用於pvd濺射腔室的可偏壓通量優化器/準直器.

用於pvd濺射腔室的可偏壓通量優化器/準直器

Номер патента: TW202305885A
Опубликовано: 01-02-2023
Автор(ы): 安東尼英凡特, 張富宏, 王征, 馬丁李萊克
Принадлежит: 美商應用材料股份有限公司
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Biasable flux optimizer/collimator for pvd sputter chamber

Номер патента: EP4235744A3. Автор: Zheng Wang,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,Anthony INFANTE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-11.

Biasable flux optimizer/collimator for pvd sputter chamber

Номер патента: EP3920210A1. Автор: Zheng Wang,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,Anthony INFANTE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-08.

Biasable flux optimizer/collimator for pvd sputter chamber

Номер патента: EP3369108A1. Автор: Zheng Wang,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,Anthony INFANTE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-09-05.

Gradient oxidation and etch for pvd metal as bottom liner in bottom up gap fill

Номер патента: US20230343643A1. Автор: Yu Lei,Jiang Lu,Yi Xu,Wei Lei,Jie Zhang,Chun-Chieh Wang,Annamalai Lakshmanan,Xianmin Tang,Yixiong Yang,Rongjun Wang,Tsung-Han Yang,Liqi Wu,Chih-Hsun Hsu,Shiyu Yue,Aixi ZHANG,Zhimin QI,Ziye XIONG,ShihChung Chen,Meng-Shan WU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Gradient oxidation and etch for pvd metal as bottom liner in bottom up gap fill

Номер патента: WO2023211583A1. Автор: Yu Lei,Jiang Lu,Yi Xu,Wei Lei,Jie Zhang,Chun-Chieh Wang,Annamalai Lakshmanan,Xianmin Tang,Yixiong Yang,Rongjun Wang,Tsung-Han Yang,Liqi Wu,Chih-Hsun Hsu,Shiyu Yue,Aixi ZHANG,Zhimin QI,Ziye XIONG,ShihChung Chen,Meng-Shan WU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering

Номер патента: EP4413173A1. Автор: Suresh PALANISAMY,Harish Penmethsa,Dinesh Rajamanickam,Naresh Kumar Asokan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering

Номер патента: WO2023059405A1. Автор: Suresh PALANISAMY,Harish Penmethsa,Dinesh Rajamanickam,Asokan Naresh Kumar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-13.

Process kit components for titanium sputtering chamber

Номер патента: US20070173059A1. Автор: Alan Ritchie,Donny Young,Ilyoung (Richard) Hong,Kathleen Scheible. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-07-26.

Biasable flux optimizer / collimator for PVD sputter chamber

Номер патента: US09960024B2. Автор: Zheng Wang,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,Anthony INFANTE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER

Номер патента: US20170117121A1. Автор: Wang Zheng,Riker Martin Lee,Zhang Fuhong,INFANTE Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER

Номер патента: US20200357617A1. Автор: Wang Zheng,Riker Martin Lee,Zhang Fuhong,INFANTE Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-12.

BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER

Номер патента: US20190279851A1. Автор: Wang Zheng,Riker Martin Lee,Zhang Fuhong,INFANTE Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

BIASABLE FLUX OPTIMIZER / COLLIMATOR FOR PVD SPUTTER CHAMBER

Номер патента: US20180218889A1. Автор: Wang Zheng,Riker Martin Lee,Zhang Fuhong,INFANTE Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-02.

Method to Improve Film Quality for PVD Carbon Using Reactive Gas and Bias Power

Номер патента: KR102306018B1. Автор: 스리니바스 디. 네마니,징징 리우,엘리 와이. 이,첸차우 잉,바르가브 시틀라,종 치앙 후아. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-09-30.

Process for forming improved titanium-containing barrier layers

Номер патента: US6007684A. Автор: Jianming Fu,Fusen Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Process for forming improved titanium-containing barrier layers

Номер патента: US5858184A. Автор: Jianming Fu,Fusen Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-01-12.

Substrate support in a reactive sputter chamber

Номер патента: WO2010077750A3. Автор: David Tanner,Hien-Minh Huu Le. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-10-21.

Substrate support in a reactive sputter chamber

Номер патента: WO2010077750A2. Автор: David Tanner,Hien-Minh Huu Le. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-07-08.

METHOD TO IMPROVE FILM QUALITY FOR PVD CARBON WITH REACTIVE GAS AND BIAS POWER

Номер патента: US20180209037A1. Автор: Nemani Srinivas D.,Hua Zhong Qiang,LIU Jingjing,Ying Chentsau,YIEH Ellie Y.,CITLA Bhargav. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-26.

Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering

Номер патента: US20240096687A1. Автор: Suresh PALANISAMY,Harish V PENMETHSA,Dinesh Rajamanickam,Naresh Kumar Asokan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate flipping in vacuum for dual sided PVD sputtering

Номер патента: US11881427B2. Автор: Suresh PALANISAMY,Harish Penmethsa,Dinesh Rajamanickam,Naresh Kumar Asokan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

Method of manufacturing a thin film transistor using multiple sputtering chambers

Номер патента: US6177302B1. Автор: Shunpei Yamazaki,Takeshi Fukada,Takashi Inushima,Hongyong Zhang. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-23.

Apparatus for monitoring temperature of cold trap for pvd chamber formed a vacuum

Номер патента: KR100484881B1. Автор: 권영철,안교준. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-04-22.

Sputter chamber pressure gauge with vibration absorber

Номер патента: US09581510B1. Автор: Fadzli B. Idris,Ganesen Purushothman. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

A single body roll-to-roll sputter chamber

Номер патента: KR20100041171A. Автор: 김경훈,김봉석,윤정상,한기룡. Владелец: 지 . 텍 (주). Дата публикации: 2010-04-22.

Target for PVD sputtering system

Номер патента: US09633824B2. Автор: Yong Cao,Xianmin Tang,Thanh X. Nguyen,Muhammad Rasheed. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

TARGET FOR PVD SPUTTERING SYSTEM

Номер патента: US20140251217A1. Автор: CAO YONG,TANG XIANMIN,Nguyen Thanh X.,RASHEED MUHAMMAD. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

Motorized hinge lift for pvd chambers

Номер патента: US20240084636A1. Автор: Christopher William Lewis,Timothy H. Ickes. Владелец: Advanced Refurbishment Technologies Lolc D/b/a Artsemi LLC. Дата публикации: 2024-03-14.

Sputtering target for PVD chamber

Номер патента: CN102414793A. Автор: Z·刘,R·王,X·唐,T-J·龚,S·冈迪科塔,M·M·拉希德. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-04-11.

Apparatus for pvd coating having current controlled magnetron

Номер патента: KR102045209B1. Автор: 배진범. Владелец: 배진범. Дата публикации: 2019-11-15.

