光掩模坯体、光掩模及其制造方法、以及半导体器件的制造方法
Номер патента: CN102165369A
Опубликовано: 24-08-2011
Автор(ы): 小凑淳志, 桥本雅广
Принадлежит: Hoya Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-08-2011
Автор(ы): 小凑淳志, 桥本雅广
Принадлежит: Hoya Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Etching resistant film, process for producing the same, surface cured resist pattern, process for producing the same, semiconductor device and process for producing the same
Номер патента: EP1598858A1. Автор: Koji Fujitsu Limited Nozaki,Masayuki FUJITSU LIMITED TAKEDA. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-11-23.