Linus Jang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Removal of semiconductor growth defects

Номер патента: US09496257B2. Автор: Soon-Cheon Seo,Linus Jang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Electronic device structure including a buffer layer on a base layer

Номер патента: EP2596521A1. Автор: Qingchun Zhang,Anant Agarwal. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2013-05-29.

Fabrication of solar cells with electrically conductive polyimide adhesive

Номер патента: US09768326B1. Автор: Mark A. Stan,Jeff Steinfeldt,Chelsea Mackos. Владелец: SolAero Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Electronic device structure including a buffer layer on a base layer

Номер патента: US20120018737A1. Автор: Qingchun Zhang,Anant Agarwal. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2012-01-26.

Formation of control and floating gates of semiconductor non-volatile memories

Номер патента: EP1042810A1. Автор: Steven Keetai Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-10-11.

Efficient fabrication of memory structures

Номер патента: US20220037402A1. Автор: LEI Wei,Kevin Lee Baker,Don Koun Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Method of manufacture of contact plug and interconnection layer of semiconductor device

Номер патента: US7615485B2. Автор: Yasuhiko Matsunaga,Hiroyuki Kutsukake,Shoichi Miyazaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-11-10.

Method of manufacture of contact plug and interconnection layer of semiconductor device

Номер патента: US20110018046A1. Автор: Yasuhiko Matsunaga,Hiroyuki Kutsukake,Shoichi Miyazaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-27.

Method for the fabrication of bonding solder layers on metal bumps with improved coplanarity

Номер патента: US20130052817A1. Автор: Tim Hsiao. Владелец: WIN Semiconductors Corp. Дата публикации: 2013-02-28.

Versatile system for charge dissipation in the formation of semiconductor device structures

Номер патента: US20060033173A1. Автор: Weidong Tian,Zafar Imam,Bradley Sucher. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2006-02-16.

Cross-point memory and methods for fabrication of same

Номер патента: US20190355789A1. Автор: Roberto Somaschini,Ombretta Donghi,Marcello Ravasio,Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

RTA for Fabrication of Solar Cells

Номер патента: US20110183457A1. Автор: Bernhard P. Piwczyk. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2011-07-28.

RTA for fabrication of solar cells

Номер патента: US8236677B2. Автор: Bernhard P. Piwczyk. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2012-08-07.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Fabrication of optics wafer

Номер патента: US09875998B2. Автор: Hartmut Rudmann. Владелец: Heptagon Micro Optics Pte Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Fabrication of optics wafer

Номер патента: US09634050B2. Автор: Hartmut Rudmann. Владелец: Heptagon Micro Optics Pte Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Method of wafer-scale integration of semiconductor devices and semiconductor device

Номер патента: US09608035B2. Автор: Franz Schrank,Cathal Cassidy,Joerg Siegert. Владелец: ams AG. Дата публикации: 2017-03-28.

Versatile system for charge dissipation in the formation of semiconductor device structures

Номер патента: US20070057247A1. Автор: Weidong Tian,Zafar Imam,Bradley Sucher. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-03-15.

Versatile system for charge dissipation in the formation of semiconductor device structures

Номер патента: US20060214170A1. Автор: Weidong Tian,Zafar Imam,Bradley Sucher. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2006-09-28.

Process for the fabrication of thin-film device and thin-film device

Номер патента: US20070090404A1. Автор: Akihiko Asano,Tomoatsu Kinoshita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-26.

Semiconductor wafer with electrically connected contact and test areas

Номер патента: US20110294238A1. Автор: Bernd Goller,Michael Horn,Werner Ertle,Bernd Kothe. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2011-12-01.

Methods for forming one or more crystalline layers on a substrate

Номер патента: US09444049B2. Автор: Randall L. Headrick. Владелец: University of Vermont and State Agricultural College. Дата публикации: 2016-09-13.

Capacitor of semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US20100052097A1. Автор: Byung Soo Eun. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-03-04.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20070032056A1. Автор: Izuo Iida. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-08.

Multistep deposition of zinc oxide on gallium nitride

Номер патента: US09935243B2. Автор: Steven P. DenBaars,Sang Ho Oh,Asad J. Mughal. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2018-04-03.

Fabrication of semiconductor modules with ceramic substrates and detection of residual glass

Номер патента: CA1182591A. Автор: Howard A. Froot. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-02-12.

Streamlined GaN-based fabrication of light emitting diode structures

Номер патента: US11804574B2. Автор: Richard J. Brown,Christopher M. Martin,Shikhar Bajracharya. Владелец: Odyssey Semiconductor Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

STREAMLINED GaN-BASED FABRICATION OF LIGHT EMITTING DIODE STRUCTURES

Номер патента: US20210367107A1. Автор: Richard J. Brown,Christopher M. Martin,Shikhar Bajracharya. Владелец: Odyssey Semiconductor Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Semiconductor element and multiplexer including a plurality of semiconductor elements

Номер патента: US20230141173A1. Автор: Seunggeol NAM,Jinseong Heo,Hagyoul BAE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Fabrication of integrated circuit structures for bipolor transistors

Номер патента: US09847408B1. Автор: Vibhor Jain,Qizhi Liu. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Fabrication of solar cells with electrically conductive polyimide adhesive

Номер патента: US09691930B2. Автор: Mark A. Stan,Jeff Steinfeldt,Chelsea Mackos. Владелец: SolAero Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Fabrication of optical metasurfaces

Номер патента: US10886317B2. Автор: Gleb M. Akselrod,Erik E. Josberger,Mark C. Weidman. Владелец: ELWHA LLC. Дата публикации: 2021-01-05.

Fabrication of photovoltaic devices by solid phase epitaxy

Номер патента: US4165558A. Автор: William F. Armitage, Jr.,Everett E. Crisman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-08-28.

Metal gate structures of semiconductor devices

Номер патента: US20210193828A1. Автор: Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Metal gate structures of semiconductor devices

Номер патента: US20220190153A1. Автор: Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Capacitor of semiconductor device and distributed model circuit for the same

Номер патента: US20240014253A1. Автор: Ung Ki MIN,Yong Je JEON. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Method for forming contact layer on semiconductor light emitting device

Номер патента: US4686001A. Автор: Niro Okazaki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-08-11.

