Multi-level rf pulse monitoring and rf pulsing parameter optimization at a manufacturing system
Номер патента: WO2023107314A1
Опубликовано: 15-06-2023
Автор(ы): Dermot Cantwell, Jatinder Kumar, Quentin Ernie Walker, Serghei Malkov
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-06-2023
Автор(ы): Dermot Cantwell, Jatinder Kumar, Quentin Ernie Walker, Serghei Malkov
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Multi-level rf pulse monitoring and rf pulsing parameter optimization at a manufacturing system
Номер патента: US20230184693A1. Автор: Dermot Cantwell,Jatinder Kumar,Serghei Malkov,Quentin Ernie Walker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.