Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11295928B2
Опубликовано: 05-04-2022
Автор(ы): Qinglang MENG, Weiqiang SUN, YAN Zhao
Принадлежит: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Transmission charged particle microscope with an electron energy loss spectroscopy detector

Номер патента: US20240258067A1. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for operating a multiple particle beam system with a mirror mode of operation and associated computer program product

Номер патента: NL2028949B1. Автор: SCHUBERT Stefan. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2023-12-14.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11756761B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20220157556A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11239044B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066022A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: US09601303B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-21.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Pulsed charged-particle beam system

Номер патента: US11942302B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren,Pieter Willem Herman De Jager,Adam Lassise. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-26.

Method for detecting signal charged particles in a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US09589763B1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Kazuki ISHIZAWA,Yoshihiro Takahoko,Daichi Nara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Particle beam apparatus and method for operating a particle beam apparatus

Номер патента: US09947504B2. Автор: Dirk Preikszas,Michel Aliman,Michael Schnell,Edgar Fichter,Christian Hendrich,Momme MOMMSEN,Klaus Hegele,Kai Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle beam device, control method of charged particle beam device, and cross-section processing observation device

Номер патента: JP6165643B2. Автор: 敦 上本,麻畑　達也,達也 麻畑,欣 満. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-07-19.

Multiple charged particle beam inspection apparatus and multiple charged particle beam inspection method

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method

Номер патента: US20160163501A1. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION METHOD

Номер патента: US20210202206A1. Автор: TAKEKOSHI Hidekazu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-07-01.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS

Номер патента: US20210319974A1. Автор: Inoue Kazuhiko,Ogasawara Munehiro,Shiratsuchi Masataka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged-particle apparatus, multi-device apparatus, method of using charged-particle apparatus and control method

Номер патента: US20240331968A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Magnetic field free sample plane for charged particle microscope

Номер патента: EP4020519A1. Автор: Alexander Henstra,Peter Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-06-29.

Magnetic field free sample plane for charged particle microscope

Номер патента: US20220199353A1. Автор: Alexander Henstra,Peter Christiaan Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-06-23.

Particle beam system.

Номер патента: NL2014113B1. Автор: KEMEN Thomas,Zeidler Dirk. Владелец: Zeiss Carl Microscopy Gmbh. Дата публикации: 2016-05-18.

Particle beam system.

Номер патента: NL2007053C2. Автор: Dirk Zeidler,Thomas Kemen. Владелец: Zeiss Carl Nts Gmbh. Дата публикации: 2014-04-14.

PARTICLE BEAM APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM APPARATUS

Номер патента: US20170236683A1. Автор: Preikszas Dirk,Hegele Klaus,Aliman Michel,Hendrich Christian,Schnell Michael,Fichter Edgar,Mommsen Momme,Schubert Kai. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-17.

Particle beam apparatus and method of operating a particle beam apparatus

Номер патента: DE102010001346B4. Автор: Dr. Preikszas Dirk. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-05-08.

Particle beam apparatus and method of operating a particle beam apparatus

Номер патента: DE102010001346A1. Автор: Dirk Dr. 73447 Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2011-08-18.

Particle beam apparatus and method for operating a particle beam device

Номер патента: DE102015210941B4. Автор: Dirk Preikszas,Michel Aliman,Michael Schnell,Edgar Fichter,Christian Hendrich,Momme MOMMSEN,Klaus Hegele,Kai Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-15.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2022184387A3. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Woellert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2022-09-01.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4302318A2. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-01-10.

Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multi-beam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam

Номер патента: CA3174201A1. Автор: Laura DINU GURTLER,German AKSENOV. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-16.

Method of determining an energy spectrum or energy width of a charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240371600A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Bandpass charged particle energy filtering detector for charged particle tools

Номер патента: US11749495B2. Автор: Michael Steigerwald,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233583A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154290A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Multi-charged particle beam image acquisition apparatus and multi-charged particle beam image acquisition method

Номер патента: US20210005422A1. Автор: Kazuhiro Nakashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210020422A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsuhiro Nakamura,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Masahiro Sasajima,Hironori Itabashi,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: WO2022175061A3. Автор: John Notte,Mark Dimanna,Terry Griffin,Jeffrey Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154291A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233584A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Energy Filter for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160035533A1. Автор: Shuai Li,Joe Wang,Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-02-04.

Composite Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20150221468A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Multi-beam charged particle microscope design with detection system for fast charge compensation

Номер патента: WO2024125816A1. Автор: Thomas Schmid,Markus Koch,Dirk Zeidler,Thomas Dieterle,Bjoern Miksch,Felix MENKE. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-06-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Charged particle beam generation

Номер патента: WO2023102545A2. Автор: Hyunwook Park,Nakri DAO,Kim Richard OVERSTREET. Владелец: MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED. Дата публикации: 2023-06-08.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150155138A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-06-04.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20210257185A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-08-19.

Multi-charged particle beam rendering device and multi-charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI751477B. Автор: 松本裕史. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2022-01-01.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09852876B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Charged particle beam device, system for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US09666406B1. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20170229280A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20160155610A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Takashi Nakamura,Hideki Matsui,Yoshiaki Hattori,Munehiro Ogasawara,Takuya Uemura,Rieko Nishimura,Tatsuya Murofushi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

System for imaging a secondary charged particle beam with adaptive secondary charged particle optics

Номер патента: US09953805B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-04-24.

Focus adjustment method for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: US11776786B2. Автор: Kazunori Tsukamoto,Yuki Chiba. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Particle beam system and the use thereof for flexibly setting the current intensity of individual particle beams

Номер патента: US12119204B2. Автор: Dirk Zeidler,Hans Fritz,Georgo Metalidis,Stefan Schubert,Ralf Lenke. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-10-15.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Charged Particle Beam System and Control Method Therefor

Номер патента: US20230343550A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09691585B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20150340196A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20180342366A1. Автор: Touya Takanao,Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device

Номер патента: US09984848B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged particle optics, charged particle beam apparatus, and method for scanning a charged particle beam

Номер патента: US20240290571A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-29.

Sample pre-charging methods and apparatuses for charged particle beam inspection

Номер патента: US20230360877A1. Автор: Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi,Youfei JIANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-09.

Charged particle device, charged particle assessment apparatus, measuring method, and monitoring method

Номер патента: US20240339292A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US12080515B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis

Номер патента: US20240087837A1. Автор: Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20140021366A1. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230845A1. Автор: Kohei Suzuki,Yuji Kasai,Shunsuke Mizutani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged particle beam device and method of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2021073811A1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-04-22.

CHARGED PARTICLE BEAM ADJUSTMENT METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS

Номер патента: US20220068591A1. Автор: NAKAYAMA Takahito,KAKEHI Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Chiba Hiroyuki,ISHIZAWA Kazuki,TAKAHOKO Yoshihiro,NARA Daichi. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

METHOD OF INFLUENCING A CHARGED PARTICLE BEAM, MULTIPOLE DEVICE, AND CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Winkler Dieter,Cook Benjamin John,Woellert Bernd. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, AND METHOD FOR INSPECTING OR OBSERVING SAMPLE

Номер патента: US20150380208A1. Автор: Ominami Yusuke,Ito Sukehiro,Ohtaki Tomohisa. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.

Charged particle beam alignment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20020179851A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Tadashi Otaka,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Shoji Yoshida,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-12-05.

Charged particle beam alignment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7605381B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Tadashi Otaka,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Shoji Yoshida,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-10-20.

Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multibeam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam

Номер патента: EP3923315B1. Автор: Laura DINU GURTLER,German AKSENOV. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-24.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: US20240355577A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-10-24.

PARTICLE BEAM SYSTEM FOR AZIMUTHAL DEFLECTION OF INDIVIDUAL PARTICLE BEAMS AND METHOD FOR AZIMUTH CORRECTION IN A PARTICLE BEAM SYSTEM

Номер патента: US20220102104A1. Автор: Major Andras G.,Zeidler Dirk,Jacobi Joerg,Thoma Arne,Fritz Hans. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

Particle beam system for azimuthal deflection of individual particle beams and method for azimuth correction in a particle beam system

Номер патента: TWI747301B. Автор: 迪瑞克 列德雷,漢斯 弗瑞茲,安卓斯Ｇ 瑪喬,艾琳 湯瑪,喬治 傑寇博. Владелец: 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司. Дата публикации: 2021-11-21.

Multi-beam particle beam system and method for operating same

Номер патента: US20210217577A1. Автор: Yanko Sarov,Ulrich Bihr,Dirk Zeidler,Georgo Metalidis,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Arne Thoma,Ralf Lenke,Georg Kurij. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2021-07-15.

Charged particle microscope, and method for adjusting a charged particle microscope

Номер патента: US20200118788A1. Автор: Alexander Henstra,Albertus Aemillius Seyno Sluijterman,Eric Gerardus Theodoor Bosch. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-04-16.

Charged particle microscope, and method for adjusting a charged particle microscope

Номер патента: EP3637452A1. Автор: Alexander Henstra,Albertus Aemillius Seyno Sluijterman,Eric Gerardus Theodoor Bosch. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-04-15.

Charged Particle Beam Device and Control Method of Optical System of Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200343072A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample

Номер патента: US09673020B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20110174975A1. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-07-21.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7935925B2. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-05-03.

Particle beam device and method for operating a particle beam device

Номер патента: EP2706553A2. Автор: Michael Albiez. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-03-12.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method

Номер патента: US09741526B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masako Nishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Electron gun, charged particle gun, and charged particle beam apparatus using electron gun and charged particle gun

Номер патента: US09570268B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20200381211A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-03.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US11854765B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-26.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20240145214A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle beam orbit corrector and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7947964B2. Автор: Hiroyuki Ito,Yoshinori Nakayama,Tohru Ishitani,Yuko Sasaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-05-24.

Charged particle beam adjustment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4310250B2. Автор: 麻紀 田中,紀明 荒井,秀俊 諸熊,敦 宮本,二大 笹嶋,隆 土肥,勝美 瀬戸口. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-08-05.

Aperture assembly, beam manipulator unit, charged particle beam manipulation method and charged particle projection device

Номер патента: KR20220150957A. Автор: 마르코 잔-자코 빌란트. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2022-11-11.

Particle Beam Detector

Номер патента: US20160035536A1. Автор: Brandon W. Blackburn,Paul F. Martin,Bruce Chignola,Timothy M. Norcott,Kenneth A. Levenson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2016-02-04.

Magnetic Lens, Method for Focusing Charged Particles and Charged Particle Energy Analyzer

Номер патента: US20110012018A1. Автор: Bryan Barnard,Christopher Glenister. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Magnetic lens, method for focusing charged particles and charged particle energy analyzer

Номер патента: US8164066B2. Автор: Bryan Barnard,Christopher Glenister. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2012-04-24.

Charged particle system, aperture array, charged particle tool and method of operating a charged particle system

Номер патента: EP3982390A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,Diego MARTINEZ NEGRETE GASQUE,Weihua Yin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-13.

