Tunable extraction assembly for wide angle ion beam
Номер патента: WO2022015432A1
Опубликовано: 20-01-2022
Автор(ы): Costel Biloiu, Jay R. Wallace, Kevin M. Daniels
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-01-2022
Автор(ы): Costel Biloiu, Jay R. Wallace, Kevin M. Daniels
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Multi-source ion beam etch system
Номер патента: US20210104374A1. Автор: Ellie Yieh,Qiwei Liang,Srinivas D. Nemani,Douglas Buchberger,Chentsau Chris Ying. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-08.