BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER
Номер патента: US20180218889A1
Опубликовано: 02-08-2018
Автор(ы): INFANTE Anthony, Riker Martin Lee, Wang Zheng, Zhang Fuhong
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-08-2018
Автор(ы): INFANTE Anthony, Riker Martin Lee, Wang Zheng, Zhang Fuhong
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER
Номер патента: US20200357617A1. Автор: Wang Zheng,Riker Martin Lee,Zhang Fuhong,INFANTE Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-12.