Tubular target material for pvd

Номер патента: CN101096750B. Автор: 冈崎孝弘,高尾敏明,藤井博文. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2010-12-22.

Tubular target material for pvd

Номер патента: CN101096750A. Автор: 冈崎孝弘,高尾敏明,藤井博文. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2008-01-02.

Method for pretreating substrates for pvd methods

Номер патента: CN102605330A. Автор: J.拉姆,H.鲁迪吉尔,B.维德里希,T.冯布劳克. Владелец: Oerlikon Trading AG Truebbach. Дата публикации: 2012-07-25.

Gas ring for PVD-source

Номер патента: KR20220116492A. Автор: 에드문트 슌겔,에드문트 겔,안드레아스 마크,스테판 라이너. Владелец: 에바텍 아크티엔게젤샤프트. Дата публикации: 2022-08-23.

Apparatus for pvd dielectric deposition

Номер патента: US20160172168A1. Автор: Prashanth Kothnur,Keith A. Miller,Ilya Lavitsky,Thanh X. Nguyen,Randy Schmieding. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

PROCESS KIT HAVING TALL DEPOSITION RING FOR PVD CHAMBER

Номер патента: US20200194243A1. Автор: Gunther David,Tsai Cheng-Hsiung,SAVANDAIAH Kirankumar Neelasandra. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-18.

MULTIDIRECTIONAL RACETRACK ROTARY CATHODE FOR PVD ARRAY APPLICATIONS

Номер патента: US20140332369A1. Автор: Liu Jian,LOPP Andreas,Schwanitz Konrad,PIERALISI Fabio,BENDER Marcus,SCHEER Evelyn,LINDENBERG Ralph,Hanika Markus. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-11-13.

Sputtering Target for PVD Chamber

Номер патента: US20170350001A1. Автор: GUNG TZA-JING,Gandikota Srinivas,TANG XIANMIN,Rasheed Muhammad M.,Wang Rongjun,Liu Zhendong. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

Apparatus for PVD dielectric deposition

Номер патента: TW201627517A. Автор: 米勒凱斯Ａ,尼古言善Ｘ,拉維斯基伊利亞,薛米汀蘭迪,卡瑟寧貝森思. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2016-08-01.

Sputtering target for PVD chamber

Номер патента: US9752228B2. Автор: Zhendong Liu,Srinivas Gandikota,Xianmin Tang,Muhammad M. Rasheed,Tza-Jing Gung,Rongjun Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for Pretreating Substrates for PVD Methods

Номер патента: KR101640415B1. Автор: 위르겐 람,헬무트 루디기어,베노 뷔드리히,트로이 폼 브라우케. Владелец: 오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 페피콘. Дата публикации: 2016-07-18.

Process kit having tall deposition ring for pvd chamber

Номер патента: SG11202105742YA. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-29.

Process kit having tall deposition ring for PVD chamber

Номер патента: US11961723B2. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Process kit having tall deposition ring and smaller diameter electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: EP4355925A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Siew Kit Hoi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-24.

Process kit having tall deposition ring and smaller diameter electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: WO2022265822A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Siew Kit Hoi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Process kit having tall deposition ring for pvd chamber

Номер патента: US20240242947A1. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Process kit having tall deposition ring and smaller diameter electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: US20220406573A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Siew Kit Hoi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Apparatus for PVD dielectric deposition

Номер патента: US09928997B2. Автор: Prashanth Kothnur,Keith A. Miller,Ilya Lavitsky,Thanh X. Nguyen,Randy Schmieding. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Method for pretreating substrates for PVD methods

Номер патента: US09845527B2. Автор: Helmut Rudigier,Jürgen Ramm,Beno Widrig,Troy Vom Braucke. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2017-12-19.

Tilted magnetron in a pvd sputtering deposition chamber

Номер патента: EP3880862C0. Автор: Yi Yang,Lizhong Sun,Xiaodong Yang,Yufei Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-05.

Tubular target for PVD

Номер патента: JP4680841B2. Автор: 博文藤井,孝弘岡崎,敏明高尾. Владелец: Nippon Piston Ring Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-11.

Apparatus for pvd dielectric deposition

Номер патента: TWI682048B. Автор: 米勒凱斯Ａ,尼古言善Ｘ,拉維斯基伊利亞,薛米汀蘭迪,卡瑟寧貝森思. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2020-01-11.

Method and device for pvd coating

Номер патента: WO1998046807A1. Автор: Antonius Leyendecker,Hans-Gerd Fuss,Rainer Wenke,Georg Erkens,Stefan Esser,Bernd Hermeler. Владелец: Cemecon-Ceramic Metal Coatings-Dr.-Ing. Antonius Leyendecker Gmbh. Дата публикации: 1998-10-22.

Pvd sputtering target with a protected backing plate

Номер патента: WO2012109069A2. Автор: Muhammad M. Rasheed,Rongjun Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-16.

Tilted magnetron in PVD sputter deposition chamber

Номер патента: CN112955579A. Автор: 杨晓东,杨毅,孙立中,周玉飞. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-06-11.

Tilted magnetron in a pvd sputtering deposition chamber

Номер патента: EP3880862A1. Автор: Yi Yang,Lizhong Sun,Xiaodong Yang,Yufei Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-09-22.

PVD sputtering target with a protected backing plate

Номер патента: TW201243078A. Автор: Muhammad M Rasheed,rong-jun Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Tilted magnetron in a PVD sputtering deposition chamber

Номер патента: US11784032B2. Автор: Yi Yang,Lizhong Sun,Xiaodong Yang,Yufei Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Tilted magnetron in a pvd sputtering deposition chamber

Номер патента: EP3880862B1. Автор: Yi Yang,Lizhong Sun,Xiaodong Yang,Yufei Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-05.

Method and apparatus for clearing short-circuited, high-voltage cathodes in a sputtering chamber

Номер патента: US4610775A. Автор: Clarence G. Phifer. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1986-09-09.

Sputtering chamber, pre-cleaning chamber and plasma processing equipment

Номер патента: CN102418073B. Автор: 陈鹏,张良,赵梦欣,郑金果,丁培军,耿波,韦刚,杨柏,吴桂龙,吕铀. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-30.

Apparatus and method for self-aligning a cover ring in a sputter chamber

Номер патента: US20030075433A1. Автор: Chung-En Kao,Min-Te Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-04-24.

Sputtering chamber shield promoting reliable plasma ignition

Номер патента: EP1094496A2. Автор: Kenny King-Tai Ngan,John C. Forster,Lisa L. Yang,Jingang Su,Nelson A. Yee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-25.

Sputtering chamber shield promoting reliable plasma ignition

Номер патента: SG93270A1. Автор: Su Jingang,C Forster John,King-Tai Ngan Kenny,A Yee Nelson,L Yang Lisa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-12-17.