Particle beam system and method for operating a particle beam system

Номер патента: US20200185191A1. Автор: Björn Gamm,Marko Matijevic. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-06-11.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160181062A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-23.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

CHARGED PARTICLE BEAM AXIAL ALIGNMENT DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM AXIAL ALIGNMENT METHOD

Номер патента: US20190295806A1. Автор: ISHIKAWA Takehiro. Владелец: SHIMADZU CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

CHARGED PARTICLE BEAM AXIAL ALIGNMENT DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM AXIAL ALIGNMENT METHOD

Номер патента: US20190295807A1. Автор: ISHIKAWA Takehiro. Владелец: SHIMADZU CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180138012A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-17.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180138013A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-17.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180144905A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-24.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20160155604A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-02.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM PATTERN WRITING METHOD

Номер патента: US20160155610A1. Автор: KATO Yasuo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-02.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Matsui Hideki,NAKAMURA Takashi,Ogasawara Munehiro,Nishimura Rieko,UEMURA Takuya,Hattori Yoshiaki,MUROFUSHI Tatsuya. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-06-20.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190198290A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-06-27.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170229280A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo,INOUE Hideo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-08-10.

Multi Charged Particle Beam Inspection Apparatus, and Multi Charged Particle Beam Inspection Method

Номер патента: US20180286630A1. Автор: TAKEKOSHI Hidekazu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20150348741A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

Multiple charged particle beam writing apparatus, and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US10607812B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-03-31.

PARTICLE BEAM MICROSCOPE AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM MICROSCOPE

Номер патента: US20160225579A1. Автор: Preikszas Dirk. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-04.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240234080A9. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof

Номер патента: US09472373B1. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,John Breuer,Johannes Hopster. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US20210202206A1. Автор: Hidekazu Takekoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device

Номер патента: US09922796B1. Автор: Jürgen Frosien,Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam adjusting method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050236570A1. Автор: Takashi Doi,Yoshihiro Kimura,Noriaki Arai,Fumihiro Sasajima,Hidetoshi Morokuma. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-27.

Holder and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200373119A1. Автор: Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

High throughput multi-beam charged particle inspection system with dynamic control

Номер патента: EP4411782A2. Автор: Michael Behnke,Ingo Müller,Ulrich Bihr,Dirk Zeidler,Andreas Adolf,Nicolas Kaufmann. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged particle beam device, image generation method, observation system

Номер патента: US09824854B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Junichi Katane. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam device with dynamic focus and method of operating thereof

Номер патента: US09431210B2. Автор: Dieter Winkler,Igor Petrov. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-08-30.

Charged Particle Beam Device and Charged Particle Beam Measurement Method

Номер патента: US20160225583A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Junichiro Tomizawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module

Номер патента: US20150348742A1. Автор: Michael Albiez,Stefan Meyer,Stewart Bean,Daniel Kirsten. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2015-12-03.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620328B1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Particle beam system and method for the particle-optical examination of an object

Номер патента: US10535494B2. Автор: Dirk Zeidler,Stefan Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-01-14.

Particle beam microscope and method for operating a particle beam microscope

Номер патента: US09859092B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: UEBA Ryosuke,Nishimura Rieko,Hirose Satoru. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-01-24.

CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION METHOD

Номер патента: US20180031498A1. Автор: Shiratsuchi Masataka,Ogawa Riki,NODA Chosaku. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-02-01.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20190237297A1. Автор: NAKAYAMA Takahito,Nishimura Rieko. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-08-01.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170278672A1. Автор: NAKAYAMADA Noriaki,SUGANUMA Mizuna. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-09-28.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160322196A1. Автор: Hasegawa Kei,INOUE Hideo,KIMURA Hayato,ONIMARU Yoshiaki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-11-03.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20150340196A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-11-26.

Charged particle beam writing method, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US9852885B2. Автор: Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Charged particle optical device, assessment apparatus, method of assessing a sample

Номер патента: WO2024110489A1. Автор: Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland,Johan Joost Koning,Laura DEL TIN,Johannes Cornelis Jacobus DE LANGEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-30.

Charged particle optical device, assessment apparatus, method of assessing a sample

Номер патента: EP4376048A1. Автор: Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland,Johan Joost Koning,Laura DEL TIN,Johannes Cornelis Jacobus DE LANGEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-29.

Charged particle tool, calibration method, inspection method

Номер патента: US20230324318A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Erwin Slot,Gerardus MANGNUS Albertus Victor. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Charged particle tool, calibration method, inspection method

Номер патента: EP4256601A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren,Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-11.

Charged particle microscope having vacuum in specimen chamber

Номер патента: US20240112878A1. Автор: Pleun Dona,Peter Tiemeijer,Johannes A.H.W.G. Persoon,Hugo Cornelis VAN LEEUWEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle beam apparatus, composite charged particle beam apparatus, and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210118645A1. Автор: Koji Nagahara,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Method for optimizing charged particle beams formed by shaped apertures

Номер патента: US09679742B2. Автор: Mostafa Maazouz,David William Tuggle,Richard Swinford,William M. Steinhardt. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Irradiation Apparatus, Charged Particle Beam Image Acquisition Apparatus, and Charged Particle Beam Inspection Apparatus

Номер патента: US20190304737A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Method of operating a particle beam system and computer program product

Номер патента: US20240258065A1. Автор: Ralf Wolleschensky,Yauheni Novikau,Kai Wicker,Dirk Preikszas,Bjoern Gamm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Charged-particle beam device for irradiating a charged particle beam on a sample

Номер патента: US09543113B2. Автор: Masashi Fujita,Seiichiro Kanno,Naoya Ishigaki,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Charged particle beam apparatus and image forming method of charged particle beam apparatus

Номер патента: US09859094B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Takuma NISHIMOTO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam adjustment method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20220068591A1. Автор: Takahito Nakayama,Ryoichi Kakehi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Tilting parameters calculating device, sample stage, charged particle beam device, and program

Номер патента: US20200066481A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Inclination angle amount calculation device, sample stand, charged particle beam device, and program

Номер патента: EP3633709A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Method for operating a multi-beam particle beam microscope

Номер патента: US20240312759A1. Автор: Dirk Zeidler,Gregor Dellemann,Gunther Scheunert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for operating a multi-beam particle beam microscope

Номер патента: US12094683B2. Автор: Dirk Zeidler,Gregor Dellemann,Gunther Scheunert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-09-17.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450934A3. Автор: Marcus Straw,Mark Emerson,Milos Toth. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450935A3. Автор: N. William Parker,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

On system self-diagnosis and self-calibration technique for charged particle beam systems

Номер патента: US20240186106A1. Автор: Bruno La Fontaine,Yongxin Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-06.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US9153418B2. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-06.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US20150076349A1. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US11929232B2. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US20210142979A1. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-05-13.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Charged Particle Beam Device, Sample Stage Unit, and Sample Observation Method

Номер патента: US20150311033A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method

Номер патента: US09472375B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: WO2022266269A9. Автор: Christopher Su-Yan OWN. Владелец: Own Christopher Su Yan. Дата публикации: 2023-02-23.

Charged Particle Beam Device, Charged Particle Beam System, and Adjustment Method

Номер патента: US20230386781A1. Автор: Ayumi Doi,Shuichiro Takahashi,Aoi YAMAUCHI,Zhao JINYU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US20200066484A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US10522325B2. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Charged particle gun and charged particle beam device

Номер патента: GB2605035A. Автор: Sasaki Tomoyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Crystal orientation figure creating device, charged particle beam device, crystal orientation figure creating method, and program

Номер патента: US20200066480A1. Автор: Naoki Maruyama,Takafumi Amino,Takashige Mori. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Method of Adjusting Charged Particle Optical System and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240145211A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of adjusting charged particle optical system and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4362056A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for observing sample or inspecting sample

Номер патента: KR20140048999A. Автор: 유스께 오미나미,도모히사 오따끼,스께히로 이또. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈. Дата публикации: 2014-04-24.

Charged particle beam microscopic method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4801518B2. Автор: 雅成 高口,るり子 常田,博実 稲田. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-10-26.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4881677B2. Автор: 浩一 山本,甲子男 影山. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-02-22.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for observing sample

Номер патента: KR101542022B1. Автор: 유스께 오미나미,도모히사 오따끼,스께히로 이또. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈. Дата публикации: 2015-08-04.

Charged particle beam irradiation method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7488961B2. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-02-10.

Charged particle beam irradiation method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070114462A1. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2007-05-24.

Aberration correction apparatus, device having the same, and method for correcting aberration of charged particles

Номер патента: US09601304B2. Автор: Anjam Khursheed. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2017-03-21.

PARTICLE BEAM SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM SYSTEM

Номер патента: US20200185185A1. Автор: Essers Erik. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-11.

Particle beam system and method for operating a particle beam system

Номер патента: CN111293017A. Автор: E.埃瑟斯. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-06-16.

Particle beam apparatus and method for operating a particle beam device

Номер патента: DE102012215945A1. Автор: Michael Albiez. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-03-13.

Particle beam device and method for operating a particle beam device

Номер патента: US9354188B2. Автор: Michael Albiez. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2016-05-31.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09659746B2. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09570267B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09715993B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Blanking device for multi-beam of charged particle writing apparatus using multi-beam of charged particle and defective beam blocking method for multi-beam of charged particle

Номер патента: US09805905B2. Автор: Hiroshi Yamashita,Hiroshi Matsumoto,Kazuhiro Chiba,Ryoichi Yoshikawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US20170207064A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US09881770B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09805907B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09934935B2. Автор: Yasuo Kato,Hideo Inoue,Hayato Kimura,Ryoichi Yoshikawa,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Multiple charged particle beam writing method and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230420217A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180261421A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160155608A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US9190245B2. Автор: Takayuki Ohnishi,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190237297A1. Автор: Takahito Nakayama,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: WO2005024888A3. Автор: Juergen Frosien,Stefan Lanio,Ralf Degenhardt. Владелец: Ralf Degenhardt. Дата публикации: 2005-04-28.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems

Номер патента: US20240017301A1. Автор: Marc Smits,Johan Joost Koning,Chris Franciscus Jessica Lodewijk,Hindrik Willem Mook,Ludovic Lattard. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20200258713A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Kouichi Kurosawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Charged particle lithography system with sensor assembly

Номер патента: US20150179398A1. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS,Jan Andries Meijer,Carel Ferdinand Daudey. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-06-25.

Systems and methods of energy discrimination of backscattered charged-particles

Номер патента: WO2024115029A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240071716A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-29.

CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, OBSERVATION METHOD USING CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Hoshino Yoshinobu,Kawamata Shigeru,Chiba Hiroyuki. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2020-01-09.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160181062A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo,INOUE Hideo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-23.

CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, OBSERVATION METHOD USING CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Hoshino Yoshinobu,Kawamata Shigeru,Chiba Hiroyuki. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2018-11-08.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150060690A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09548183B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Multi-charged-particle-beam writing apparatus and multi-charged-particle-beam writing method

Номер патента: US11901156B2. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US20220102113A1. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US11574797B2. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Charged particle beam device and aberration correction method for charged particle beam device

Номер патента: US20190214222A1. Автор: Hideyuki Kazumi,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle-beam device and specimen observation method

Номер патента: US09466460B2. Автор: Taku Sakazume,Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US09478392B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: EP3047502A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: WO2015042051A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle beam device with dark field detector

Номер патента: EP2560185A3. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: EP4064323A1. Автор: Pavel Potocek,Bert Freitag,Maurice PEEMEN,Remco Schoenmakes. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-09-28.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US20230035267A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-02-02.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US12136532B2. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-11-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US20040238752A1. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US6963069B2. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-11-08.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Method of imaging a specimen using a transmission charged particle microscope

Номер патента: US11810751B2. Автор: Peter Tiemeijer,Abhay Kotecha,Jamie McCormack,Rudolf Geurink,Evgeniia PECHNIKOVA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US10504695B2. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-10.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US20180330916A1. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM BLANKING APPARATUS, MULTI CHARGED PARTICLE BEAM BLANKING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170271118A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-09-21.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170047194A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,KIMURA Hayato. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-02-16.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190066975A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-02-28.

