Multi-charged-particle-beam writing apparatus and multi-charged-particle-beam writing method
Номер патента: US11901156B2
Опубликовано: 13-02-2024
Автор(ы): Rieko Nishimura, Ryosuke Ueba, Satoru Hirose, Shunsuke Isaji
Принадлежит: Nuflare Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-02-2024
Автор(ы): Rieko Nishimura, Ryosuke Ueba, Satoru Hirose, Shunsuke Isaji
Принадлежит: Nuflare Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Mounting substrate, blanking aperture array chip, blanking aperture array system and multi charged particle beam irradiation apparatus
Номер патента: US20240013999A1. Автор: HIROFUMI Morita,Toshiki Kimura,Kazuhiro Chiba,Hayato Kimura,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-11.