Method of reducing generation of particulate matter in a sputtering chamber

Номер патента: SG65694A1. Автор: Kenny K Ngan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-06-22.

MAGNETRON, MAGNETRON SPUTTERING CHAMBER, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190244796A1. Автор: Yang Yujie,ZHANG Tongwen. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

Magnetron, magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering device

Номер патента: KR20190069577A. Автор: 위지에 양,퉁원 장. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2019-06-19.

Magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104928635B. Автор: 杨玉杰,王厚工,邱国庆. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering device

Номер патента: WO2015139503A1. Автор: 杨玉杰,王厚工,邱国庆. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2015-09-24.

Large-area magnetron sputtering chamber with individually controlled sputtering zones

Номер патента: TW200720456A. Автор: John White,YAN Ye,Akihiro Hosokawa,Hien-Minh H Le. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-06-01.

Method and device for removing excess material from a sputtering chamber

Номер патента: EP0441368A1. Автор: Sasson Somekh,Dan Maydan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1991-08-14.

Method for manufacturing sputter-coated substrates, magnetron source and sputtering chamber with such source

Номер патента: CN1930652B. Автор: W·哈格,S·卡德勒克,E·库格勒. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2012-02-15.

Moving interleaved sputter chamber shields

Номер патента: US20080264340A1. Автор: Dhairya Shrivastava,Robert Martinson,Kwok Fai Lai,Norman Bourdon,Paul Shufflebothan. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2008-10-30.

Confining magnets in sputtering chamber

Номер патента: TW201016875A. Автор: Ravi Mullapudi,Biju Ninan. Владелец: Tango Systems Inc. Дата публикации: 2010-05-01.

Target and process kit parts for sputtering chamber

Номер патента: JP5661983B2. Автор: アレクサンダーリッチーアラン,アレクサンダーリッチーアラン,ヤンドニー,リチャードホンイリョン,リチャードホンイリョン,エー．スキーブルキャサリーン,エー．スキーブルキャサリーン,ケルカーウメシュ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-28.

Reactive sputtering chamber with gas distribution tubes

Номер патента: US20070235320A1. Автор: John White,YAN Ye,Akihiro Hosokawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-10-11.

Outgas removing apparatus of sputtering chamber

Номер патента: KR200148595Y1. Автор: 홍영준. Владелец: 엘지반도체주식회사. Дата публикации: 1999-06-15.

A sputtering target and a sputtering chamber

Номер патента: IL285412B. Автор: . Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-01.

A sputtering target and a sputtering chamber

Номер патента: IL285412B2. Автор: . Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-02-01.

A sputtering target and a sputtering chamber

Номер патента: IL275200B. Автор: . Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-08-31.

High temperature detachable very high frequency (vhf) electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: US20230162954A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

High temperature detachable very high frequency (VHF) electrostatic chuck (ESC) for PVD chamber

Номер патента: US12014906B2. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

High temperature detachable very high frequency (vhf) electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: EP4433622A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-25.

Apparatus And Method For Improved Darkspace Gap Design In RF Sputtering Chamber

Номер патента: US20150155143A1. Автор: FORSTER John C.,TANG XIANMIN. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-04.

Inductively Coupled Plasma Sputter Chamber with Conductive Material Sputtering Capabilities

Номер патента: KR100349426B1. Автор: 로버트 바이어,알렉산더 디. 랜트스맨,제임스 에이. 세르마르코. Владелец: 도쿄 엘렉트론 가부시키가이샤. Дата публикации: 2003-01-06.

Sputter chamber for the metal film deposition and high temperature process

Номер патента: KR0138869B1. Автор: 김윤태. Владелец: 양승택. Дата публикации: 1998-07-15.

Inductively coupled plasma sputter chamber with conductive material sputtering capabilities

Номер патента: AU1332895A. Автор: Robert Bayer,Alexander D Lantsman,James A Seirmarco. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-05-15.

Method of forming silicide film

Номер патента: US20230183849A1. Автор: Taku Oba. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Method of eliminating metal voiding in a titanium nitride/aluminum processing

Номер патента: US5338423A. Автор: Gregory Hindman,Jack Berg. Владелец: Zilog Inc. Дата публикации: 1994-08-16.

Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber

Номер патента: CA1066663A. Автор: Herbert Von Hartel. Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1979-11-20.

Krypton sputtering of thin tungsten layer for integrated circuits

Номер патента: WO2009025718A1. Автор: Srinivas Gandikota,Wei D. Wang,Kishore Lavu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-02-26.

Titanium nitride hard mask and etch residue removal

Номер патента: EP3089200A1. Автор: Madhukar Bhaskara Rao,Tianniu Chen,Wen Dar Liu,Yi-Chia Lee,William Jack Casteel Jr.,Rajiv Krishan Agarwal. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2016-11-02.

TiN hard mask and etch residual removal

Номер патента: US09976111B2. Автор: Madhukar Bhaskara Rao,Tianniu Chen,Wen Dar Liu,Yi-Chia Lee,William Jack Casteel, Jr.,Rajiv Krishan Agarwal. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2018-05-22.

Tin hard mask and etch residue removal

Номер патента: MY173184A. Автор: Chen Tianniu,LEE Yi-Chia,Jack Casteel William Jr,Dar Liu Wen,Bhaskara Rao Madhukar,Krishan Agarwal Rajiv. Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2020-01-02.

In line fan out system

Номер патента: US20180061689A1. Автор: Terry Bluck,Terry Pederson,William Eugene Runstadler, Jr.. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Copper film plating process for PVD equipment

Номер патента: CN114427080A. Автор: 雷杨. Владелец: Guangzhou China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-03.

Loading system for pvd coating of cutting inserts

Номер патента: WO2001002620A1. Автор: Ingemar Hessman,Tor Norrgrann. Владелец: Sandvik Ab; (Publ). Дата публикации: 2001-01-11.

Alloy target for PVD-process, method for producing said alloy target and PVD-proces using said alloy target

Номер патента: EP1722003A1. Автор: Werner Dr. Kölker. Владелец: FETTE GMBH. Дата публикации: 2006-11-15.

METHOD FOR PRETREATING SUBSTRATES FOR PVD METHODS

Номер патента: US20140061034A1. Автор: Ramm Jürgen,Widrig Beno,Rudigier Helmut,Vom Braucke Troy. Владелец: OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH. Дата публикации: 2014-03-06.

FIXTURE FOR PVD COATING OF SPADE BITS

Номер патента: US20190368031A1. Автор: LaForce Phillip Joel. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

Coating method of display element for pvd

Номер патента: KR100407147B1. Автор: 주철완. Владелец: 주철완. Дата публикации: 2003-11-28.