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20170069460A1. Автор: NAKAYAMADA Noriaki,SUGANUMA Mizuna. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-03-09.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160314933A1. Автор: KATO Yasuo,KAWANA Ryoh,ISE Masafumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-10-27.

Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method

Номер патента: US5854490A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-12-29.

Charged particle beam generation device and charged particle beam device

Номер патента: WO2020003428A1. Автор: 裕 森田,伊藤　博之,加藤　慎一. Владелец: 株式会社日立ハイテクノロジーズ. Дата публикации: 2020-01-02.

Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method

Номер патента: KR100273128B1. Автор: 아베토모히코,야수다히로시,오에요시히사,야마다아키오,쿠도켄지,타카하타쿠오우지. Владелец: 아끼구사 나오유끼. Дата публикации: 2000-11-15.

Multiple-charged particle beam drawing device and multiple-charged particle beam drawing method

Номер патента: TWI605305B. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-11.

Converter of orbital momentum into spin momentum for the polarization of particle beams

Номер патента: US8552398B2. Автор: Lorenzo Marrucci,Vincenzo Grillo,Ebrahim Karimi,Enrico Santamato. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2013-10-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Multiple charged particle beam writing method, and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190198294A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Particle beam irradiation system, control method for particle beam irradiation system, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: US20230253175A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-08-10.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160336141A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-24.

Method of determining a brightness of a charged particle beam, method of determining a size of a source of the charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240126057A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Method for charging and imaging an object

Номер патента: US09666412B1. Автор: Yoram Uziel,Alon Litman,Benzion Sender. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US8497475B2. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-07-30.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US20120043462A1. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Shigeru Kawamata,Hirofumi Sato,Yuki Numata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Apparatus for and method of controlling an energy spread of a charged-particle beam

Номер патента: WO2020164951A1. Автор: Shakeeb Bin HASAN,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-08-20.

Member for charged particle beam device, charged particle beam device and diaphragm member

Номер патента: US20150206705A1. Автор: Noriyuki Sakuma,Yusuke Ominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Charged particle beam apparatus and method of controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11756764B2. Автор: Kuniyasu Nakamura,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Method and apparatus for automatically correcting charged-particle beam and method of controlling aberration corrector for charged-particle beam

Номер патента: US7355175B2. Автор: Kazuhiro Honda,Joachim Zach,Shinobu Uno,Natsuko Nakamura. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-04-08.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: EP4391009A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-26.

A computer-aided defect correction method of a charged particle beam device, defect correction device of a charged particle beam device and a computer program

Номер патента: WO2024146664A1. Автор: Stanislav Petras,Jan SOPOUSEK. Владелец: Tescan Group, A.S.. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: WO2024132486A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium

Номер патента: US09741530B2. Автор: Kenji Nakahira,Maki Tanaka,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: US20240047171A1. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-08.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Method for alignment of a light beam to a charged particle beam

Номер патента: US20190013178A1. Автор: Steven Randolph,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman,Milos Toth,Dolf Timmerman,Cameron James Zachreson. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-01-10.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

On-axis illumination and alignment for charge control during charged particle beam inspection

Номер патента: US20180364564A1. Автор: Stefan Lanio,Alex Goldenshtein. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Method for creating a smooth diagonal surface using a focused ion beam and an innovative scanning strategy

Номер патента: WO2024091829A1. Автор: Yehuda Zur. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2024-05-02.

Method for creating a smooth diagonal surface using a focused ion beam and an innovative scanning strategy

Номер патента: US20240234085A9. Автор: Yehuda Zur. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Composite charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210151283A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Method for creating a smooth diagonal surface using a focused ion beam and an innovative scanning strategy

Номер патента: US20240136150A1. Автор: Yehuda Zur. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230274909A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Hiroya Ohta,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US20240006149A1. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US11961709B2. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-16.

System and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11804358B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240079202A1. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Mask cover, charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20140319372A1. Автор: Michihiro Kawaguchi,Yu Asami. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-30.

Mask cover, charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US9299531B2. Автор: Michihiro Kawaguchi,Yu Asami. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-29.

Semiconductor charged particle detector and methods thereof

Номер патента: WO2024028076A1. Автор: Sven Jansen,Padmakumar RAMACHANDRA RAO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US20240027377A1. Автор: Petr Hlavenka,Jan Klusacek,Marek VANATKA,Ondrej VAVERKA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-25.

Charged particle beam writing apparatus, and method for detecting irregularities in dose of charged particle beam

Номер патента: US20150325407A1. Автор: Hideo Inoue,Hironori Mizoguchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Charged particle beam adjusting method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam illuminating apparatus

Номер патента: KR20220030898A. Автор: 료이치 가케히,다카히토 나카야마. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2022-03-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230178325A1. Автор: Noriaki Arai,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122859A1. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Multi-charged particle beam irradiation device and multi-charged particle beam inspection device

Номер патента: JP2021168286A. Автор: 和彦 井上,Kazuhiko Inoue,Munehiro Ogasawara,Masataka Shirato,昌孝 白土,宗博 小笠原. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-10-21.

Charged particle beam adjustment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4194526B2. Автор: 洋揮 川田,亮 中垣. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-12-10.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR102219532B1. Автор: 타카히토 나카야마. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-02-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR20190044507A. Автор: 타카히토 나카야마. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-04-30.

Multi charged particle beam apparatus, and shape adjustment method of multi charged particle beam image

Номер патента: US9966228B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Method for measuring a distance of a component from an object and for setting a position of a component in a particle beam device

Номер патента: US09496116B2. Автор: Andreas Schmaunz,Holger Doemer. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Method for measuring a distance of a component from an object and for setting a position of a component in a particle beam device

Номер патента: US20160118216A1. Автор: Andreas Schmaunz,Holger Doemer. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2016-04-28.

PARTICLE BEAM MICROSCOPE AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM MICROSCOPE

Номер патента: US20160225578A1. Автор: Preikszas Dirk. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-04.

Particle beam microscope and method for operating a particle beam microscope

Номер патента: DE102015001297B4. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2023-03-30.

Particle beam microscope and method for operating a particle beam microscope

Номер патента: US10062542B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-08-28.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: WO2023017107A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2023-02-16.

Platform for charged particle apparatus and components within a charged particle apparatus

Номер патента: US20240312756A1. Автор: Hans Butler,Peter Paul HEMPENIUS,Niels Johannes Maria BOSCH,Willem Henk URBANUS,Jasper Hendrik GRASMAN,Joan SANS MERCADER,Patrick Peter Hubert Helena PHILIPS,Gerardus Wilhelmus SARS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for distortion measurement and parameter setting for charged particle beam imaging devices and corresponding devices

Номер патента: WO2024023116A1. Автор: Eugen Foca,Dmitry Klochkov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: EP4385056A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-06-19.

System and method for preparation and delivery of biological samples for charged particle analysis

Номер патента: US11749498B2. Автор: Kun Liu,Joseph Christian,Marcus Straw,Alexander Makarov,Tom Nichols,Dmitry GRINFELD,Jeff KOSMOSKI,Josh Gilbert,Aaron Torok,Alan Bahm. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Method for calibrating deflectors of a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: WO2023232257A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Robert TRAUNER,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-07.

System and method for preparation and delivery of biological samples for charged particle analysis

Номер патента: US20240021407A1. Автор: Kun Liu,Joseph Christian,Marcus Straw,Alexander Makarov,Tom Nichols,Dmitry GRINFELD,Jeff KOSMOSKI,Josh Gilbert,Aaron Torok,Alan Bahm. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-18.

Calibration method and charged particle beam system

Номер патента: US10014156B2. Автор: Naoki Hosogi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-07-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Charged particle beam lithography system and target positioning device

Номер патента: US9082584B2. Автор: Guido De Boer,Jerry Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-07-14.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20130250282A1. Автор: YAMAGUCHI Keisuke,KAWAGUCHI Michihiro,Omi Kentaro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180005799A1. Автор: Hasegawa Kei,KIMURA Hayato,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-01-04.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190035603A1. Автор: IIZUKA Osamu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-01-31.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200043701A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING APPARATUS

Номер патента: US20170207064A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-07-20.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150228455A1. Автор: MOTOSUGI Tomoo,OHNISHI Takayuki,TSURUTA Kaoru,OHTOSHI Kenji. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-08-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140346369A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-11-27.

MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200258716A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-08-13.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20200273666A1. Автор: Matsui Hideki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-08-27.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160300687A1. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20180350552A1. Автор: IIZUKA Osamu,MORITA Hirofumi,NANAO Tsubasa. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-06.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20150380213A1. Автор: Tsurumaki Hideyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-12-31.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: KR102081734B1. Автор: 히로후미 모리타,오사무 이즈카,츠바사 나나오. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-02-26.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR100947154B1. Автор: 다까유끼 아베. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2010-03-12.

Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6772962B2. Автор: 博文 森田,修 飯塚,森田　博文,翼 七尾. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-21.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: JP7124763B2. Автор: 秀樹 松井. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-08-24.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102303435B1. Автор: 히로시 마츠모토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-09-23.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: KR101477558B1. Автор: 무네히로 오가사와라,슈이치 타마무시,타카나오 토우야. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2014-12-30.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US10041892B2. Автор: Riki Ogawa,Chosaku Noda,Masataka Shiratsuchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-07.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102026648B1. Автор: 오사무 이이즈카,유키타카 시미즈. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-10-04.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: TW201830151A. Автор: 飯修,清水幸毅. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-08-16.

Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: CN110794650A. Автор: 松本裕史. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-02-14.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102057929B1. Автор: 오사무 이이즈카,유키타카 시미즈. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-12-20.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US9275824B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-01.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: TWI562185B. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-11.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing device

Номер патента: TWI735145B. Автор: 松井秀樹. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2021-08-01.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP6577787B2. Автор: 靖雄 加藤,良一 吉川,英郎 井上,加藤　靖雄,純 八島,隼人 木村. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-09-18.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: KR20220101689A. Автор: 타카히토 나카야마,하루유키 노무라. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2022-07-19.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10504696B2. Автор: Osamu Iizuka,Yukitaka Shimizu. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-12-10.

Multi-charged particle beam drawing apparatus and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6545437B2. Автор: 裕信 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-07-17.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: DE112021002703T5. Автор: Haruyuki NOMURA,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: TW201719295A. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

Multi-charge-particle beam lithography method and multi-charge-particle beam lithography device

Номер патента: JP2014112639A. Автор: Hideo Inoue,Yasushi Matsumoto,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara,良一 吉川,裕史 松本,智浩 飯島,宗博 小笠原,英郎 井上. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Multi - charged particle beam rendering method and multi - charged particle beam rendering device

Номер патента: TWI516876B. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-01-11.

Multi - charged particle beam mapping device and multi - charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI578379B. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Program for correcting charged particle radiation location, device for calculating degree of correction of charged particle radiation location, charged particle radiation system, and method for correcting charged particle radiation location

Номер патента: EP2978010A4. Автор: Hidenori Ozawa,Yohei Ookawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-11-23.

PROGRAM FOR CORRECTING CHARGED PARTICLE RADIATION LOCATION, DEVICE FOR CALCULATING DEGREE OF CORRECTION OF CHARGED PARTICLE RADIATION LOCATION, CHARGED PARTICLE RADIATION SYSTEM, AND METHOD FOR CORRECTING CHARGED PARTICLE RADIATION LOCATION

Номер патента: US20160027611A1. Автор: Ookawa Yohei,Ozawa Hidenori. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240242921A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240128043A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4409617A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-07.

