SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING CURVED GATE ELECTRODE ALIGNED WITH CURVED SIDE-WALL INSULATING FILM AND STRESS-INTRODUCING LAYER BETWEEN CHANNEL REGION AND SOURCE AND DRAIN REGIONS
Номер патента: US20190207029A1
Опубликовано: 04-07-2019
Автор(ы): MAYUZUMI Satoru, Wakabayashi Hitoshi
Принадлежит: SONY CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-07-2019
Автор(ы): MAYUZUMI Satoru, Wakabayashi Hitoshi
Принадлежит: SONY CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device having curved gate electrode aligned with curved side-wall insulating film and stress-introducing layer between channel region and source and drain regions
Номер патента: US09947790B2. Автор: Hitoshi Wakabayashi,Satoru Mayuzumi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-04-17.