Hard-metal inserts loading and unloading device for PVD coating

Номер патента: KR101690321B1. Автор: 송일재. Владелец: 주식회사 윈텍오토메이션. Дата публикации: 2016-12-27.

Planetary manipulator for PVD coating system

Номер патента: EP2540860A3. Автор: James W. Neal. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-04.

Vapour nozzle for pvd

Номер патента: CA3233070A1. Автор: Sergio PACE,Vincent RUWET,Oceane Gillet. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2023-04-20.

Fixture for pvd coating of spade bits

Номер патента: WO2019229143A1. Автор: Phillip Laforce. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Дата публикации: 2019-12-05.

Vapour nozzle for pvd

Номер патента: EP4416314A1. Автор: Sergio PACE,Vincent RUWET,Oceane Gillet. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2024-08-21.

Process for PVD coating workpieces

Номер патента: DE102018220678A1. Автор: Christian Schwerdt,Stefan Bienholz. Владелец: Thyssenkrupp AG. Дата публикации: 2020-06-04.

Loading system for pvd coating of cutting inserts

Номер патента: IL147371A. Автор: . Владелец: Sandvik Ab. Дата публикации: 2005-05-17.

Vapour nozzle for pvd

Номер патента: WO2023062454A1. Автор: Sergio PACE,Vincent RUWET,Oceane Gillet. Владелец: ArcelorMittal. Дата публикации: 2023-04-20.

Device for reactive sputtering comprises a controllable valve to control the total gas flow into a sputtering chamber, and a control unit for keeping the ratio of the partial pressures of at least two gases constant

Номер патента: DE102004014855A1. Автор: Thomas Dipl.-Ing. Fritz,Günter Dipl.-Ing. Kemmerer. Владелец: Applied Films GmbH and Co KG. Дата публикации: 2004-10-21.

Method of processing a substrate using a large-area magnetron sputtering chamber with individually controlled sputtering zones

Номер патента: US20070056843A1. Автор: John White,YAN Ye,Akihiro Hosokawa,Hienminh Le. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-15.

Automatic control system and execution method for transmission speed of building glass coating sputtering chamber

Номер патента: CN113215548A. Автор: 王艮,米永江,余华骏,赵习军. Владелец: Wujiang CSG East China Architectural Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-06.

Batch-type cathodic sputtering chamber - using external high-frequency coil to generate electrodeless plasma discharge

Номер патента: DE2415111A1. Автор: Helmold Dipl Phys Kausche,Alois Dipl Phys Dr Schauer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1975-10-16.

Sputter chamber shield

Номер патента: US20020090464A1. Автор: Mingwei Jiang,Mikhail Shkolnikov. Владелец: Steag Hamatech AG. Дата публикации: 2002-07-11.

Continuous cathodic sputtering chamber - with conveyor carrying substrates through split cylinder forming anode and cathode

Номер патента: DE2415119A1. Автор: Helmold Dipl Phys Kausche. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1975-10-16.

Device for rotating the sputtering chamber of a vacuum vapor deposition system

Номер патента: AT294511B. Автор: . Владелец: Libbey Owens Ford Glass Co. Дата публикации: 1971-11-25.

Method for Manufacturing a Tool Steel as a Support for PVD Coatings and a Tool Steel

Номер патента: US20240307957A1. Автор: Harald Leitner,Alfred HACKL. Владелец: Voestalpine Boehler Edelstahl GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-09-19.

Temperature control of pallet in sputtering system

Номер патента: US20060231390A1. Автор: Dean Smith,Ravi Mullapudi,Edward Strepka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-19.

Multi-Station Sputtering and Cleaning System

Номер патента: US20120085638A1. Автор: Dean Smith,Ravi Mullapudi,Edward Strepka,Srikanth Dasaradhi. Владелец: Tango Systems Inc. Дата публикации: 2012-04-12.

Extension of pvd chamber with multiple reaction gases, high bias power, and high power impulse source for deposition, implantation, and treatment

Номер патента: WO2018140193A2. Автор: Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Yongmei Chen,Jingjing Liu,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-08-02.

Physical vapor deposition apparatus and method thereof

Номер патента: US12094698B2. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang,Kun-Che HO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Copper indium gallium selenide (CIGS) thin films with composition controlled by co-sputtering

Номер патента: US09881774B2. Автор: Jasbinder S. Sanghera,Ishwar D. Aggarwal,Vinh Q. Nguyen,Michael Cyrus,Jesse A. Frantz,Robel Y. Bekele,Sergey V. Frolov,Allan J. Bruce. Владелец: Sunlight Photonics Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing device

Номер патента: US20170204510A1. Автор: Masahiro Matsumoto,Noriaki Tani,Tetsushi Fujinaga,Atsuhito Ihori,Harunori IWAI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Systems and methods for unprecedented crystalline quality in physical vapor deposition-based ultra-thin aluminum nitride films

Номер патента: EP4229668A1. Автор: Chao Li,Nitin Choudhary,Brendan V. TRANG,Marc-Andre Lariviere,Juan RIOS REYES. Владелец: OEM Group LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual status magnetic marker having magnetically biasable flux collectors for use in electronic article surveillance systems

Номер патента: CA1301880C. Автор: Eugene C. Heltemes,Russell W Church. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1992-05-26.

Dual status magnetic marker having magnetically biasable flux collectors for us in electronic article surveillance systems

Номер патента: US4825197A. Автор: Eugene C. Heltemes,Russell W. Church. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1989-04-25.

Improvements in and relating to semiconductors

Номер патента: GB1077320A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1967-07-26.

Method of forming metal layer, semiconductor device and method of fabricating same

Номер патента: US20200232089A1. Автор: Chong Liu,Jike WU,Xiuliang CAO. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2020-07-23.

Transport system for thin film sputtering system

Номер патента: US5660114A. Автор: Thomas A. Gruber. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 1997-08-26.

Composite target sputtering for forming doped phase change materials

Номер патента: US20130234093A1. Автор: Hsiang-Lan Lung,Chieh-Fang Chen,Simone Raoux,Yen-Hao Shih,Matthew J. Breitwisch,Huai-Yu Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-12.

High Temperature Sputtered Stoichiometric Titanium Nitride Thin Films

Номер патента: US20190276925A1. Автор: Xiao Liu,Battogtokh Jugdersuren,Brian T. Kearney. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-09-12.

Methods for preparing cigs thin film solar cell

Номер патента: US20190189814A1. Автор: Yi Shu,Yongyuan Xu,Yihuan WANG,Minghao QU,Pengchen Hu,Xiaoning Ru. Владелец: Miasole Equipment Integration Fujian Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-20.

Methods for high-rate sputtering of a compound semiconductor on large area substrates

Номер патента: AU2011201682A1. Автор: Robert Dwayne Gossman,Russell Weldon Black,Sean Timothy Halloran. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2011-11-10.