Multi-beam charged particle source with alighment means

Номер патента: US20240096585A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Multi-beam charged particle source with alignment means

Номер патента: EP4049300A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2022-08-31.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4352773A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam exposure including a heat blocking partition positioned near deflecting coils

Номер патента: US5338939A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Hisayasu Nishino,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-08-16.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS, MULTI CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM ADJUSTMENT METHOD

Номер патента: US20170309440A1. Автор: MORITA Hirofumi,Touya Takanao,Ogasawara Munehiro,NISHIMURA Shinsuke. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Charged particle beam control element, method of fabricating charged particle beam control element, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US6781123B2. Автор: Yukiharu Okubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-08-24.

Charged particle beam control element, method of fabricating charged particle beam control element, and charged beam apparatus

Номер патента: US6566658B1. Автор: Yukiharu Okubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-05-20.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160020063A1. Автор: YAMADA Taku,TSURUTA Kaoru,OHTOSHI Kenji,TANEDA Yasuyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-01-21.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150060690A1. Автор: YASHIMA Jun. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-03-05.

Charged Particle Beam Writing Apparatus, and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20180122616A1. Автор: Nishimura Rieko. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-03.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20220301818A1. Автор: YASUDA Junpei,WAKUI Naoto. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170200582A1. Автор: YASHIMA Jun. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-07-13.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20190198294A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-06-27.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150279611A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-10-01.

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM PATTERN WRITING METHOD

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-08-20.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM BLANKING APPARATUS

Номер патента: US20170301506A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-10-19.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Matsui Hideki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-11-24.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200328060A1. Автор: IIZUKA Osamu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-10-15.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20170352520A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-12-07.

D / A conversion apparatus, D / A conversion method, charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure method

Номер патента: JP4925705B2. Автор: 亮三 吉野,高雅 佐藤,浩一 日高. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2012-05-09.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6869695B2. Автор: 理恵子 西村. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-05-12.

Multi-charged particle beam lithography apparatus and multi-charged particle beam lithography method

Номер патента: JP2023042359A. Автор: Satoru Hirose,亮介 上羽,理恵子 西村,Rieko Nishimura,Ryosuke Ueha,暁 廣瀬,俊輔 伊佐治,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-03-27.

Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems

Номер патента: US09867272B2. Автор: Yue Shi,Amit Lal,Serhan Ardanuc,June-Ho HWANG,Farhan RANA. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-09.

Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems

Номер патента: US20180343734A1. Автор: Yue Shi,Amit Lal,Serhan Ardanuc,June-Ho HWANG,Farhan RANA. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged-Particle Source and Method for Cleaning a Charged-Particle Source Using Back-Sputtering

Номер патента: US20190237288A1. Автор: Platzgummer Elmar,Spengler Christoph,Capriotti Mattia. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2019-08-01.

Discharging method for charged particle beam imaging

Номер патента: US09460887B2. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Method for acquiring simultaneous and overlapping optical and charged particle beam images

Номер патента: EP2601477A2. Автор: Thomas Moore,Cheryl Hartfield,Gregory Magel. Владелец: Omniprobe Inc. Дата публикации: 2013-06-12.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Dischaging method for charged particle beam imaging

Номер патента: US20100288923A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210296076A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Charged particle source and charged particle beam device

Номер патента: US11990311B2. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230238205A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Cross-talk cancellation in multiple charged-particle beam inspection

Номер патента: US12080513B2. Автор: Wei Fang,BO Wang,Yongxin Wang,Lingling Pu,Zhonghua Dong. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Monochromator for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20120318978A1. Автор: Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US11664185B2. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Charged particle beam device, computer, and signal processing method for charged particle beam device

Номер патента: US11898974B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220208505A1. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Method for positioning objects in a particle beam microscope with the aid of a flexible particle beam barrier

Номер патента: US20220375714A1. Автор: Josef Biberger,Michal Postolski,Miriam Tabea Kaefer,Holger Ehm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2022-11-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Scanning charged particle microscope

Номер патента: US20110254944A1. Автор: Tohru Ishitani,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-10-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device

Номер патента: US09673017B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle lithography system and beam generator

Номер патента: US09653261B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Beam optical component having a charged particle lens

Номер патента: WO2005071709A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2005-08-04.

Particle beam irradiation system and control method therefor, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: EP4197591A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-06-21.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170207056A1. Автор: MORITA Hirofumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-07-20.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160336141A1. Автор: NOMURA Haruyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-11-17.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION METHOD

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Ogawa Riki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-11-28.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam adjusting method

Номер патента: KR102153655B1. Автор: 히로후미 모리타. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-09-08.

Charged particle beam application apparatus and charged particle beam application method

Номер патента: JP4171479B2. Автор: 康成 早田,恭宏 染田,明佳 谷本,真希 細田. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-10-22.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US8237139B2. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-08-07.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20100290023A1. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US09916962B2. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US09601315B2. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09991086B2. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US20170309440A1. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US09953800B2. Автор: Hideo Inoue,Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Yoshiaki Onimaru. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20170103869A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-13.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20180166254A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160148785A1. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US11756766B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220319807A1. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180342371A1. Автор: Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20180033592A1. Автор: Tomoo Motosugi,Rumi ITO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140127914A1. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20170200582A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150014549A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190304748A1. Автор: Hideo Inoue,Ryoichi Yoshikawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20020028398A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-03-07.

Rotation angle measuring method of multi-charged particle beam image, rotation angle adjustment method of multi-charged particle beam image, and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09466461B2. Автор: Osamu Iizuka,Kenji Ohtoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Charged particle apparatus

Номер патента: WO2024068252A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-04.

Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180247788A1. Автор: Yukitaka Shimizu,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Charged particle beam device and charged particle beam device noise source determination method

Номер патента: US20190341225A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4421843A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Duygu Akbulut,Marco Jan-Jaco Wieland,Vincent Sylvester KUIPER,Erwin Slot,Ezgi Sahin,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Multiple charged particle beam writing apparatus, multiple charged particle beam writing method, and computer readable recording media storing program

Номер патента: US20240242931A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Electrostatic deflector for charged particle optics

Номер патента: EP4303907A1. Автор: Markus DRESCHER,Jette Heyer,Philipp Wessels-Staarmann. Владелец: UNIVERSITAET HAMBURG. Дата публикации: 2024-01-10.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242933A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242922A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242920A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: EP1218918A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: WO2002009135A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-01-31.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

High resolution charged particle beam device and method of operating the same

Номер патента: US09595417B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-14.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190371565A1. Автор: MORITA Hirofumi,Touya Takanao,Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-12-05.

Particle beam microscope

Номер патента: US20240302542A1. Автор: Dirk Preikszas,Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

PARTICLE BEAM APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM APPARATUS

Номер патента: US20160368031A1. Автор: BORSCHEL Christian. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

Multiple charged particle beam writing apparatus and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US20220107569A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Multi charged particle beam adjustment method, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US11804360B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20240242932A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam lithography method

Номер патента: US09947509B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20130065184A1. Автор: Rieko Nishimura,Satoshi Nakahashi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-03-14.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20240055218A1. Автор: Yoshikuni GOSHIMA,John William Kay,Chising Lai,Yasuo Sengoku. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20180307144A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US8969837B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-03.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140361193A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-11.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20110253911A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-10-20.

Writing error diagnosis method for charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20080067423A1. Автор: Hayato Kimura,Seiichi Tsuchiya,Seiji WAKE,Takuya Matsukawa,Yujin Handa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US09596746B2. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-14.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Charged particle multi-beam apparatus including a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams

Номер патента: US09607806B2. Автор: Pieter Kruit,Aernout Christiaan Zonnevylle. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09595421B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4156227A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-03-29.

A charged particle beam rendering method, a charged particle beam drawing program and a charged particle beam rendering device

Номер патента: TWI497192B. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-08-21.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US20160150630A1. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Blanking apparatus of multi-charged particle beam, blanking method of multi-charged particle beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: KR101958926B1. Автор: 히로시 마츠모토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-03-15.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: TWI652715B. Автор: 松本裕史,加藤靖雄. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-01.

METHOD FOR ACQUIRING PARAMETER FOR DOSE CORRECTION OF CHARGED PARTICLE BEAM, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20190004429A1. Автор: NOMURA Haruyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-01-03.

Charged-particle beam apparatus, charged-particle beam writing apparatus, and charged-particle beam controlling method

Номер патента: US20190080879A1. Автор: Nobuo Miyamoto,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-03-14.

Method for acquiring dose correction parameter of charged-particle beam, charged-particle beam drawing method and charged-particle beam drawing apparatus in which a correlation parameter defines a correlation of a width dimension fluctuation amount of an evaluation pattern, a temperature rise amount of the evaluation pattern, and a backscatter does reaching the evaluation pattern

Номер патента: TW201730684A. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-09-01.

Charged-particle beam apparatus, charged-particle beam writing apparatus, and charged-particle beam controlling method

Номер патента: US10998162B2. Автор: Nobuo Miyamoto,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-05-04.

IRRADIATION APPARATUS FOR IRRADIATING CHARGED PARTICLE BEAM, METHOD FOR IRRADIATION OF CHARGED PARTICLE BEAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE

Номер патента: US20140322833A1. Автор: Muraki Masato,YAMAGUCHI Wataru,Ina Hideki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2014-10-30.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20120248340A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20120286174A1. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-11-15.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130240750A1. Автор: Touya Takanao,Tamamushi Shuichi,Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-19.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130252145A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130252172A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130256519A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo,Anpo Akihito. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20130320230A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-12-05.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140077103A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-03-20.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160005569A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-01-07.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150014549A1. Автор: YASHIMA Jun. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-01-15.

CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND CHARGED-PARTICLE BEAM CORRECTION METHOD

Номер патента: US20180012730A1. Автор: LEE MyoungSoo,Shin Inkyun,BAE SUKJONG. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-11.

METHOD OF OBTAINING DOSE CORRECTION AMOUNT, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20200013584A1. Автор: Nishimura Rieko,Hirose Satoru. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS

Номер патента: US20180033592A1. Автор: Ito Rumi,MOTOSUGI Tomoo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-02-01.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20150041671A1. Автор: MOTOSUGI Tomoo,ANZE Hirohito,NAKAHASHI Satoshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-02-12.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20150041672A1. Автор: KAMIKUBO Takashi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-02-12.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150041684A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-02-12.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20160042908A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,Iijima Tomohiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-02-11.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190043693A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-02-07.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20140124684A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,Iijima Tomohiro. Владелец: NUFLARE TECHNOLOGY, INC. Дата публикации: 2014-05-08.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140127914A1. Автор: SAKAI Yusuke,GOMI Saori. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-05-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam dose check method

Номер патента: US20140138527A1. Автор: Yasuo Kato,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-22.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180061614A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-03-01.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EVALUATION METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING DEVICE

Номер патента: US20210074510A1. Автор: Nishimura Rieko. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-03-11.

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, AND METHOD FOR INSPECTING OR OBSERVING SAMPLE

Номер патента: US20140151553A1. Автор: Ominami Yusuke,Ito Sukehiro,Ohtaki Tomohisa. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-05.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170076912A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-03-16.

MULTIPLE-CHARGED PARTICLE-BEAM IRRADIATION APPARATUS AND MULTIPLE-CHARGED PARTICLE-BEAM IRRADIATION METHOD

Номер патента: US20220102113A1. Автор: OKAZAWA Mitsuhiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-03-31.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170098524A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,Iijima Tomohiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-04-06.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170103869A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-04-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140187056A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-07-03.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190103252A1. Автор: IIZUKA Osamu,KAKEHI Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-04-04.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180114673A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-04-26.

SEMICONDUCTOR DEVICE, MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20220270850A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,SHIMADA Miyoko,MORITA Hirofumi,Higashi Kazuyuki,Shimooka Yoshiaki,Obara Kei,GOSHIMA Yoshikuni,Yamaguchi Hitomi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190122857A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-04-25.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190122858A1. Автор: NAKAYAMA Takahito. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-04-25.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200118791A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo,TEGURI Hironori,ISE Masafumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-04-16.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140225008A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-08-14.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160148785A1. Автор: KATO Yasuo,NAKAYAMADA Noriaki,SUGANUMA Mizuna. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-05-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160155608A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-02.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160161849A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20180166254A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

DATA PROCESSING METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170169994A1. Автор: YASUI Kenichi,HARA Shigehiro,SAKAMOTO Shinji. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-06-15.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20160181065A1. Автор: NAKADA Sumito. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-23.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150194289A1. Автор: KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-07-09.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150206709A1. Автор: NAKAYAMADA Noriaki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-07-23.

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20180197717A1. Автор: WAKE Seiji. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-07-12.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150235807A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-08-20.

MASK COVER, CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20140319372A1. Автор: KAWAGUCHI Michihiro,ASAMI Yu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-10-30.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20140319373A1. Автор: YAMAGUCHI Keisuke,KAGAWA Yoshinori,KAWAGUCHI Michihiro,AKENO Kiminobu,ASAMI Yu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-10-30.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20170243718A1. Автор: MOTOSUGI Tomoo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-08-24.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20180261421A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,Iijima Tomohiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-09-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20140361193A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-12-11.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200258715A1. Автор: NAKAYAMA Takahito,ABE Yuji. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-08-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20140367584A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-12-18.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160284509A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-09-29.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160284513A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-09-29.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170309450A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190304748A1. Автор: YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-10-03.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190304749A1. Автор: YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-10-03.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190333734A1. Автор: Matsui Hideki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-10-31.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180342371A1. Автор: ISAJI Shunsuke. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-11-29.

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-12-15.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20180358203A1. Автор: MORITA Hirofumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-13.

CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190355553A1. Автор: KAMIKUBO Takashi,NOMURA Haruyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-11-21.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20200357604A1. Автор: KATO Yasuo,YASUI Kenichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-11-12.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20200357605A1. Автор: YASUI Kenichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-11-12.

DATA PROCESSING METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING SYSTEM

Номер патента: US20180366297A1. Автор: YASUI Kenichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: JP7159970B2. Автор: 健一 安井,靖雄 加藤. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-25.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: KR20200130102A. Автор: 켄이치 야스이,야스오 카토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-11-18.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR102221957B1. Автор: 타카히토 나카야마. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-03-03.

Multi charged particle beam blanking apparatus and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: KR101943201B1. Автор: 히로시 마츠모토,히로후미 모리타,다카나오 도우야,무네히로 오가사와라. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-01-28.

Multi charged particle beam drawing device and multi charged particle beam drawing method

Номер патента: KR101601128B1. Автор: 타카시 가미쿠보. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2016-03-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method using a generated frame that surrounds a first data processing block

Номер патента: US9006691B2. Автор: Jun Yashima,Akihito Anpo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-14.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR101318581B1. Автор: 야스오 가토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus for performing the same

Номер патента: JP3594474B2. Автор: 康夫 真鍋,裕美 星野,泰秀 町田. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-12-02.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US8907306B2. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-09.

Multi charged particle beam drawing apparatus and multi charged particle beam drawing method

Номер патента: JP2019176047A. Автор: Hideo Inoue,Ryoichi Yoshikawa,良一 吉川,英郎 井上. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP5063035B2. Автор: 仁 砂押,清二 和気. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-31.

Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: CN111812947A. Автор: 饭塚修. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-23.

Charged-particle beam exposure method and charged-particle beam correction method

Номер патента: US10056229B2. Автор: Myoungsoo Lee,Inkyun Shin,Sukjong Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-08-21.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: JP7167842B2. Автор: 健一 安井. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-11-09.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US9159535B2. Автор: Takashi Kamikubo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-13.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP6285660B2. Автор: 博人 安瀬,知生 本杉,怜 中橋. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-28.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: CN111913361A. Автор: 安井健一. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-10.

A charged particle beam exposure method and a charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: KR19990071390A. Автор: 야스오 마나베,히로미 호시노,야스히데 마찌다. Владелец: 후지쓰 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1999-09-27.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US6350992B1. Автор: Yasuo Manabe,Hiromi Hoshino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-02-26.

A charged particle beam exposure apparatus, and a charged particle beam exposure method, and a manufacturing method for the apparatus

Номер патента: KR100250801B1. Автор: 히로시 야스다,도모히코 아베,요시히사 오아에. Владелец: 아끼구사 나오유끼. Дата публикации: 2000-06-01.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6567843B2. Автор: 裕信 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-28.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6396200B2. Автор: 純人 仲田. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-26.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10937629B2. Автор: Yasuo Kato,Hironori Teguri,Jun Yashima,Masafumi Ise. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-03-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR102255028B1. Автор: 히로후미 모리타,무네히로 오가사와라,타카나오 토우야. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-05-24.

Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP7026554B2. Автор: 良一 吉川,英郎 井上. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-02-28.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US10790115B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-09-29.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: DE102006052140B4. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-17.

Drift measuring method, method of charged particle beam drawing method, and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP2010258339A. Автор: Koji Fukushima,Toshitsugu Shinkawa,俊嗣 新川,康司 福島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-11.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP7210991B2. Автор: 靖雄 加藤,弘典 手操,純 八島,誠史 伊勢. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-01-24.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP5406551B2. Автор: 智之 堀内,淳司 速水. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-02-05.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US9852883B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230107036A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-04-06.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6295035B2. Автор: 純 八島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-14.

Charged particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI581297B. Автор: Hideyuki Tsurumaki. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-01.

Charge particle beam mapping device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI587349B. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-11.

Charge particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI516877B. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-01-11.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: TWI652718B. Автор: 八島純. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-01.

Method for manufacturing a head for irradiating a target with a beam of charged particles

Номер патента: US20240221970A1. Автор: Wilfried Vervisch. Владелец: Aix Marseille Universite. Дата публикации: 2024-07-04.

Low-aberration deflectors for use in charged-particle-beam optical systems, and methods for fabricating such deflectors

Номер патента: US20030025085A1. Автор: Katsushi Nakano. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-02-06.

Focused particle beam systems and methods using a tilt column

Номер патента: US20020170675A1. Автор: Billy Ward,Charles Libby. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-21.

Charged particle beam writing apparatus and charging effect correcting method thereof

Номер патента: TW201137926A. Автор: Hitoshi Higurashi,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-11-01.

Charged-particle apparatus

Номер патента: WO2023110316A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-06-22.

Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering

Номер патента: EP3518268B1. Автор: Elmar Platzgummer,Christoph Spengler,Mattia Capriotti. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-25.

Device for emitting charged particles, emitter, welding unit, device for passing charged particles, device for producing a charged particle flux

Номер патента: UA69394C2. Автор: Аллан САНДЕРСОН. Владелец: Дзе Велдінг Інститьют. Дата публикации: 2004-09-15.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Monochromator and charged particle apparatus including the same

Номер патента: US09425022B2. Автор: TAKASHI Ogawa,Bok Lae CHO,Sang Jung Ahn,In Yong Park,Cheolsu Han. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2016-08-23.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250331A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: EP1517353A3. Автор: Ralf Degenhardt,Jürgen Dr. Frosien,Stefan Dr. Lanio. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2005-03-30.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09824849B2. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09530611B2. Автор: Alexander Groholski,Raymond Hill,John A. Notte, IV,Mark D. DiManna,Robert Conners. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Unipotential lens assembly for charged particle beam tubes and method for applying correction potentials thereto

Номер патента: CA1140197A. Автор: Kenneth J. Harte,David C. Bono,Marvin Fishbein. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1983-01-25.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam

Номер патента: US09666404B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140166869A1. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US11961627B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Multi-beam current quantity measuring method, multi-charged particle drawing control device, and multi-charged particle beam drawing device

Номер патента: US09734984B2. Автор: Hideyuki Iwata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US8183545B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US20230386696A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US20110046762A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography

Номер патента: US09612530B2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

A projection system for charged particle multi-beams

Номер патента: GB2459279A. Автор: Marco Jan Jaco WIELAND. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2009-10-21.

Method of determining main deflection settling time for charged particle beam writing, method of writing with charged particle beam, and apparatus for writing with charged particle beam

Номер патента: US20100288939A1. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US7164141B2. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2007-01-16.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20050211929A1. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2005-09-29.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1801838A1. Автор: FANG Zhou. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2007-06-27.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Blanking system for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09697981B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A3. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M Bemis,Ronak J Bhatt. Владелец: Ronak J Bhatt. Дата публикации: 2008-08-21.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M. Bemis,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-05-22.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US09583310B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20030096179A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20010016294A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-08-23.

Real time monitoring for simultaneous imaging and exposure in charged particle beam systems

Номер патента: EP1332510B1. Автор: Steve Rosenberg,Peter S. Chao. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-11-16.

Apparatus for controlling a charged particle beam and a lithographic process in which the apparatus is used

Номер патента: US5663568A. Автор: Warren Kazmir Waskiewicz. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11804361B2. Автор: Munehiro Ogasawara,Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Method and System for Design of Enhanced Edge Slope Patterns for Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160195805A1. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-07-07.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam

Номер патента: US09953798B2. Автор: Brian Patrick Wilfley,Josh Star-Lack,Thomas A CASE. Владелец: Novaray Medical Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle imaging system and use thereof

Номер патента: WO2022221948A1. Автор: Rodney HERRING. Владелец: HERRING Rodney. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged-particle analyzer

Номер патента: US4135088A. Автор: Isao Ishikawa,Katsuhisa Usami,Michiyasu Itoh. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1979-01-16.

Charged particle beam apparatus, thin film forming method, defect correction method and device forming method

Номер патента: US20130224889A1. Автор: Tatsuya Shimoda,Yasuo Matsuki,Yoshihiro Koyama,Anto Yasaka,Ryo Kawajiri. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Charged particle beam apparatus, method for controlling charged particle, and frequency adjustment apparatus

Номер патента: US20080164820A1. Автор: Makoto Ito,Yusuke Osada,Tadahisa Shiono,Yutaka Yabe. Владелец: Showa Shinku Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: TW201225147A. Автор: Makoto Hiramoto,Jun Yashima,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-06-16.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: TW201239942A. Автор: Takashi Kamikubo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-01.

Multi - charged particle beam rendering device and multi - charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI457969B. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-21.

Multi-charged particle beam adjustment method, multi-charged particle beam irradiation method, and multi-charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: KR20220078689A. Автор: 히로후미 모리타,츠바사 나나오,다카나오 도오야. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2022-06-10.

A charged particle beam printing method, a charged particle beam printing program and a charged particle beam printing apparatus

Номер патента: TWI466160B. Автор: Osamu Iizuka,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-21.

Method for determining beam parameters of a charged particle beam, measuring device and charged particle beam device

Номер патента: DE102012102608A1. Автор: Hans-Peter Bauer,Uwe Reisgen,Jens de Vries,Alexander Backhaus,Sebastian Ufer,Bernd Reichenberg,Thorsten Schmitz-Kempen. Владелец: AIXACCT SYSTEMS GmbH. Дата публикации: 2013-10-02.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20130065184A1. Автор: Rieko Nishimura,Satoshi Nakahashi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-03-14.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20130316288A1. Автор: Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-11-28.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20200135428A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-30.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR101456193B1. Автор: 무네히로 오가사와라,타카나오 토우야. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2014-11-03.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP5498105B2. Автор: 彰人 安保. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Charged-particle beam writing method and charged-particle beam writing apparatus

Номер патента: TW201117260A. Автор: Akihito Anpo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-05-16.

Data processing method, charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing device

Номер патента: TWI639929B. Автор: 安井健一,原重博,坂本信二. Владелец: 紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-11-01.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5693981B2. Автор: 英郎 井上. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR101347614B1. Автор: 히데오 이노우에. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2014-01-03.

Multi-charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: JP2023056384A. Автор: Yasuo Kato,靖雄 加藤,亮 川名,雅生 速水,Masao HAYAMI,Ryo Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-04-19.

Charge particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI485744B. Автор: Keisuke Yamaguchi,Yoshinori Kagawa,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kiminobu Akeno. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-05-21.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: TW201708929A. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-01.

Data processing method, data processing program, charged particle beam drawing method, and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: JP6690216B2. Автор: 健一 安井,信二 坂本,重博 原,原　重博. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-28.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: TW201401327A. Автор: Keisuke Yamaguchi,Michihiro Kawaguchi,Kentaro Omi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-01-01.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing device

Номер патента: CN114787958A. Автор: 野村春之,中山田宪昭. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-07-22.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP7189729B2. Автор: 裕史 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-12-14.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: TW202022503A. Автор: 松本裕史. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-16.

Charged particle beam lithography device and charged particle beam lithography method

Номер патента: TW201331975A. Автор: Keisuke Yamaguchi,Yoshinori Kagawa,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kiminobu Akeno. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-08-01.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9076564B2. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-07-07.

Semiconductor device, multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam irradiating device

Номер патента: KR20220118927A. Автор: 히로시 마츠모토,히로후미 모리타,요시쿠니 고시마,케이 오바라,카주유키 히가시,미요코 시마다,요시아키 시모오카,히토미 야마구치. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2022-08-26.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5601989B2. Автор: 純 八島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-08.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20230187172A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Charge particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI516874B. Автор: Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-01-11.

Charged particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI573166B. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-01.

Semiconductor device, multi-charged-particle beam writing apparatus, and multi-charged-particle beam exposure apparatus

Номер патента: US11721520B2. Автор: HIROFUMI Morita,Kazuyuki Higashi,Hiroshi Matsumoto,Yoshiaki Shimooka,Hitomi Yamaguchi,Miyoko Shimada,Yoshikuni GOSHIMA,Kei Obara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Charge particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: TWI457970B. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-21.

Charge particle beam rendering device and charged particle beam rendering method

Номер патента: TWI464774B. Автор: Makoto Hiramoto,Jun Yashima,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-11.

Charged-particle beam writing method and charged-particle beam writing apparatus

Номер патента: US20090242787A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-10-01.

Charged-particle beam writing method and charged-particle beam writing apparatus

Номер патента: US8129698B2. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-03-06.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20130256519A1. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima,Akihito Anpo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-03.

Divergent charged particle implantation for improved transistor symmetry

Номер патента: US20080206971A1. Автор: James D. Bernstein,Lance S. Robertson,Jiejie Xu,Said Ghneim,Jeffrey Loewecke. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-08-28.

Divergent charged particle implantation for improved transistor symmetry

Номер патента: US7385202B2. Автор: James D. Bernstein,Lance S. Robertson,Jiejie Xu,Said Ghneim,Jeffrey Loewecke. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-06-10.

Detection apparatus for detecting charged particles, methods for detecting charged particles and mass spectrometer

Номер патента: CA2777809A1. Автор: Alexander Makarov,Anastassios Giannakopulos. Владелец: Thermo Fisher Scientific Bremen GmbH. Дата публикации: 2011-04-28.

Method of controlling a multi-pole device to reduce omission of exiting charged particles from downstream analysis

Номер патента: WO2024054960A1. Автор: Kevin Giles,Martin F. JARROLD,Peyton SAYASITH,David Bruton. Владелец: The Trustees of Indiana University. Дата публикации: 2024-03-14.

Divergent Charged Particle Implantation for Improved Transistor Symmetry

Номер патента: US20080142724A1. Автор: James D. Bernstein,Lance S. Robertson,Jiejie Xu,Said Ghneim,Jeffrey Loewecke. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-06-19.

charged particle sensor for detecting and measuring ionic current generated by charged particles resulting from ionization processes, sensor system, charged particle sensor for radiation and neutral particle detection, method for detecting ionic current generated by charged particles, and method for detecting neutral particles and radiation

Номер патента: BR112015009953A2. Автор: Robert Prance Professor. Владелец: Univ Of Sussex. Дата публикации: 2017-07-11.

Method of controlling a multi-pole device to reduce omission of exiting charged particles from downstream analysis

Номер патента: US20240087868A1. Автор: Kevin Giles,Martin F. JARROLD,Peyton SAYASITH,David Bruton. Владелец: Indiana University. Дата публикации: 2024-03-14.

CHARGED PARTICLE ENERGY ANALYSERS AND METHODS OF OPERATING CHARGED PARTICLE ENERGY ANALYSERS

Номер патента: US20130105687A1. Автор: Cubric Dane. Владелец: SHIMADZU CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-02.

PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD FOR PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM

Номер патента: US20130105703A1. Автор: IWATA Takaaki,HARADA Hisashi. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

A charged particle multi-jet writing method and a charged particle multi-jet writing apparatus

Номер патента: DE102013210045B4. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Particle beam system and method of operating a particle beam system

Номер патента: US11092702B1. Автор: Stefan Meyer,Wolfgang Berger,Jörg Fober,Judith Kimling,Björn Gamm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2021-08-17.

Apparatus for collecting charged particles on the focal plane of a charged particle dispersion apparatus

Номер патента: EP0509887A1. Автор: Daniel Colliaux,François Hillion. Владелец: Cameca SAS. Дата публикации: 1992-10-21.

Particle beam therapy apparatus and method for adjusting particle beam therapy apparatus

Номер патента: EP2404640A4. Автор: Hisashi Harada,Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-06-13.

Hybrid standing wave/traveling wave linear accelerators for providing accelerated charged particles or radiation beams and method with the same

Номер патента: EP3427553B1. Автор: Andrey Mishin. Владелец: Varex Imaging Corp. Дата публикации: 2023-09-20.

Hybrid standing wave/traveling wave linear accelerators for providing accelerated charged particles or radiation beams and method with the same

Номер патента: EP3427553C0. Автор: Andrey Mishin. Владелец: Varex Imaging Corp. Дата публикации: 2023-09-20.

Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting same

Номер патента: US11740546B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Sample preparation for charged particle beam imaging

Номер патента: WO2024184398A1. Автор: Thomas Korb,Hyun Hwa Kim,Lakshmi Sravani MANTHA. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Extraction system for secondary charged particles, intended for use in a mass spectrometer or other device for charged particles

Номер патента: RU2738186C2. Автор: Дэвид ДАУСЕТТ. Владелец: Люксембург Инститьют Оф Сайенс Энд Текнолоджи (Лист). Дата публикации: 2020-12-09.

Apparatus for providing a protective layer for charged-particle-beam processing

Номер патента: EP1918981B1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-02-16.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20120006984A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Protective Layer For Charged Particle Beam Processing

Номер патента: US20120107521A1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2012-05-03.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US11846736B2. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220244412A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Scintillator for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: EP3998623A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-18.

High gradient permanent magnet elements for charged particle beamlines

Номер патента: US09870891B1. Автор: Dan Wang,Roman Kostin,Sergey Antipov,Yingje Li,Chunuang Jing,Jiaqu Qiu,Paul Schoessow. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2018-01-16.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230366841A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Method and handling apparatus for placing patterning device on support member for charged particle beam imaging

Номер патента: US7868303B2. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan,Hsuan-Bin HUANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2011-01-11.

Method and handling apparatus for placing patterning device on support member for charged particle beam imaging

Номер патента: US20100090107A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan,Hsuan-Bin HUANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-04-15.

Methods for making reticle blanks, and for making reticles therefrom, for charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6355385B1. Автор: Shin-Ichi Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-03-12.

Energy analyzer for charged particles

Номер патента: US4128763A. Автор: Hans-Dietrich Polaschegg. Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1978-12-05.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: WO2013003102A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2013-01-03.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: EP2724197A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-04-30.

Charged particle spectrometer and method for calibration

Номер патента: SE545450C2. Автор: Takahiro Hashimoto,Tomas WIELL. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Pattern writing apparatus using charged particle beam, and program-recorded readable recording medium

Номер патента: US20080067431A1. Автор: Tomoyuki Horiuchi,Takeshi Kurohori. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Method and System for Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20130040241A1. Автор: Takahisa Hasegawa,Taichi Kiuchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Charged particle processing for forming pattern boundaries at a uniform thickness

Номер патента: US20020177055A1. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Charged particle acceleration apparatus and method

Номер патента: WO2007133225A3. Автор: Jonathan Gorrell,Mark Davidson,Michael E Maines,Paul K Hart. Владелец: Virgin Islands Microsystems. Дата публикации: 2009-04-16.

Device for manipulating charged particles

Номер патента: US09812308B2. Автор: Roger Giles,Alexander Berdnikov,Alina Andreyeva. Владелец: Shimadzu Research Laboratory Europe Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Device for manipulating charged particles via field with pseudopotential having one or more local maxima along length of channel

Номер патента: US09536721B2. Автор: Roger Giles,Alexander Berdnikov,Alina Andreyeva. Владелец: Shimadzu Research Laboratory Europe Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Method for fracturing a pattern for writing with a shaped charged particle beam writing system using dragged shots

Номер патента: WO2011049735A2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2011-04-28.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Reticles for charged-particle beam microlithography

Номер патента: US6403268B1. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-06-11.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130253688A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150064934A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-03-05.

Particle beam inspection apparatus

Номер патента: US20240258138A1. Автор: Jeroen Gerard Gosen,Edwin Cornelis KADIJK,Te-Yu Chen,Erheng WANG,Christianus VAN HEUMEN Martijn Petrus,Caspar VAN BANNING Dennis Herman,Henricus Maria JACOBS Johannes Andreas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Particle beam inspection apparatus

Номер патента: US11942340B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen,Edwin Cornelis KADIJK,Te-Yu Chen,Dennis Herman Caspar Van Banning,Erheng WANG,Johannes Andreas Henricus Maria JACOBS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-26.

electronic device, method for charging an electronic device, program, and, device and charge control method.

Номер патента: BR112012002579A2. Автор: Yohei Kuroda,Kenji Waku,Ryoji Amemiya,Osamu Ishioka,Nobutaka Yagi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-03-15.

Circular accelerator, method of injection of charged particles thereof, and apparatus for injection of charged particles thereof

Номер патента: US5600213A. Автор: Kenji Miyata,Junichi Hirota,Masatsugu Nishi,Kazuo Hiramoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-02-04.

Charged particle acceleration device and method for adjusting charged particle acceleration device

Номер патента: US11937362B2. Автор: Takeshi Takeuchi,Yoshiharu Kanai,Kunihiko Kinugasa,Hiromasa Itou. Владелец: Toshiba Plant Systems and Services Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

D.C. Charged Particle Accelerator and A Method of Accelerating Charged Particles

Номер патента: US20120146555A1. Автор: Theodore H. Smick,Geoffrey Ryding,Steven Richards,Paul Eide,Malcolm Barnett. Владелец: Twin Creeks Technologies Inc. Дата публикации: 2012-06-14.

Electromagnet and charged particle accelerator

Номер патента: US20240008165A1. Автор: Yujiro Tajima,Ryuki YOKOTA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: US9465297B2. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Test structure for charged particle beam inspection and method for fabricating the same

Номер патента: US20100102316A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-04-29.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09776019B2. Автор: Kazuyoshi Saito,Takuya Nomura,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-10-03.

Particle beam accelerator

Номер патента: US20060250097A1. Автор: Yuichi Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuhiko Ina. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-11-09.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: EP2283705A2. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-16.

Particle beam couplingsystem and method

Номер патента: WO2012048166A3. Автор: Gary Guethlein. Владелец: Lawrence Livermore National Security, LLC. Дата публикации: 2012-07-05.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8384053B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Vladimir Balakin. Дата публикации: 2013-02-26.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: WO2009142550A3. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Vladimir Yegorovich Balakin. Дата публикации: 2010-01-07.

Charged-particle beam accelerator, particle beam radiation therapy system using the charged-particle beam accelerator, and method of operating the particle beam radiation therapy system

Номер патента: US7122978B2. Автор: Masahiro Ikeda,Tetsuya Nakanishi,Katsuhisa Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-10-17.

Charged particle beam extraction apparatus and charged particle beam extraction method

Номер патента: JP4691574B2. Автор: 浩二 松田,和夫 平本,真澄 梅澤. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2011-06-01.

Particle beam irradiation system and charged particle beam correcting method

Номер патента: KR101411055B1. Автор: 히데아끼 니시우찌,신이찌로 후지따까. Владелец: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼. Дата публикации: 2014-06-30.

Charged particle beam irradiation system and charged particle beam extraction method

Номер патента: JP4691583B2. Автор: 一義 齋藤,和夫 平本,秋山　　浩,昌宏 田所,秀晶 西内. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2011-06-01.

Charged particle beam irridiation system and charged particle beam extraction method

Номер патента: EP1826778B1. Автор: Koji Matsuda,Hiroshi Akiyama,Kazuo Hiramoto,Hideaki Nihonghi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2014-05-07.

Low-energy charged particle beam transport system and charged particle beam transport method in bnct

Номер патента: WO2023008256A1. Автор: 成人 ▲高▼橋. Владелец: 株式会社京都メディカルテクノロジー. Дата публикации: 2023-02-02.

Particle beam accelerator, particle beam blocking method for particle beam accelerator, and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20230247753A1. Автор: Shinya Matsuda,Shigeki Takayama,Takayuki Sako,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Particle beam accelerator, method for operating particle beam accelerator, and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20230262869A1. Автор: Shinya Matsuda,Shigeki Takayama,Takayuki Sako,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Particle beam transport apparatus, rotary gantry, and particle beam irradiation treatment system

Номер патента: US20190255357A1. Автор: Shigeki Takayama,Takeshi Yoshiyuki,Yoshifumi Nagamoto,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

The disconnection detection device of the circuit for charging machine of electric automobile, charging pile and charging gun connecting line

Номер патента: CN105553031B. Автор: 陈书生. Владелец: East Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

D.C. Charged Particle Accelerator and A Method of Accelerating Charged Particles

Номер патента: US20120146555A1. Автор: Theodore H. Smick,Geoffrey Ryding,Steven Richards,Paul Eide,Malcolm Barnett. Владелец: Twin Creeks Technologies Inc. Дата публикации: 2012-06-14.

Particle beam therapy system and management system for particle beam therapy

Номер патента: JP6844942B2. Автор: 康 井関,井関　康. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Irradiation nozzle, particle beam therapy device, particle beam therapy system, and control method for particle beam therapy system

Номер патента: EP4302823A1. Автор: Taizo Honda,Chihiro Nakashima,Tomokazu Shimakura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-01-10.

Charged particle generator and functional fabric having a charged particle emission function

Номер патента: US20080319518A1. Автор: Masakazu Komuro. Владелец: Nac Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-25.

Particle accelerator and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US12101869B2. Автор: Toshiyuki Shirai,Kota Mizushima. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-24.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Particle beam treatment system and beam position correcting method thereof

Номер патента: US20140235922A1. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Toshihiro Otani,Kengo Sugahara,Shuhei ODAWARA,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda,Katsuhisa Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Accelerator for two particle beams for producing collision

Номер патента: RU2569324C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-11-20.

Linear motors and stages comprising same that produce reduced magnetic fields at an optical axis for charged-particle-beam lithography

Номер патента: US20020047321A1. Автор: Atsushi Yamada. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-04-25.

Charged particle generator

Номер патента: EP2517539A1. Автор: Susan Smith,Christopher Prior,Shinji Machida,Neil Bliss,Bruno Muratori,Robert Cywinski. Владелец: Science and Technology Facilities Council. Дата публикации: 2012-10-31.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: US20240324092A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Accelerator for charged particles

Номер патента: RU2603352C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2016-11-27.

Use of magnetic elements to shape and defocus charged particle beams

Номер патента: EP4308222A1. Автор: Joshua MCNEUR. Владелец: Varian Medical Systems Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Use of magnetic elements to shape and defocus charged particle beams

Номер патента: WO2022197484A1. Автор: Joshua MCNEUR. Владелец: Varian Medical Systems, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Particle beam cooling device

Номер патента: US20110074287A1. Автор: Thomas J. Roberts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-31.

Method and system of beam injection to charged particle storage ring

Номер патента: US09655226B2. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LABORATORY Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Induction accelerating device and acceleration method of charged particle beam

Номер патента: US20110156617A1. Автор: Kota Torikai,Ken Takayama,Yoshio Arakida,Yoshito Shimosaki. Владелец: Inter University Research Institute Corp High Energy Accelerator Research Organization. Дата публикации: 2011-06-30.

Method for manufacturing particle beam therapy system and particle beam therapy system

Номер патента: US20240355497A1. Автор: Yutaka Hirata,Atsushi Miyamoto,Hiromichi RYUTO. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Circular accelerator and particle beam treatment system

Номер патента: US20240198138A1. Автор: Kenji Miyata,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Charged-particle beam irradiation device

Номер патента: US20140058186A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US20120132826A1. Автор: Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-05-31.

Charged particle tomography with improved momentum estimation

Номер патента: US09588064B2. Автор: Thomas Taylor,Sean Simon,Priscilla KURNADI. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Cleaning apparatus for charge retentive surface

Номер патента: CA1229371A. Автор: Ying-Wei Lin. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1987-11-17.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US20200016431A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: EP3600544A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-02-05.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US11904183B2. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: WO2018182429A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US20220134132A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Treatment planning device, particle beam therapy apparatus, and charged particle beam scanning path-determining method

Номер патента: EP2923731B1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-03-15.

METHOD FOR ACQUIRING PARAMETER FOR DOSE CORRECTION OF CHARGED PARTICLE BEAM, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20170139327A1. Автор: NOMURA Haruyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-05-18.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130149646A1. Автор: Touya Takanao,Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130157198A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-06-20.

Charged particle beam irradiation system and charged particle beam irradiation planning method

Номер патента: US20140252227A1. Автор: Teiji NISHIO,Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-09-11.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM PATTERN WRITING METHOD

Номер патента: US20180307144A1. Автор: KATO Yasuo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-10-25.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20160349626A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-12-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: KR101782337B1. Автор: 히로노부 마츠모토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2017-09-27.

Charged particle beam irradiation system, and charged particle beam irradiation planning method

Номер патента: CN103945901A. Автор: 西尾祯治,佐佐井健蔵. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-07-23.

Charged-particle beam irradiation apparatus and charged-particle beam rotary irradiation system

Номер патента: EP0911064B1. Автор: Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2004-06-30.

Treatment planning device, particle beam therapy apparatus, and charged particle beam scanning path-determining method

Номер патента: EP2923731A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-09-30.

Charged particle thrust engine

Номер патента: US20090288385A1. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-26.

Charged particle thrust engine

Номер патента: EP1797319A2. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-20.

Charged particle thrust engine

Номер патента: WO2007008234A2. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Cardwell Walter Timmons Jr. Дата публикации: 2007-01-18.

Particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20180289981A1. Автор: Kiyohiko Kitagawa,Yoshifumi Nagamoto,Kazutaka MAETA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Device and method for measuring a beam spot of a particle beam and system for generating a particle beam

Номер патента: DE102008029609A1. Автор: Eike Dr. Rietzel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2009-12-31.

Charged particle measuring apparatus

Номер патента: US20030158678A1. Автор: Takashi Nozaki,Jun Kikuchi,Haruhisa Matsumoto,Hideki Koshiishi,Shigeru Takehisa. Владелец: MEISI ELECTRIC Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-21.

Charged particle measuring apparatus

Номер патента: US6710352B2. Автор: Takashi Nozaki,Jun Kikuchi,Haruhisa Matsumoto,Hideki Koshiishi,Shigeru Takehisa. Владелец: National Space Development Agency of Japan. Дата публикации: 2004-03-23.

A particle beam transport system for the delivery of particle beam therapy

Номер патента: EP4245363A1. Автор: Antony Lomax,David Meer,Christian Baumgarten,Vivek MARADIA,Serena PSOROULAS. Владелец: Scherrer Paul Institut. Дата публикации: 2023-09-20.

A particle beam transport system for the delivery of particle beam therapy

Номер патента: WO2023174720A1. Автор: Antony Lomax,David Meer,Christian Baumgarten,Vivek MARADIA,Serena PSOROULAS. Владелец: PAUL SCHERRER INSTITUT. Дата публикации: 2023-09-21.

Particle beam therapy system, and method for operating particle beam therapy system

Номер патента: US09795806B2. Автор: Toru Umekawa,Kazuki Matsuzaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-10-24.

System for radiation therapy with charged particles, method for constructing a system for radiation therapy with charged particles, and apparatus for radiation therapy with charged particles

Номер патента: RU2755382C1. Автор: Ёсифуми НАГАМОТО,Ёсихару КАНАИ,Такаси ЯДЗАВА. Владелец: Тосиба Энерджи Системз Энд Солюшнз Корпорейшн. Дата публикации: 2021-09-15.

Method for charging at an electric vehicle charging station and charging station for electric vehicles

Номер патента: DE102020124156A1. Автор: Armin Gaul,Lukas Gläsel,Eckhard Lehmann,Benjamin Radnoti. Владелец: Innogy Westenergie GmbH. Дата публикации: 2022-03-17.

PARTICLE BEAM DEVICE AND METHOD FOR OPERATING A PARTICLE BEAM DEVICE

Номер патента: US20140070097A1. Автор: Albiez Michael. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-03-13.

PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM AND METHOD FOR UPDATING PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM

Номер патента: US20180064957A1. Автор: MATSUSHITA Takayoshi,HORI Yoshihito,TOBINAGA Kouji. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM

Номер патента: US20160213950A1. Автор: NISHIUCHI Hideaki,EBINA Futaro. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM

Номер патента: US20160263399A1. Автор: UMEKAWA Toru,MATSUZAKI Kazuki. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

Particle beam irradiation system and control method for particle beam irradiation system

Номер патента: WO2011148486A1. Автор: 原田　久. Владелец: 三菱電機株式会社. Дата публикации: 2011-12-01.

Particle beam therapy system and control system for particle beam therapy

Номер патента: US20070176125A1. Автор: Takahide Nakayama,Kunio Moriyama,Takayoshi Natori,Kazumune Sakai. Владелец: Kazumune Sakai. Дата публикации: 2007-08-02.

Particle beam irradiation system and method for controlling particle beam irradiation system

Номер патента: JPWO2011148486A1. Автор: 久 原田,原田　久. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Method and system for charging service fees, terminal for that service and charging/settlement center

Номер патента: KR100811833B1. Автор: 박영욱. Владелец: 주식회사 한국스마트카드. Дата публикации: 2008-03-10.

Particle beam therapy system and control system for particle beam therapy

Номер патента: EP1621228A1. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi c/o Hitachi Ltd Natori,Kunio c/o Hitachi Ltd Moriyama,Kazumune c/o Hitachi Ltd Sakai. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-02-01.

Particle beam therapy system, and method for operating particle beam therapy system

Номер патента: US20160263399A1. Автор: Toru Umekawa,Kazuki Matsuzaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-09-15.

Charged particle beam therapy and magnetic resonance imaging

Номер патента: RU2681075C2. Автор: Йоханнес Адрианус ОВЕРВЕГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-01.

System for charged particle therapy verification

Номер патента: US12036427B2. Автор: Ilker Meric,Kristian Smeland Ytre-Hauge. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2024-07-16.

Mask for charged particle beam exposure, and method of forming the same

Номер патента: US20050008946A1. Автор: Kenichi Morimoto,Yoshinori Kinase,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-01-13.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: EP4434577A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-25.

Building image by charged particles generated by space beams

Номер патента: RU2503953C2. Автор: Кристофер Л. МОРРИС,Ларри Джо ШУЛЬТЦ,Джесси Эндрю ГРИН,Майкл Джеймс СОССОНГ,Константин Н. БОРОЗДИН,Алексей В. КЛИМЕНКО,Гари БЛЭНПИД,Владимир ТУМАКОВ,Коло ВАМБА. Владелец: Дисижн Сайенсиз Интернэшнл Корпорейшн. Дата публикации: 2014-01-10.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with multiple exposure passes

Номер патента: US20130284947A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Method and system for forming high accuracy patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: WO2012051082A2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2012-04-19.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US09770604B2. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Deflection system for charged-particle beam

Номер патента: US4409486A. Автор: Terence Bates. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1983-10-11.

Particle beam therapy system and magnetic resonance imaging apparatus

Номер патента: EP4035732A1. Автор: Manabu Aoki,Yusuke Fujii,Masumi Umezawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-08-03.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09687679B2. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09566453B2. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Energy degrader and charged particle beam irradiation system equipped therewith

Номер патента: US09390826B2. Автор: Takamasa Ueda,Takuya Miyashita. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation facility

Номер патента: US12121754B2. Автор: Kenichi Takizawa,Hideaki Nishiuchi,Tadashi Katayose. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Particle beam rotational irradiation apparatus

Номер патента: US8664620B2. Автор: Kazuo Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuyuki HARUNA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Rotating gantry and particle beam therapy system

Номер патента: US09504854B2. Автор: Tadashi Katayose. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Charged particle beam welding with beam deflection around weld pool retainers

Номер патента: US4223199A. Автор: Karl-Heinz Steigerwald,Wilhelm Scheffels. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1980-09-16.

System for charged particle therapy verification

Номер патента: EP3952986A1. Автор: Ilker Meric,Kristian Smeland Ytre-Hauge. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2022-02-16.

System for charged particle therapy verification

Номер патента: WO2020209730A1. Автор: Ilker Meric,Kristian Smeland Ytre-Hauge. Владелец: Bergen Teknologioverforing AS. Дата публикации: 2020-10-15.

System for charged particle therapy verification

Номер патента: US20220161061A1. Автор: Ilker Meric,Kristian Smeland Ytre-Hauge. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2022-05-26.

System for irradiating charged particles and method for irradiating charged particles

Номер патента: US09750957B2. Автор: Kikuo Umegaki,Toru Umekawa,Naoki Miyamoto,Yusuke Fujii,Hiroki Shirato,Taeko Matsuura,Masumi Umezawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Masks for charged-particle beam microlithography

Номер патента: US5798194A. Автор: Mamoru Nakasuji,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Energy exchange between a laser beam and charged particles using inverse transition radiation and method for its use

Номер патента: US5737354A. Автор: Wayne D. Kimura,Richard D. Romea,Loren C. Steinhauer. Владелец: STI Optronics Inc. Дата публикации: 1998-04-07.

Scanning system for charged and neutral particle beams

Номер патента: CA1150422A. Автор: Anders Brahme. Владелец: INSTRUMENT SCANDITRONIX AB. Дата публикации: 1983-07-19.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Monochromator, charged particle beam apparatus, method for reducing energy spread of charged particle beam and method for energy-filtering particle beam

Номер патента: TWI492244B. Автор: Zhong-Wei Chen,Wei-Ming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-07-11.

Charged particle beam accelerator and particle beam irradiation system using the charged particle beam accelerator

Номер патента: JP4650382B2. Автор: 哲也 中西,卓司 古川,耕司 野田. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2011-03-16.

Charged particle beam drawing apparatus, charged particle beam drawing method, and charged particle beam drawing data processing apparatus

Номер патента: JP5403744B2. Автор: 彰人 安保,純 八島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-01-29.

Charged particle beam intensity distribution variable device, charged particle beam intensity distribution variable method, secondary particle generator, and radioisotope generator

Номер патента: JP7181524B2. Автор: 光宏 福田,庸介 百合. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM AND RADIOLOGICALSCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2022-12-01.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120068089A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-03-22.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120085940A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120126145A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-05-24.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120187307A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-07-26.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120211674A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120211676A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20120292536A1. Автор: YASHIMA Jun,Anpo Akihito. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-11-22.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20130037724A1. Автор: TSURUTA Kaoru. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-02-14.

CHARGED PARTICLE BEAM FORMING APERTURE AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20130048882A1. Автор: Yoshitake Tadayuki,Ando Yoichi. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-02-28.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130056645A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130056647A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130082187A1. Автор: Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-04-04.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130082193A1. Автор: YAMAGUCHI Keisuke,KAGAWA Yoshinori,KAWAGUCHI Michihiro,AKENO Kiminobu,SHIBA Kazuhiro. Владелец: NUFLARE TECHNOLOGY, INC. Дата публикации: 2013-04-04.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130099139A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130134329A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-05-30.

Charged particle beam deflection apparatus and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: JP4716284B2. Автор: 武男 川口,博 土岐,吉治 畑中. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2011-07-06.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: JP4295263B2. Автор: 康夫 真鍋,裕美 星野. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-07-15.

Multi-charged particle beam alignment method and multi-charged particle beam inspection device

Номер патента: JP2021131946A. Автор: Koichi Ishii,浩一 石井. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-09.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6781615B2. Автор: 裕信 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-04.

Charged particle beam adjustment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4928987B2. Автор: 貢 佐藤,淳 高根,祐博 伊東,祐介 成田,寿英 揚村,真一 富田,純一 片根,剛 小柏,武治 七字. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-05-09.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5871557B2. Автор: 靖雄 加藤,加藤　靖雄,純 八島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-01.

Multi-charged particle beam writing method and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: JP7176480B2. Автор: 亮一 懸樋. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-11-22.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5566235B2. Автор: 佑輔 酒井. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-06.

Particle beam irradiation system and charged particle beam correction method

Номер патента: SG189670A1. Автор: NISHIUCHI Hideaki,FUJITAKA Shinichiro. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2013-05-31.

Charged particle beam adjustment method and charged particle beam apparatus

Номер патента: JP4752138B2. Автор: 真 江角,貢 佐藤,正 大高,昌司 吉田,淳 ▲高▼根. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2011-08-17.

Acceleration device for charge particle and storage device for high energy charged particle

Номер патента: JPS6448400A. Автор: Kazuaki Omi,Masatake Akaike. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-02-22.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6780441B2. Автор: 保尚 佐藤. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-04.

Blanking aperture array, manufacturing method thereof, charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure method

Номер патента: JP2835140B2. Автор: 靖 高橋,樹一 坂本,俊介 笛木,洋 安田. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-12-14.

Charged particle beam drawing apparatus, and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP2014157953A. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,秀一 玉虫,進 大木,Susumu Oki. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-28.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5767033B2. Автор: 等 日暮,佑輔 酒井,日暮　等,さおり 五味. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-08-19.

Charged particle beam irradiation apparatus and charged particle beam axis adjusting method

Номер патента: JP6075306B2. Автор: 丈寛 石川. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2017-02-08.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5773637B2. Автор: 裕史 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-09-02.

Method of manufacturing charged particle beam transfer mask and charged particle beam transfer mask

Номер патента: JP2005286276A. Автор: Hiroshi Fujita,浩 藤田,Hide Kurosawa,秀 黒澤,良紀 木名瀬,忠彦 滝川,尚武 佐野,Tadahiko Takigawa,Naotake Sano,Yoshiaki Konase. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-10-13.

Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP7095395B2. Автор: 憲昭 中山田,瑞奈 菅沼. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-07-05.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP5687009B2. Автор: 光 山村,通広 川口,吉郎 山中,光太 藤原. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-18.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6171062B2. Автор: 靖雄 加藤,彰人 安保,加藤　靖雄,純 八島. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-26.

Multi-charged particle beam drawing apparatus and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP2018098242A. Автор: Takashi Kamikubo,貴司 上久保,上久保　貴司. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: TW201703095A. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-16.

Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6815192B2. Автор: 裕信 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-20.

Charged particle accelerator

Номер патента: RU2306685C1. Автор: Дмитрий Михайлович Петров,Игорь Михайлович Олихов,Геннадий Петрович Щелкунов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Гамма" (ЗАО "НПП "Гамма"). Дата публикации: 2007-09-20.

CHARGED-PARTICLE MICROSCOPE DEVICE, AND METHOD OF CONTROLLING CHARGED-PARTICLE BEAMS

Номер патента: US20120091339A1. Автор: Ominami Yusuke,Miyai Hiroshi,Gunji Yasuhiro. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-04-19.

Device for separation of charged particles by masses

Номер патента: RU2174431C2. Автор: В.В. Евстигнеев,В.Т. Доронин. Владелец: Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова. Дата публикации: 2001-10-10.

Particle Beam Microscope and Method for Operating the Particle Beam Microscope

Номер патента: US20120074317A1. Автор: . Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-03-29.

Charged particle flow convergence mechanism, method of using charged particle flow convergence mechanism, and vacuum film forming apparatus

Номер патента: JP5118599B2. Автор: 康浩 小泉,淳平 丸山. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2013-01-16.

Method for charging storage battery by using solar energy and charging mains supply by using pulse current

Номер патента: CN101741114B. Автор: 谭一云,赵喜燕. Владелец: SUZHOU MEIYANG NEW ENERGY TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-27.

Particle beam therapy apparatus and method for adjusting particle beam therapy apparatus

Номер патента: JP5562133B2. Автор: 久 原田,高明 岩田. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-07-30.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle accelerating device

Номер патента: RU2236094C1. Автор: А.С. Богомолов. Владелец: Богомолов Алексей Сергеевич. Дата публикации: 2004-09-10.

Device for separating charged particles according to their energy

Номер патента: RU2187171C2. Автор: В.Т. Доронин. Владелец: Алтайский государственный технический университет им. И.И.Ползунова. Дата публикации: 2002-08-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.