Thin film transistor having oxide semiconductor layer as ohmic contact layer

Номер патента: US20140048800A1. Автор: Chun-Gi You. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

Thin film transistor having oxide semiconductor layer as ohmic contact layer

Номер патента: US8921863B2. Автор: Chun-Gi You. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-30.

Dual alignment strategy for optimizing contact layer alignment

Номер патента: US8603905B2. Автор: James Walter Blatchford. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-12-10.

Method of connecting a semiconductor package to a board

Номер патента: US9343397B2. Автор: Carlo Marbella. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-05-17.

Layer structure for electrical contacting of semiconductor components

Номер патента: US20110127674A1. Автор: Hans Artmann,Jochen Reinmuth,Peter Schmollngruber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-02.

Methods and structures for discharging plasma formed during the fabrication of semiconductor device

Номер патента: US8749012B2. Автор: Masahiko Higashi,Naoki Takeguchi. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2014-06-10.

Compact electro-optical devices with laterally grown contact layers

Номер патента: US20210020796A1. Автор: Lukas Czornomaz,Charles CAER,Yannick Baumgartner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Electric connection structure for electronic power devices, and method of connection

Номер патента: US20020070432A1. Автор: Giuseppe Bruno,Domenico Verde. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2002-06-13.

Fabrication of flexible thin film gaas-based group iii-v solar cell on si substrate

Номер патента: WO2022139729A1. Автор: Mustafa KULAKCI,Ugur SERINCAN. Владелец: Eskisehir Teknik Universitesi. Дата публикации: 2022-06-30.

System configurations for fabrication of micro-LED displays

Номер патента: US12062735B2. Автор: Hou T. Ng,Nag B. Patibandla,Daihua Zhang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Stacked structure of semiconductor chips having via holes and metal bumps

Номер патента: US09704829B2. Автор: Chih-Hsien Lin,Chang-Hwang Hua. Владелец: WIN Semiconductors Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Grinding apparatus and method for fabrication of liquid crystal display device

Номер патента: US09687951B2. Автор: Byeong Gwon CHOE. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Methods and structures for discharging plasma formed during the fabrication of semiconuctor device

Номер патента: US20090026570A1. Автор: Masahiko Higashi,Naoki Takeguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-29.

Semiconductor for Device and Its Manufacturing Method

Номер патента: US20080265436A1. Автор: Yoshihito Fujiwara,Masahito Kawabata. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-30.

Fabrication of embedded die packaging comprising laser drilled vias

Номер патента: US20230019052A1. Автор: Ahmad Mizan,Cameron MCKNIGHT-MACNEIL,Abhinandan DIXIT,An-Sheng CHENG. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2023-01-19.

Method for fabrication of an electronic module and electronic module

Номер патента: US09999136B2. Автор: Risto Tuominen. Владелец: GE EMBEDDED ELECTRONICS OY. Дата публикации: 2018-06-12.

Method for fabrication of a silicon-based component with at least one optical illusion pattern

Номер патента: US09740174B2. Автор: Pierre Cusin,Alex Gandelhman,Michel MUSY. Владелец: Nivarox Far SA. Дата публикации: 2017-08-22.

Technologies for plasma oxidation protection during hybrid bonding of semiconductor devices

Номер патента: US12125818B2. Автор: Jack Rogers,Satohiko Hoshino,Nathan Antonovich. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and apparatus for deposition of diffusion thin film

Номер патента: EP2222888A1. Автор: Si-Young Choi,Jung-Hyun Choi,Sang-Youl Bae,Sung-Youp Chung. Владелец: INTELLIGENT SYSTEM Inc. Дата публикации: 2010-09-01.

Fabrication of correlated electron material devices method to control carbon

Номер патента: US20190109283A1. Автор: Kimberly Gay Reid,Lucian Shifren. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2019-04-11.

Method for fabrication of a sensor device

Номер патента: US20170254769A1. Автор: Matthias Studer,Ulrich Bartsch,Silvio GRAF. Владелец: SENSIRION AG. Дата публикации: 2017-09-07.

Mim capacitor of semiconductor device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20100155890A1. Автор: Jong-Yong Yun. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-06-24.

Fabrication of correlated electron material devices

Номер патента: US09627615B1. Автор: Lucian Shifren,Kimberly G. Reid,Carlos Alberto Paz de Araujo. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Fabrication of an insulated gate field effect transistor device

Номер патента: US3724065A. Автор: L Hall,B Carbajal,W Gosney. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1973-04-03.

Capacitor of semiconductor device and distributed model circuit for the same

Номер патента: US11804517B2. Автор: Ung Ki MIN,Yong Je JEON. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Semiconductor memory device and manufacturing method of semiconductor memory device

Номер патента: US20240015965A1. Автор: Dae Hyun Kim,Changhan Kim,Ga Ram CHOI. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Methods of forming connection bump of semiconductor device

Номер патента: US20130082090A1. Автор: Sun-Hee Park,Moon-Gi Cho,Hwan-Sik Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-04-04.

Fabrication of long gate devices

Номер патента: US11855175B2. Автор: Ru-Shang Hsiao,Jung-Chi Jeng,Sung-Hsin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Fabrication of Long Gate Devices

Номер патента: US20220068719A1. Автор: Ru-Shang Hsiao,Jung-Chi Jeng,Sung-Hsin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Fabrication of Long Gate Devices

Номер патента: US20220359719A1. Автор: Ru-Shang Hsiao,Jung-Chi Jeng,Sung-Hsin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Contact arrangement for emitter zone of semiconductor device

Номер патента: US3694708A. Автор: Manfred Arlt,Joachim Dathe,Helmut Guckel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1972-09-26.

Manufacturing method and program of semiconductor device

Номер патента: US20180217203A1. Автор: Tomoaki Tamura,Yoshiyuki Nakamura,Kouichi KUMAKI. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Method for fabricating stack structure of semiconductor packages

Номер патента: US8420521B2. Автор: Han-Ping Pu,Cheng-Hsu Hsiao,Ho-Yi Tsai,Fang-Lin Tsai. Владелец: Siliconware Precision Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-16.