Thin film transistor (TFT) array substrate and fabrication method thereof, and display device

Номер патента: US09991398B2. Автор: Liangchen YAN,Dini XIE,Xiaojin Zhang,Xianbin Xu,Meili Wang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Long life bonding tool

Номер патента: US5931368A. Автор: Ilan Hadar,Beni Sonnenreich. Владелец: Kulicke and Soffa Investments Inc. Дата публикации: 1999-08-03.

Method for providing sequential power pulses

Номер патента: US09906210B2. Автор: Siegfried Krassnitzer,Daniel Lendi,Markus Lechthaler. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for supplying sequential power impulses

Номер патента: CA2833796C. Автор: Siegfried Krassnitzer,Daniel Lendi,Markus Lechthaler,Kurt Ruhm. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2018-07-31.

Physical Vapor Deposition (PVD) Chamber Titanium-Tungsten (TiW) Target For Particle Improvement

Номер патента: US20240068086A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Madan Kumar Shimoga Mylarappa,Junqi Wei,Sundarapandian Ramalinga Vijayalakshmi Reddy,Bridger Earl HOERNER,Kelvin Tai Ming BOH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Physical vapor deposition (pvd) chamber titanium-tungsten (tiw) target for particle improvement

Номер патента: WO2024049800A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Madan Kumar Shimoga Mylarappa,Junqi Wei,Sundarapandian Ramalinga Vijayalakshmi Reddy,Bridger Earl HOERNER,Kelvin Tai Ming BOH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dynamic vacuum seal system for physical vapor deposition sputter applications

Номер патента: WO2024010982A1. Автор: Joseph Buckfeller,John Rizer,Rick ELLER,Lora Thrun,Gary OFFORD. Владелец: Tosoh Smd Inc.. Дата публикации: 2024-01-11.

Method of providing sequence pulses of power

Номер патента: RU2631670C2. Автор: Зигфрид КРАССНИТЦЕР,Маркус ЛЕХТХАЛЕР,Даниэль ЛЕНДИ. Владелец: Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон. Дата публикации: 2017-09-26.

System for sputtering deposition

Номер патента: US20110168552A1. Автор: Hsin-Chin Hung. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-14.

Reducing particle generation during sputter deposition

Номер патента: WO2003090248A3. Автор: Kenny King-Tai Ngan,Hien-Minh Huu Le,Keith A Miller,Hoa T Kieu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-03-25.

Functionally graded material by in-situ gradient alloy sputter deposition management

Номер патента: US09963778B2. Автор: Thorsten Muehge,Markus Schmidt,Erik Rueger,Hans-Juergen Eickelmann. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Functionally graded material by in-situ gradient alloy sputter deposition management

Номер патента: US09758861B2. Автор: Thorsten Muehge,Markus Schmidt,Erik Rueger,Hans-Juergen Eickelmann. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering process employing an enclosed sputtering target

Номер патента: US5069770A. Автор: David A. Glocker. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-12-03.

Sputter coating system and method using substrate electrode

Номер патента: WO1998059088A9. Автор: Steven Aragon,William A Lewis. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 1999-06-10.

Method and device for manufacturing semiconductor or insulator/metallic laminar composite cluster

Номер патента: US20050173240A1. Автор: Kenji Sumiyama,Takehiko Hihara,Ryoji Katoh. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2005-08-11.

Sputtering apparatus including target mounting and control

Номер патента: US09738967B2. Автор: Jeffrey L Kokoschke,Dennis M Brabender. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Functionally Graded Material By In-Situ Gradient Alloy Sputter Deposition Management

Номер патента: US20160326638A1. Автор: Thorsten Muehge,Markus Schmidt,Erik Rueger,Hans-Juergen Eickelmann. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-10.

Reducing particle generation during sputter deposition

Номер патента: WO2003090248A2. Автор: Kenny King-Tai Ngan,Hien-Minh Huu Le,Keith A. Miller,Hoa T. Kieu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2003-10-30.

Sputtering lithium-containing material with multiple targets

Номер патента: US8864954B2. Автор: Kai Wei NIEH,Jiuh-Ming Liang,Victor Krasnov. Владелец: Front Edge Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-21.

Deposition process monitoring and control system

Номер патента: CA1119554A. Автор: Thomas C. Tisone,Thomas S. Latos. Владелец: Gould Inc. Дата публикации: 1982-03-09.

Particle trap for sputtering coil and methods of making

Номер патента: EP3571328A1. Автор: James L. Koch,Andrew N.A. Wragg. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2019-11-27.

Multi-patterned sputter traps and methods of making

Номер патента: US12051573B2. Автор: James L. Koch,Jacob C. RUZICKA. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Magnetron-sputtering coating system and method, and display substrate

Номер патента: US09934948B2. Автор: Wenjun Zhang,Hualu Wang,Sangsoo Park,Xunze ZHANG,Xiaokun Wang,Zhaobo Wang,Lei Sha,Guanjie Cheng,Qingliang WEN,Leilei LV. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Narrow source for physical vapor deposition processing

Номер патента: US09892890B2. Автор: Terry Bluck,Alex Riposan. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US09779920B2. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus for coating a substrate with electrically nonconductive coatings

Номер патента: US5415757A. Автор: Goetz Teschner,Joachim Szcyrbowski,Guenter Braeuer. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1995-05-16.

Functionally Graded Material By In-Situ Gradient Alloy Sputter Deposition Management

Номер патента: US20180187301A1. Автор: Thorsten Muehge,Markus Schmidt,Erik Rueger,Hans-Juergen Eickelmann. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Apparatus and method for epitaxial sputter deposition of multi-compound magnetic epilayers with high deposition rate

Номер патента: EP1386019A1. Автор: Roman Chistyakov. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2004-02-04.

Sputtering shields and method of manufacture

Номер патента: US5637199A. Автор: Joseph H. Sexton,Robert D. Lorentz. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1997-06-10.

Plasma emission monitor and process gas delivery system

Номер патента: US9633823B2. Автор: Klaus H. W. Hartig,Keith J. Burrows,Christopher L. Gruber. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-04-25.

Sputtering system and deposition method

Номер патента: US20200199740A1. Автор: Jun Liu,Ning Liu,Liangchen YAN,Dongfang Wang,Tongshang Su,Qinghe Wang,Leilei CHENG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20180019108A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-18.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20200294778A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-17.

Adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: EP3475460A1. Автор: Klaus H.W. HARTIG. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2019-05-01.

Flexible adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: US20180323048A1. Автор: Klaus H.W. HARTIG. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2018-11-08.

Method and apparatus for sputter coating employing machine readable indicia carried by target assembly

Номер патента: WO1993010276A1. Автор: Steven D. Hurwitt,Frank M. Shinneman. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1993-05-27.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: US20080317564A1. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-12-25.

Lithium containing composite metallic sputtering targets

Номер патента: US09765426B1. Автор: Lizhong Sun,Chong JIANG,Jan Isidorsson,Byung-Sung Leo Kwak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Ring-type sputtering target

Номер патента: EP1402081A1. Автор: Daniel R. Marx,Rajan Mathew,Alfred Snowman,Charles R. Fisher. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-31.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US5106474A. Автор: Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard,James J. Hoffmann. Владелец: Viratec Thin Films Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

A device for reducing misalignment between sputtering target and shield

Номер патента: WO2024019920A1. Автор: BO LIU. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2024-01-25.

Laterally adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: WO2018004884A1. Автор: Klaus H.W. HARTIG. Владелец: CARDINAL CG COMPANY. Дата публикации: 2018-01-04.

Sputter trap having a thin high purity coating layer and method of making the same

Номер патента: US11981991B2. Автор: Shih-Yao Lin,Jaeyeon Kim,Susan D. Strothers,Scott R. Sayles,Patrick Underwood,Michael D. Payton. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Process and device for forming a coating on a substrate by cathode sputtering

Номер патента: AU5304898A. Автор: Pierre Vanden Brande,Alain Weymeersch. Владелец: Cockerill Sambre SA. Дата публикации: 1998-07-03.

Laterally adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: US20170369985A1. Автор: Klaus H. W. Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-12-28.

Laterally adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: EP3475461A1. Автор: Klaus H.W. HARTIG. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2019-05-01.

Adjustable return path magnet assembly and methods

Номер патента: US20170372880A1. Автор: Klaus H. W. Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-12-28.

Thin film formation apparatus and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: SG161142A1. Автор: Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

Conductive electrolyte layer and method of manufacturing metal-supported solid oxide fuel cell including the same

Номер патента: US20240063415A1. Автор: Jaewon Hwang,Suk Won Cha,Taehyun Park,Seokhun JEONG. Владелец: FOUNDATION OF SOONGSIL UNIVERSITY INDUSTRY COOPERATION. Дата публикации: 2024-02-22.

Conductive electrolyte layer and method of manufacturing metal-supported solid oxide fuel cell including the same

Номер патента: US20240063401A1. Автор: Jaewon Hwang,Suk Won Cha,Taehyun Park,Inwon CHOI. Владелец: FOUNDATION OF SOONGSIL UNIVERSITY INDUSTRY COOPERATION. Дата публикации: 2024-02-22.

Titanium dioxide thin film systems and method of making same

Номер патента: US20100043881A1. Автор: Gregory W. Auner,Golam Newaz,Ibrahim Abdullah Ibrahim AlHomoudi. Владелец: WAYNE STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-02-25.

Systems and methods for fabricating self-aligned resistive/magnetic memory cell

Номер патента: US09711714B2. Автор: Makoto Nagashima. Владелец: 4D S Pty Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Insulating gate AlGaN/GaN HEMT

Номер патента: US09419124B2. Автор: Primit Parikh,Umesh Mishra,Yifeng Wu. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Insulating gate algan/gan hemt

Номер патента: CA2454269C. Автор: Primit Parikh,Umesh Mishra,Yifeng Wu. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2015-07-07.

Method for forming of perovskite-based optoelectronic devices

Номер патента: US20230197353A1. Автор: Wenya Song,Tom Aernouts,Yinghuan Kuang,Stijn Lammar. Владелец: Hasselt Universiteit. Дата публикации: 2023-06-22.

Target backing plate for sputtering system

Номер патента: US20060231393A1. Автор: Dean Smith,Ravi Mullapudi,Srikanth Dasaradhi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-19.

Sputtering system and method including an arc detection

Номер патента: US09613784B2. Автор: Jesse N. Klein,David C. Halstead,Michael R. Gilbert. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Multiple tier collimator system for enhanced step coverage and uniformity

Номер патента: US5643428A. Автор: Zoran Krivokapic,David S. Bang. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1997-07-01.

Magnetron sputtering cathode assembly and magnet assembly therefor

Номер патента: CA1246492A. Автор: Howard D. Kisner. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 1988-12-13.

에칭성 조절이 가능한 연성구리박막 적층필름 및 그 제조방법

Номер патента: KR20130016851A. Автор: 전해상,김영섭,한종헌,전은욱. Владелец: 도레이첨단소재 주식회사. Дата публикации: 2013-02-19.

Method and Apparatus for Coating Thin Foil With A Boron Coating

Номер патента: US20140110247A1. Автор: Jeffrey L Lacy. Владелец: Proportional Technologies Inc. Дата публикации: 2014-04-24.

Method and apparatus for coating thin foil with a boron coating

Номер патента: EP2909355A2. Автор: Jeffrey L. Lacy. Владелец: Proportional Technologies Inc. Дата публикации: 2015-08-26.

Method and apparatus for coating thin foil with a boron coating

Номер патента: US09869782B2. Автор: Jeffrey L Lacy. Владелец: Proportional Technologies Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Gas flow set-up for multiple, interacting reactive sputter sources

Номер патента: WO2010102101A3. Автор: Philip A. Greene. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-01-13.

Method of applying oxidized stainless steel on glass articles

Номер патента: RU2766421C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Старцев. Владелец: Дмитрий Юрьевич Старцев. Дата публикации: 2022-03-15.

Coating on the gas turbine engine blades application method

Номер патента: RU2680115C1. Автор: Владимир Андреевич Иванов,Валерий Васильевич Баринов,Владимир Геннадьевич Опокин,Ринат Галимчанович Равилов. Владелец: Публичное акционерное общество "Уфимское моторостроительное производственное объединение" (ПАО "ОДК-УМПО"). Дата публикации: 2019-02-15.

Composite film manufacturing method and organic/inorganic hybrid film manufacturing method

Номер патента: US20240240305A1. Автор: Taketo HASHIMOTO,Kohei NAKASHIMA. Владелец: Riken Technos Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Deep-uv optical coating preparation method using sputtering deposition with pure metal target

Номер патента: US20130248353A1. Автор: Cheng-Chung Lee,Bo-Huei Liao. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2013-09-26.

Apparatus for full wafer deposition

Номер патента: US5951775A. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-14.