Manufacturing method and manufacturing apparatus of semiconductor device

Номер патента: US8445359B2. Автор: Shunpei Yamazaki,Koichiro Tanaka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-21.

Method for controlling parameter using a process of semiconductor production

Номер патента: WO2002082529A1. Автор: Man-Bong Lee. Владелец: Jiwoo Techniques Korea. Дата публикации: 2002-10-17.

Process for forming graphene layers on silicon carbide

Номер патента: US09771665B2. Автор: Francesca Iacopi,Mohsin Ahmed,Benjamin Vaughan CUNNING. Владелец: Griffith University. Дата публикации: 2017-09-26.

Non-common capping layer on an organic device

Номер патента: US10340313B2. Автор: Michael S. Weaver,Michael Hack. Владелец: Universal Display Corp. Дата публикации: 2019-07-02.

Conformal metallization process for the fabrication of semiconductor laser devices

Номер патента: US20130163631A1. Автор: Jia-Sheng Huang,Phong Thai. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for the Fabrication of a Reduced Reflectance Metal Mesh

Номер патента: US20180215660A1. Автор: Zhihong Liu. Владелец: 2m Technology LLC. Дата публикации: 2018-08-02.

Fabrication of a multi-layered magnetic element

Номер патента: US20180094347A1. Автор: Eric W. Singleton,Jae-Young Yi. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2018-04-05.

Fabrication of a multi-layered magnetic element

Номер патента: US09856557B1. Автор: Eric W. Singleton,Jae-Young Yi. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2018-01-02.

Particle removal during fabrication of electrochromic devices

Номер патента: US20240012306A1. Автор: Robert T. Rozbicki. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Arrangement of contacts and carriers

Номер патента: US6264511B1. Автор: Xue Wu Bu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-24.

Fabrication of electrochromic devices

Номер патента: US20200233278A1. Автор: Sridhar Karthik Kailasam. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2020-07-23.

Method of connecting a contact with a solder and an electronic device using the method

Номер патента: US20050287836A1. Автор: Ted Ju. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-12-29.

Method for mirror passivation of semiconductor laser diodes

Номер патента: CA2018501C. Автор: Marcel Gasser,Ernst Eberhard Latta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Fabrication of highly textured lithium cobalt oxide films by rapid thermal annealing

Номер патента: US20010014423A1. Автор: John Bates. Владелец: Lockheed Martin Energy Research Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Fabrication of highly textured lithium cobalt oxide films by rapid thermal annealing

Номер патента: US20010051384A1. Автор: John Bates. Владелец: Lockheed Martin Energy Research Corp. Дата публикации: 2001-12-13.

Methods of fabrication of high-density laser diode stacks

Номер патента: US20130143338A1. Автор: Edward F. Stephens, Iv,Frank L. Struemph,Jeremy Scott Junghans. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2013-06-06.

Laser-based Fabrication of Carbon Nanotube-Metal Composites on Flexible Substrates

Номер патента: US20180102200A1. Автор: Benxin Wu. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2018-04-12.

Method for the fabrication of a pore comprising metallic membrane and a pore comprising membrane

Номер патента: WO2020104287A1. Автор: Hyung Gyu Park,Roman Wyss. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2020-05-28.

Method for fabrication of anodes

Номер патента: US3903589A. Автор: Gerhart P Klein,William F Vierou. Владелец: PR Mallory and Co Inc. Дата публикации: 1975-09-09.

Connecting contact leads to lithium-based electrodes

Номер патента: EP2605313A1. Автор: Vladimir Kolosnitsyn,Gleb Ivanov,Scott Joseph Lilley. Владелец: Oxis Energy Ltd. Дата публикации: 2013-06-19.

Connecting contact leads to lithium-based electrodes

Номер патента: US20230290927A1. Автор: Vladimir Kolosnitsyn,Gleb Ivanov,Scott Joseph Lilley,Marek Jozef SZCZERBA. Владелец: Gelion Technologies Pty Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Connecting contact leads to lithium-based electrodes

Номер патента: GB201214595D0. Автор: . Владелец: Oxis Energy Ltd. Дата публикации: 2012-10-03.

Photomultiplier having a photocathode comprised of semiconductor material

Номер патента: US5710435A. Автор: Tomoko Suzuki,Masami Yamada,Toru Hirohata,Minoru Niigaki. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 1998-01-20.

Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US20230380147A1. Автор: Shuai Guo. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

System and method for depositing of a first and second layer on a substrate

Номер патента: US11761088B2. Автор: Kevin Johannes Hendrikus LAGARDE. Владелец: Innoflex Technologies BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Efficient fabrication of memory structures

Номер патента: US12082425B2. Автор: LEI Wei,Kevin Lee Baker,Don Koun Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Efficient fabrication of memory structures

Номер патента: US20230225137A1. Автор: LEI Wei,Kevin Lee Baker,Don Koun Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Photolithography based fabrication of 3d structures

Номер патента: WO2016100303A2. Автор: Christopher Michael Rutherglen. Владелец: Carbonics Inc.. Дата публикации: 2016-06-23.

Semiconductor memory device and manufacturing method of semiconductor memory device

Номер патента: US20240023330A1. Автор: Jin Ha Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Fabrication of a flexible circuit board

Номер патента: US09839136B2. Автор: Sheng-Yu Huang,Chun-Ting Lai,Yen-Po HUANG,Paul S. C. Wu. Владелец: Taimide Tech Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Deposition method of a metallic layer on a substrate of a resonator device

Номер патента: US12043891B2. Автор: Adrian Thomas,Steve Burgess,Scott HAYMORE. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Fabrication of embedded DRAMs

Номер патента: GB2342774A. Автор: Water Lur,Fu Tai Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Methods for forming one or more crystalline layers on a substrate

Номер патента: WO2014008395A9. Автор: Randall L. Headrick. Владелец: University of Vermont and State Agricultural College. Дата публикации: 2014-10-16.

Method and system for test head testing of connections of a sonet element

Номер патента: US20030058801A1. Автор: Francois Moore,Carl Reeves,William Sandor. Владелец: Fujitsu Network Communications Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Fabrication of planar electronic circuit devices

Номер патента: WO2008133515A3. Автор: Aerle Nicolaas Aldegonda Jan Maria Van,Alec Reader,Tobias Balla. Владелец: Tobias Balla. Дата публикации: 2009-01-15.

Fabrication of superconducting wires and rods

Номер патента: WO1996021951A1. Автор: Kamel Salama,Krishnaswamy Ravi-Chandar,Devamanohar Ponnusamy. Владелец: University of Houston. Дата публикации: 1996-07-18.

Fabrication Of Uniform High Density Nanostructure Array

Номер патента: US20240099036A1. Автор: Young Geun Park,Somin Eunice Lee. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2024-03-21.

Method and system for scheduling, indexing, categorizing, and triggering digital content and gifts for future delivery

Номер патента: EP3729297A1. Автор: Hanan S. Mohammed. Владелец: Circleit LLC. Дата публикации: 2020-10-28.

Method and system for scheduling, indexing, categorizing, and triggering digital content and gifts for future delivery

Номер патента: US20190199813A1. Автор: Hanan S. Mohammed. Владелец: Circleit LLC. Дата публикации: 2019-06-27.

Method and system for scheduling, indexing, categorizing, and triggering digital content and gifts for future delivery

Номер патента: WO2019126610A1. Автор: Hanan S. Mohammed. Владелец: Circleit LLC. Дата публикации: 2019-06-27.

Methods and apparatus to project ratings for future broadcasts of media

Номер патента: US10867308B2. Автор: Peter Campbell Doe,Jingsong Cui,Scott Sereday. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2020-12-15.

A method of fabrication of micro-devices

Номер патента: WO2003035543A1. Автор: Bruce Orr,Brett Sexton. Владелец: Micro Relay Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2003-05-01.

Methods and Apparatus to Project Ratings for Future Broadcasts of Media

Номер патента: US20240265415A1. Автор: Peter Campbell Doe,Jingsong Cui,Scott Sereday. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Methods and apparatus to project ratings for future broadcasts of media

Номер патента: US20210174381A1. Автор: Peter Campbell Doe,Jingsong Cui,Scott Sereday. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2021-06-10.

A method of fabrication of micro-devices

Номер патента: EP1440035A1. Автор: Bruce Orr,Brett Sexton. Владелец: Micro Relay Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2004-07-28.

Methods and apparatus to project ratings for future broadcasts of media

Номер патента: US20230325858A1. Автор: Peter Campbell Doe,Jingsong Cui,Scott Sereday. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2023-10-12.

Methods and apparatus to project ratings for future broadcasts of media

Номер патента: US11989746B2. Автор: Peter Campbell Doe,Jingsong Cui,Scott Sereday. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2024-05-21.

System and method for posting content to networks for future access

Номер патента: US20160359956A1. Автор: Olav Bokestad,Anna Bokestad. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-08.

Fabrication of correlated electron material devices method to control carbon

Номер патента: WO2017141043A1. Автор: Kimberly Gay Reid,Lucian Shifren. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2017-08-24.

Fabrication of correlated electron material devices

Номер патента: EP3408875A1. Автор: Kimberly Gay Reid,Lucian Shifren,Carlos Paz de ARAUJO. Владелец: Advanced Risc Machines Ltd. Дата публикации: 2018-12-05.

Wave shaping circuit of semiconductor testing apparatus

Номер патента: US5955901A. Автор: Makoto Kikuchi,Kiyotaka Mizuno. Владелец: Ando Electric Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Thin film deposition apparatus including deposition blade

Номер патента: US09593408B2. Автор: Jung-Min Lee,Choong-ho Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Fabrication of interlayer dielectrics with high quality interfaces for quantum computing devices

Номер патента: CA3009887A1. Автор: Anthony Edward MEGRANT. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2017-07-06.

Wafer level fabrication of cavity for surface acoustic wave filter

Номер патента: US20120326560A1. Автор: HAO Yun,Richard A. Wessel. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-12-27.

Method, system, and apparatus for future delivery of digital content over a network

Номер патента: WO2013028526A1. Автор: Jonathan B. LOEW. Владелец: Keeptree, Llc. Дата публикации: 2013-02-28.

Independent scene movement based on mask layers

Номер патента: WO2024123513A1. Автор: Rakesh Raju CHENNA MADHAVUNI. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-06-13.

Independent scene movement based on mask layers

Номер патента: US20240193873A1. Автор: Rakesh Raju CHENNA MADHAVUNI. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

SYSTEM AND METHOD FOR DEPOSITING OF A FIRST AND SECOND LAYER ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20220002874A1. Автор: LAGARDE Kevin Johannes Hendrikus. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-06.

Nanoimprint and etch fabrication of optical devices

Номер патента: US12092956B2. Автор: JING Jiang,Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Methods of fabrication of nano-sensor and nano-sensor array

Номер патента: US12078605B2. Автор: Navakanta Bhat,Chandra Shekhar PRAJAPATI. Владелец: Indian Institute of Science IISC. Дата публикации: 2024-09-03.

System and method for fabrication of a three-dimensional edible product

Номер патента: CA3181152A1. Автор: Daniel Dikovsky,Daniel Mandelik,Sagee SCHACHTER,Gur Shapira,Eyal Comforti. Владелец: Redefine Meat Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

System and method for fabrication of a three-dimensional edible product

Номер патента: EP4228440A1. Автор: Daniel Dikovsky,Daniel Mandelik,Sagee SCHACHTER,Gur Shapira,Eyal Comforti. Владелец: Redefine Meat Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

System and method for fabrication of a three-dimensional edible product

Номер патента: IL278059B. Автор: . Владелец: Redefine Meat Ltd. Дата публикации: 2021-12-01.

Method of contacting substrate with probe card

Номер патента: US09863977B2. Автор: Hiroshi Yamada,Jun Mochizuki,Kunihiro Furuya,Takanori Hyakudomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Apparatus and method for combined micro-scale and nano-scale C-V, Q-V, and I-V testing of semiconductor materials

Номер патента: US09551743B2. Автор: Andrew N. Erickson. Владелец: DCG Systems Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Method of fabrication of nickel strip

Номер патента: RU2561629C2. Автор: Теодор ШТУТ. Владелец: Теодор ШТУТ. Дата публикации: 2015-08-27.

Low Temperature Fabrication of Silicon Nitride Photonic Devices

Номер патента: US20240210625A1. Автор: Jiawei Wang,Daniel J. Blumenthal,Debapam Bose. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-06-27.

A method for depositing layers on a substrate

Номер патента: EP1248866A1. Автор: Lars-Ulrik Aaen Andersen,Paul Nicholas Egginton. Владелец: Ionas AS. Дата публикации: 2002-10-16.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US12105500B2. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Method of fabrication of billets of coins

Номер патента: RU2383657C2. Автор: Адриан КЕМПСТЕР. Владелец: Диффьюжн Эллойс Лимитед. Дата публикации: 2010-03-10.

Fabrication of catalysed exhaust filter and catalysed exhaust filter

Номер патента: RU2564854C2. Автор: Кельд ЙОХАНСЕН. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2015-10-10.

Improved fabrics of spiral weave

Номер патента: RU2378434C2. Автор: Алан Л. БИЛЛИНГЗ. Владелец: Олбэни Интернэшнл Корп.. Дата публикации: 2010-01-10.

Moulding tool and method of fabrication of component

Номер патента: RU2457111C2. Автор: Марк Эдвин ФАННЕЛЛ. Владелец: Эйрбас Оперейшнз Лимитед. Дата публикации: 2012-07-27.

Crimping structure of surface coating fabric of article

Номер патента: US20210137278A1. Автор: Chien-Yeh Chen. Владелец: Fujian Chuangxin Family Reside Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Fabrication of an optical wedge

Номер патента: WO2011109426A2. Автор: Timothy Large,Kurt Allen Jenkins,Rajesh Manohar Dighde. Владелец: MICROSOFT CORPORATION. Дата публикации: 2011-09-09.

Fabrication of an optical wedge

Номер патента: EP2542396A2. Автор: Timothy Large,Kurt Allen Jenkins,Rajesh Manohar Dighde. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2013-01-09.

A mould set for fabrication of an EPS pallet and use thereof

Номер патента: AU2021331702A1. Автор: Deenar SHASHIKANT WALAWALKAR. Владелец: Verte Technologies LLC. Дата публикации: 2023-03-16.

Wafer-scale fabrication of vertical optical couplers

Номер патента: US20170199327A1. Автор: Ashok V. Krishnamoorthy,Xuezhe Zheng,Stevan S. Djordjevic. Владелец: Oracle International Corp. Дата публикации: 2017-07-13.

Imprint method for fabrication of low density nanopore membrane

Номер патента: US20230194991A1. Автор: Thomas Chang,Kim Yang Lee. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2023-06-22.

A mould set for fabrication of an eps pallet and use thereof

Номер патента: US20230046488A1. Автор: Deenar SHASHIKANT WALAWALKAR. Владелец: Verte Technologies LLC. Дата публикации: 2023-02-16.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US12124237B2. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2024-10-22.

Fused filament fabrication of braze alloys

Номер патента: US12121966B2. Автор: Scott Nelson,Quinlan Yee Shuck,Raymond Ruiwen Xu,Matthew R. Gold,Brandon David Ribic. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Device of contacting substrate with probe card and substrate inspection apparatus having same

Номер патента: US09915698B2. Автор: Hiroshi Yamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Fire-resistant hose reinforced with cord fabric of glass fibre

Номер патента: RU2589589C2. Автор: Елена ГРЭЙ,Тимоти К. ЗЕДАЛИС. Владелец: Дзе Гейтс Корпорейшн. Дата публикации: 2016-07-10.

Fabrication of tubular section from mineral cotton and tubular section made thereby

Номер патента: RU2540128C2. Автор: Туомо ХЬЕЛЬТ. Владелец: ПАРОК ОЙ АБ. Дата публикации: 2015-02-10.

Fabrication of baffle boards, particularly, for aircraft

Номер патента: RU2519382C2. Автор: Ги Бернар ВОШЕЛЬ,Гийом РЮКЕР. Владелец: Эрсель. Дата публикации: 2014-06-10.

Photomask used in fabrication of semiconductor device

Номер патента: US8241820B2. Автор: Jae-Han Lee,Bong-Cheol Kim,Eun-Sung Kim,Dae-Youp Lee,Byeong-hwan Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-08-14.

Photomask Used in Fabrication of Semiconductor Device

Номер патента: US20100178599A1. Автор: Jae-Han Lee,Bong-Cheol Kim,Eun-Sung Kim,Dae-Youp Lee,Byeong-hwan Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-07-15.

Particle removal during fabrication of electrochromic devices

Номер патента: EP3134767A1. Автор: Robert Rozbicki. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2017-03-01.

Design of developable surfaces for the fabrication of containers with linear fasteners

Номер патента: WO2019197020A1. Автор: Christian Schuller,Roi Poranne,Olga Sorkine Hornung. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2019-10-17.

Fire-resistant double-faced fabric of knitted construction

Номер патента: CA3131032A1. Автор: Patricia Dolez,Mahsa KALANTARI,Jessica BUCHINSKI. Владелец: Jess Black Inc. Дата публикации: 2020-08-27.

Device for fabrication of fibers, 3d printer comprising the device and method for fabrication of fibers

Номер патента: EP4375067A1. Автор: Leonid Ionov,Alla Synytska. Владелец: Biovature GmbH. Дата публикации: 2024-05-29.

Nonwoven fabric of hydraulically-enyangled fibres

Номер патента: IE850004L. Автор: . Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1985-07-05.

Heavy-weight nonwoven fabric of hydraulically-entangled fibers

Номер патента: IE56334B1. Автор: . Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1991-06-19.

Device for fabrication of fibers, 3d printer comprising the device and method for fabrication of fibers

Номер патента: WO2024110502A1. Автор: Leonid Ionov,Synytska ALLA. Владелец: Biovature GmbH. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of fabrication of composites by using an electron beam

Номер патента: WO2003035353A9. Автор: Luisa M Deckard,Jennifer J Zinck. Владелец: Jennifer J Zinck. Дата публикации: 2003-10-30.

Fabrication of highly flexible near-infrared metamaterials

Номер патента: US09610754B2. Автор: Guixin Li,Kok Wai Cheah. Владелец: Hong Kong Baptist University HKBU. Дата публикации: 2017-04-04.

Pattern alignment mark of semiconductor device

Номер патента: US5675418A. Автор: Sang Man Bae,Byoung Il Choi. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1997-10-07.

Low-defect fabrication of composite materials

Номер патента: US20240117128A1. Автор: Brian L. Wardle,Jeonyoon LEE,Diana Jean Lewis. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2024-04-11.

Method for fabrication of optical fibre soot preform

Номер патента: US20210047226A1. Автор: Anand Pandey,Badri Gomatam,Sandeep Gaikwad. Владелец: Sterlite Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-02-18.

Fabrication of nanometer and micrometer structures with continuous reliefs

Номер патента: EP2567290A1. Автор: Arne Schleunitz,Helmut Schift. Владелец: Scherrer Paul Institut. Дата публикации: 2013-03-13.

Conditioning equipment for the fabric of a fiber web machine

Номер патента: WO2010103169A1. Автор: John Fagerlund,Sami Makkonen. Владелец: METSO PAPER, INC.. Дата публикации: 2010-09-16.

Use of ionic liquids for fabrication of polynucleotide arrays

Номер патента: US20030092904A1. Автор: Geraldine Dellinger,Joel Myerson,Douglas Dellinger,Michel Perobost. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2003-05-15.

Prediction of and support readiness for future business intents

Номер патента: US20240257021A1. Автор: Stephen James Todd,Robert Anthony Lincourt, Jr.,Eloy Francisco Macha. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-08-01.

Fabrication of integrated circuit

Номер патента: WO2002042846A3. Автор: John Paul Drake. Владелец: John Paul Drake. Дата публикации: 2003-05-01.

Fabrication of integrated circuit

Номер патента: WO2002042846A2. Автор: John Paul Drake. Владелец: Bookham Technology PLC. Дата публикации: 2002-05-30.

Method of fabrication of photonic biosensor arrays

Номер патента: US20110294679A1. Автор: Andrew Mark Shaw,Rouslan Vladimir Olkhov. Владелец: Attomarker Ltd. Дата публикации: 2011-12-01.

Tools and methods for fabrication of thermoplastic panels

Номер патента: US20240316839A1. Автор: Ozlem Turkarslan,Feride Nur Sasal. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-09-26.

Reducing call stack usage for future object completions

Номер патента: US12099870B2. Автор: Julien Viet,Thomas Segismont. Владелец: Red Hat Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Method and apparatus for the fabrication of a container, such as a beverage container

Номер патента: US09993958B2. Автор: Guillaume Chauvin,Klaus Hartwig,Damien Kannengiesser. Владелец: DISCMA AG. Дата публикации: 2018-06-12.

Process and device for direct fabrication of a part on a structure

Номер патента: US09827716B2. Автор: Yann-Henri Laudrain. Владелец: AIRBUS OPERATIONS SAS. Дата публикации: 2017-11-28.

Fabrication of diamond shells

Номер патента: US09481930B2. Автор: Juergen Biener,Christoph Wild,Eckhard Woerner,Alex V. Hamza. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Fabrication of orifices with lowly located cavitation source

Номер патента: RU2526635C2. Автор: ШАНТЦ Штефан,ЗЕЕЛЬБАХ Клаус. Владелец: Роберт Бош Гмбх. Дата публикации: 2014-08-27.

Articles from fabric of ptfe and method of their manufacturing

Номер патента: RU2469133C1. Автор: Норман КЛАФ. Владелец: Гор Энтерпрайз Холдингс, Инк.. Дата публикации: 2012-12-10.

Method of fabrication of ceramic casting cores for blades of turbomachines

Номер патента: RU2374031C2. Автор: Кристиан ДЕФРОКУР,Серж ПРИЖЕН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2009-11-27.

Machine for fabrication of stator shaft

Номер патента: RU2683674C2. Автор: Штеффен РИТМЮЛЛЕР. Владелец: грайнер пэкиджинг аг. Дата публикации: 2019-04-01.

Fabrication of holograms on plastic substrates

Номер патента: US4330604A. Автор: John E. Wreede,Andrejs Graube,Mark A. Mulvihill. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1982-05-18.

Device for fabrication of container, in particular, with ampoule shape, from thermoplastic material

Номер патента: RU2564353C2. Автор: Бернд ХАНСЕН. Владелец: Бернд ХАНСЕН. Дата публикации: 2015-09-27.

Procedure and device for fabrication of tuyers or cores, in particular for foundry

Номер патента: RU2397841C2. Автор: Йоахим ЛЕМПЕ. Владелец: Лемпе унд Мёсснер ГмбХ. Дата публикации: 2010-08-27.

Fabrication of vessels and vessel thus made

Номер патента: RU2559009C2. Автор: Джузеппе ТЕРРАЗИ. Владелец: СОРЕМАРТЕК С.А.. Дата публикации: 2015-08-10.

Improved method of treating a fabric of woven or interlaced thermoplastic threads and device for carrying the method into effect

Номер патента: GB1045590A. Автор: . Владелец: Welinberger Guy J O. Дата публикации: 1966-10-12.

Airbag fabric of improved durability and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230322179A1. Автор: Sang-Mok Lee,Ki Jeong Kim,Jin Wook Heo,G-Woong KIM. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-10-12.

Fabrication of metallic optical metasurfaces

Номер патента: EP3781969A1. Автор: Gleb M. Akselrod,Mark C. Weidman,Erik Edward Josberger. Владелец: ELWHA LLC. Дата публикации: 2021-02-24.

Fabrication of metallic optical metasurfaces

Номер патента: WO2019195163A1. Автор: Gleb M. Akselrod,Mark C. Weidman,Erik Edward Josberger. Владелец: ELWHA LLC. Дата публикации: 2019-10-10.

Method for fabrication of optical element having metal ring

Номер патента: US6935136B2. Автор: Kimihiro Kikuchi,Motohiko Otsuki. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-30.

Apparatus and method for creating non-fungible tokens (NFTs) for future user experiences

Номер патента: US12039464B2. Автор: Linda Lee Richter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-16.

Clip-on mask frame

Номер патента: US20240225149A1. Автор: Takeuchi TSUNEO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for fabrication of glass preform

Номер патента: US11912604B2. Автор: Anand Pandey,Badri Gomatam,Sandeep Gaikwad. Владелец: Sterlite Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Nonwoven card for the production of nonwoven fabric of fiber material

Номер патента: US20040187267A1. Автор: Heinz-Werner Naumann-Burghardt,Robert Kamprath,Siegfried Brnhardt. Владелец: Spinnbau GmbH. Дата публикации: 2004-09-30.

Fabrication of nano-scale temperature sensors and heaters

Номер патента: US7009487B1. Автор: Dan Zhou,Fred Stevie,Lee Chow. Владелец: University of Central Florida Research Foundation Inc UCFRF. Дата публикации: 2006-03-07.

Fabrication of suspended carbon micro and nanoscale structures

Номер патента: US20100051446A1. Автор: Marc J. Madou,Chunlei Wang,Kartikeya Malladi,Rabih B. Zaouk. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-04.

Method for fabrication of glass preform

Номер патента: US20210047223A1. Автор: Anand Pandey,Badri Gomatam,Sandeep Gaikwad. Владелец: Sterlite Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-02-18.

Nonwoven card for the production of nonwoven fabric of fiber material

Номер патента: US7152278B2. Автор: Siegfried Bernhardt,Heinz-Werner Naumann-Burghardt,Robert Kamprath. Владелец: Spinnbau GmbH. Дата публикации: 2006-12-26.

Process for galvanic depositing of a dispersion layer on a work piece surface

Номер патента: US20020000381A1. Автор: Thomas Rumpf. Владелец: Miba Gleitlager Austria GmbH. Дата публикации: 2002-01-03.

Method for fabrication of corrosion-resistant tubing using minimal quantities of specialized material

Номер патента: US12117166B2. Автор: Eric Willis. Владелец: Caliber Elements LLC. Дата публикации: 2024-10-15.

Method for the fabrication of composite insulations

Номер патента: US3823026A. Автор: G Brunar. Владелец: Meynadier and Cie AG. Дата публикации: 1974-07-09.

Direct fabrication of mixed metal and polymer palatal devices

Номер патента: US20240358477A1. Автор: Jun Sato,Yuxiang Wang. Владелец: Align Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Fabrication of free standing membranes and use thereof for synthesis of nanoparticle patterns

Номер патента: US09829793B2. Автор: Jun Yang,Tingjie LI. Владелец: University of Western Ontario. Дата публикации: 2017-11-28.

Nanoparticle aggregation in binder jetting fabrication of metal parts

Номер патента: US20180236545A1. Автор: Michael Andrew Gibson,Christopher Benjamin Renner,Anna Marie Trump. Владелец: Desktop Metal Inc. Дата публикации: 2018-08-23.

Fabrication of a laminated optical wedge

Номер патента: EP2630529A2. Автор: Timothy Large,Kurt Allen Jenkins,Rajesh Manohar Dighde. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2013-08-28.

Fabrication of a laminated optical wedge

Номер патента: US20120099828A1. Автор: Timothy Large,Kurt Allen Jenkins,Rajesh Manohar Dighde. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2012-04-26.

Fabrication of optically smooth light guide

Номер патента: EP2359171A2. Автор: Kurt Allen Jenkins. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2011-08-24.

Fabrication of optically smooth light guide

Номер патента: WO2010075048A2. Автор: Kurt Allen Jenkins. Владелец: MICROSOFT CORPORATION. Дата публикации: 2010-07-01.

Process for the fabrication of metal products

Номер патента: US3609852A. Автор: Andre Maigret,Maurice Lachaussee. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-10-05.

System and method for fabrication of bulk nanocrystal alloy

Номер патента: WO2018187900A1. Автор: Peng Chen,Feng Gong,Zhiyuan Liu,Dengji GUO. Владелец: SHENZHEN UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-10-18.

System for providing impressions based on consumer preferences for future promotions

Номер патента: US12045857B2. Автор: Injae Lee. Владелец: Byte Dance Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Fabrication of patterned arrays

Номер патента: US20160303534A1. Автор: Wei Zhou,Jian Cao,Glenn McGall,Filip CRNOGORAC. Владелец: Centrillion Technology Holdings Corp. Дата публикации: 2016-10-20.

Fabrication of patterned arrays

Номер патента: EP3077543A2. Автор: Wei Zhou,Jian Cao,Glenn McGall,Filip CRNOGORAC. Владелец: Centrillion Technology Holdings Corp. Дата публикации: 2016-10-12.

Fabrication of a laminated optical wedge

Номер патента: WO2012054211A2. Автор: Timothy Large,Kurt Allen Jenkins,Rajesh Manohar Dighde. Владелец: MICROSOFT CORPORATION. Дата публикации: 2012-04-26.

Fabrication of air gap regions in multicomponent lens systems

Номер патента: US20170351095A1. Автор: Omar Negrete. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2017-12-07.

Tubular scaffold for fabrication of heart valves

Номер патента: US09968446B2. Автор: Arash Kheradvar,Seyedhamed Alavi. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2018-05-15.

Textile fabric of aramid fibre and its use

Номер патента: RU2533134C2. Автор: Рюдигер ХАРТЕРТ,Петер Герард АККЕР. Владелец: Тейджин Арамид Гмбх. Дата публикации: 2014-11-20.

Method for fabrication of false nail with 3d decoration

Номер патента: RU2493759C2. Автор: Сун Ён ЧХАН. Владелец: Сун Ён ЧХАН. Дата публикации: 2013-09-27.

Yarn and fabrics of fibre mixture containing oxidized polymer fibres

Номер патента: RU2552248C2. Автор: Зеб У. ЭТКИНСОН. Владелец: Инвиста Текнолоджиз С.А Р.Л.. Дата публикации: 2015-06-10.

Method for epitaxial growth from the vapour phase of semiconductor materials

Номер патента: CA1296241C. Автор: Peter Michael Frijlink. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1992-02-25.

Method of and apparatus for drying "crepe" and other fabrics of paper, hair, wool or other material

Номер патента: GB460306A. Автор: . Владелец: William Ridgway. Дата публикации: 1937-01-26.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20210109499A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2021-04-15.

Fabrication of waveguide structures

Номер патента: US11852869B2. Автор: Frank Zaugg,Joshua Wayne PARKS. Владелец: Fluxus Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Fused filament fabrication of high entropy alloys

Номер патента: US11820070B2. Автор: Scott Nelson,Quinlan Yee Shuck,Raymond Ruiwen Xu,Matthew R. Gold,Brandon David Ribic. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20230244209A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2023-08-03.

Apparatus and method for creating non-fungible tokens (nfts) for future user experiences

Номер патента: US20240160967A1. Автор: Linda Lee Richter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-16.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20230376005A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US11726450B2. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2023-08-15.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20230033300A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2023-02-02.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20210149367A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2021-05-20.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20210223756A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2021-07-22.

System and method for generating a quote for fabrication of a part to be fabricated

Номер патента: US20230251625A1. Автор: Jonathan Schwartz,Oliver Ortlieb,Max Friefeld. Владелец: DESPREZ LLC. Дата публикации: 2023-08-10.

Fabrication of waveguide structures

Номер патента: US20240085629A1. Автор: Frank Zaugg,Joshua Wayne PARKS. Владелец: Fluxus Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Construction or fabrication of an assembly comprising a joist or rafter

Номер патента: AU2022202682A1. Автор: Bernard Joseph Kennelly. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2022-11-10.

Surface layer on a ceramic matrix composite

Номер патента: US20200199033A1. Автор: Sungbo Shim,Camila Bortoluzzi,Andrew Phillip Kao. Владелец: Rolls Royce High Temperature Composites Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Method for electrophoretic deposition of brazing material

Номер патента: EP1042542A1. Автор: Mark Lawrence Hunt,Paul Stephen Korinko. Владелец: Allison Engine Co Inc. Дата публикации: 2000-10-11.

Method for electrophoretic deposition of brazing material

Номер патента: EP1042542A4. Автор: Mark Lawrence Hunt,Paul Stephen Korinko. Владелец: Allison Engine Co Inc. Дата публикации: 2002-03-20.

Method for electrophoretic deposition of brazing material

Номер патента: WO1999022046A1. Автор: Mark Lawrence Hunt,Paul Stephen Korinko. Владелец: Allison Engine Company, Inc.. Дата публикации: 1999-05-06.

Method and apparatus for producing spunbonded fabrics of filaments

Номер патента: EP1629142A1. Автор: Henning Roettger,Michael Voges,Ralf Sodemann. Владелец: Corovin GmbH. Дата публикации: 2006-03-01.

Method for fabrication of a non-pneumatic survivable tire and wheel assembly

Номер патента: US09475244B2. Автор: Eldon C. Rogers,Timothy L. Williams. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Fabrication of straightener and straightener thus made

Номер патента: RU2564740C2. Автор: Жорж ДЮШЕН. Владелец: Текспейс Аэро С.А.. Дата публикации: 2015-10-10.

Fabrication of laminate tooling using closed-loop direct metal deposition

Номер патента: US20020165634A1. Автор: Timothy Skszek. Владелец: POM Group. Дата публикации: 2002-11-07.

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND PROCESS FOR CONTINUOUS DEPOSITION OF A DOPED THIN FILM LAYER ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120028393A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-02-02.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000484A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Fabrication Of Solar Cells With Counter Doping Prevention

Номер патента: US20120000522A1. Автор: Li Bo,DENNIS Timothy D.,COUSINS Peter John. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of fabrication of packet wood unit

Номер патента: RU2520644C1. Автор: Антон Викторович Хрипко. Владелец: Антон Викторович Хрипко. Дата публикации: 2014-06-27.

Attachment unit of contact element

Номер патента: RU2109379C1. Автор: Ю.К. Стешин. Владелец: Акционерное общество "ЗЭТА". Дата публикации: 1998-04-20.

ALIGNMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR OPTICAL AMPLIFIER AND LIGHT OUTPUT DEVICE

Номер патента: US20120002696A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION SYSTEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003761A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Looms for Weaving Fabric of Inclined Texture.

Номер патента: GB190511351A. Автор: Francisque Voland,Louis Diederichs,Jean Baptiste Monnet. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-01-18.

Method and device for fabrication of at list partially profiled tubes

Номер патента: RU2338620C2. Автор: Петер ГЕЗЕР. Владелец: Эрнст Гроб Аг. Дата публикации: 2008-11-20.

An Improved Device for Repairing Bursts or Cuts in the Fabric of Pneumatic Tyres.

Номер патента: GB190824015A. Автор: Albert Lambourne,Frank Maurice Fogarty. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-07-01.

Method of fabrication of holographic goggles

Номер патента: RU2082210C1. Автор: Л.Г. Копейко,Р.В. Рябова. Владелец: Копейко Людмила Геннадиевна. Дата публикации: 1997-06-20.

Fabrication of ic case

Номер патента: RU2561240C2. Автор: Евгений Иванович Челноков. Владелец: Евгений Иванович Челноков. Дата публикации: 2015-08-27.

Construction or fabrication of an assembly comprising a joist or rafter

Номер патента: NZ787524A. Автор: Bernard Joseph Kennelly. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2022-04-29.

Method for fabrication of silicon substrate heterostructures using rapid thermal triode plasma cvd

Номер патента: MY188431A. Автор: Abdul Manaf Bin Hashim Dr. Владелец: Univ Malaysia Teknologi. Дата публикации: 2021-12-08.

Bow compensation of semiconductor substrate using plasma jet

Номер патента: WO2024215502A1. Автор: Michael WOOD,Karl Frederick Leeser. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-17.

Raw material mix for fabrication of aerated concrete

Номер патента: RU2377226C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2009-12-27.

Method of fabrication of hollow blade

Номер патента: RU2366530C1. Автор: . Владелец: Онищенко Анатолий Кондратьевич. Дата публикации: 2009-09-10.