Micro-electromechanical system (mems) based inertial sensor and method of fabrication thereof

Номер патента: US20230287555A1. Автор: Abdulilah Mayet. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-14.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20110114473A1. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Module for flipping substrates in vacuum

Номер патента: WO2024167614A1. Автор: Sathiyamurthi GOVINDASAMY,Suresh PALANISAMY,Naresh Kumar Asokan,Harish V. PENMETHSA,Karunakaran NATARAJ. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Module for flipping substrates in vacuum

Номер патента: US20240263299A1. Автор: Sathiyamurthi GOVINDASAMY,Suresh PALANISAMY,Naresh Kumar Asokan,Harish V. PENMETHSA,Karunakaran NATARAJ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for the production of nanocomposite plastic materials

Номер патента: US20180273714A1. Автор: Loredana SANTO,Gildo Di Domenico,Fabrizio Quadrini,Donatella Gagliardi,Denise Bellisario,Giovanni Matteo Tedde. Владелец: Universita degli Studi di Roma Tor Vergata. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for the production of nanocomposite plastic materials

Номер патента: EP3320034A1. Автор: Loredana SANTO,Gildo Di Domenico,Fabrizio Quadrini,Donatella Gagliardi,Denise Bellisario,Giovanni Matteo Tedde. Владелец: Universita degli Studi di Roma Tor Vergata. Дата публикации: 2018-05-16.

Methods of applying titanium oxide coatings on glass articles

Номер патента: RU2765964C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Старцев. Владелец: Дмитрий Юрьевич Старцев. Дата публикации: 2022-02-07.

Method for application of ceramic layer of heat shielding coating

Номер патента: RU2600783C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Сергей Артемович Мубояджян,Сергей Александрович Будиновский,Денис Александрович Чубаров. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2016-10-27.

Method for the application of a scratch protection layer and an antireflection coating system and apparatus for its execution

Номер патента: US6126792A. Автор: Michael Liehr,Heinrich GRÜNWALD. Владелец: Leybold Systems GmbH. Дата публикации: 2000-10-03.

Improved production of an energy-reflecting composite

Номер патента: WO2023170214A1. Автор: Luc Michiels,Koen STRIJCKMANS,Diederik DEPLA. Владелец: Michiels Group. Дата публикации: 2023-09-14.

Systems and methods for in-situ etching prior to physical vapor deposition in the same chamber

Номер патента: US20240167144A1. Автор: Chao Li,Nitin Choudhary,Brendan V. TRANG,Juan M. RIOS REYES,Marc-Andre Lariviere. Владелец: OEM Group LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

Metal-free diamond-like-carbon coatings

Номер патента: EP1954429A1. Автор: Clark V. Cooper. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-08-13.

Manufacturing method and apparatus of phase shift mask blank

Номер патента: US7282121B2. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-10-16.

Composite film manufacturing method and organic/inorganic hybrid film manufacturing method

Номер патента: EP4350027A1. Автор: Taketo HASHIMOTO,Kohei NAKASHIMA. Владелец: Riken Technos Corp. Дата публикации: 2024-04-10.

Method of aluminum application on glass articles

Номер патента: RU2765966C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Старцев. Владелец: Дмитрий Юрьевич Старцев. Дата публикации: 2022-02-07.

Method of applying l63 brass on glass products

Номер патента: RU2765965C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Старцев. Владелец: Дмитрий Юрьевич Старцев. Дата публикации: 2022-02-07.

Method of forming recordable optical element using low absorption materials

Номер патента: US5725741A. Автор: Pranab K. Raychaudhuri,Fridrich Vazan. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1998-03-10.

Sputtering apparatus for coating cylinders

Номер патента: GB2041984A. Автор: . Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1980-09-17.

Method of refurbishing high value articles

Номер патента: US20160244873A1. Автор: Benjamin C. Opfermann,Craig P. Pessetto,Douglas K. Wiser. Владелец: Engineering And Software System Solutions Inc. Дата публикации: 2016-08-25.

System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system

Номер патента: US20010030128A1. Автор: Robert Martinson,Ken Lee,Mikhail Mazur,Ke Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-18.

Apparatus and method for handling and masking a substrate

Номер патента: WO2001079580A2. Автор: Ke Ling Lee,Ken Lee,Mikhail Mazur,Robert M. Martinson. Владелец: Steag Hamatech AG. Дата публикации: 2001-10-25.

Solar selective coating having high thermal stability and a process for the preparation thereof

Номер патента: US09803891B2. Автор: Harish Chandra Barshilia. Владелец: Council of Scientific and Industrial Research CSIR. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of refurbishing high value articles

Номер патента: US09765424B2. Автор: Benjamin C. Opfermann,Craig P. Pessetto,Douglas K. Wiser. Владелец: Engineering And Software System Solutions Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Sputtering technique for the deposition of indium oxide

Номер патента: CA1112601A. Автор: Frank H. Gillery. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1981-11-17.

Magnetron sputtering method and apparatus

Номер патента: CA2362146C. Автор: Gennady Yumshtyk,Michael Ioumchtyk. Владелец: PARADIGM SHIFT TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2008-02-12.

Method and apparatus for controlling the electrical properties of sputtered films

Номер патента: US3738926A. Автор: W Westwood,R Boynton. Владелец: Bell Canada Inc. Дата публикации: 1973-06-12.

Method of refurbishing high value articles

Номер патента: WO2016138079A1. Автор: Benjamin C. Opfermann,Craig P. Pessetto,Douglas K. Wiser. Владелец: Engineering and Software System Solutions, Inc.. Дата публикации: 2016-09-01.

An improved solar selective coating having high thermal stability and a process for the preparation thereof

Номер патента: EP2791384A1. Автор: Harish Chandra Barshilia. Владелец: Council of Scientific and Industrial Research CSIR. Дата публикации: 2014-10-22.

Method and apparatus for cleaning a target of a sputtering apparatus

Номер патента: US20070023276A1. Автор: Jeffrey Reiter. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2007-02-01.

Method of refurbishing high value articles

Номер патента: EP3262206A1. Автор: Benjamin C. Opfermann,Craig P. Pessetto,Douglas K. Wiser. Владелец: Engineering And Software System Solutions Inc. Дата публикации: 2018-01-03.

Method of refurbishing high value articles

Номер патента: US20170342545A1. Автор: Benjamin C. Opfermann,Craig P. Pessetto,Douglas K. Wiser. Владелец: Engineering And Software System Solutions Inc. Дата публикации: 2017-11-30.

Hard, scratch-resistant coatings for substrates

Номер патента: CA2373441C. Автор: Annette Krisko. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2007-11-13.

Method for coating abrasives

Номер патента: US20070157525A1. Автор: David Egan,Johannes Engels,Michael Fish. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-12.

Method of coating abrasives

Номер патента: CA2553567C. Автор: Michael Lester Fish,David Patrick Egan,Johannes Alexander Engels. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

System and method for detecting manufacturing marks on sputtered disks

Номер патента: US20020089662A1. Автор: Paul Green,Eric O'brien,Bob Robinson,Elmer York. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-07-11.

Method for fabricating superplastically formed/diffusion bonded aluminum or aluminum alloy structures

Номер патента: US4483478A. Автор: David W. Schulz. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1984-11-20.

Workpiece clamping jig for PVD (physical vapor deposition) assembly

Номер патента: CN216030416U. Автор: 刘小辉,付送安,刘仙林. Владелец: Jiangsu Tengxiyu Metal Products Co ltd. Дата публикации: 2022-03-15.

A hanger for pvd processing

Номер патента: CN206089796U. Автор: 吴惠明,刘元,郝立鹏,杜成锐. Владелец: Kersen Technology Dongtai Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-12.

Arc electron source enhanced glow discharge surface activation process for PVD (physical vapor deposition) coating

Номер патента: CN109913799B. Автор: 李迎春,李志荣,刘江江. Владелец: Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-10-19.

New Magnet Design Which Improves Erosion Profile for PVD Systems

Номер патента: US20140124359A1. Автор: Child Kent Riley,Shao ShouQian,Wang Danny,Zhang Xuena. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2014-05-08.

Defective discharge preventive device for pvd coating equipment

Номер патента: JPS63143263A. Автор: Hiroshi Tsukada,Toshihiko Hashimoto,Yoshihiro Adachi,Katsumi Mizuuchi,Takeshi Tatsuya,敏彦橋本,塚田　博,足立　吉宏,辰谷　猛,水内　勝美. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1988-06-15.

Hook pin utilized for PVD equipment

Номер патента: TWI266810B. Автор: Hsin-Hung Lin,Wen-Mao Hsu,Cheng-Ling Ou. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2006-11-21.

Hook pin utilized for PVD equipment

Номер патента: TW200712239A. Автор: Hsin-Hung Lin,Wen-Mao Hsu,Cheng-Ling Ou. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2007-04-01.

COMBINATORIAL RF BIAS METHOD FOR PVD

Номер патента: US20130149469A1. Автор: Child Kent Riley,Shao ShouQian,Yang Hong Sheng,Tsung James. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2013-06-13.

DAMASCENE PROCESS USING PVD SPUTTER CARBON FILM AS CMP STOP LAYER FOR FORMING A MAGNETIC RECORDING HEAD

Номер патента: US20120111826A1. Автор: Tang Yunjun,LI Yunfei,CHEN YANFENG,Qian Yana,Yang Ming M.,Anderson Paul E.. Владелец: Western Digital (Fremont), LLC. Дата публикации: 2012-05-10.

PVD SPUTTERING TARGET WITH A PROTECTED BACKING PLATE

Номер патента: US20120199469A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-09.

Continuously sputtering chamber system and operation method thereof

Номер патента: TW200523384A. Автор: Chien-Te Lee,Chiean-Kuo Chang. Владелец: Gafir Technologies Inc. Дата публикации: 2005-07-16.

Sputtering chamber coil

Номер патента: USD450070S1. Автор: ZHENG Xu,Praburam Gopalraja,John C. Forster,Michael Rosenstein. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-11-06.

Sputtering chamber coil

Номер патента: USD440582S1. Автор: ZHENG Xu,Praburam Gopalraja,Peijun Ding,John C. Forster,Michael Rosenstein. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-17.

REACTIVE SPUTTERING CHAMBER WITH GAS DISTRIBUTION TUBES

Номер патента: US20120024693A1. Автор: WHITE John M.,HOSOKAWA AKIHIRO,Ye Yan. Владелец: . Дата публикации: 2012-02-02.

ADAPTER OF SPUTTERING CHAMBER

Номер патента: US20140027275A1. Автор: Kao Chia-Chi. Владелец: UNITED MICROELECTRONICS CORP.. Дата публикации: 2014-01-30.

DUAL SINGLE SIDED SPUTTER CHAMBERS WITH SUSTAINING HEATER

Номер патента: US20140050843A1. Автор: TANAKA Tatsuru,LIU Hongling,YI CHANG B.,YUAN Hua. Владелец: WD Media, Inc.. Дата публикации: 2014-02-20.

Sputtering chamber

Номер патента: SU716621A1. Автор: Владимир Тимофеевич Глазков,Эдуард Рахминович Израилов,Борис Алексеевич Шапиро,Станислава Ильинична Драч. Владелец: Черкасский Проектно-Конструкторский Технологический Институт. Дата публикации: 1980-02-25.

Sputtering chamber for coating workpieces

Номер патента: DE7318275U. Автор: . Владелец: Air Industrie SA. Дата публикации: 1975-07-10.

Magnetron sputtering chamber and vacuum coating equipment comprising same

Номер патента: CN203096161U. Автор: 王叔晖,刘竹杨. Владелец: SHANGHAI FADE MACHINERY EQUIPMENT CO Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Cover the sputtering chamber baffle plate of silk screen

Номер патента: CN204644451U. Автор: 王跃翔. Владелец: BEIJING GUANHUA DONGFANG GLASS TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-16.

Structure for detecting transmission track of sputtering chamber of vacuum coating machine

Номер патента: CN218262716U. Автор: 吴志军,江涛,方健,王启胜. Владелец: Ningbo Jingchuang Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-01-10.

VACUUM TREATMENT APPARATUS

Номер патента: US20120003064A1. Автор: . Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Reactive gas modulation for group iii/iv compound deposition systems

Номер патента: CA3241879A1. Автор: Robbie J. Jorgenson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-11.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS OF ARC PREVENTION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000767A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

REACTIVE SPUTTERING ZINC OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDES ONTO LARGE AREA SUBSTRATES

Номер патента: US20120000773A1. Автор: HOSOKAWA AKIHIRO,Stimson Bradley O.,Inagawa Makoto,Ye Yan,Kadam Ankur,Li Yanping,Lau Allen Ka-Ling. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROCHEMICAL REMOVAL OF TANTALUM-CONTAINING MATERIALS

Номер патента: US20120000793A1. Автор: WANG Hong,Tsai Kenneth. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COOLED DARK SPACE SHIELD FOR MULTI-CATHODE DESIGN

Номер патента: US20120000424A1. Автор: Inagawa Makoto. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003784A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Номер патента: RU2409701C2. Автор: Сергей Артемович Мубояджян,Сергей Александрович Будиновский,Артем Михайлович Гаямов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2011-01-20.

Номер патента: RU2084313C1. Автор: Ua],Валерий Георгиевич Калинин,Николай Борисович Константинов,Павел Михайлович Копершевич,Олег Домианович Нейков,Виктор Сергеевич Симонов. Владелец: Виктор Сергеевич Симонов. Дата публикации: 1997-07-20.

예방정비시 파티클 오염을 방지할 수 있는 스퍼터링 장비의 챔버

Номер патента: KR19990065314A. Автор: 이상은,배종용. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 1999-08-05.

用於pvd濺射腔室的可偏壓通量優化器/準直器

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты