Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

磁控溅射腔室及磁控溅射设备

Номер патента: CN104928635B
Опубликовано: 19-12-2017
Автор(ы): 杨玉杰, 王厚工, 邱国庆
Принадлежит: Beijing North Microelectronics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Magnet structure for magnetron sputtering and cathode electrode unit and magnetron sputtering equipment

Номер патента: EP1930466A4. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Yasukuni Iwasaki,Takahiko Hori. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-31.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09558921B2. Автор: Jong Yun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Magnetron sputtering system and photomask blank production method based on the same

Номер патента: US6666957B2. Автор: Hideki Kobayashi,Hideo Kaneko,Satoshi Okazaki,Masataka Watanabe,Ken Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-23.

Method of depositing thin film of metal oxide by magnetron sputtering apparatus

Номер патента: AU1250400A. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2001-01-25.

Method for magnetron sputtering

Номер патента: EP1070767B1. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2007-08-22.

Rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode, method of manufacturing the RMIM electrode, and sputtering apparatus including the RMIM electrode

Номер патента: US20030178299A1. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Ill Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-09-25.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US09399817B2. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20130277205A1. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-24.

Magnetron source, magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: SG191806A1. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-30.

Methods of and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US20210050193A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin BLESS,Claudiu Valentin FALUB. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2021-02-18.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US11239064B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-02-01.

Method of and magnet assembly for high power pulsed magnetron sputtering

Номер патента: US20160104607A1. Автор: David N. Ruzic,Priya Raman,Ivan A. Shchelkanov. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2016-04-14.

Racetrack-shaped magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US09378934B2. Автор: Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Methods of and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US11848179B2. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin BLESS,Claudiu Valentin FALUB. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2023-12-19.

Facing target sputtering apparatus

Номер патента: US20150027883A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Sun-Jin Lee,Ou-Hyen Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Magnetron sputtering electrode, and sputtering system provided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: TW200900523A. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Junya Kiyota,Yasuhiko Akamatsu,Tatsunori Isobe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-01-01.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US12112929B2. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Magnetron sputtering device

Номер патента: RU2747487C2. Автор: Дмитрий Николаевич Карпов,Максим Петрович Коверзнев,Иван Алексеевич Азаров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АкадемВак". Дата публикации: 2021-05-05.

Dynamic uniformity control for magnetron sputtering processes

Номер патента: WO2024188564A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ivan Van De Putte. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2024-09-19.

Gas-discharge sputtering apparatus based on planar magnetron with ion source

Номер патента: RU2752334C1. Автор: Александр Петрович Семенов,Ирина Александровна Семенова,Дмитрий Бадма-Доржиевич Цыренов,Эрдэм Олегович Николаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2021-07-26.

Magnetron sputtering device, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20180277344A1. Автор: LEI XIAO,Jianhua Du,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Method and system for adjustable coating using magnetron sputtering systems

Номер патента: US12062531B2. Автор: Dominik Wagner. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungsgesellschaft Mbh. Дата публикации: 2024-08-13.

Method of producing films of cadmium telluride by magnetron sputtering at a constant current

Номер патента: RU2657275C2. Автор: Валерий Викторович Иванов,Юрий Алексеевич Крюков,Дмитрий Владимирович Фурсаев,Александр Николаевич Воропай. Владелец: Государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Московской области "Университет "Дубна" (Государственный университет "Дубна"). Дата публикации: 2018-06-09.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US8221594B2. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-07-17.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US4824540A. Автор: Robley V. Stuart. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-04-25.

A high-rate magnetron sputtering device

Номер патента: WO2024009229A1. Автор: Pāvels NAZAROVS,Vladimirs LENCEVSKIS,Valery Mitin,Vladimirs Kovalenko. Владелец: Naco Technologies, Sia. Дата публикации: 2024-01-11.

Integrated anode and activated reactive gas source for use in a magnetron sputtering device

Номер патента: US20170032946A1. Автор: Georg J. Ockenfuss. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-02-02.

Integrated anode and activated reactive gas source for use in magnetron sputtering device

Номер патента: US09502222B2. Автор: Georg J. Ockenfuss. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2016-11-22.

Electronic configuration for magnetron sputter deposition systems

Номер патента: EP2811509A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2014-12-10.

Magnetron sputtering electrode, and sputtering apparatus proided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: US20100051454A1. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Junya Kiyota,Yasuhiko Akamatsu,Tatsunori Isobe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-04.

Magnetron sputtering equipment and cathode device thereof

Номер патента: EP3712297A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: EP1273028A2. Автор: Konstantin K. Tzatzov,Alexander S. Gorodetsky. Владелец: Surface Engineered Products Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

External cooling system for magnetron sputtering systems

Номер патента: WO2024136802A1. Автор: Mustafa Tolga YURTCAN. Владелец: Atatürk Üni̇versi̇tesi̇ Fi̇kri̇ Mülki̇yet Haklari Koordi̇natörlüğü Döner Sermaye İşletmesi̇. Дата публикации: 2024-06-27.

Magnetron sputter ion plating

Номер патента: GB2258343B. Автор: Dennis Gerald Teer. Владелец: D G TEER COATING SERVICES LIMI. Дата публикации: 1994-04-06.

Magnetron sputter ion plating

Номер патента: US5556519A. Автор: Dennis G. Teer. Владелец: Teer; Dennis G.. Дата публикации: 1996-09-17.

Method and apparatus for improving the uniformity ion bombardment in a magnetron sputtering system

Номер патента: US4871433A. Автор: Israel Wagner,Steven D. Hurwitt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1989-10-03.

Magnetron sputtering source and coating system arrangement

Номер патента: EP3721466A1. Автор: Othmar Züger. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2020-10-14.

Magnetron sputtering source and coating system arrangement

Номер патента: US20210375603A1. Автор: Othmar Züger. Владелец: Oerlinon Surfacce Solutions Ag Pfaffikon. Дата публикации: 2021-12-02.

Rotary magnetron sputtering with individually adjustable magnetic field

Номер патента: EP3734643A1. Автор: Dominik Dr. Wagner. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-11-04.

Magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering device

Номер патента: WO2015139503A1. Автор: 杨玉杰,王厚工,邱国庆. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2015-09-24.

Magnetron sputtering magnet assembly, magnetron sputtering device, and magnetron sputtering method

Номер патента: WO2007142265A1. Автор: Akihiko Ito,Nobuaki Utsunomiya. Владелец: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2007-12-13.

Magnetron sputtering target and magnetron sputtering device adopting same

Номер патента: CN101988189A. Автор: 裴绍凯. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-23.

Magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: WO2014064741A1. Автор: 後藤　哲也. Владелец: 国立大学法人東北大学. Дата публикации: 2014-05-01.

A method of magnetron sputtering and a method for determining a power modulation compensation function for a power supply applied to a magnetron sputtering source

Номер патента: KR20100091223A. Автор: 스타니슬라브 카들렉,프랜티세크 바론,쥬얼겐 웨이체트,반 마스트 발트 숄티. Владелец: 오씨 외를리콘 발처스 악티엔게젤샤프트. Дата публикации: 2010-08-18.

Magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: CN104114742A. Автор: 后藤哲也. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2014-10-22.

Magnet control system of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101885123B1. Автор: 김정건,소병호,고무석,이구현,전명우. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-08-03.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR102245606B1. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2021-04-28.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR20160087986A. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2016-07-25.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20100059368A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2010-03-11.

Magnet target and magnetron sputtering apparatus having the same

Номер патента: US20100206726A1. Автор: XIN ZHAO,Wenyu ZHANG. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-19.

Magnetron sputtering system and photomask blank production method based on the same

Номер патента: EP1221495B1. Автор: Satoshi c/o New Funct. Mat. Res. Ctr. Okazaki,Masataka c/o New Funct.Mat.Res.Ctr. Watanabe,Hideo c/o New Funct. Mat. Res. Ctr. Kaneko,Ken c/o Magn.Mat.Res. & Development Ctr. Ohashi,Hideki c/o Magn. Mat. Res. & Dev. Ctr. Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-19.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: CA1225364A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Sputtering apparatus and target changing device thereof

Номер патента: US20180209036A1. Автор: CAN Wang,Xiaolong He,Jianhua Du,Xuefei Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240258088A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160042928A1. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09437404B2. Автор: Tetsuya Endo,Noel Abarra. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2016-09-06.

Sputtering apparatus

Номер патента: US5006218A. Автор: Kunio Tanaka,Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1991-04-09.

Radio Frequency Sputtering Apparatus

Номер патента: GB1169748A. Автор: Leslie Arthur Holland,Tony Ian Putner. Владелец: Edwards High Vacuum International Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

Method of producing a thin film by sputtering and an opposed target type sputtering apparatus

Номер патента: CA1325792C. Автор: Sadao Kadokura,Akio Kusuhara,Kazuhiko Honjyo. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1994-01-04.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11705315B2. Автор: Hiroyuki Toshima,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Rotary magnet sputtering apparatus

Номер патента: US20100126852A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2010-05-27.

Sputtering apparatus with magnetic module

Номер патента: US20110303536A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-15.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9299544B2. Автор: Tetsuya Endo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20230035198A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US11978615B2. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Pulse generation device and method for a magnetron sputtering system

Номер патента: EP3317432A1. Автор: Johanna ROSÉN,Mykola STYERVOYEDOV,Sergiy STYERVOYEDOV,Andriy STYERVOYEDOV,Vozniy OLEKSIY. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-09.

Magnetic configuration for a magnetron sputter deposition system

Номер патента: WO2014195517A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Soleras Advanced Coatings bvba. Дата публикации: 2014-12-11.

Magnetron unit, magnetron sputtering apparatus, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20090236219A1. Автор: Tetsuya Endo,Noel Einstein Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-09-24.

Magnetron and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN103882394B. Автор: 吴永泽,李宰承,西门瑄,刘云锺. Владелец: AP Cells Inc. Дата публикации: 2016-05-18.

The method of magnetron unit, magnetron sputtering apparatus and manufacturing electron device

Номер патента: CN101595240A. Автор: 远藤彻哉,E·N·阿巴拉. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-12-02.

Magnetron unit, magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP2204469A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-07.

MAGNETRON PLATE, MAGNETRON APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE

Номер патента: US20180190477A1. Автор: SUN Zhongyuan,LI Xiaohu. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-07-05.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100793569B1. Автор: 조수범. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2008-01-14.

Magnet Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210249241A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-08-12.

Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same

Номер патента: US7520965B2. Автор: Ronghua Wei. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 2009-04-21.

Magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: KR101434033B1. Автор: 시게루 미즈노,다츠오 하타노,데츠야 미야시타,아츠시 고미,야스시 미즈사와,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-25.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP1953257A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-08-06.

Rotary cathodes for magnetron sputtering system

Номер патента: EP2739763A4. Автор: Daniel Theodore CROWLEY,Michelle Lynn Neal. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2015-07-22.

Conical-frustum sputtering target and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4747926A. Автор: Shigeru Kobayashi,Tamotsu Shimizu,Takeshi Oyamada,Hikaru Nishijima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-05-31.

Multi-rod type magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4879017A. Автор: Hee-Yong Lee. Владелец: Dae Ryung Vacuum Co Ltd. Дата публикации: 1989-11-07.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA1193227A. Автор: Kovilvila Ramachandran,Enrico Giani. Владелец: Canadian Patents and Development Ltd. Дата публикации: 1985-09-10.

Slotted cylindrical hollow cathode/magnetron sputtering device

Номер патента: WO1992001082A1. Автор: Virgle L. Hedgcoth. Владелец: Hedgcoth Virgle L. Дата публикации: 1992-01-23.

Sliding anode magnetron sputtering source

Номер патента: US20050034975A1. Автор: Walter Haag,Pius Gruenenfelder. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2005-02-17.

Sliding anode for a magnetron sputtering source

Номер патента: WO2005010919A1. Автор: Walter Haag,Pius Gruenenfelder. Владелец: Unaxis Balzers Aktiengesellschaft. Дата публикации: 2005-02-03.

Method for manufacturing half-metallic magnetic oxide and plasma sputtering apparatus used in the same

Номер патента: US20030070914A1. Автор: Jin Hong,CHANG Lee,Sung Lee,Chae Kim,Kap Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates

Номер патента: US20240150886A1. Автор: Patrick A. Ward,John T. Bobbitt, Iii,Zachary Duca. Владелец: Battelle Savannah River Alliance LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Sputtering apparatus and method of preventing damage thereof

Номер патента: US20110013108A1. Автор: Jaehoon Choi,Junhyung Park,Sanghyo Park,Jaekwang Kim,Seunglyul Lee,Jinhee Yun,Munik Na,Kyoungshik Kim,Kagkyu Jung. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09715997B2. Автор: Seung-Ho Choi,Dae-Sang Yoon,Young-Bun Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09627187B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Sputtering apparatus, target and shield

Номер патента: US09502223B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB2346155A. Автор: Paul Rich,Keith Edward Buchanan,Stephen Robert Burgess. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2000-08-02.

Process kit of physical vapor deposition chamber and fabricating method thereof

Номер патента: US09803274B2. Автор: Wei Zhang,Yen-Yu Chen,Chang-Sheng Lee,Wei-Jen Chen,Wei-Chen Liao,Shih-Wei BIH,Hsien-Chieh HSIAO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB1419496A. Автор: . Владелец: Lucas Industries Ltd. Дата публикации: 1975-12-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4569745A. Автор: Setsuo Nagashima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-02-11.

Sputtering apparatus and method of controlling sputtering apparatus

Номер патента: US12002667B2. Автор: Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Sputtering apparatus with rotating target and target cooling

Номер патента: US5262032A. Автор: Klaus Hartig,Joachim Szczyrbowski,Anton Dietrich. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1993-11-16.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4422916A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1983-12-27.

Reactive sputtering apparatus and cathode elements therefor

Номер патента: US3890217A. Автор: Kenneth Burrows,Robert Hiscutt. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1975-06-17.

Cathodic sputtering apparatus

Номер патента: CA1230079A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-12-08.

Ferromagnetic high speed sputtering apparatus

Номер патента: US4401546A. Автор: Kyuzo Nakamura,Yoshifumi Ohta,Taiki Yamada. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1983-08-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4411763A. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1983-10-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP1176625A3. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2005-11-23.

Sputtering apparatus with rotatable sputtering target

Номер патента: US20110174612A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: US12014911B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Tatsuo HIRASAWA,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09574265B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

MAGNETRON, MAGNETRON SPUTTERING CHAMBER, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190244796A1. Автор: Yang Yujie,ZHANG Tongwen. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

Magnetron, magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering device

Номер патента: KR20190069577A. Автор: 위지에 양,퉁원 장. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2019-06-19.

A target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201142061A. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-12-01.

Target made of magnetic material for magnetron sputtering

Номер патента: EP4450675A1. Автор: Pāvels NAZAROVS,Vladimirs LENCEVSKIS,Valery Mitin,Vladimirs Kovalenko. Владелец: Naco Technologies Sia. Дата публикации: 2024-10-23.

Target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20110186421A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-08-04.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180277344A1. Автор: Xiao Lei,Du Jianhua,Tian Zhongpeng,Gao Xuewei. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

Magnetron sputtering apparatus, magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: CN105803410A. Автор: 肖磊,杜建华,田忠朋,高雪伟. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-27.

Anode structure for magnetron sputtering systems

Номер патента: CA2123479C. Автор: Stephen C. Schulz,Russell J. Hill,Peter A. Sieck,John L. Vossen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1999-07-06.

Anode structure for magnetron sputtering systems

Номер патента: US5487821A. Автор: Stephen C. Schulz,Russell J. Hill,Peter A. Sieck,John L. Vossen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20230138552A1. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US5106474A. Автор: Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard,James J. Hoffmann. Владелец: Viratec Thin Films Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: TW200946705A. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-11-16.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: DE112005001299T5. Автор: Atsushi Ota,Makoto Arai,Isao Sugiura,Shinichiro Taguchi,Noriaki Tani,Junya Kiyota. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-05-03.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: DE112005001299B4. Автор: Atsushi Ota,Makoto Arai,Isao Sugiura,Shinichiro Taguchi,Noriaki Tani,Junya Kiyota. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP5390796B2. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,聡 川上,孝明 松岡,関　　伸彰. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2014-01-15.

Magnetron sputtering device

Номер патента: WO2003041113A1. Автор: Victor Bellido-Gonzalez,Dermot Patrick Monaghan. Владелец: Dermot Patrick Monaghan. Дата публикации: 2003-05-15.

Large-area magnetron sputtering chamber with individually controlled sputtering zones

Номер патента: TW200720456A. Автор: John White,YAN Ye,Akihiro Hosokawa,Hien-Minh H Le. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-06-01.

Rotating magnetron sputtering target and corresponding magnetron sputtering device

Номер патента: US20150075981A1. Автор: Hao Kuo. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

SUPPORTING MEMBER FOR MAGNETRON SPUTTERING ANODE BAR AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20150122643A1. Автор: Xie Jinping. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

Method of Fine Tuning a Magnetron Sputtering Electrode in a Rotatable Cylindrical Magnetron Sputtering Device

Номер патента: US20150194294A1. Автор: Newcomb Richard,Bernick Mark A.. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

Magnetron element and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201820371A. Автор: 楊玉傑. Владелец: 北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2018-06-01.

Method of improving magnetic field uniformity of magnetron sputter and the magnetron sputter

Номер патента: TWI278526B. Автор: Cheng-Chung Lee,Wei-Chou Chen,Kei-Hsiung Yang,Tun-Ho Teng,Hsin-Yi Chen. Владелец: Hannstar Display Corp. Дата публикации: 2007-04-11.

Method of magnetron sputtering and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: RU2378415C2. Автор: Ацуси ОТА,Синитиро ТАГУТИ,Исао СУГИУРА,Нориаки ТАНИ,Макото АРАИ,Дзуниа КИЙОТА. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2010-01-10.

Magnetron sputtering target and magnetron sputtering system

Номер патента: US20100252427A1. Автор: shao-kai Pei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-07.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THIN FILM USING MAGNETRON SPUTTERING DEVICE

Номер патента: US20150240349A1. Автор: NIKKEL Phil,FENG Chris,CHOY John,GRANNEN Kevin J.,Yeh Tangshiun,Ionash Ivan. Владелец: Avago Technologies General IP (Singapore) Pte. Ltd.. Дата публикации: 2015-08-27.

Supporting Member for Magnetron Sputtering Anode Bar and Magnetron Sputtering Device Including the Same

Номер патента: GB2539326B. Автор: Xie Jinping. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-03.

Magnet unit and sputtering apparatus for magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5386329B2. Автор: 辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真,善勝 佐藤,重光 佐藤,敬臣 倉田. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-01-15.

Magnetron sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5461264B2. Автор: 雅夫 佐々木. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-04-02.

Magnetron cathode and magnetron sputtering apparatus comprising the same

Номер патента: US7052583B2. Автор: Tae-Wan Kim,Dong-joon Ma,Yuri Nikolaevich Tolmachev,Sergiy Yakovlevich Navala. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-05-30.

Magnetron element and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2018040408A1. Автор: 杨玉杰,王厚工,郭万国. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2018-03-08.

Magnetron cathode and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100917463B1. Автор: 김태완,톨마체프유리,마동준,나발라세르기야고블레비키. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2009-09-14.

Magnetron sputtering systems including anodic gas distribution systems

Номер патента: CA2509643A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Klaus Hartig. Дата публикации: 2004-07-22.

Magnetron sputtering device

Номер патента: EP1449234A1. Автор: Victor Bellido-Gonzalez,Dermot Patrick Monaghan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-25.

Method of enhancing the performance of a magnetron sputtering target

Номер патента: CA2089645C. Автор: Steven D. Hurwitt,Arnold J. Aronson,Charles Van Nutt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1998-05-05.

Method and apparatus for controlling magnetron sputtering apparatus having separation limit magnetic field for separating target exposed to separation discharge

Номер патента: JPS6141767A. Автор: ドナルド・エム・ミンツ. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1986-02-28.

A kind of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN208762572U. Автор: 刘洋,张伟,韩晓琳,邬英,汪振南,杨永雷,雷绍温,见东伟,刘福山. Владелец: Shanxi Miyazole Equipment Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-19.

Method for the production of magnetron-coated substrates and magnetron sputter source

Номер патента: CN101031989A. Автор: J·韦查特. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2007-09-05.

Magnet unit for magnetron sputter electrode and sputtering apparutus

Номер патента: KR101944975B1. Автор: 마코토 아라이,시게미츠 사토,타쯔노리 이소베,준야 기요타,타카오미 구라타,요시가츠 사토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2019-02-01.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND CATHODE DEVICE THEREOF

Номер патента: US20210202221A1. Автор: WANG Zhengan. Владелец: Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-07-01.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Rotating magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101166396B1. Автор: 다다히로 오미,다카아키 마츠오카,데츠야 고토. Владелец: 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠. Дата публикации: 2012-07-23.

Planar typed magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100345924B1. Автор: 남경훈,한전건,무실 진드리시. Владелец: 무실 진드리시. Дата публикации: 2002-07-27.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2591491A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin Dubs. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-05-15.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104364417A. Автор: 中村贯人,宫下哲也,五味淳,北田亨. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-02-18.

Rotating magnet arrays for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US7585399B1. Автор: Kang Song,Kwok F. Lai,Douglas B. Hayden. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-09-08.

Magnetron sputtering apparatus and thin film depositing method

Номер патента: EP0444658A2. Автор: Hideaki Yoshida,Nobuyuki Takahashi,Yasuhiko Akao,Haruyuki Kouchi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1991-09-04.

Magnetron sputtering

Номер патента: GB2377228B. Автор: Stephen Robert Burgess. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2004-06-30.

Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatuses

Номер патента: KR20200066377A. Автор: 슈우지 사이토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2020-06-09.

Integrated anode and activated reactive gas source for use in a magnetron sputtering device

Номер патента: US20120012459A1. Автор: Georg J. Ockenfuss. Владелец: JDS Uniphase Corp. Дата публикации: 2012-01-19.

Magnetron sputtering system

Номер патента: US20130319855A1. Автор: Jinlei Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-05.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: US09905401B2. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130299348A1. Автор: Wei-Cheng Ling. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: US09812296B2. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-11-07.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: EP3254296A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-12-13.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: US20140246313A1. Автор: Mark R. Erickson,Ady Hershcovitch,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: EP1939321A1. Автор: Noriaki Tani,Satoru Ishibashi,Sadayuki Ukishima,Satoru Takasawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-07-02.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: EP2772932A1. Автор: Mark Erickson,Ady Hershcovitch,Henry Poole,Arthur Custer,Nader Jamshidi. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-03.

Sputtering apparatus and method of thin film formation

Номер патента: US20100078313A1. Автор: Katsuya Yoshioka,Toshinobu Chiba. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Sputtering apparatus and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20100155228A1. Автор: Hiroshi Takano,Hideki Ueno,Shoji Takiguchi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-06-24.

Circularly symmetric, large-area, high-deposition-rate sputtering apparatus for the coating of disk substrates

Номер патента: US5232569A. Автор: Richard D. Weir,Carl W. Nelson. Владелец: Tulip Memory Systems Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20200255935A1. Автор: Hiroshi Sone,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240194462A1. Автор: Shinichi Iwasaki,Akinori Ebe,Soichi Ogawa,Yusuke Kondo,Kazuo Satoh,Yoshiharu Kakehi,Shiro Ikuhara. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Magnetron sputtering of magnetic materials in which magnets are unbalanced

Номер патента: GB2241710A. Автор: Joseph Franks. Владелец: Ion Tech Ltd. Дата публикации: 1991-09-11.

Connection of high-performance pulse discharge plasma generator, especially for magnetron sputtering

Номер патента: US12051578B2. Автор: Jan Sykora,Roman Sykora,Lubomir Caplovic,Jana Bohovicova,Marcel Mesko. Владелец: Slovenka Technicka Univerzita V Bratilasve. Дата публикации: 2024-07-30.

Sliding anode magnetron sputtering source

Номер патента: TW200510559A. Автор: Walter Haag,Pius Gruenenfelder. Владелец: Unaxis Balzers Ltd. Дата публикации: 2005-03-16.

Systems and methods for single magnetron sputtering

Номер патента: EP3189175B1. Автор: David Christie,Skip B. Larson. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2019-02-20.

Target sidewall design to reduce particle generation during magnetron sputtering

Номер патента: US20020121436A1. Автор: Karl Brown,Yoichiro Tanaka,John Forster,Marc Schweitzer,Anthony Chan,Alan Liu,Jim Thompson,James Gogh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-05.

Sputtering reaction chamber and process assembly of sputtering reaction chamber

Номер патента: US20230055006A1. Автор: Bing Li,Keke Zhao,Liren HAN,Lixin PEI,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Sputtering reaction chamber and process assembly of sputtering reaction chamber

Номер патента: US11952653B2. Автор: Bing Li,Keke Zhao,Liren HAN,Lixin PEI,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JPS5996268A. Автор: Kimio Kinoshita,Masato Sugiyama,木下　公夫,杉山　征人. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1984-06-02.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2096735A1. Автор: James J. Hofmann,Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-05-22.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: US20080317564A1. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-12-25.

Inner wall protection member for chamber and plasma procressing apparatus

Номер патента: US20030015287A1. Автор: Koichi Kazama,Kazuyoshi Haino. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Arc suppression and pulsing in high power impulse magnetron sputtering (hipims)

Номер патента: EP2102888A2. Автор: Stanislav Kadlec,Jürgen WEICHART. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2009-09-23.

Bellows coating by magnetron sputtering with kick pulse

Номер патента: EP4281597A1. Автор: Brian E. Jurczyk,Robert A. Stubbers,Ian F. HAEHNLEIN,Thomas J. Houlahan,Daniel P. Menet. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2023-11-29.

Bellows coating by magnetron sputtering with kick pulse

Номер патента: US20220230859A1. Автор: Brian E. Jurczyk,Robert A. Stubbers,Ian F. HAEHNLEIN,Daniel P. Menet,Thomas J. Houlahan, JR.. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2022-07-21.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US8808514B2. Автор: Zhenyu Xie. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-19.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2011131137A1. Автор: 谢振宇. Владелец: 北京京东方光电科技有限公司. Дата публикации: 2011-10-27.

Concentric hollow cathode magnetron sputter source

Номер патента: EP2387625A1. Автор: Dominik Schmidt,Daniel Brors,Dave Correia,Michael Hawran,Art Shulenberger. Владелец: 4D S Pty Ltd. Дата публикации: 2011-11-23.

Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180155821A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-06-07.

Arc suppression and pulsing in high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS)

Номер патента: TW200839024A. Автор: Stanislav Kadlec,Jürgen WEICHART. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2008-10-01.

Magnetron sputter device

Номер патента: US20240203715A1. Автор: Joon Woo Kim,June Seo KIM. Владелец: DAEGU GYEONGBUK INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-06-20.

Magnet structure for magnetron sputtering system, cathode electrode unit and magnetron sputtering system

Номер патента: CN101300372A. Автор: 堀崇展,米山信夫,近藤隆彦,岩崎安邦. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2008-11-05.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09812302B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2017-11-07.

Method of Fine Tuning a Magnetron Sputtering Electrode in a Rotatable Cylindrical Magnetron Sputtering Device

Номер патента: US20150194294A1. Автор: Mark A. Bernick,Richard Newcomb. Владелец: Angstrom Sciences Inc. Дата публикации: 2015-07-09.

Method of fine tuning a magnetron sputtering electrode in a rotatable cylindrical magnetron sputtering device

Номер патента: US09812304B2. Автор: Mark A. Bernick,Richard Newcomb. Владелец: Angstrom Sciences Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Magnetron-sputtering coating system and method, and display substrate

Номер патента: US09934948B2. Автор: Wenjun Zhang,Hualu Wang,Sangsoo Park,Xunze ZHANG,Xiaokun Wang,Zhaobo Wang,Lei Sha,Guanjie Cheng,Qingliang WEN,Leilei LV. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Sputter deposition source, magnetron sputter cathode, and method of depositing a material on a substrate

Номер патента: US20240301546A1. Автор: Thomas Werner ZILBAUER,Andreas Lopp. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US11901166B2. Автор: Yusuke Kikuchi,Tetsuya Miyashita,Kanto Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Magnetron sputtering device and method using the same

Номер патента: US20170044659A1. Автор: Xiang Zhou,ZHI Wang,Ben NIU,Jianming SUN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Magnetron sputtering device

Номер патента: EP4269649A1. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

High density microwave plasma generation apparatus, and magnetron sputtering deposition system using the same

Номер патента: US09506142B2. Автор: Hirotaka TOYODA,Kensuke Sasai. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2016-11-29.

Sputtering chamber shield promoting reliable plasma ignition

Номер патента: EP1094496A2. Автор: Kenny King-Tai Ngan,John C. Forster,Lisa L. Yang,Jingang Su,Nelson A. Yee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-25.

Focused magnetron sputtering system

Номер патента: WO2002064850A2. Автор: Steven Kim,Minho Sohn. Владелец: Plasmion Corporation. Дата публикации: 2002-08-22.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20240068087A1. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Target for use in magnetron sputtering of nickel for forming metallization films having consistent uniformity through life

Номер патента: US20030015420A1. Автор: Seshadri Ramaswami,Murali Abburi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

High-Power Pulsed Magnetron Sputtering Process As Well As A High-Power Electrical Energy Source

Номер патента: US20100236919A1. Автор: Jürgen Müller,Jörg Vetter,Georg Erkens,Jones Alami. Владелец: SULZER METAPLAS GMBH. Дата публикации: 2010-09-23.

System for coupling rf power into linacs and bellows coating by magnetron sputtering with kick pulse

Номер патента: US20210327694A1. Автор: Brian E. Jurczyk,Robert A. Stubbers,Ian F. HAEHNLEIN,Daniel P. Menet,Thomas J. Houlahan, JR.,Ivan A. Shchelkanov. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2021-10-21.

Magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US09580797B2. Автор: Masahiro Mita,Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate bearing assembly and magnetron sputtering device

Номер патента: US10968511B2. Автор: Biao TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-06.

System for coupling RF power into LINACs and bellows coating by magnetron sputtering with kick pulse

Номер патента: US12009192B2. Автор: Brian E. Jurczyk,Robert A. Stubbers,Ian F. HAEHNLEIN,Daniel P. Menet,Thomas J. Houlahan, JR.,Ivan A. Shchelkanov. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate bearing assembly and magnetron sputtering device

Номер патента: US20180312963A1. Автор: Biao TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Magnetron sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US20130186743A1. Автор: Shigeru Mizuno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-07-25.

Sputtering apparatus including target mounting and control

Номер патента: US09738967B2. Автор: Jeffrey L Kokoschke,Dennis M Brabender. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Sputtering apparatus and method of forming film

Номер патента: US11230760B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-01-25.

Sputtering apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09997339B2. Автор: Eiji Nakamura,Shin Imai,Yasushi Yasumatsu,Hiroyuki Toya,Shigenori Ishihara,Shintaro Suda,Yuu Fujimoto,Toshikazu Nakazawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

RF sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09960018B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09449800B2. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Sputtering apparatus and film formation method

Номер патента: EP4397782A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240063003A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Sputtering apparatus and magnet unit

Номер патента: US09761423B2. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220235450A1. Автор: Hyun Cho,Ki Woong Kim,Hyeon Woo Seo,Hee Ju SHIN,Se Chung Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-07-28.

Sputtering Apparatus and Method of Discriminating State Thereof

Номер патента: US20170283940A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-10-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9966241B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Sputtering apparatus, film formation method, and method for manufacturing product

Номер патента: US20230029343A1. Автор: Kazuya Demura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-01-26.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20090159429A1. Автор: Naoki Tsukamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-06-25.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US11742190B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Einstein Noel Abarra,Tatsuo HIRASAWA,Masato Shinada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20210222289A1. Автор: Shunsuke Sasaki,Yutaka Kokaze,Teruaki IIWAHASHI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Film forming unit for sputtering apparatus

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Shuuji Saitou. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20240162021A1. Автор: Yukitaka Yamaguchi. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Sputtering apparatus and method for thin film electrode deposition

Номер патента: US20230085216A1. Автор: Nam Wook Kang,Jeong Il LEE,Myung Soo Huh,Cheol Lae Roh,You Jong Lee,Doo Seon YU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Bias magnetic field control method, magnetic thin film deposition method,chamber, and apparatus

Номер патента: US20220228253A1. Автор: Yujie Geng,Jinguo ZHENG,Yujie Yang,Kuanmao WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

A method for reactive magnetron sputter deposition of gallium oxide thin films

Номер патента: EP4230761A1. Автор: Andris Azens,Martins Zubkins,Edgars BUTANOVS,Juris Purans. Владелец: Latvijas Universitates Cietvielu Fizikas Instituts. Дата публикации: 2023-08-23.

Magnetron sputtering gun assembly

Номер патента: US20160025871A1. Автор: Chien-Nan Hsiao,Bo-Huei Liao. Владелец: NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES. Дата публикации: 2016-01-28.

Magnetron sputtering targets

Номер патента: CA1323856C. Автор: Richard Ernest Demaray,Gary Bradford Crumley. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1993-11-02.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US10840071B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-11-17.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US11404255B2. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Sputtering apparatus and cvd mask coating method using the same

Номер патента: US20230220533A1. Автор: Sungmin Hur. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: AU2018391532B2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US20210082675A1. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: EP4398283A2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Sputtering apparatus, film deposition method, and control device

Номер патента: US09991102B2. Автор: Koji Tsunekawa,Takeo Konno,Masahiro Suenaga. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US09644260B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-09.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09410236B2. Автор: Wen-Tsai Yen,Shih-Wei Chen,Chung-Hsien Wu,Ying-Hsin WU,Jui-Fu HSUEH,Kuan-Chu CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20090166195A1. Автор: Toshiyuki Ota,Yukihiro Kobayashi,Koichi Yoshizuka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Sputtering apparatuses and methods of manufacturing a magnetic memory device using the same

Номер патента: US9934950B2. Автор: Woojin Kim,JoonMyoung LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-03.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: EP4230763A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-08-23.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: US20230374652A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-11-23.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20040216992A1. Автор: Kenji Ando,Hidehiro Kanazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-04.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US11955322B2. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20230386805A1. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Magnetron sputtering source and arrangement with adjustable secondary magnet arrangement

Номер патента: WO2009095496A1. Автор: Othmar Zueger. Владелец: OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH. Дата публикации: 2009-08-06.

Planar magnetron sputtering source producing improved coating thickness uniformity, step coverage and step coverage uniformity

Номер патента: US5320728A. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-06-14.

Gas manifold for an off-axis sputter apparatus

Номер патента: WO1996025531A1. Автор: Kirsten Elizabeth Myers,Dean Willett Face. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 1996-08-22.

Reaction chamber and semi-conductor processing device

Номер патента: US09978570B2. Автор: Peng Chen,qing She,Yanzhao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Process to deposit quantized nano layers by magnetron sputtering

Номер патента: WO2024056313A1. Автор: Silvia Schwyn Thöny,Ilias Manuel BÄERTSCHI,Manuel BASELGIA,Marietta Christina BATZER. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-03-21.

Sputter target for forming a layer of a perpendicular recording medium by magnetron sputtering

Номер патента: US20170062194A1. Автор: Amarendra Kumar Singh,Kazunori Koyama,Ajeesh Mavolil SAHADEVAN. Владелец: SHOWA DENKO HD SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Corrosion resistant and low embrittlement aluminum alloy coatings on steel by magnetron sputtering

Номер патента: US12134817B2. Автор: Stephen P. Gaydos,Vijaykumar S. Ijeri,Om Prakash,Suman K. Mishra,Raghuvir Singh,Sharma Paswan,Lokesh C. Pathak. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-11-05.

Corrosion resistant and low embrittlement aluminum alloy coatings on steel by magnetron sputtering

Номер патента: US10577686B2. Автор: Stephen P. Gaydos,Vijaykumar S. Ijeri,Om Prakash,Suman K. Mishra,Raghuvir Singh,Sharma Paswan,Lokesh C. Pathak. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2020-03-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140353150A1. Автор: Jae-Bum Park,Bo-Hwan Park,Eui-Jung Kang. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: US20240344197A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-17.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Process chamber, method of preparing a process chamber, and method of operating a process chamber

Номер патента: US09613819B2. Автор: MING-CHING Chang,yu chao Lin,Chao-Cheng Chen,Jui-Ming Chen,Yuan-Sheng Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230223280A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Gas intake device of magnetron sputtering vacuum chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09899192B2. Автор: Wenbo Sun,Qiping ZHANG. Владелец: Hefei BOE Display Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Magnetron sputtering cathode assembly and magnet assembly therefor

Номер патента: CA1246492A. Автор: Howard D. Kisner. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 1988-12-13.

Magnetron sputtering source and method of use thereof

Номер патента: US6540883B1. Автор: Walter Haag,Pius Gruenenfelder,Hans Hirscher,Walter Albertin. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2003-04-01.

Magnetron sputtering system with tubular sputter cathode and method for controlling a layer thickness

Номер патента: EP4270444A1. Автор: Harro Hagedorn,Jens-Peter Biethan,Martin STAPP. Владелец: Buehler Alzenau GmbH. Дата публикации: 2023-11-01.

Magnetron sputtering system with tubular sputter cathode and method for controlling a layer thickness

Номер патента: WO2023209083A1. Автор: Harro Hagedorn,Jens-Peter Biethan,Martin STAPP. Владелец: BÜHLER ALZENAU GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6432285B1. Автор: William P. Kastanis,M. Elizabeth Wescott. Владелец: Cierra Photonics Inc. Дата публикации: 2002-08-13.

Sputtering gap measurement apparatus and magnetron sputtering device

Номер патента: US20190057850A1. Автор: Yingnan Kang. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Inverted field circular magnetron sputtering device

Номер патента: US6146509A. Автор: Steven Aragon. Владелец: Scivac Inc. Дата публикации: 2000-11-14.

Magnetron sputtering etching apparatus

Номер патента: US4761219A. Автор: Fumihiko Sato,Naoto Sasaki. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1988-08-02.

Sputter chamber pressure gauge with vibration absorber

Номер патента: US09581510B1. Автор: Fadzli B. Idris,Ganesen Purushothman. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Cathode sputtering apparatus

Номер патента: US3878085A. Автор: John F Corbani. Владелец: Sloan Technology Corp. Дата публикации: 1975-04-15.

Sputtering apparatus, thin film formation apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: SG161156A1. Автор: Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4356073A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1982-10-26.

Magnetron plate, magnetron apparatus and magnetron sputtering device

Номер патента: US20180190477A1. Автор: Zhongyuan Sun,Xiaohu Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Magnetron sputtering coating device, a nano-multilayer film, and the preparation method thereof

Номер патента: US09799498B2. Автор: Gang Wang,Lingling Li,Gong JIN,Jiangping TU,Meina Wang. Владелец: Zhongao Huicheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Magnetron sputtering coating device, a nano-multilayer film, and the preparation method thereof

Номер патента: US9127347B2. Автор: Gang Wang,Lingling Li,Gong JIN,Jiangping TU,Meina Wang. Владелец: Zhongao Huicheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2015-09-08.

Magnetron sputtering coating device, a nano-multilayer film, and the preparation method thereof

Номер патента: US20150232981A1. Автор: Gang Wang,Lingling Li,Gong JIN,Jiangping TU,Meina Wang. Владелец: Zhongao Huicheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: US20150211109A1. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-07-30.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: US09435024B2. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-06.

Manufacturing method for target for magnetron sputtering

Номер патента: US20150214017A1. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-07-30.

Magnetron sputtering coating device, a nano-multilayer film, and the preparation method thereof

Номер патента: US9657390B2. Автор: Gang Wang,Lingling Li,Gong JIN,Jiangping TU,Meina Wang. Владелец: Zhongao Huicheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Sputtering Apparatus and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same

Номер патента: US20140151216A1. Автор: Hyung-Jun Kim,Sang-Woo Sohn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Magnet structure body and cathode unit for magnetron sputtering apparatus and the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200724703A. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Takanobu Hori,Yasukuni Iwasaki. Владелец: Shinmaywa Ind Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

System and method for balancing consumption of targets in pulsed dual magnetron sputtering (DMS) processes

Номер патента: US09711335B2. Автор: David Christie. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Asymmetric rotating sidewall magnet ring for magnetron sputtering

Номер патента: US20040020768A1. Автор: Wei Wang,Praburam Gopalraja. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

System and method for balancing consumption of targets in pulsed dual magnetron sputtering (dms) processes

Номер патента: WO2015009864A1. Автор: David Christie. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2015-01-22.

System and method for balancing consumption of targets in pulsed dual magnetron sputtering (dms) processes

Номер патента: US20150021167A1. Автор: David Christie. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Method for balancing consumption of targets in pulsed dual magnetron sputtering (dms) processes

Номер патента: US20170271133A1. Автор: David Christie. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

System and method for balancing consumption of targets in pulsed dual magnetron sputtering (dms) processes

Номер патента: EP3022328A1. Автор: David Christie. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2016-05-25.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236B1. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr. LÜMKEMANN. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Alternating current (ac) dual magnetron sputtering

Номер патента: WO2022066839A2. Автор: Douglas R. Pelleymounter,Paul Romanus,Matthew James Lacy. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2022-03-31.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236C0. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr Lümkemann. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Counter based time compensation to reduce process shifting in reactive magnetron sputtering reactor

Номер патента: US20160222503A1. Автор: Zhenbin Ge,Adolph Miller Allen,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-04.

Magnetron sputtering device, magnetron sputtering device control method and film forming method

Номер патента: TWI550118B. Автор: Tokuo Yoshida. Владелец: Sharp Kk. Дата публикации: 2016-09-21.

Cathode unit for magnetron sputtering device and magnetron sputtering device

Номер патента: KR20230038770A. Автор: 마코토 아라이,토시야 아오야기,사토루 타카사와. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2023-03-21.

Apparatus for cylindrical magnetron sputtering

Номер патента: US09748082B2. Автор: John R. German,Klaus H. W. Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-29.

MAGNETRON AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE

Номер патента: US20170011894A1. Автор: Li Qiang,DING Peijun,Yang Yujie,QIU Guoqing,BAI Zhimin,WANG Hougong,LV Feng. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-01-12.

Magnetron and magnetron sputtering device

Номер патента: KR101824201B1. Автор: 페이준 딩,치앙 리,호우공 왕,펑 뤼,위지에 양,구어칭 치우,지민 바이. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2018-01-31.

Magnetron and magnetron sputtering device

Номер патента: SG11201606086YA. Автор: QIANG LI,Peijun Ding,Hougong Wang,Feng LV,Guoqing Qiu,Yujie Yang,Zhimin Bai. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Magnetron sputtering source, sputter-coating installation, and method for coating a substrate

Номер патента: KR100966671B1. Автор: 외르그 크렘펠-헤세. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2010-06-29.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101356918B1. Автор: 시게루 미즈노,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-01-28.

Magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing thin film

Номер патента: US8663430B2. Автор: Seishi Horiguchi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200902742A. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Univ Tohoku Nat Univ Corp. Дата публикации: 2009-01-16.

Design supporting method, system, and program of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20080185285A1. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Tetsuyuki Kubota. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-08-07.

Design supporting method, system, and program of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TWI369411B. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Tetsuyuki Kubota. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-08-01.

Ring cathode for use in a magnetron sputtering device

Номер патента: HK1162619A1. Автор: ．歐肯法斯 喬治．. Владелец: 尤尼弗思公司. Дата публикации: 2012-08-31.

Magnetron sputtering apparatus for single substrate processing

Номер патента: TW520403B. Автор: Jiro Ikeda,Kyoji Kinokiri. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2003-02-11.

Magnetron sputtering device

Номер патента: EP4269649A4. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Ring cathode for use in a magnetron sputtering device

Номер патента: EP2378538B1. Автор: Georg J. Ockenfuss. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2019-07-24.

Method of manufacturing a thin film transistor using multiple sputtering chambers

Номер патента: US6177302B1. Автор: Shunpei Yamazaki,Takeshi Fukada,Takashi Inushima,Hongyong Zhang. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-23.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US11834738B2. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US20210079517A1. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-18.

Vacuum chamber and arrangement for atomic layer deposition

Номер патента: US20240026535A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-01-25.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240363390A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024226125A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240234175A9. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US12094936B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-17.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Process chamber guide, process chamber, and method for guiding a substrate carrier in a process position

Номер патента: US20210363632A1. Автор: Stefan Reber,Kai Schillinger,Benjamin Reichhart. Владелец: NexWafe GmbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Load lock chambers and related methods and structures for batch cooling or heating

Номер патента: US20240120220A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Chambers and related methods and structures for batch cooling or heating

Номер патента: WO2024076390A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: WO2024085915A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240136207A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US20240030296A1. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US11798999B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-24.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20040074515A1. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-04-22.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US7311109B2. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-25.

Vacuum processing chamber and method of processing a semiconductor work piece

Номер патента: US20070039165A1. Автор: Yaomin Xia. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Asia. Дата публикации: 2007-02-22.

Dual phase cleaning chambers and assemblies comprising the same

Номер патента: WO2013012693A1. Автор: Hong Shih,Armen Avoyan,Cliff La Croix. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-01-24.

Dual phase cleaning chambers and assemblies comprising the same

Номер патента: US09748078B2. Автор: Hong Shih,Armen Avoyan,Cliff La Croix. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Process Chamber And Process Kits For Advanced Packaging

Номер патента: US20230307211A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Discharge chambers and ionization devices, methods and systems using them

Номер патента: AU2019269175B2. Автор: Lisa Cousins,Gholamreza Javahery,Charles Jolliffe,Mehrnaz Sarrafzadeh. Владелец: Perkinelmer Scient Canada Ulc. Дата публикации: 2023-09-28.

Discharge chambers and ionization devices, methods and systems using them

Номер патента: EP3794911A1. Автор: Lisa Cousins,Gholamreza Javahery,Charles Jolliffe,Mehrnaz Sarrafzadeh. Владелец: PerkinElmer Health Sciences Canada Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Cleaning method for plasma etching chamber, and application thereof

Номер патента: EP4403270A1. Автор: FENG LIANG,Jiahe LI,Xuedong Li,Xiaobo Liu,Kaidong Xu,Yuxin Yang,Taiyan PENG. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Process chamber and semiconductor process device

Номер патента: US20230402265A1. Автор: Gang Wei,Yancheng LU,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Dual Phase Cleaning Chambers and Assemblies Comprising The Same

Номер патента: US20130019907A1. Автор: Hong Shih,Armen Avoyan,Cliff La Croix. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Dual phase cleaning chambers and assemblies comprising the same

Номер патента: US20160141153A1. Автор: Hong Shih,Armen Avoyan,Cliff La Croix. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-19.

Methods of correlating zones of processing chambers, and related systems and methods

Номер патента: WO2024091305A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Chandra MOHAPATRA,Erika R. Warrick. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Process chamber and process kits for advanced packaging

Номер патента: WO2023183571A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, MAGNETRON SPUTTERING METHOD, AND NON-TRANSITORY COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20150136596A1. Автор: GOMI Atsushi,Miyashita Tetsuya,NAKAMURA Kanto,KITADA Toru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-05-21.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150187549A1. Автор: GOMI Atsushi,Miyashita Tetsuya,NAKAMURA Kanto,KITADA Toru. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101002204B1. Автор: 황상수. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2010-12-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20040050690A1. Автор: Stephen Burgess,Gordon Green,Robert Trowell,Anthony Barrass,Robert Teagle,Ian Moncrieff. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

Magnetron sputtering electrode and sputtering device

Номер патента: TW201127978A. Автор: Makoto Arai,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Youhei OONO,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-08-16.

Magnetron sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US09502224B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-11-22.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: MY165449A. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2018-03-22.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20140306144A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-16.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20130175166A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2013-07-11.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9928996B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2018-03-27.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9053910B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-06-09.

Method and apparatus for linear magnetron sputtering

Номер патента: CA2108673A1. Автор: John Marshall. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-10-20.

Method and apparatus for linear magnetron sputtering

Номер патента: US5298137A. Автор: John Marshall, III. Владелец: Surface Solutions Inc. Дата публикации: 1994-03-29.

Magnetron Sputtering Apparatus for Thick Layer

Номер патента: KR101100366B1. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 코리아 인스트루먼트. Дата публикации: 2011-12-30.

Magnet unit and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US9911526B2. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Rotating magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2010131521A1. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,孝明 松岡. Владелец: 国立大学法人東北大学. Дата публикации: 2010-11-18.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160203961A1. Автор: KIM Jong Yun. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-14.

Magnetron sputtering apparatus for thick layer

Номер патента: KR20100117236A. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 케이아이자이맥스. Дата публикации: 2010-11-03.

Non-magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101323204B1. Автор: 허윤성,고정곤,윤훈만. Владелец: (주)이루자. Дата публикации: 2013-10-30.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD USING MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20180269043A1. Автор: Nagase Toshihiko,Ueda Koji,YAMAKAWA Koji,EEH Youngmin,SAWADA Kazuya. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2018-09-20.

Pulsed dc source for high power impulse magnetron sputtering physical vapor deposition of dielectric films and methods of application

Номер патента: WO2019089190A1. Автор: Vaibhav Soni,Adolph Miller Allen,Zhong Qiang Hua,Viachslav Babayan,Vanessa FAUNE,Bhargav Citla,Ronald D. Dedore,Menglu Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-05-09.

Sputter target for forming a layer of a perpendicular recording medium by magnetron sputtering

Номер патента: SG10201506916UA. Автор: Amarendra Kumar Singh,Kazunori Koyama,Ajeesh Mavolil SAHADEVAN. Владелец: SHOWA DENKO HD SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-04-27.

Magnetron sputter source

Номер патента: US20030136671A1. Автор: Martin Dubs,Siegfried Krassnitzer,Pius Grünenfelder,Walter Haag,Stanislav Kadlec,Bernd Heinz,Thomas Eisenhammer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Method for manufacturing a workpiece using a magnetron sputter source

Номер патента: US20040149565A1. Автор: Martin Dubs,Siegfried Krassnitzer,Pius Grünenfelder,Walter Haag,Stanislav Kadlec,Bernd Heinz,Thomas Eisenhammer. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2004-08-05.

Hollow cathode enhanced magnetron sputter device

Номер патента: US4588490A. Автор: Stephen M. Rossnagel,Jerome J. Cuomo,Harold R. Kaufman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1986-05-13.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2076916B1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: IHI Hauzer Techno Coating BV. Дата публикации: 2014-12-10.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2009052874A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2009-04-30.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2008049634A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2008-05-02.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20150235817A1. Автор: Goto Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: GB9919361D0. Автор: . Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1999-10-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JPS55100981A. Автор: Takeshi Nakamura,Koji Nishiyama,Suehiro Kato. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1980-08-01.

Focusing magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0127272A3. Автор: Steven D. Hurwitt,Walter H. Class,Robert G. Hieronymi. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1987-01-07.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200626739A. Автор: Israel Wagner. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2006-08-01.

SPUTTERING GAP MEASUREMENT APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE

Номер патента: US20190057850A1. Автор: Kang Yingnan. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

SPUTTER TARGET FOR FORMING A LAYER OF A PERPENDICULAR RECORDING MEDIUM BY MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20170062194A1. Автор: Singh Amarendra Kumar,SAHADEVAN Ajeesh Mavolil,KOYAMA Kazunori. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2009209386A. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Nobuyoshi Yamaoka,明彦 藤▲崎▼,伸嘉 山岡,篤史 古屋. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0634500B1. Автор: Peter A. Sieck,Milan R. Kirs,Terry A. Trumbly. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1998-05-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0724025B1. Автор: Peter A. Sieck,James G. Rietzel,Norman E. Allen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 2002-04-10.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2008934A1. Автор: Yoji Arita. Владелец: Mitsubishi Kasei Corporation. Дата публикации: 1990-07-30.

Magnetron sputtering apparatus with auxiliary magnetic pole

Номер патента: DE19939040A1. Автор: Toshimitsu Kohara,Koichiro Akari. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2000-03-02.

Cooling system for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6641701B1. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-04.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2202801A1. Автор: Yoji Arita. Владелец: Mitsubishi Kasei Corporation. Дата публикации: 1990-07-30.

Ceramic rotatable magnetron sputtering cathode target and process for its production

Номер патента: US5354446A. Автор: Akira Mitsui,Atsushi Hayashi,Otojiro Kida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1994-10-11.

Apparatus for supplying gas including an ion chamber and a gas supply unit connected to the ion chamber

Номер патента: US12030775B2. Автор: Sang Jin Lee,Young Kwon Kim,Jonghyun Lee,Ungi BAK,Ui Yong JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-09.

High power impulse magnetron sputtering method providing enhanced ionization of the sputtered particles and apparatus for its implementation

Номер патента: KR20140027167A. Автор: 마르쿠스 레히트하레르. Владелец: 오를리콘 트레이딩 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐. Дата публикации: 2014-03-06.

Target for magnetron sputtering and manufacturing method therefor

Номер патента: SG11201502542XA. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2015-05-28.

Magnetron sputtering system

Номер патента: RU2748443C1. Автор: Иван Александрович Корж. Владелец: Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП"). Дата публикации: 2021-05-25.

High power impulse magnetron sputtering process to achieve a high density high SP3 containing layer

Номер патента: US09695503B2. Автор: Yongmei Chen,Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Quartz crystal sensor coated with gold-aluminum by magnetron sputtering

Номер патента: US20230323524A1. Автор: Gonghe Xiao. Владелец: Cantech Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Magnetron sputter electrode and sputtering apparutus using the magnetron sputter electrode

Номер патента: CN1978698A. Автор: 谷典明,清田淳也,李尚浩,中村肇,小松孝,新井真. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-06-13.

Magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP4762187B2. Автор: 修 山崎,繁樹 松中. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US09748081B2. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Vapor chamber and method for manufacturing same

Номер патента: EP4401522A1. Автор: Kang Hyun Lee,Hyung Seok Kim,Hyung Gun IM. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Remote Chamber And Dart-MS System Using Same

Номер патента: US20240304432A1. Автор: Young Hee Lim,Hyun Sik You,Yongjin Bae. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Device for detecting neutrons with ionization chamber and with optical transduction comprising a plurality of optical cavities, each accommodating the free end of an optical fiber

Номер патента: US12013504B2. Автор: Christian Jammes,Maxime LAMOTTE,Grégoire DE IZARRA. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2024-06-18.

Discharge chamber and method of manufacturing the same

Номер патента: US5570104A. Автор: Masatake Hayashi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1996-10-29.

Method for cleaning elements in vacuum chamber and apparatus for processing substrates

Номер патента: US20080245387A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya,Hiroshi Nagaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-10-09.

Pressure adjustment apparatus for controlling pressure in chamber and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20220208562A1. Автор: Min Cheol Kim,Su Chul PARK,Eui Cheol HONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Remote chamber and dart-ms system using same

Номер патента: EP4276881A1. Автор: Young Hee Lim,Hyun Sik You,Yongjin Bae. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Vapor chamber and method of producing the same

Номер патента: US20240210119A1. Автор: Kang Hyun Lee,Hyung Seok Kim,Hyung Gun IM. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Pressure control valve assembly of plasma processing chamber and rapid alternating process

Номер патента: WO2013070416A1. Автор: Brian McMillin,Camelia Rusu,Mirzafer Abatchev. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-16.

High-voltage capacitor, high-voltage capacitor device and magnetron

Номер патента: MY134737A. Автор: Tsukasa Sato,Hisashi Tanaka,Isao Fujiwara,Ryo Kudo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-12-31.

High-voltage capacitor, hight-voltage capacitor device and magnetron

Номер патента: US20050168912A1. Автор: Tsukasa Sato,Hisashi Tanaka,Isao Fujiwara,Ryo Kudo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-08-04.

GAS INTAKE DEVICE OF MAGNETRON SPUTTERING VACUUM CHAMBER AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160196956A1. Автор: Sun Wenbo,ZHANG Qiping. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

Method for manufacturing resistive films by magnetron sputtering

Номер патента: RU2658310C1. Автор: Андрей Викторович Мороз,Елена Андреевна Рыжова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2018-06-20.

Discharge chamber and discharge unit with such chamber

Номер патента: RU2661356C1. Автор: Олег Иванович Громов. Владелец: Скальный Владимир Анатольевич. Дата публикации: 2018-07-16.

Vapor chamber and supporting column securement structure thereof

Номер патента: US20240060724A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: US12130085B2. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method and apparatus for making heat-dissipation device having vacuum chamber and working fluid therein

Номер патента: US20070062037A1. Автор: Chuen-Shu Hou,Tay-Jian Liu,Chao-Nien Tung,Cheng-Chi Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber

Номер патента: US10606288B2. Автор: EMMANUEL Vyers,Mie Kimura. Владелец: Inovita Pte Ltd. Дата публикации: 2020-03-31.

Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber

Номер патента: US20190094892A1. Автор: EMMANUEL Vyers,Mie Kimura. Владелец: Inovita Pte Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Circuit breakers, arc expansion chambers, and operating methods

Номер патента: US09865418B2. Автор: Guang Yang. Владелец: Siemens Industry Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Evaporating concave-convex platform structure of vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240155810A1. Автор: Chih-Wei Chen,Pang-Hung Liao. Владелец: Jws Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Arc chamber and direct-current relay comprising same

Номер патента: EP4439614A1. Автор: Jin Hee Park,Ha Su KIM. Владелец: LS Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Arc chamber and direct-current relay comprising same

Номер патента: US20240371587A1. Автор: Jin Hee Park,Ha Su KIM. Владелец: LS Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Modular vapor chamber and connection of segments of modular vapor chamber

Номер патента: US20230020484A1. Автор: Jeff KU,Arnab Sen,Samarth Alva,Feroze KHAN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-01-19.

Vapor chamber and means of attachment

Номер патента: EP3842725A1. Автор: Christopher M. Moore,Gustavo Fricke,Mark Carbone,Kathiravan D,Prakash Kurma Raju,Vivek Paranjape,Juha Tapani Paavola,Hari Shanker Thakur,Ritu Bawa,Mikko Antero Makinen,Nehakausar Shaikh Ramjan Pinjari. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-06-30.

Cooling unit, processing chamber, part in the processing chamber, and cooling method

Номер патента: US20120204576A1. Автор: Sumie Nagaseki,Kazuyoshi Matsuzaki,Junji Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-16.

Circuit breakers, arc expansion chambers, and operating methods

Номер патента: CA2950649C. Автор: Yang Guang. Владелец: Siemens Industry Inc. Дата публикации: 2019-05-07.

Transport chamber and method for making same

Номер патента: US6216328B1. Автор: Trace L. Boyd,Eric A. Terbeek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-04-17.

Gasoline internal combustion engine, with a combustion pre-chamber and two spark plugs

Номер патента: US10612454B2. Автор: Gianluca Pivetti,Fabio Bedogni,Ettore Musu,Stefano MAGISTRALI,Davide MAZZONI,Paolo ZOLESI. Владелец: Maserati SpA. Дата публикации: 2020-04-07.

Device for adjusting wafer, reaction chamber, and method for adjusting wafer

Номер патента: US11892778B2. Автор: Xing Zhang,Congjun Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: EP4199670A1. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: US20230366632A1. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Integrated vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200355441A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Apparatus, transfer method, chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: US20230251305A1. Автор: Teck Huat TAN,Chun Hong LOW. Владелец: MSV Systems and Services Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Vapor chamber and assembly method thereof

Номер патента: US11997828B2. Автор: Shu-Cheng Yang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Elevatable chamber and method for operating same

Номер патента: EP4372903A1. Автор: Su Ho Lee. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Apparatus, transfer method, chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: US11982706B2. Автор: Teck Huat TAN,Chun Hong LOW. Владелец: MSV Systems and Services Pte Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Apparatus, transfer method, chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: EP4042472A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: MSV Systems and Services Pte Ltd. Дата публикации: 2022-08-17.

Apparatus and method for burn-in board alignment and sealing between chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: US20240053397A1. Автор: Teck Huat TAN,Chun Hong LOW. Владелец: MSV Systems and Services Pte Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Apparatus and method for burn-in board alignment and sealing between chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: EP4356418A1. Автор: Teck Huat TAN,Chun Hong LOW. Владелец: MSV Systems and Services Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-24.

Apparatus and method for burn-in board alignment and sealing between chamber and frame for semiconductor burn-in process

Номер патента: WO2022146237A1. Автор: Teck Huat TAN,Chun Hong LOW. Владелец: Msv Systems & Services Pte Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Vapor chamber and assembly method thereof

Номер патента: US20230209777A1. Автор: Shu-Cheng Yang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Vapor chamber and assembly method thereof

Номер патента: US20210144886A1. Автор: Shu-Cheng Yang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2021-05-13.

Optical system for use with a vacuum chamber and associated method

Номер патента: EP4242714A3. Автор: Michael R. Lange,Christopher A. Corey,Abigail S. Nunez. Владелец: Eagle Technology LLC. Дата публикации: 2023-10-11.

Optical system for use with a vacuum chamber and associated method

Номер патента: EP4242714A2. Автор: Michael R. Lange,Christopher A. Corey,Abigail S. Nunez. Владелец: Eagle Technology LLC. Дата публикации: 2023-09-13.

Anechoic chamber and wave absorber

Номер патента: US5510792A. Автор: Yasushi Ikeda,Nobuyuki Ono,Yoshihisa Hayashi,Atsushi Kisuki. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 1996-04-23.

Combination Vacuum And Over-Pressure Process Chamber And Methods Related Thereto

Номер патента: US20200234986A1. Автор: Craig Walter McCOY,William Moffat. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2020-07-23.

Electronic apparatus provided with battery chamber and image pickup apparatus including electronic apparatus

Номер патента: US20200006725A1. Автор: Shogo Iwasaki,Kyouhei SUZUKI. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-01-02.

Vapor chamber and means of attachment

Номер патента: US20200132391A1. Автор: Christopher M. Moore,Gustavo Fricke,Mark Carbone,Kathiravan D,Prakash Kurma Raju,Vivek Paranjape,Juha Tapani Paavola,Hari Shanker Thakur,Ritu Bawa,Mikko Antero Makinen,Nehakausar Shaikh Ramjan Pinjari. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Cooler with two substantially parallel flow chambers and three substantially parallel plates

Номер патента: US20240003639A1. Автор: Florian Bieregger,David Rochholz,Igor Kindt. Владелец: Hanon Systems Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Gas-type circuit breaker comprising pressure generating arc chamber and auxiliary electromagnetic arc control means

Номер патента: CA1090855A. Автор: Ekkehard Schade,Stanislaus Ruffieux. Владелец: BBC Brown Boveri AG Switzerland. Дата публикации: 1980-12-02.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20110114473A1. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Carousel-type unit for multi-layered coatings magnetron sputtering and method of equal thickness nano-coating magnetron sputtering

Номер патента: RU2606363C2. Автор: Сергей Борисович Одиноков,Гайк Рафаэлович Сагателян,Михаил Сергеевич Ковалев,Алексей Станиславович Кузнецов,Екатерина Андреевна Дроздова,Андрей Владимирович Шишлов,Павел Сергеевич Демидов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2017-01-10.

Magnetron sputtering device

Номер патента: US20140183039A1. Автор: Chun-Jie Zhang. Владелец: Fih Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Magnetron sputtering method and apparatus

Номер патента: CA2362146C. Автор: Gennady Yumshtyk,Michael Ioumchtyk. Владелец: PARADIGM SHIFT TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2008-02-12.

A production method combining cathode arc method and magnetron sputtering method to form an antibacterial film on the surface of an object

Номер патента: CA2784264C. Автор: Ming-Hsien Chao. Владелец: Ever Brite Tech Products Inc. Дата публикации: 2016-03-29.

Magnetron sputtering scanning method for modifying silicon carbide optical reflector surface and improving surface profile

Номер патента: US20200270745A1. Автор: Meng HUANG,Jie TIAN,Jinfeng Wang,Yeru Wang. Владелец: Nanjing Institute Of Astronomical Optics Technology National Astorn. Дата публикации: 2020-08-27.

DC magnetron sputtering method and apparatus

Номер патента: US5693197A. Автор: Tadashi Shinohara,Brij Bihari Lal,Allen J. Bourez. Владелец: HMT Technology Corp. Дата публикации: 1997-12-02.

Sputtering apparatus and manufacturing apparatus for liquid crystal device

Номер патента: US20100000859A1. Автор: Shinichi Fukada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-01-07.

Method and apparatus for cleaning a target of a sputtering apparatus

Номер патента: US20070023276A1. Автор: Jeffrey Reiter. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2007-02-01.

Cathode unit for magnetron sputtering device, and magnetron sputtering device

Номер патента: WO2022158034A1. Автор: 辰徳 磯部,僚也 北沢,弘敏 阪上. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2022-07-28.

HIGH DENSITY MICROWAVE PLASMA GENERATION APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20130270110A1. Автор: TOYODA Hirotaka,Sasai Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

Method for manufacturing cathodes for magnetron sputtering installations made of refractory metals

Номер патента: RU2763719C1. Автор: Алексей Аркадьевич Фёдоров,Сергей Валерьевич Петроченко,Николай Владимирович Бобков,Юлия Олеговна Бредгауэр,Антон Сергеевич Демин,Денис Андреевич Полонянкин,Александр Иосифович Блесман. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ). Дата публикации: 2021-12-30.

Method for making Ni-Si magnetron sputtering targets and targets made thereby

Номер патента: US20020144902A1. Автор: Eugene Ivanvov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Magnetron sputtered boron films and TI/B multilayer structures

Номер патента: US5203977A. Автор: Daniel M. Makowiecki,Alan F. Jankowski. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1993-04-20.

Sputtering apparatus for coating cylinders

Номер патента: GB2041984A. Автор: . Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1980-09-17.

Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber

Номер патента: CA1066663A. Автор: Herbert Von Hartel. Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1979-11-20.

Inflator and inflation method of vacuum atmosphere conversion chamber, and vacuum sputtering equipment

Номер патента: US10858731B2. Автор: Qiuping Huang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-08.

Inflator and inflation method of vacuum atmosphere conversion chamber, and vacuum sputtering equipment

Номер патента: US20200087781A1. Автор: Qiuping Huang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20110266146A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170137932A1. Автор: Guangcai Yuan. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Supported plasma sputtering apparatus for high deposition rate over large area

Номер патента: US4038171A. Автор: Ronald W. Moss,Edwin D. McClanahan, Jr.,Nils Laegreid. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 1977-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4290876A. Автор: Takeshi Nakamura,Hiroshi Nishiyama,Kenji Ando,Suehiro Kato. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1981-09-22.

Multitarget sequential sputtering apparatus

Номер патента: US3864239A. Автор: James C Administrator Fletcher,Rindge Shima. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1975-02-04.

A sputtering apparatus having enhanced adhesivity of particles and a manufacturing method thereof

Номер патента: WO2004034450A1. Автор: Joo Sik Yoon. Владелец: TM TECH CO., LTD.. Дата публикации: 2004-04-22.

Sputtering apparatus and method for forming coating film by sputtering

Номер патента: US20090162618A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-25.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20090127109A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Tamayo Hiroki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Magnetic head manufacturing method using sputtering apparatus

Номер патента: US5718812A. Автор: Satoshi Takaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-02-17.

Organic substrate having optical layers deposited by magnetron sputtering and method for preparing it

Номер патента: WO1999049097A1. Автор: Volker Kirchhoff,Gerhard Keller,Klaus Goedicke,Richard Bosmans,Pascal Comble,Jöm-Steffen Liebig. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 1999-09-30.

Reaction chamber and semiconductor equipment

Номер патента: US20240368803A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Sealed chamber and plant (variants) for coating of items by liquid coating product

Номер патента: RU2098196C1. Автор: Fr],Дело Жозе. Владелец: Дело Просесс. Дата публикации: 1997-12-10.

Methods of correlating zones of processing chambers, and related systems and methods

Номер патента: US20240141498A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Chandra MOHAPATRA,Erika R. Warrick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240254627A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024158602A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Manufacturing apparatus for a group-III nitride crystal comprising a raw material chamber and a nurturing chamber in which a group III-element oxide gas and a nitrogen element-containing gas react to produce a group-III nitride crystal on a seed substrate

Номер патента: US11879184B2. Автор: Yusuke Mori,Masashi Yoshimura,Masayuki Imanishi,Masayuki Hoteida,Shunichi Matsuno,Junichi TAKINO,Shigeyoshi USAMI. Владелец: Panasonic Holdings Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4375395A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Metal part for process chamber and method of forming thin film layer of metal part for process chamber

Номер патента: US20240052516A1. Автор: Bum Mo Ahn. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Graphene coated chamber and fluid processing

Номер патента: US11897237B2. Автор: Ezekiel Kruglick. Владелец: Pepsico Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Vapor chamber and electronic device

Номер патента: EP4151944A1. Автор: Jian Shi,Jie Yang,Zhen Sun,Yongfu Sun. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-22.

Method and device for calibration of colours in chamber and/or display design, and for correction of digital image colour defects

Номер патента: RU2369035C2. Автор: Петри ПИИРАЙНЕН. Владелец: Софтколор Ой. Дата публикации: 2009-09-27.

Humidification chamber and apparatus and systems including or configured to include said chamber

Номер патента: US20220280736A1. Автор: Monika BAUMANN,Callum James Thomas SPENCE,Thomas Heinrich Barnes,Bernard Tsz Lun Ip,Richard John Boyes,Christian Francis FISCHER,Gareth Thomas McDermott,Zane Paul GELL,Vincent VERDOOLD,Zach Jonathan WARNER,Rachael GLAVES,Karan DEVA,Hannah Maree MATTHEWS. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240302107A1. Автор: Xuemei Wang,Jen-Chih CHENG,Dingguo ZHOU. Владелец: Cooler Master Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Humidification chamber and apparatus and systems including or configured to include said chamber

Номер патента: EP4445937A2. Автор: Monika BAUMANN,Callum James Thomas SPENCE,Thomas Heinrich Barnes,Bernard Tsz Lun Ip,Richard John Boyes,Christian Francis FISCHER,Gareth Thomas McDermott,Zane Paul GELL,Vincent VERDOOLD,Zach Jonathan WARNER,Rachael GLAVES,Karan DEVA,Hannah Maree MATTHEWS. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Chamber and accessory to chamber

Номер патента: RU2602404C2. Автор: Адзуса СУГАВАРА,Такаси Хасегава,Хироси КИКУТИ,Тацуюки ТОКУНАГА,Тецуя НИСИО,Есихико КОННО. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2016-11-20.

Thick-membrane hybrid integrated heating device for micro-atomic gas chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: NL2030891B1. Автор: Zhang Yanjun. Владелец: Univ North China. Дата публикации: 2023-03-10.

Vapor chamber and method of manufacturing the same

Номер патента: US20140076995A1. Автор: Chin-Wen Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-03-20.

Microphone with rounded magnet motor assembly, backwave chamber, and phantom powered JFET circuit

Номер патента: US9888315B1. Автор: Rodger Cloud,Stephen Sank. Владелец: Cloud Microphones LLC. Дата публикации: 2018-02-06.

Microphone with rounded magnet motor assembly, backwave chamber, and phantom powered JFET circuit

Номер патента: US9167327B1. Автор: Rodger Cloud,Stephen Sank. Владелец: Cloud Microphones Inc. Дата публикации: 2015-10-20.

Ribbon microphone with rounded magnet motor assembly, backwave chamber, and phantom powered JFET circuit

Номер патента: US8948422B1. Автор: Rodger Cloud,Stephen Sank. Владелец: Cloud Microphones Inc. Дата публикации: 2015-02-03.

Microphone with rounded magnet motor assembly, backwave chamber, and phantom powered JFET circuit

Номер патента: US09888315B1. Автор: Rodger Cloud,Stephen Sank. Владелец: Cloud Microphones LLC. Дата публикации: 2018-02-06.

Designed electromagnetic wave suppressor, construction material equipped with same, electromagnetic wave suppression chamber, and system

Номер патента: EP4250891A1. Автор: Takeshi Ikeda,Hiroyoshi NISHIYAMA,Junya Tanabe,Ryo Shoda,Miho Imai. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2023-09-27.

Anechoic Chamber and Signal Test System Containing the Same

Номер патента: US20200132719A1. Автор: Chao-Hung Kuo. Владелец: QUANTA COMPUTER INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Combustion chamber and combustion chamber assembly method

Номер патента: RU2691901C1. Автор: Андреас КОЛЬМЕР,Михаель ХЭФНЕР. Владелец: Эбершпехер Клаймит Контрол Системз Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2019-06-18.

Vapor chamber and heat dissipating device

Номер патента: US20230258412A1. Автор: Kai Meng,Jing Gao,Zhongshang DOU. Владелец: Jiangxi Xinfei New Material Co ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Assembly structure of vapor chamber and heat pipe

Номер патента: US20230354552A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Integrated vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US11815314B2. Автор: Cheng-Hua LI,Ping-Hung HE,Chia-Ling CHIN. Владелец: Nidec Chaun Choung Technology Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Interchangeable Chamber and Barrel System

Номер патента: US20180283821A1. Автор: James A. Dodson. Владелец: Wolf Precision Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Humidification chamber and apparatus and systems including or configured to include said chamber

Номер патента: EP3946536A1. Автор: Monika BAUMANN,Callum James Thomas SPENCE,Thomas Heinrich Barnes,Bernard Tsz Lun Ip,Richard John Boyes,Christian Francis FISCHER,Gareth Thomas McDermott,Zane Paul GELL,Vincent VERDOOLD,Zach Jonathan WARNER,Rachael GLAVES,Karan DEVA,Hannah Maree MATTHEWS. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2022-02-09.

Humidification chamber and apparatus and systems including or configured to include said chamber

Номер патента: AU2020247674A1. Автор: Monika BAUMANN,Callum James Thomas SPENCE,Thomas Heinrich Barnes,Bernard Tsz Lun Ip,Richard John Boyes,Christian Francis FISCHER,Gareth Thomas McDermott,Zane Paul GELL,Vincent VERDOOLD,Zach Jonathan WARNER,Rachael GLAVES,Karan DEVA,Hannah Maree MATTHEWS. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US12025381B2. Автор: Xuemei Wang,Jen-Chih CHENG,Dingguo ZHOU. Владелец: Cooler Master Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Test chamber and test system

Номер патента: US10641808B2. Автор: Corbett Rowell,Adam Tankielun. Владелец: Rohde and Schwarz GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-05-05.

Method for forming wick part for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber

Номер патента: EP4353396A1. Автор: Jong Min Lee,Jae Ho JANG,Kang Hyun Lee,Hang Hyeon CHO. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-04-17.

Integrated vapor chamber and heat sink

Номер патента: US20230337397A1. Автор: Hussameddine Kabbani,Jones Udo-Akang,Jayati Athavale,Mohammad Nikoukar,Amin TermehYousefi,Riocard De Los Santos. Владелец: Meta Platforms Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Designed electromagnetic wave suppressor, and building material, electromagnetic wave suppression chamber, and system provided with the suppressor

Номер патента: US20240040758A1. Автор: Takeshi Ikeda,Hiroyoshi NISHIYAMA,Junya Tanabe,Ryo Shoda,Miho Imai. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Method for forming wick part for vapor-chamber and method for manufacturig vapor chamber

Номер патента: US20240181570A1. Автор: Jong Min Lee,Jae Ho JANG,Kang Hyun Lee,Hang Hyeon CHO. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Vapor chamber and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230345670A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Apparatus for Regulating the Moisture in a Chamber, and Method of Operating Same

Номер патента: GB1198492A. Автор: . Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1970-07-15.

Molded housing with integral acoustic chamber and anti-rattle printed circuit board supports

Номер патента: US5440646A. Автор: Frank Buccinna,Steven R. Settles,Eric J. Krupp. Владелец: Lear Corp EEDS and Interiors. Дата публикации: 1995-08-08.

Vapor chamber and electronic device

Номер патента: US20240147679A1. Автор: Guochao Fu,Yuanru Yang,Fuli CUI. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Method for processing residues from magnetron sputtering of a target

Номер патента: RU2755498C1. Автор: Геннадий Григорьевич Михайлов,Андрей Владимирович Шунайлов,Анатолий Владимирович Сенин,Иван Сергеевич Барышев,Андрей Геннадьевич Рязанов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)» ФГАОУ ВО «ЮУрГУ (НИУ)». Дата публикации: 2021-09-16.

Method of producing silicon targets for magnetron sputtering

Номер патента: RU2631372C1. Автор: Дмитрий Николаевич Борисенко,Сергей Константинович Брантов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2017-09-21.

Magnetron sputter source for mbe apparatus

Номер патента: CA2331564C. Автор: James Webb. Владелец: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA. Дата публикации: 2007-05-22.

Black matrix laminated film and reactive sputtering apparatus

Номер патента: US5922181A. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-07-13.

Device for performing photosynthesis with microfluidic chamber for performing photosynthesis in said chamber and method for performing photosynthesis

Номер патента: RU2673728C1. Автор: По-Кан ЛИНЬ. Владелец: По-Кан ЛИНЬ. Дата публикации: 2018-11-29.

Oxygen tuyere of melting metallurgical furnace with side immersion of combustion chamber and metallurgical furnace with oxygen tuyere

Номер патента: RU2706900C1. Автор: Шуанцзе ФЕНГ,Донг ЛИ,Давей СУИ,Чженмин ЧЖАНГ,Кефей САО,Йи ЛИН,Сюеганг ЧЖЕН,Лян СЮ. Владелец: Чайна Энфи Инжиниринг Корпорейшн. Дата публикации: 2019-11-21.

A Biochar Production Plant, A Combustion Chamber and a Method of Operating the Combustion Chamber

Номер патента: US20240240788A1. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-18.

Method of Manufacturing a Pressure Chamber of a Dental Mouthpiece, Method of Manufacturing a Dental Mouthpiece, Pressure Chamber and Mouthpiece Manufactured with These Methods, Provided with These Methods, J-/U-Shaped Dental Mouthpiece, and Systems Comprising Said Mouthpieces

Номер патента: US20230293279A1. Автор: Joppe Gideon VAN DIJK,Tim Anton SNIJDER,Thomas VAN DE WATER. Владелец: Dental Robotics Group BV. Дата публикации: 2023-09-21.

Gasifier-containing system, system containing cooling chamber and system containing water-supplying pump

Номер патента: RU2540592C2. Автор: Джордж ГУЛКО,Константин ДИНУ,Джудет Брэннон КОРРИ,Эллисон Джой ХИМЕНЕЗ-ХАЙКЕ,Ричард Л. ЖАО,Дениза Мари РИКО. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2015-02-10.

Method of liquid management in anode chamber and apparatus for plating

Номер патента: US20240318347A1. Автор: Masaki Tomita,Yasuyuki Masuda. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Apparatus for preparing a single crystal comprising a volatilization chamber and a plurality of crystal pieces fixed by combined fixtures located in a solid connection chamber

Номер патента: US12098478B2. Автор: Yang Wang,Jian Jiang,Shujie Wang,Xiaolan Li,Huisheng Liu,Niefeng SUN,Tongnian SUN,Yanlei SHI,Huimin SHAO,Lijie FU,Senfeng XU. Владелец: CETC 13 Research Institute. Дата публикации: 2024-09-24.

Ported parallel plate flow chamber and methods for use thereof

Номер патента: US09557320B2. Автор: Robert D. SHEPHERD,Kristina D. Rinker. Владелец: University of Calgary. Дата публикации: 2017-01-31.

A grit chamber and a method for controlling the same

Номер патента: WO2008099004A1. Автор: Soren Johannes Hojsgaard. Владелец: Krüger Off-Shore A/S. Дата публикации: 2008-08-21.

Method and device for equalizing the pressures in the melting chamber and the cooling water system of a special melting unit

Номер патента: US6973116B2. Автор: Arno Niebling,Ivaylov Popov. Владелец: ALD VACUUM TECHNOLOGIES GMBH. Дата публикации: 2005-12-06.

Reference test body, use, test chamber, and method

Номер патента: US20190376108A1. Автор: Selina Kammerer,Daniel Kießling. Владелец: Aesculap AG. Дата публикации: 2019-12-12.

A grit chamber and a method for controlling the same

Номер патента: EP2121159A1. Автор: Soren Johannes Hojsgaard. Владелец: Krueger Off-Shore AS. Дата публикации: 2009-11-25.

Cell culture chambers and methods of use thereof

Номер патента: US12065632B2. Автор: Shashi K. Murthy. Владелец: Northeastern University Boston. Дата публикации: 2024-08-20.

String of reactant chambers and a process thereof

Номер патента: US09943893B2. Автор: Lindsay Swearingen,Jason Swearingen. Владелец: Specialty Earth Sciences LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Butyl rubber, method for production thereof; rubber article, composition and use thereof; inner tire shell, chamber and cure diaphragm

Номер патента: RU2718909C1. Автор: Лей ЧЗАН,Лей ВАН,Инсинь ЦЮ,Хуэицинь ГУН,Вэйцзюань МЭН,Синьцинь ЧЖОУ. Владелец: Бейдзин Рисерч Инститьют Оф Кемикал Индастри, Чайна Петролиум Энд Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2020-04-15.

Wastewater treatment; process and apparatus comprising a pre-treatment chamber, a biofilm-aeration chamber and a settling chamber

Номер патента: NZ249643A. Автор: Nianfa Tang,David S Maclaren. Владелец: Jet Inc. Дата публикации: 1996-08-27.

Dynamic mixing and electroporation chamber and system

Номер патента: EP2603517A1. Автор: Alan D. King,Stephen B. Deitz,Donald J. Rodis,Derin C. Walters. Владелец: CELLECTIS SA. Дата публикации: 2013-06-19.

Integrally Combined Current Carrier Circulation Chamber and Frame for Use in Unipolar Electrochemical Devices

Номер патента: US20240035176A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

A nano tube production chamber and production method

Номер патента: WO2024054162A1. Автор: Onur Ozan CILSAL,Mustafa Cemal CAKIR. Владелец: Bursa Uludağ Üni̇versi̇tesi̇. Дата публикации: 2024-03-14.

A biochar production plant, a combustion chamber and a method of operating the combustion chamber

Номер патента: EP4320384A1. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-14.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: CA3178288A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2022-01-20.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: AU2021309138A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: EP4182494A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2023-05-24.

Microfluidic device mimicking a biological microenvironment and comprising diffusion chambers and channels

Номер патента: US11969728B2. Автор: Sunghyun Cho,Seung Beum SUH. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2024-04-30.

A biochar production plant, a combustion chamber and a method of operating the combustion chamber

Номер патента: WO2022214688A4. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Jones Frederick Michael. Дата публикации: 2022-12-01.

A biochar production plant, a combustion chamber and a method of operating the combustion chamber

Номер патента: CA3214675A1. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-13.

A biochar production plant, a combustion chamber and a method of operating the combustion chamber

Номер патента: AU2022254307A1. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-16.

A biochar production plant, a combustion chamber and a method of operating the combustion chamber

Номер патента: WO2022214688A1. Автор: Frederick Michael JONES. Владелец: Jones Frederick Michael. Дата публикации: 2022-10-13.

Method to reduce separation of deposits in combustion chamber and method to decrease exhaust when starting internal combustion engine from cold

Номер патента: RU2283437C2. Автор: Аллен А. АРАДИ,Джеймс Б. СМИТ. Владелец: Афтон Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2006-09-10.

Vacuum chamber and method of creating a vacuum

Номер патента: CA1178911A. Автор: Jack G. Bitterly. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-12-04.

String of reactant chambers and a process thereof

Номер патента: US20170216895A1. Автор: Lindsay Swearingen,Jason Swearingen. Владелец: Specialty Earth Sciences LLC. Дата публикации: 2017-08-03.

Bioreactor chamber and systems thereof

Номер патента: WO2020150107A1. Автор: Bryan D. James,Josephine Allen. Владелец: UNIVERSITY OF FLORIDA RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2020-07-23.

Water jet condenser with multiple closed water chambers and jet regulating valve

Номер патента: US10449561B2. Автор: Ming Xie. Владелец: Nanning Mast Sugar Machine Equipment Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-22.

Bioreactor chamber and systems thereof

Номер патента: US20220235309A1. Автор: Bryan D. James,Josephine Allen. Владелец: University of Florida Research Foundation Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: EP4323542A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: CA3215070A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2022-10-20.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: AU2022258444A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Silicon wafer surface passivation by magnetron sputtering

Номер патента: RU2614080C1. Автор: Евгений Иванович Теруков,Алексей Валерьевич Кукин,Илья Александрович Няпшаев,Алексей Станиславович Абрамов,Дмитрий Львович Орехов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике при ФТИ им. А.Ф. Иоффе", ООО "НТЦ ТПТ". Дата публикации: 2017-03-22.

High performance trimetallic catalyst production method prepared with the magnetron sputter technique for proton exchange membrane fuel cells

Номер патента: WO2017116332A1. Автор: Osman Ozturk,Aydin HASIMOGLU,Ali Sems AHSEN,Oguz Kaan OZDEMIR. Владелец: Gebze Teknik Universitesi. Дата публикации: 2017-07-06.

MAGNETRON SOURCE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20130277205A1. Автор: LIU XU,Geng Bo,Wu Xuewei,QIU Guoqing,Li Yangchao. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-10-24.

Magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus using magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP4990521B2. Автор: 典明 谷,肇 中村,孝 小松,淳也 清田,新井　　真,尚浩 李. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: TW201000663A. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Sony Disc & Digital Solutions Inc. Дата публикации: 2010-01-01.

Method of processing a substrate using a large-area magnetron sputtering chamber with individually controlled sputtering zones

Номер патента: US20070056843A1. Автор: John White,YAN Ye,Akihiro Hosokawa,Hienminh Le. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-15.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, METHOD FOR CONTROLLING MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20130213798A1. Автор: Yoshida Tokuo. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-08-22.

Magnetron sputter magnetron sputtering inlet seal flange

Номер патента: CN108048811A. Автор: 吴艳萍,林晓莉,詹为宇. Владелец: Southwest Electronic Technology Institute No 10 Institute of Cetc. Дата публикации: 2018-05-18.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, METHOD FOR CONTROLLING MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20130313108A1. Автор: Yoshida Tokuo. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-11-28.

Hollow cathode magnetron sputtering targets and methods of forming hollow cathode magnetron sputtering targets

Номер патента: US20070251819A1. Автор: Janine Kardokus,Susan Strothers,Sally Woodward,Stephane Ferrasse. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Magnetron sputtering equipment and magnetron sputtering method

Номер патента: CN111235540A. Автор: 张晓岚,籍龙占,谢丑相,王国昌,吴历清. Владелец: Hanghzou Langxu New Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-06-05.

Magnetron sputtering coating device and working method thereof wherein the coating produced by the magnetron sputtering coating device has good uniformity

Номер патента: TW202136552A. Автор: 志游 杜,世平 郭. Владелец: 大陸商中微半導體設備（上海）股份有限公司. Дата публикации: 2021-10-01.

Magnetron sputtering magnet system, control method thereof and magnetron sputtering device

Номер патента: CN104357803A. Автор: 张杨. Владелец: Kunshan Guoxian Photoelectric Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-18.

Carousel type installation for magnetron sputtering of multilayer coatings and a method of magnetron sputtering of equal thickness nanocoating

Номер патента: RU2015120001A. Автор: Сергей Борисович Одиноков,Гайк Рафаэлович Сагателян,Михаил Сергеевич Ковалев,Алексей Станиславович Кузнецов,Екатерина Андреевна Дроздова,Андрей Владимирович Шишлов,Павел Сергеевич Демидов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2016-12-20.

Target back plate for magnetron sputtering and magnetron sputtering device

Номер патента: CN105734516A. Автор: 李冬青,王小军,吴斌,邢宏伟,穆慧慧,石旭,吴祥一. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-06.

Magnetron sputtering device and magnetron sputtering method for inner wall of steel pipe

Номер патента: CN112430801A. Автор: 尹成先,李文升,吕乃欣,付安庆,袁军涛. Владелец: Pipeline Research Institute of CNPC. Дата публикации: 2021-03-02.

Magnetron sputtering target and magnetron sputtering device for ultrahigh vacuum environment

Номер патента: CN111560588B. Автор: 吴向方. Владелец: SOUTHWEST UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2022-05-03.

Shielding piece cooling adapter in magnetron sputtering equipment and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN115181947A. Автор: 刘超,徐伟,宋永辉. Владелец: Wuxi Shangji Semiconductor Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-10-14.

Cathode body assembly, magnetron sputtering cathode and magnetron sputtering device

Номер патента: WO2020010722A1. Автор: 梅艳慧. Владелец: 君泰创新（北京）科技有限公司. Дата публикации: 2020-01-16.

Reactive planar magnetron sputtering of sio.sub.2

Номер патента: CA1252417A. Автор: Robert R. Parsons,Juan A. Rostworowski. Владелец: University of British Columbia. Дата публикации: 1989-04-11.

Magnetic field providing apparatus, magnetron sputtering apparatus and the method using the equipment

Номер патента: CN107012440A. Автор: 王鑫,杜建华. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-04.

HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING METHOD PROVIDING ENHANCED IONIZATION OF THE SPUTTERED PARTICLES AND APPARATUS FOR ITS IMPLEMENTATION

Номер патента: US20140127519A1. Автор: Lechthaler Markus. Владелец: OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH. Дата публикации: 2014-05-08.

Magnetron sputtering apparatus and thin film deposition method using the same

Номер патента: KR102171871B1. Автор: 정대호,이호선,소현섭. Владелец: 경희대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-10-30.

Double-chamber three-station multi-target co-sputtering magnetron sputtering coating method

Номер патента: CN111286706A. Автор: 赵娟,刘奎,钟洪伟,刘子毓,陈年庚. Владелец: Beijing Tsinghua Solar Systems Co ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Double-chamber three-station multi-target co-sputtering magnetron sputtering coating method

Номер патента: CN111286706B. Автор: 赵娟,刘奎,钟洪伟,刘子毓,陈年庚. Владелец: Beijing Tsinghua Solar Systems Co ltd. Дата публикации: 2022-05-03.

A kind of magnetron sputtering substrate loading fixture and magnetic control sputtering device

Номер патента: CN109267030A. Автор: 王成,韩玉成,王锁柱,罗彦军,陈传庆,李桂材. Владелец: Guizhou Zhenhua Electronic Information Industry Technology Research Co ltd. Дата публикации: 2019-01-25.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130180850A1. Автор: Rohrmann Hartmut,Dubs Martin. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-07-18.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20130186743A1. Автор: MIZUNO Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-07-25.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140027278A1. Автор: Ohmi Tadahiro,Goto Tetsuya,Matsuoka Takaaki. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-30.

Rotary Cathode Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180030591A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-02-01.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101341433B1. Автор: 이상철,오기용. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2013-12-13.

Intracavity magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: CN110205595A. Автор: 韩成明,薛道荣,李峰,褚敬堂,刘子毓. Владелец: Hebei Daorong New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-06.

Magnetron sputtering apparatus and control method thereof

Номер патента: CN113755809A. Автор: 张�浩,王国峰,杨忠武. Владелец: Beihai Huike Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-07.

A kind of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN105525269B. Автор: 陈龙,刘飞,张卓然,井杨坤,颜毓雷. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-02.

Graded index inorganic antireflection coatings produced by magnetron sputtering

Номер патента: WO2023239524A1. Автор: Jon-Paul Maria,Noel C. Giebink,Christian J. RUUD. Владелец: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-12-14.

Combined RF-DC magnetron sputtering method

Номер патента: TW476803B. Автор: Keiji Ishibashi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2002-02-21.

Composite film strain gauge based on magnetron sputtering and method for preparing the same

Номер патента: GB202218066D0. Автор: . Владелец: Yangtze River Delta Research Institute of UESTC Huzhou. Дата публикации: 2023-01-18.

RF SUBSTRATE BIAS WITH HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING (HIPIMS)

Номер патента: US20130220802A1. Автор: Weichart Jurgen,Kadlec Stanislav. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-08-29.

MAGNETIC-FIELD-GENERATING APPARATUS FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20130299349A1. Автор: Kuriyama Yoshihiko,Mita Masahiro. Владелец: HITACHI METALS, LTD.. Дата публикации: 2013-11-14.

Prediction and compensation of erosion in a magnetron sputtering target

Номер патента: US20130313107A1. Автор: Miller Keith A.,Lubben Daniel C.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-11-28.

Magnetron Sputtering Process

Номер патента: US20140042015A1. Автор: Jilek Mojmir,Zindulka Ondrej. Владелец: . Дата публикации: 2014-02-13.

Laser induced ionization of inert and reactive gasses for magnetron sputtering

Номер патента: US20240263297A1. Автор: Patrick Morse. Владелец: Arizona Thin Film Research Llc. Дата публикации: 2024-08-08.

Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0428358A3. Автор: Thomas H. Allen,Paul M. LeFebvre,Bryant P. Hichwa,Richard I. Seddon,Michael A. Scobey,Michael D. Temple,David L. Soberanis,James W. Seeser,Erik R. Dickey,Rolf F. Illsley,Robert F. Klinger,Craig C. Van Horn,Patrick R. Wentworth. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1991-07-24.

Cobalt based alloy target for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0659901B1. Автор: Martin Dr. Weigert,Martin Dr. Schlott,Bruce Dr. Gehman,Kwei Teng. Владелец: Leybold Materials GmbH. Дата публикации: 1998-04-15.

Simulation apparatus for optimizing sputtering apparatus and simulation method therefor

Номер патента: US5850356A. Автор: Hiroaki Yamada,Toshiyuki Ohta,Toshiki Shinmura. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-12-15.

Gas turbine engine annular combustion chamber and gas turbine engine

Номер патента: RU2451242C2. Автор: Давид ЛОКАТЕЛЛИ,Патрис КОММАРЕ,Дидье ЭРНАНДЕС. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2012-05-20.

Injection device, combustion chamber and rocket engine

Номер патента: RU2698859C1. Автор: Мицунори ИСОНО,Казуфуми ИКЭДА,Хироясу МОНАКО,Синитиро ВАТАНАБЭ,Хидэто КАВАСИМА. Владелец: Мицубиси Хеви Индастрис, Лтд.. Дата публикации: 2019-08-30.

Gas turbine engine combustion chamber and gas turbine engine

Номер патента: RU2444680C2. Автор: Патрис Андре КОММАРЕ,Дени Жан Морис САНДЕЛИ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2012-03-10.

Guide device of element in hole of combustion chamber wall of gas-turbine engine, combustion chamber and gas-turbine engine

Номер патента: RU2490547C2. Автор: Гийом СЕВИ,Флориан Андре Франсуа БЕССАНЬЕ,Патрик ОДЭН,Пьер Паскаль САБЛАЙРОЛЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2013-08-20.

Well sampler with micro-sampling chamber and application method thereof

Номер патента: RU2333357C2. Автор: Хуман М. ШАММАЙ,Роберт ГОРДОН,Франк САНЧЕС. Владелец: Бейкер Хьюз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2008-09-10.

Method of stabilization of combustion process in its combustion chamber and apparatus for realizing said method

Номер патента: RU2684765C1. Автор: Андрей Наилевич Сабирзянов,Альберт Ильдусович Фатихов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ". Дата публикации: 2019-04-12.

Flow-guiding insert for reactor chamber and reactor

Номер патента: RU2336942C2. Автор: Фабрис ШОПАР. Владелец: Альфа Лаваль Корпорейт Аб. Дата публикации: 2008-10-27.

Ice with magnetic-catalytic combustion chamber and with ultrasonic steam generator and method for supply of gas-water-air fuel mixture to combustion chamber of this ice

Номер патента: RU2708180C1. Автор: Нурислям Нуруллович Шарапов. Владелец: Киямов Расим Хамзович. Дата публикации: 2019-12-04.

Resonator for pressure oscillations damping in combustion chamber and method for combustion system control

Номер патента: RU2569786C2. Автор: Генади БУЛАТ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-11-27.

Device with heat-insulating screen, combustion chamber and gas turbine

Номер патента: RU2508507C2. Автор: Йенс КЛЯЙНФЕЛЬД,Маркус ЦУРХОРСТ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2014-02-27.

Compact painting chamber and method of painting

Номер патента: RU2486014C2. Автор: Роберт Ф. ХЕЛДТ,Ян ГРИГОЛАЙТ,Вассилиос СОУГИОЛТЗИС,Томас А. БАКНЕЛЛ. Владелец: Дюрр Системз Гмбх. Дата публикации: 2013-06-27.

Combustion chamber and gas turbine engine

Номер патента: RU2435109C2. Автор: Давид ЛОКАТЕЛЛИ,Дидье ЭРНАНДЕС. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-11-27.

System of combustion chamber and device for selective non-catalytic reduction and nozzle

Номер патента: RU2686895C2. Автор: Саша КРЮГЕР,Йорг КРЮГЕР,Олифер ГОЛЬКЕ. Владелец: Дженерал Электрик Текнолоджи Гмбх. Дата публикации: 2019-05-06.

Method of determination of temperature downstream combustion chamber and gas turbine control method

Номер патента: RU2565469C2. Автор: Вили ПАНОВ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-10-20.

Method to determine pressure in combustion chamber and device designed for this purpose

Номер патента: RU2498248C2. Автор: Бернд ЛАСТ,Ханс ХОУБЕН,Юэ ЧЭН,Кристиан ПОТТИЕЦ,Франк ПЕХГОЛЬД,Арно МАРТО. Владелец: БоргВарнер БЕРУ Системс ГмбХ. Дата публикации: 2013-11-10.

Beverage dispensing device with mixing chamber and cooling function

Номер патента: RU2695826C2. Автор: Даниель ПИРСМАН,Джером ПЕЛЛОД. Владелец: Анхойзер-Буш Инбев С.А.. Дата публикации: 2019-07-29.

Low-emission combustion chamber and method of feeding fuel therein

Номер патента: RU2687545C1. Автор: Дмитрий Александрович Максимов,Рафаэль Салихзянович Кашапов,Дмитрий Владимирович Скиба,Тимур Салаватович Харисов. Владелец: Рафаэль Салихзянович Кашапов. Дата публикации: 2019-05-14.

Method of assembling fuel nozzle for combustion chamber and sprayer for fuel nozzle

Номер патента: RU2278331C2. Автор: Ален ЛАВИ,Марион МИШО,Жозе РОДРИГЕС,Ален ТЬЕПЕЛЬ,Стефани МАРТЕЛЛИ. Владелец: Снекма Моторс. Дата публикации: 2006-06-20.

Method for protecting fire walls of the combustion chamber and the nozzle of liquid rocket engine from external high-intensity thermal exposures

Номер патента: RU2663703C1. Автор: Вячеслав Михайлович Соловьев,Александр Павлович Тихонов,Леонид Михайлович Мороз. Владелец: Леонид Михайлович Мороз. Дата публикации: 2018-08-08.

Method for evacuation of the crew of an emergency submarine from a resurfaced rescue chamber and apparatus for implementation thereof

Номер патента: RU2756949C1. Автор: Алексей Алексеевич Сахаров,Леонид Викторович Козюков,Александр Русланович Пышный. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского Флота "Военно-морская академия им. Адмирала Флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2021-10-07.

Convenient access for clean-out and maintenance of mixing chamber and both rotors in two-rotor continuous mixers for plastic materials

Номер патента: WO1992021498A1. Автор: Douglas E. Mosher. Владелец: Farrel Corporation. Дата публикации: 1992-12-10.

High pressure chamber and method of high pressure chamber cooling

Номер патента: RU2548557C2. Автор: Матс ГЕРДИН. Владелец: Авуре Текнолоджиз Аб. Дата публикации: 2015-04-20.

Multimode fuel spray device, combustion chamber and jet turbine engine

Номер патента: RU2431082C2. Автор: Дидье ЭРНАНДЕС,Томас НОЭЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-10-10.

Combined cycle system interacting combustion chamber and nozzle

Номер патента: RU2413859C2. Автор: Мелвин Дж. БУЛМЭН. Владелец: Аэроджет-Дженерал Корпорейшн. Дата публикации: 2011-03-10.

Plug of road inspection chamber and appropriate road inspection chamber

Номер патента: RU2496945C2. Автор: Жан-Клод РУАЙЕ,Винсент РОТАРМЕЛЬ. Владелец: Сэн-Гобэн Пам. Дата публикации: 2013-10-27.

Air-fuel mixture spray device, combustion chamber and gas turbine engine

Номер патента: RU2437033C2. Автор: Дени Жан Морис САНДЕЛИ,Мишель Андре Альбер Дезольти,Ален КЕР. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-12-20.

Nozzle blast chamber and dryer using it

Номер патента: RU2684018C1. Автор: Юсси ОЯЛАЙНЕН. Владелец: Рауте Ойй. Дата публикации: 2019-04-03.

High-precision Measuring Device for Pre-breakdown Current of Vacuum Chamber and Measuring Method

Номер патента: NL2026660B1. Автор: Yang Wei,WU Fangfang,Li Shimin,Du Zhaoqi,Zhang Chaohai. Владелец: Zhejiang Huadian Equipment Testing Inst Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-01.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: AU2024201025A1. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-03-07.

Evaporator for refrigeration plant delimiting two respectively high-pressure and low-pressure evaporation chambers and separated by a filter screen

Номер патента: US20240027111A1. Автор: Thomas Charbonneau. Владелец: Alpinov X. Дата публикации: 2024-01-25.

Device comprising a combination of a chamber and a piston

Номер патента: US20080006147A1. Автор: Nicolaas Blom. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-01-10.

Transfer chamber and method of operating same

Номер патента: US4669413A. Автор: Richard D. Cummins. Владелец: Moog Inc. Дата публикации: 1987-06-02.

Rock physico-mechanical testing chamber and three-dimensional multi-field information perception cabin in simulated environments of deep earth, deep space, and deep sea

Номер патента: US20240295541A1. Автор: Jun Lu,Minghui Li,Heping XIE,Hongwei Zhou,Mingzhong Gao,Cunbao Li,Cancan CHEN,Zhouqian Wu,Delei Shang. Владелец: SHENZHEN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-05.

Protected containment chamber and connected method

Номер патента: EP3555533A1. Автор: Carlo Giovannini,Mirco MARABINI. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2019-10-23.

Capillary structure of vapor chamber and the vapor chamber

Номер патента: US20220026161A1. Автор: Jian Zhang. Владелец: Asia Vital Components Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Vapor chamber and single-piece support structure thereof

Номер патента: US20240280329A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Recoil pads including gas chambers and a base plate assembly, firearms including such recoil pads, and related methods

Номер патента: US20160273874A1. Автор: Russ Martin,Lawrence V. Butler. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-22.

High collapse pressure chamber and method for downhole tool actuation

Номер патента: US09995099B2. Автор: Eric HALFMANN. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Liquid cartridge provided with connecting channel providing communication between liquid supply chamber and liquid storage chamber

Номер патента: US09878552B2. Автор: Tomohiro Kanbe,Akihito Ono. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Module with collapsible fluid chamber and onboard fluid chamber compression element

Номер патента: US09873120B2. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Dual material vapor chamber and upper shell thereof

Номер патента: US09841246B2. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Device with closure, one-way valve, and storage chamber and related method

Номер патента: US09737435B2. Автор: Daniel Py. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Compressed air engine with active chamber and active intake distribution

Номер патента: RU2701784C2. Автор: Ги -умерший- НЕГР,Сириль Негр. Владелец: Мотор Девелопмент Интернэшнл С.А.. Дата публикации: 2019-10-01.

Corridor for transportation of abrasive in impact chamber and method of handling bridge device in impact chamber with corridor for transportation of abrasive

Номер патента: RU2648498C2. Автор: Арманд КЕХИАИАН,Марек КОЗЛОВСКИЙ,Славомир ЗЕНЦИНА. Владелец: Сайтекс Сп. З.О.О.. Дата публикации: 2018-03-26.

Atomiser of combustion chamber and burner device with such atomiser

Номер патента: RU2534922C2. Автор: Хайнц ХАБЕРФЕЛЬНЕР. Владелец: Ктп-Думаг Гмбх. Дата публикации: 2014-12-10.

Device for measuring heat flow in combustion chamber and method for installation thereof

Номер патента: RU2586089C1. Автор: Владимир Алексеевич Максимов,Николай Борисович Пономарев,Андрей Борисович Архипов,Шамиль Улубегович Агаларов. Владелец: Государственный научный центр Российской Федерации - федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша". Дата публикации: 2016-06-10.

Buffer chamber and am system equipped with buffer chamber

Номер патента: EP4230414A1. Автор: Hiroyuki Shinozaki,Yoshitaka Mukaiyama,Junki Asai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: AU2024201028A1. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-03-07.

Fluid circulation chamber membrane, a chamber and pump for artificial circulatory assistance and a pumping system

Номер патента: US20240285930A1. Автор: Luiz Henrique VARGAS FONSECA. Владелец: ZAMMI INSTRUMENTAL LTDA. Дата публикации: 2024-08-29.

Separation system between the high-pressure chamber and the low-pressure chamber in a volumetric pump

Номер патента: EP2211059A3. Автор: Stefano Copelli,Vittorio Andreis. Владелец: Fluid O Tech SRL. Дата публикации: 2014-08-06.

Vapor chamber and heat dissipation device with same

Номер патента: US11747092B2. Автор: Chih-Wei Chen,Chien-Fu Liu,Guan-Cing LIU. Владелец: Auras Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Cooking appliance including a cooking chamber and a fan for circulating cooking chamber air, and method for operating the same

Номер патента: US20240263803A1. Автор: Volker Heinz. Владелец: Miele und Cie KG. Дата публикации: 2024-08-08.

Gas delivery and purging device for additive manufacturing chamber and method of using same

Номер патента: US20200360994A1. Автор: Russell V. HUGHES,Joseph PAVILANIS. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-11-19.

Gas delivery and purging device for additive manufacturing chamber and method of using same

Номер патента: GB2597183A. Автор: Hughes Russell,PAVILANIS Joseph. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-19.

Cyclic flexing environmental chamber and methods

Номер патента: US11175214B2. Автор: Bruno Zamorano SENDEROS,Kristen Smith Williams,David Adam JACKSON. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-11-16.

Satellite propulsion system including combustion chamber and electrical arc heater and related methods

Номер патента: US20240278939A1. Автор: Edward Barocela,Marcus Ni,Alexandra MATLACK. Владелец: Eagle Technology LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Anechoic chamber and construction method thereof

Номер патента: US20240159808A1. Автор: ZHENG Li,Quan Chen,Deqiang Song,Yizhou Wang,Hao XING,Huiru Zhang,Zibin He,Shujuan Song,Hao CHAI,Wenyu Cheng. Владелец: Beijing Orient Institute Of Measurement And Test. Дата публикации: 2024-05-16.

Satellite propulsion system including combustion chamber and electrical arc heater and related methods

Номер патента: EP4417806A1. Автор: Edward Barocela,Marcus Ni,Alexandra MATLACK. Владелец: Eagle Technology LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Tank comprising inner and outer chambers and at least one link system with flexible radial blades linking said chambers

Номер патента: US12078293B2. Автор: Julien GALLARDO. Владелец: AIRBUS OPERATIONS SAS. Дата публикации: 2024-09-03.

Differential pressure driven diaphragm valve with separated drive chamber and valve actuation chamber, and assembling method thereof

Номер патента: US20240295270A1. Автор: Shengzhou Zhang. Владелец: Koscn Industrial Manufacturing (shenzhen) Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Anechoic chamber and construction method thereof

Номер патента: US11959952B1. Автор: ZHENG Li,Quan Chen,Deqiang Song,Yizhou Wang,Hao XING,Huiru Zhang,Zibin He,Shujuan Song,Hao CHAI,Wenyu Cheng. Владелец: Beijing Orient Institute Of Measurement And Test. Дата публикации: 2024-04-16.

Biosensor having decoupled capture chamber and detection chamber, using particle aggregation and size-separation

Номер патента: US09927432B2. Автор: Noriaki Yamamoto. Владелец: Konica Minolta Laboratory USA Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Control system for an engine cylinder with fuel control of pre chamber and main chamber

Номер патента: US09903264B1. Автор: Andrew Loetz,Brett Zook,Lucas Allen BURGER,Mary Louise YEAGER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Combustion pre-chamber and method for operating same

Номер патента: US09828905B2. Автор: Charlie Kim. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Regulators having an isolated loading chamber and blowout prevention apparatus

Номер патента: US09791868B2. Автор: Falk Rapsch,Daryll Duane Patterson,Moritz Klaus Olbrisch. Владелец: Tescom Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Fluid dispenser having a one-way valve, pump, variable-volume storage chamber, and a needle penetrable and laser resealable portion

Номер патента: US09725228B2. Автор: Daniel Py,Joseph M. Ting. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-08.

Micro-electro mechanical system (MEMS) device having a blocking layer formed between closed chamber and a dielectric layer of a CMOS substrate

Номер патента: US09617150B2. Автор: Chia-Hua Chu,Chun-Wen Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Combustion pre-chamber and method for operating same

Номер патента: US09593633B1. Автор: Charlie Kim. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

BBQ oven with controllable level position of charcoal chamber and inserts

Номер патента: US09549638B1. Автор: Armen Karapetyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-24.

Interchangeable chamber and barrel system

Номер патента: US09541343B2. Автор: James A. Dodson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-10.

Continuous round baler chambers and conveyor system

Номер патента: US09491909B2. Автор: Martin J. Roberge. Владелец: CNH Industrial Canada Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Micro-electro mechanical system (MEMS) device having a blocking layer formed between closed chamber and a dielectric layer of a CMOS substrate

Номер патента: US09487391B2. Автор: Chia-Hua Chu,Chun-Wen Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Inspection chamber and set of assembly units for chamber base

Номер патента: RU2361981C2. Автор: Ханс Эдвард ГИТОНО. Владелец: Пайплайф Недерланд Б.В.. Дата публикации: 2009-07-20.

Method for recovery of partly destroyed two-unit fuel assembly of nuclear reactor, assembly chamber and fake heat element for recovery of heat assembly

Номер патента: RU2072569C1. Автор: А.П. Дмитриев,И.И. Пайкин,Н.И. Русаков,А.И. Купалов-Ярополк,Х.М. Марголина-Каганская,Х.М. Марголина-Каганска. Владелец: Центральное конструкторское бюро машиностроения. Дата публикации: 1997-01-27.

Cyclic flexing salt-spray chamber and methods

Номер патента: US20170059472A1. Автор: Sean M. Pennell,Kristen S. Williams,Erik D. SAPPER,Andrew G. Wallburg. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-02.

Airbag comprising two chambers and a gas flow channel connecting the two chambers with a valve being located in the gas flow channel

Номер патента: US20150298644A1. Автор: Frederic Charpentier. Владелец: Autoliv Development AB. Дата публикации: 2015-10-22.

Dispensing apparatus with measured chamber and aerosol type dispenser therewith

Номер патента: US6921005B2. Автор: Masumi Mizukawa,Yasuo Ohshima,Kiyomitsu Kanai. Владелец: Mitani Valve Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-26.

Dispensing apparatus with measured chamber and aerosol type dispenser therewith

Номер патента: US20030230601A1. Автор: Masumi Mizukawa,Yasuo Ohshima,Kiyomitsu Kanai. Владелец: Mitani Valve Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-18.

Front center airbag lower chamber and panel

Номер патента: US20160200278A1. Автор: Scott D. Thomas,Richard Wiik. Владелец: TK HOLDINGS INC. Дата публикации: 2016-07-14.

Coolant hose for the transport from a reservoir vessel to a cooling chamber and a system for providing coolant to a cooling chamber

Номер патента: US20050146138A1. Автор: Anton Lang,Rainer Wogritsch. Владелец: LEICA MIKROSYSTEME GMBH. Дата публикации: 2005-07-07.

Confined hypersonic evaprotranspiration chamber and a method of extraction of water

Номер патента: US20170254053A1. Автор: Rajah Vijay Kumar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-07.

Hydrokinetic chamber and chamber for generating hydrokinetic energy pertaining to the energy-generating module of a floating hydroelectric power plant

Номер патента: US20240352697A1. Автор: BENEDICTO Theophilo OTTONI FILHO,BENEDICTO Arthur OTTONI. Владелец: Theophilo Ottoni Estudos Projetos E Tecnologia Em Recursos Hidricos Ltda. Дата публикации: 2024-10-24.

Confined Hypersonic Evaprotranspiration Chamber and a method of extraction of water

Номер патента: US09920505B2. Автор: Rajah Vijay Kumar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-20.

Ramjet including a detonation chamber and aircraft comprising such a ramjet

Номер патента: US09816463B2. Автор: Francois Falempin,Bruno Le Naour. Владелец: MBDA France SAS. Дата публикации: 2017-11-14.

Connecting device of pellet chamber and gearbox

Номер патента: US09726273B2. Автор: Kelsey Curtis Thom, JR.. Владелец: Jiangsu Muyang Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Front center airbag lower chamber and panel

Номер патента: US09592788B2. Автор: Scott D. Thomas,Richard Wiik. Владелец: TK HOLDINGS INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Passive device regulating pressure in a chamber, chamber and associated installation

Номер патента: US09589679B2. Автор: Vincent Melot,Béranger Errien. Владелец: DCNS SA. Дата публикации: 2017-03-07.

Gas turbine engine pilot burner, combustion chamber and gas turbine engine

Номер патента: RU2570302C2. Автор: Пол ХЕДЛЕНД,Майкл ТЕРНБУЛЛ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-12-10.

Humidification chamber and chamber seal for a respiratory assistance apparatus

Номер патента: AU2021286331B2. Автор: Andrew Martin Letton. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Printer fluid circulation system including an air isolation chamber and a printer fluid pressure control valve

Номер патента: EP3180194A1. Автор: David Olsen,Mark A. Devries. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2017-06-21.

One-way multiple chambers and cushions airbag

Номер патента: US11752970B1. Автор: Chin-Hsu Lin,Yi-Pen Cheng. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2023-09-12.

Humidification chamber and chamber seal for a respiratory assistance apparatus

Номер патента: US12070555B2. Автор: Andrew Martin Letton. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Sock having continuous storage chamber and method of making same

Номер патента: US11717034B2. Автор: Jordan Joyce Wanigaratne. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Humidification chamber and chamber seal for a respiratory assistance apparatus

Номер патента: AU2024208798A1. Автор: Andrew Martin Letton. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Medical/surgical lavage unit with a pump that includes a bellows chamber and a supplemental chamber

Номер патента: US20190151531A1. Автор: Bruce Henniges. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2019-05-23.

Additive manufacturing apparatus with decoupled process chamber and additive manufacturing method

Номер патента: US20240293866A1. Автор: Christian Tenbrock,Stefan Schoen,Meinolf Tepper,Marc Timmer. Владелец: Dmg Mori Additive GmbH. Дата публикации: 2024-09-05.

Workpiece processing system for carrying out sequential execution of process of workpiece in each process chamber by setting start time of process in each process chamber based on necessary processing duration specific to each chamber and necessary conveyance duration between the chambers

Номер патента: US09989959B2. Автор: Seiichi Asahara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Cap with additive chamber and associated packaging unit

Номер патента: US09975683B2. Автор: Jeffrey Martin Davis,Helen Marie MOORE. Владелец: WYETH LLC. Дата публикации: 2018-05-22.

Film chamber and method for leak detection on a non-rigid specimen

Номер патента: US09927321B2. Автор: Silvio Decker. Владелец: Inficon GmbH Deutschland. Дата публикации: 2018-03-27.

Equal temperature distillation chamber and method

Номер патента: US09895626B2. Автор: Elliot Kremerman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-20.

Combustion-powered tool with flexible silicone control check valve operable between a primary combustion chamber and a secondary combustion chamber

Номер патента: US09638092B2. Автор: Joseph S. Adams. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-02.

Fastening bracket of road inspection chamber, appropriate assembly, road inspection chamber and method

Номер патента: RU2545215C2. Автор: Жан-Клод РУАЙЕ,Винсент РОТАРМЕЛЬ. Владелец: Сэн-Гобэн Пам. Дата публикации: 2015-03-27.

Smoke alarm with offset detection chamber and shield

Номер патента: US20230290238A1. Автор: Peter R. Bushnell,Peter R. Harris,Daniel Asselin,Jennifer Alexander,Kenneth J. Mott,Ahmed Hasan. Владелец: Carrier Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Electrophoretic device comprising separation chamber, non-uniform electrode chamber, and a porous membrane between them

Номер патента: WO2004051247A3. Автор: David Strand,Dan M Leatzow. Владелец: Dan M Leatzow. Дата публикации: 2004-09-10.

Bale Tie-Off Accelerator Chambers and Methods

Номер патента: US20170190450A1. Автор: Charles Sidney Wildes,Gus C. Koufonikos, JR.,Ken Thomas. Владелец: International Baler Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Pulper having a supply chamber and a displacement chamber

Номер патента: US20130075510A1. Автор: Hans-Joachim Boltersdorf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-03-28.

Fishing lure with blow-hole vented bait chamber and O-ring hatch locking mechanism

Номер патента: US09770015B2. Автор: Terry Scott Slocum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-26.

Steam generation system having multiple combustion chambers and dry flue gas cleaning

Номер патента: US09657937B2. Автор: Tidjani Niass. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2017-05-23.

Direct circular rotary internal-combustion engine with toroidal expansion chamber and rotor without moving parts

Номер патента: US09482151B2. Автор: Roberto Felipe Moser Rossel. Владелец: Map Energy SpA. Дата публикации: 2016-11-01.

Maintenance drawer for the combustion chamber and smoke aspiration fan of the flue of a bio-mass powered thermal boiler

Номер патента: EP2227657A2. Автор: Antonio Ungaro. Владелец: UNGARO SRL. Дата публикации: 2010-09-15.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: US12005553B2. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: US20240173834A1. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-05-30.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: US20190039220A1. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-02-07.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: EP3661699A1. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2020-06-10.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: AU2018311701A1. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2020-02-20.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: AU2018311701A2. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Maintenance drawer for the combustion chamber and smoke aspiration fan of the flue of a bio-mass powered thermal boiler

Номер патента: US20100269739A1. Автор: Antonio Ungaro. Владелец: UNGARO SRL. Дата публикации: 2010-10-28.

Endoscopes including distal chamber and related methods of use

Номер патента: WO2008124779A1. Автор: Dennis Boulais,Russel F. Durgin,F. Anthony Headley, Jr.,Kenneth M. Blair. Владелец: BOSTON SCIENTIFIC SCIMED, INC.. Дата публикации: 2008-10-16.

Endoscopes including distal chamber and related methods of use

Номер патента: US09591965B2. Автор: Dennis R. Boulais,Russell F. Durgin,F. Anthony Headley, Jr.,Kenneth M. Blair. Владелец: Boston Scientific Scimed Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Method of burning waste wood and device for method embodiment with combustion chamber and method of lining

Номер патента: RU2189526C1. Автор: В.Б. Кузнецов,В.К. Широков. Владелец: Широков Владимир Константинович. Дата публикации: 2002-09-20.

Method for arrangement of working process in straight-flow air-jet engine with continuous-detonation combustion chamber and device for implementation thereof

Номер патента: RU2714582C1. Автор: Валерий Иванович Звегинцев,Константин Алексеевич Авдеев,Сергей Михайлович Фролов,Владислав Сергеевич Иванов,Сергей Александрович Набатников,Алан Эльбрусович Зангиев,Надежда Сергеевна Шулакова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Новые физические принципы". Дата публикации: 2020-02-18.

Gas turbine combustion chamber and plant with combustion chamber (variants)

Номер патента: RU2655107C2. Автор: Кванву КИМ,Свен Георг БЭТХКЕ,Правин ДЖАИН,Фей ХАН,Венкат НАРРА. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2018-05-23.

Pressure vessel having dome vents and an inner chamber, and a pressure vessel forming method

Номер патента: RU2726956C2. Автор: Дэвид Нил МОРГАН. Владелец: Хексагон Текнолоджи Ас. Дата публикации: 2020-07-17.

Pulsation apparatus with insertion in pulsation chamber and method of controlling said pulsation chamber

Номер патента: RU2695189C1. Автор: Руфат Шовкет оглы Абиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)". Дата публикации: 2019-07-22.

Package, packaged product, method of releasing at least one substance into packing chamber and method of packing

Номер патента: RU2701578C2. Автор: Риккардо ПАЛУМБО,Алессандра СЕКЧИ,Дарио ДИСТЕФАНО,БИАНКА Серена ДЕЛЛА. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2019-09-30.

Method for determining anechoic coefficient in radio frequency anechoic chamber and apparatus for implementation thereof

Номер патента: RU2753829C1. Автор: Андрей Григорьевич Солод,Рустам Фаик оглы Мехтиев. Владелец: Акционерное общество "Корпорация "Тактическое ракетное вооружение". Дата публикации: 2021-08-23.

Device used for directing structural element to hole located in wall of gas-turbine engine combustion chamber, gas-turbine engine combustion chamber and gas-turbine engine containing above device

Номер патента: RU2406937C2. Автор: Дени САНДЕЛИ,Клод ГОТЬЕ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2010-12-20.

Liquid-propellant thrust chamber and its casing

Номер патента: RU2158841C2. Автор: В.В. Федоров,А.А. Васин,С.Д. Каменский,Б.И. Каторгин,А.И. Колесников,В.П. Носов,А.И. Ставрулов,В.К. Чванов. Владелец: Открытое акционерное общество "НПО Энергомаш им. акад. В.П. Глушко". Дата публикации: 2000-11-10.

Injection device of fuel-air mixture, combustion chamber and gas turbine engine equipped with such device

Номер патента: RU2420691C2. Автор: Патрис Андре КОММАРЕ,Дени Жан Морис САНДЕЛИ,Дени ТРАО. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-06-10.

Method of organising working process in turbojet engine with continuously-detonating combustion chamber and device for its implementation

Номер патента: RU2620736C1. Автор: Евгений Ювенальевич Марчуков,Виктор Григорьевич Петриенко,Константин Алексеевич Авдеев,Михаил Юрьевич Вовк,Алексей Владимирович Дубровский,Сергей Михайлович Фролов,Фёдор Сергеевич Фролов. Владелец: Открытое акционерное общество "Уфимское моторостроительное производственное объединение" ОАО "УМПО". Дата публикации: 2017-05-29.

Method for blowing external combustion chamber of free-piston with opposite movement of pistons of power module by external combustion chamber and linear electric generator

Номер патента: RU2735975C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2020-11-11.

Device for injecting air-fuel mix, combustion chamber and gas turbine engine with said device

Номер патента: RU2446357C2. Автор: Патрис Андре КОММАРЕ,Дидье Ипполит ЭРНАНДЕЗ,Ромэн Николя ЛЮНЕЛЬ,Паскаль РОЛЛЕ,Доминик ГЕЗЕНГАР. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2012-03-27.

Combustion chamber and turbine including damping device

Номер патента: RU2573082C2. Автор: Генади БУЛАТ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2016-01-20.

Combustion chamber and method of its operation

Номер патента: RU2529987C2. Автор: Сергей Анатольевич МЕШКОВ,Алмаз Камилевич ВАЛЕЕВ,Скотт ЧАЙЛДЕРС. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2014-10-10.

Air-fuel mix injector, combustion chamber and gas turbine engine with said injector

Номер патента: RU2430307C2. Автор: Мишель ДЕЗОЛЬТИ,Ален КАЙРЕ,Николя Поммье. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-09-27.

Sample containers for use inside integration chambers and corresponding devices

Номер патента: RU2753446C1. Автор: Ральф МАРБАХ. Владелец: Грейнсенс Ой. Дата публикации: 2021-08-16.

Tightness between combustion chamber and nozzle guide vanes of turbine in gas-turbine engine

Номер патента: RU2503821C2. Автор: Дени Жан Морис САНДЕЛИ,Кристоф ПЬЕССЕРГ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2014-01-10.

Diffusion chamber of gas turbine engine, combustion chamber and gas turbine containing them

Номер патента: RU2461778C2. Автор: Ромэн ЛЮНЕЛЬ,Мишель ДЕЗОЛЬТИ,Патрис КОММАРЕ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2012-09-20.

Vaned rotor engine with outrigger combustion chamber and disc-type valve control system (versions)

Номер патента: RU2491432C2. Автор: Алексей Александрович Кудряшов. Владелец: Алексей Александрович Кудряшов. Дата публикации: 2013-08-27.

Diffusion cell for annular combustion chamber, particularly for turbomotor of airplane, and also combustion chamber and aircraft turboprop engine, containing such diffusion cell

Номер патента: RU2365821C2. Автор: Кристоф ПЬЕССЕРГ,Клод ГОТЬЕ,Ален КАЙРЕ,Стефан ТУШО,Люк ДАГЕНЕ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2009-08-27.

Swirler, combustion chamber and gas turbine with improved swirling

Номер патента: RU2509957C2. Автор: Кэсинь ЛЮ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2014-03-20.

Gas turbine combustion chamber and gas turbine

Номер патента: RU2444681C2. Автор: Милан ШМАЛЬ,Мартин ШТАППЕР,Петер ДИТРИХ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2012-03-10.

Method of providing functionment of tandemic two-total engine with energy of combustion products from general external combustion chamber and compressed air energy from general pneumatic accumulator

Номер патента: RU2638242C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2017-12-12.

Cooking chamber and cooking machine with one such cooking chamber

Номер патента: RU2488333C2. Автор: Вернер БАЛКАУ. Владелец: Чибо Гмбх. Дата публикации: 2013-07-27.

Cargo container with inner compartments-chambers and arrangement inside compartments of polymer flexible insert-containers (container with insert-tanks), automotive semi-trailer container truck for container with insert-tanks, automotive tanker for container with insert-tanks, trailer for container with insert-tanks

Номер патента: RU2602105C2. Автор: Сергей Борисович Каримов. Владелец: Сергей Борисович Каримов. Дата публикации: 2016-11-10.

Frothing aerodynamic system of injection of the air-fuel mixture into the combustion chamber of the turbomachine, the turbomachine combustion chamber and the turbomachine

Номер патента: RU2309329C2. Автор: Тома НОЭЛЬ,Владимир Аркадьевич Орлов,Валерий Павлович Пикалов,Игорь Борисович Мантченков,Александр Гаврилович Новиков,Жилль РОЛЛЭН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2007-10-27.

Combustion chamber wall with optimised liquefaction and cooling; combustion chamber and gas turbine engine equipped with such wall

Номер патента: RU2478875C2. Автор: Патрис Андре КОММАРЕ,Мишель Пьер КАЗАЛЕН,Ромэн Николя ЛЮНЕЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2013-04-10.

Swirler, combustion chamber and gas turbine with improved mixing

Номер патента: RU2548521C2. Автор: Кам-Кей ЛАМ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-04-20.

Turbo-machine containing detonation chamber and aircraft equipped with such turbo-machine

Номер патента: RU2597735C2. Автор: Франсуа ФЕЛАМПЕН,НАУР Бруно ЛЕ. Владелец: Мбда Франс. Дата публикации: 2016-09-20.

Ramjet engine including detonation chamber and aircraft with such engine

Номер патента: RU2605162C2. Автор: Франсуа ФЕЛАМПЕН,НАУР Бруно ЛЕ. Владелец: Мбда Франс. Дата публикации: 2016-12-20.

Unloading-loading device for horizontal freezing chambers and a freezing device with unloading-loading device for horizontal freezing chambers

Номер патента: RU2730650C2. Автор: Бенгт Аре АБРАХАМСЕН,Бьёрнар Андре ВИК,Эрик ВЕСТРЕ,Видар ПЕТТЕРСЕН. Владелец: Оптимар Ас. Дата публикации: 2020-08-24.

Improved sealing joint for refrigerating chambers and similar devices, having a profile made of plastic

Номер патента: RU2246077C1. Автор: Паоло ЧИТТАДИНИ,Адриано МЕРЛА. Владелец: Индустри Илпеа С.п.А.. Дата публикации: 2005-02-10.

Infusion container provided with a number of chambers and method of its production

Номер патента: RU2284289C2. Автор: Масатака КОТАНИ,Тосихару ИВАСАКИ,Киёказу ИСИВАТАРИ,Кацуюки ЁСИКАВА. Владелец: Сова Денко Пластик Продактс Ко., Лтд.. Дата публикации: 2006-09-27.

Bunker combustion chamber and method of its re-equipment

Номер патента: RU2731076C1. Автор: Джузеппе ГАЙО,Кристиан ЕКЕЛЬ,Катрин ЛИННЕМАНН,Мария де ла Пас МОСКЕРА РУИС,Соня РЕМАНН,Петрос ТЕРЗИС,Бернд ФОННЕМАНН,Михаэль ВИНТЕРШТАЙН. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2020-08-28.

Multimode fuel injector, combustion chamber and jet engine

Номер патента: RU2429417C2. Автор: Дидье ЭРНАНДЕС,Томас НОЭЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-09-20.

Multimode resonance chamber and method of determining an equivalent single mode relaxation response

Номер патента: US4733165A. Автор: Robert E. Richardson,Reginald I. Gray. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1988-03-22.

Article of footwear having a sole structure including a fluid-filled chamber and an outsole, the sole structure, and methods for manufacturing

Номер патента: US9750307B2. Автор: Benjamin J. Monfils,Lee D. Peyton,II Fidencio CAMPOS. Владелец: Nike Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Air-fuel mixture spray device, combustion chamber and gas turbine engine equipped with such device

Номер патента: RU2437032C2. Автор: Патрис Андре КОММАРЕ,Дени Жан Морис САНДЕЛИ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-12-20.

Portless type master cylinder device with intake valve and flow resisting means between pressure chamber and reservoir chamber

Номер патента: CA1279352C. Автор: Shigeru Sakamoto,Yoshihisa Nomura. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 1991-01-22.

Powder inhaler comprising a tubular member connected to a chamber and a single restriction there between

Номер патента: NZ269855A. Автор: Ernst Hoerlin. Владелец: Ernst Hoerlin. Дата публикации: 1997-12-19.

Air-cooled internal combustion engine having canted combustion chamber and integral crossover intake manifold

Номер патента: US4977863A. Автор: Peter G. Kronich. Владелец: Tecumseh Products Co. Дата публикации: 1990-12-18.

Air-cooled internal combustion engine having canted combustion chamber and integral crossover intake manifold

Номер патента: CA2211551C. Автор: Peter G. Kronich. Владелец: Tecumseh Products Co. Дата публикации: 1999-07-06.

Ink-jet printhead having hemispherical ink chamber and method for manufacturing the same

Номер патента: US6478408B2. Автор: Yong-soo Oh,Sang-Wook Lee,Hyeon-cheol Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-11-12.

Analyzer featuring loading and unloading means for a storage chamber, and common drive means

Номер патента: CA1174872A. Автор: Raymond F. Jakubowicz. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1984-09-25.

Diesel engine having swirl chamber and shaped flame dispersing recess in piston crown

Номер патента: US4662330A. Автор: Toshiaki Tanaka,Kunihiko Sugihara,Yoshihisa Kawamura,Giichi Shioyama,Yukihiro Etoh. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 1987-05-05.

Single-use device with a reaction chamber and a method for controlling the temperature in the device and uses thereof

Номер патента: WO2015003722A1. Автор: Kenneth William Harlow,Morten Bech,Ivan R. PERCH-NIELSEN,Jan Harries Hansen. Владелец: Delta Dansk Elektronik, Lys & Akustik. Дата публикации: 2015-01-15.

Combined textile web treating chamber and stenter machine

Номер патента: GB1126357A. Автор: . Владелец: Artos Dr Ing Meier Windhorst KG. Дата публикации: 1968-09-05.

Bell chamber and float type flush system

Номер патента: GB2275935A. Автор: James Charles Roberts. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-09-14.

Hazardous material vial apparatus providing expansible sealed and filter vented chambers and method

Номер патента: CA1296305C. Автор: William Robert Tarello,Donald J. Fournier,Douglas W. Jacobs-Perkins. Владелец: Survival Technology Inc. Дата публикации: 1992-02-25.

Chamber and filament structure and method for flow through thermal conductivity micro size measuring chambers

Номер патента: US3704984A. Автор: Michael Edward Kiefer. Владелец: TRIANGLE ENVIRONMENTAL CORP. Дата публикации: 1972-12-05.

Cooling arrangement for combustion chambers and compressors

Номер патента: GB641214A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1950-08-09.

Heat-insulating structure of swirl chamber and production method thereof

Номер патента: US5010861A. Автор: Hiroshi Matsuoka. Владелец: Isuzu Motors Ltd. Дата публикации: 1991-04-30.

Burner for combustion chamber and combustion method

Номер патента: CA2581429C. Автор: Junichi Sato,Atsushi Fujii,Jun Hosoi,Tsukasa Saitou,Nagayoshi Hiromitsu,Dirk Riechelmann. Владелец: IHI Corp. Дата публикации: 2010-08-17.

Sterile flow cytometer and sorter with mechanical isolation between flow chamber and sterile enclosure and methods for using same

Номер патента: US5776781A. Автор: Hugh Lewis,Michael H. Vardanega,Raymond Swan,John Joubran,David J. Medeiros,Edie Tichenor. Владелец: Systemix Inc. Дата публикации: 1998-07-07.

A combination of a chamber and a piston, a pump, a motor, a shock absorber and a transducer incorporating the combination

Номер патента: CA2442224C. Автор: Nicolaas Van Der Blom. Владелец: NVB Composites International AS. Дата публикации: 2012-06-05.

A device comprising a combination of a chamber and a piston

Номер патента: CA2377413C. Автор: Nicolaas Van Der Blom. Владелец: NVB International AS. Дата публикации: 2009-12-08.

Comminuting chamber and attachments therefor

Номер патента: CA2214135C. Автор: John H. Hughes. Владелец: ComCorp Inc. Дата публикации: 2006-01-03.

Rocket combustion chamber and method of feeding liquid propellents thereto

Номер патента: GB1046916A. Автор: . Владелец: BOELKOW GmbH. Дата публикации: 1966-10-26.

Diverters and cooking chambers and cooking apparatus including diverters

Номер патента: AU2013259280A1. Автор: Manouchehr SHIRALI,Trent ABNEY. Владелец: Henny Penny Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Fluid-filled cylindrical elastic mount having three fluid chambers and three orifices, with one valve means provided in one orifice

Номер патента: US5547173A. Автор: Yasuhiro Suzuki,Tetsuo Uozumi,Joji Tsutsumida. Владелец: Sumitomo Riko Co Ltd. Дата публикации: 1996-08-20.

Dry powder inhalers with multi-facet surface deagglomeration chambers and related devices and methods

Номер патента: WO2010039201A3. Автор: David Harris,Charles Buckner,John Hainsworth,George Perkins. Владелец: Oriel Therapeutics, Inc.. Дата публикации: 2010-07-01.

Ram with two control chambers and a clutch release bearing provided with such a ram

Номер патента: US5732811A. Автор: Michel Graton,Frederic Rey. Владелец: Valeo SE. Дата публикации: 1998-03-31.

Device and method for evacuating a chamber and purifying the gas extracted from said chamber

Номер патента: US11802562B2. Автор: Heiner KÖSTERS,Uwe Gottschlich. Владелец: Sterling Industry Consult Gmbh. Дата публикации: 2023-10-31.

Compressed-air engine with integrated active chamber and active distribution with balanced valve

Номер патента: US20230407747A1. Автор: Cyril Negre,Christophe HURTH. Владелец: MDI Motor Development International SA. Дата публикации: 2023-12-21.

Combination structure of vapor chamber and heat pipe

Номер патента: US11892240B2. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Reciprocating piston pump comprising a housing defining a first chamber and a second chamber cooperating with a first piston and a second piston to define a third chamber and a fourth chamber

Номер патента: US11815078B2. Автор: Aaron J. Rositch,Erik S. Ellifson,Patrick S. Dillman,Christopher J. Rukas,Kai P. Schubart. Владелец: Oshkosh Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Foam-at-a-distance dispensers having small volume pump chambers and valve arrangements for same

Номер патента: US20240017278A1. Автор: Donald R. Harris. Владелец: Go-Jo Industries Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Syringe with dual nested chambers and method of use

Номер патента: US11839747B2. Автор: Fares Srouji. Владелец: Medeviceng. Дата публикации: 2023-12-12.

Device dispensing constituent materials by weight, volumes, flows, time intervals, depths through actuated dispenser openings connecting chambers and vessels

Номер патента: US20240032460A1. Автор: Mitchell J. NewDelman,John A. Sanders. Владелец: Sub Mergent Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Foam-at-a-distance dispensers having small volume pump chambers and valve arrangements for same

Номер патента: WO2024015699A1. Автор: Donald R. Harris. Владелец: GOJO Industries, Inc.. Дата публикации: 2024-01-18.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: US20220389761A1. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: Epiroc Drilling Tools AB. Дата публикации: 2022-12-08.

Mixing chamber and device for preparing and optionally 3d-printing edible thickened aqueous compositions

Номер патента: EP4258894A1. Автор: Edmundo BRITO DE LA FUENTE,Crispulo GALLEGOS-MONTES,Isabel DIAÑEZ,Inmaculada MARTÍNEZ,M. Carmen SÁNCHEZ,Concepción VALENCIA,José M. FRANCO. Владелец: FRESENIUS KABI DEUTSCHLAND GmbH. Дата публикации: 2023-10-18.

Module with collapsible fluid chamber and onboard fluid chamber compression element

Номер патента: EP3052235A1. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2016-08-10.

Module with Collapsible Fluid Chamber and Onboard Fluid Chamber Compression Element

Номер патента: US20190291100A1. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2019-09-26.

Module with collapsible fluid chamber and onboard fluid chamber compression element

Номер патента: US20180111119A1. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2018-04-26.

Module with collapsible fluid chamber and onboard fluid chamber compression element

Номер патента: US20160236191A1. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2016-08-18.

Module with collapsible fluid chamber and onboard fluid chamber compression element

Номер патента: US10357774B2. Автор: David Walter Wright. Владелец: Genmark Diagnostics Inc. Дата публикации: 2019-07-23.

Combination structure of vapor chamber and heat pipe

Номер патента: US20230349644A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Peritoneal dialysis system using pressurized chamber and pumping bladder

Номер патента: EP4199987A1. Автор: John Zafiris. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 2023-06-28.

Compressor body and compressor to supply liquid into working chambers and whose downstream portion reaches a suction bearing chamber

Номер патента: US11965510B2. Автор: Kenji Morita,Yoshitaka Takeuchi,Masahiko Takano,Shigeyuki Yorikane. Владелец: Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Integrated system of apiculture beehive (movable bottom board, honey and brood chamber and cover), which is made entirely of metal

Номер патента: WO2004071180B1. Автор: Thomas Lappas. Владелец: Thomas Lappas. Дата публикации: 2005-05-06.

High-precision Measuring Device for Pre-breakdown Current of Vacuum Chamber and Measuring Method

Номер патента: NL2026660A. Автор: Yang Wei,WU Fangfang,Li Shimin,Du Zhaoqi,Zhang Chaohai. Владелец: Zhejiang Huadian Equipment Testing Inst Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-22.

Test Chamber and Method

Номер патента: US20190383713A1. Автор: Christian Haack,Dennis Reuschel,Bjoern STROH. Владелец: WEISS UMWELTTECHNIK GMBH. Дата публикации: 2019-12-19.

Inkjet recording apparatus capable of smoothly supplying ink to first damper chamber and second damper chamber

Номер патента: US20180281423A1. Автор: Toshiro Ueda. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Test chamber and method for its operation

Номер патента: US20240044774A1. Автор: Christian Haack,Yannik Zahrt,Felix Diehl. Владелец: Weiss Technik GmbH. Дата публикации: 2024-02-08.

Test chamber and method

Номер патента: US20230349797A1. Автор: Yannik Zahrt,Felix Diehl. Владелец: Weiss Technik GmbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Stand-up paddling board in structure with double independent safe air chambers and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3689735A1. Автор: Hao Bai,Manchun Jiang. Владелец: Shanghai Jilong Plastic Products Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-05.

Test chamber and method for control

Номер патента: US20240044677A1. Автор: Marc Loeffler,Juergen Nufer. Владелец: Weiss Technik GmbH. Дата публикации: 2024-02-08.

Inkjet recording apparatus capable of smoothly supplying ink to first damper chamber and second damper chamber

Номер патента: US20190217621A1. Автор: Toshiro Ueda. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2019-07-18.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: EP4051455A1. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: Epiroc Drilling Tools AB. Дата публикации: 2022-09-07.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: CA3159243A1. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: Epiroc Drilling Tools AB. Дата публикации: 2021-05-06.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: AU2020374372A1. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: Epiroc Drilling Tools AB. Дата публикации: 2022-04-14.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: WO2021086251A1. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: EPIROC DRILLING TOOLS AKTIEBOLAG. Дата публикации: 2021-05-06.

Pneumatic drill hammer comprising a boost chamber and a drilling rig comprising such a drill hammer

Номер патента: US11959361B2. Автор: Magnus Gustavsson,Thomas Lilja,Per-Anders KARLSSON,Ernst Arne Johan Bram. Владелец: Epiroc Drilling Tools AB. Дата публикации: 2024-04-16.

Stuffing box with pressurized fluid chamber and related methods

Номер патента: CA3205483A1. Автор: Ross Willard Senger. Владелец: Oil Lift Technology Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Stuffing box with pressurized fluid chamber and related methods

Номер патента: AU2020472899A1. Автор: Ross Willard Senger. Владелец: Oil Lift Technology Inc. Дата публикации: 2022-07-07.

Stuffing Box with Pressurized Fluid Chamber and Related Methods

Номер патента: US20230349256A1. Автор: Ross Willard Senger. Владелец: Oil Lift Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Dual material vapor chamber and upper shell thereof

Номер патента: US20170268835A1. Автор: Chun-Hung Lin. Владелец: Taiwan Microloops Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Liquid discharge head having narrowed portion of liquid flow path between liquid chamber and movable member, method of manufacture therefor, and liquid discharge apparatus having such head

Номер патента: US6460978B2. Автор: Masahiko Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-08.

Developing cartridge including casing that has recessed portion and boss connecting two opposing walls of casing inside toner chamber, and image forming apparatus using the same

Номер патента: US20240027950A1. Автор: Koji Abe,Takuya Amaike. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Vacuum chamber and vacuum system

Номер патента: GB2624388A. Автор: Milner Paul,Lucchetta Emiliano,David Smith Paul,David Jones Peter,David Chew Andrew,John Burch Nigel. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Integrated system of apiculture beehive (movable bottom board, honey and brood chamber and cover), which is made entirely of metal

Номер патента: CA2514693A1. Автор: Thomas Lappas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Integrated system of apiculture beehive (movable bottom board, honey and brood chamber and cover), which is made entirely of metal

Номер патента: WO2004071180A2. Автор: Thomas Lappas. Владелец: Thomas Lappas. Дата публикации: 2004-08-26.

Integrated system of apiculture beehive (movable bottom board, honey and brood chamber and cover), which is made entirely of metal

Номер патента: WO2004071180A3. Автор: Thomas Lappas. Владелец: Thomas Lappas. Дата публикации: 2005-03-10.

Method for testing led explosion-proof lamp chamber and structure thereof

Номер патента: US20160003703A1. Автор: Ching-Yuan Juan,Han-Wen Chang,Cheng-Lung Juan,Ming-Tien Chien. Владелец: Li-Hong Science & Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-07.

Buffer chamber and am system including a buffer chamber

Номер патента: US20240001448A1. Автор: Hiroyuki Shinozaki,Yoshitaka Mukaiyama,Junki Asai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Tank comprising inner and outer chambers and at least one link system with flexible radial blades linking said chambers

Номер патента: US20230272879A1. Автор: Julien GALLARDO. Владелец: AIRBUS OPERATIONS SAS. Дата публикации: 2023-08-31.

Image forming apparatus including cartridge having first storage chamber and cartridge attachment portion having second storage chamber

Номер патента: US20180178541A1. Автор: Masahiro Hayashi,Akinari Ishibe,Masatake Sato,Akihito Kobayashi,Yuma TANABE. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Furnace chamber and heating boiler containing such chamber

Номер патента: RU2738987C1. Автор: Джун Кю ПАРК,Кан Дук ЛИ,Чан Сун ЧОЙ. Владелец: Кюндон Навьен Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-12-21.

Method of guiding fused metal from casting machine chamber and casting machine

Номер патента: RU2456119C2. Автор: Ханс-Йоахим ШМИДТ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2012-07-20.

Ceramic-lined combustion chamber and means for support of a liner with combustion air penetrations

Номер патента: US3918255A. Автор: Abe N Holden. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1975-11-11.

Drip chamber and spike assembly for medical lines

Номер патента: EP3574940A1. Автор: Gianni Guala. Владелец: Industrie Borla SpA. Дата публикации: 2019-12-04.

Process for manufacturing combustion chamber and/or nozzle of a rocket

Номер патента: US3644974A. Автор: Michael Simon. Владелец: MAN Maschinenfabrik Augsburg Nuernberg AG. Дата публикации: 1972-02-29.

Low pressure hyperbaric chamber and method of using the same

Номер патента: US20040154616A1. Автор: Hollis Parker Risley,Maurice Parks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

A thermal processing chamber and a method of thermally processing products

Номер патента: AU6592100A. Автор: Ingolfur Arnason,Gardar Norddahl. Владелец: Skaginn Hf. Дата публикации: 2001-03-26.

Sealing between a combustion chamber and a turbine nozzle in a turbomachine

Номер патента: US20110179798A1. Автор: Denis Jean Maurice Sandelis,Christophe Pieussergues. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2011-07-28.

Ripening chamber and method for fruit ripening

Номер патента: CA3093864C. Автор: Valdir DE BORTOLI. Владелец: EINENKEL / WIRTH GBR. Дата публикации: 2023-03-28.

Process for the transportation through an elongate chamber and electromagnetic radiation heating of granulated material

Номер патента: US4551437A. Автор: Georges Berrebi. Владелец: Europeene de Retraitement de Catalysateurs EURECAT. Дата публикации: 1985-11-05.

Ramjet including a detonation chamber and aircraft comprising such a ramjet

Номер патента: SG194622A1. Автор: Francois Falempin,Naour Bruno Le. Владелец: MBDA France. Дата публикации: 2013-12-30.

Implantable access chamber and associated methods of use

Номер патента: CA3090541A1. Автор: Janel Lanphere,Allen Mackay,Benjamin Trapp,Michael Vonesh. Владелец: WL Gore and Associates Inc. Дата публикации: 2019-08-15.

Flow directing insert for a reactor chamber and a reactor

Номер патента: CA2506103C. Автор: Fabrice Chopard. Владелец: ALFA LAVAL CORPORATE AB. Дата публикации: 2011-07-12.

Dual chamber and gear pump assembly for a high pressure delivery system

Номер патента: CA2951841C. Автор: Robert Banik,Barry Ginsberg,James S. Bates. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 2018-07-10.

Fluid delivery set including a drip chamber and flexible tubing shaped into a bend about a retention/connector device

Номер патента: NZ318683A. Автор: Robert S Osborne,Robert D Clegg,Bradford L Buck,Matthew S Fleming,Grant R Wilson,William E Patton,Carl J Piontek,Kathryn E Alexander,Jeremy R Harris,William F Lyon. Владелец: Abbott Lab. Дата публикации: 1998-09-24.

Multifunction cell with a variable volume chamber and a fluid supply circuit for an ink jet printing head

Номер патента: US4910529A. Автор: Luc Regnault. Владелец: Imaje SA. Дата публикации: 1990-03-20.

Thermal isolation chambers and chromatography systems including them

Номер патента: US11904258B2. Автор: Benjamin J. Black,Chad Kingston,Nathan L Porter. Владелец: Perkinelmer US LLC. Дата публикации: 2024-02-20.

Hydrokinetic chamber and chamber for generating hydrokinetic energy pertaining to the energy-generating module of a floating hydroelectric power plant

Номер патента: AU2022321045A1. Автор: BENEDICTO Theophilo OTTONI FILHO,BENEDICTO Arthur OTTONI. Владелец: Theophilo Ottoni Estudos Projetos E Tecnologia Em Recursos Hidricos Ltda. Дата публикации: 2024-03-21.

Laser oven with transparent chamber and external laser source

Номер патента: US11958246B2. Автор: Kenneth H. Church,Paul I. Deffenbaugh,Casey W. Perkowski,Curtis Wayne Hill. Владелец: Sciperio Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Design of aerosol chamber and interface to optimize inhaled dose with neonatal cpap device

Номер патента: EP3976142A1. Автор: James B. Fink,Aidan Duffy,Finbarr MAGUIRE. Владелец: Stamford Devices Ltd. Дата публикации: 2022-04-06.

Fermentation chamber and method for fermenting coffea fruit

Номер патента: WO2021037754A1. Автор: Valdir DE BORTOLI,Roland Wirth. Владелец: Einenkel, Jörg. Дата публикации: 2021-03-04.

Fermentation chamber and method for fermenting cacao fruit

Номер патента: WO2021037752A1. Автор: Valdir DE BORTOLI,Roland Wirth. Владелец: Einenkel, Jörg. Дата публикации: 2021-03-04.

Scaleable acoustically-stable combustion chamber and design methods

Номер патента: US20210088214A1. Автор: Jonathan French,Paul Gloyer,Eric Jacob,Joshua Batterson,Tina Rice,Gary Flandro. Владелец: Gtl Co. Дата публикации: 2021-03-25.

Device dispensing constituent materials by weight, volumes, flows, time intervals, depths through actuated dispenser openings connecting chambers and vessels

Номер патента: WO2024023595A1. Автор: Mitchell J. NewDelman,John A. Sanders. Владелец: Newdelman Mitchell J. Дата публикации: 2024-02-01.

Airbag comprising two chambers and a gas flow channel connecting the two chambers with a valve being located in the gas flow channel

Номер патента: EP2794363A1. Автор: Frederic Charpentier. Владелец: Autoliv Development AB. Дата публикации: 2014-10-29.

Manufacturing process of a unitary barrel, chamber and action for a firearm

Номер патента: US20110010976A1. Автор: Karl C. Lippard. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-20.

Fluid container having plurality of chambers and valves

Номер патента: EP2661372A1. Автор: David Olsen,Patrick V. Boyd,Patricia A. Kellar. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2013-11-13.

Smoke detector device with secondary detection chamber and filter

Номер патента: US11790765B1. Автор: Michael Barson,Christopher Dearden,Benjamin H. WOLF. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Forced Air Pesticide Vaporizer with Heatsink Vaporization Chamber and Offset Exhaust Chamber

Номер патента: US20190141980A1. Автор: Allen John Martens,Kristopher Bryan Martens. Владелец: Techtoba Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Steam generation system having multiple combustion chambers and dry flue gas cleaning

Номер патента: EP2609369A2. Автор: Tidjani Niass. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2013-07-03.

Steam generation system having multiple combustion chambers and dry flue gas cleaning

Номер патента: WO2012027036A2. Автор: Tidjani Niass. Владелец: Aramco Services Company. Дата публикации: 2012-03-01.

Counting chambers and applications thereof, methods and systems for analyzing particles in test samples

Номер патента: US20240094109A1. Автор: Kai Chen,Puwen LUO,Weiya Fan. Владелец: Shanghai Ruiyu Biotech Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Fluid flow simulation devices, fluid heating chambers, and associated methods

Номер патента: US20230101595A1. Автор: Paul Marotta,Richard Christensen,Piyush Sabharwall,Kristen Geddes,Alberto Cardenas-Melgar,Robin Roper. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-30.

Vibration Isolation Apparatus with Thermally Conductive Pneumatic Chamber, and Method of Manufacture

Номер патента: US20230332668A1. Автор: Vyacheslav Ryaboy. Владелец: Newport Corp USA. Дата публикации: 2023-10-19.

Measuring Chamber, Working Method of Measuring Chamber, Chemiluminescence Measurement Method of Measuring Chamber and Chemiluminescence Detector

Номер патента: US20190094145A1. Автор: LIANG Zhu,LI Yin,Yi Hu,Jinhong Wu,Dingping Ban,Junhui TANG. Владелец: Shenzhen New Industries Biomedical Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Smoke detector device with secondary detection chamber and filter

Номер патента: EP4328884A1. Автор: Michael Barson,Christopher Dearden,Benjamin H. WOLF. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-02-28.

Device with receiving chamber and trigger mechanism for securely constraining an object

Номер патента: US11913258B2. Автор: Benjamin Robert Zoba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-27.

Fluid compressing system having oil-releasing port being between oil chamber and oil-adjusting tank for returning oil

Номер патента: US7607905B2. Автор: Szu-Fu Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-27.

Chamber and leak tester

Номер патента: US20240053216A1. Автор: Minoru Yamamoto,Toru Ishii,Daisuke Homma,Kosei FUJITA. Владелец: Yamaha Fine Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Thermal isolation chambers and chromatography systems including them

Номер патента: EP4217728A1. Автор: Nathan L. Porter,Benjamin BLACK,Chad Kingston. Владелец: Perkinelmer US LLC. Дата публикации: 2023-08-02.

Hydrokinetic chamber and chamber for generating hydrokinetic energy pertaining to the energy-generating module of a floating hydroelectric power plant

Номер патента: CA3227714A1. Автор: BENEDICTO Theophilo OTTONI FILHO,BENEDICTO Arthur OTTONI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-09.

Test chamber and method for its control

Номер патента: US20240044530A1. Автор: Christian Haack,Yannik Zahrt,Dennis Reuschel. Владелец: Weiss Technik GmbH. Дата публикации: 2024-02-08.

Liquid Ejection Head Having Plurality of Sets of Rows of Pressure Chambers, and Capable of Avoiding Mixture of Different Kinds of Liquid

Номер патента: US20200079081A1. Автор: Taisuke Mizuno. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Cyclic flexing salt-spray chamber and methods

Номер патента: US20180313745A1. Автор: Sean M. Pennell,Kristen S. Williams,Erik D. SAPPER,Andrew G. Wallburg. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-11-01.

Inkjet printhead having bubble chamber and heater offset from nozzle

Номер патента: EP1613474A4. Автор: James H Powers. Владелец: Lexmark International Inc. Дата публикации: 2008-11-19.

Inkjet printhead having bubble chamber and heater offset from nozzle

Номер патента: EP1613474A2. Автор: James H. Powers. Владелец: Lexmark International Inc. Дата публикации: 2006-01-11.

Inkjet printhead having bubble chamber and heater offset from nozzle

Номер патента: WO2004087423A2. Автор: James H. Powers. Владелец: Lexmark International, Inc.. Дата публикации: 2004-10-14.

Forced air pesticide vaporizer with heatsink vaporization chamber and offset exhaust chamber

Номер патента: CA2985267C. Автор: Allen J. Martens,Kristopher B. Martens. Владелец: Martens Kristopher B. Дата публикации: 2022-05-31.

Vibration isolation apparatus with thermally conductive pneumatic chamber, and method of manufacture

Номер патента: WO2023200820A1. Автор: Vyacheslav Ryaboy. Владелец: Newport Corporation. Дата публикации: 2023-10-19.

Hydrokinetic chamber and chamber for generating hydrokinetic energy pertaining to the energy-generating module of a floating hydroelectric power plant

Номер патента: EP4382672A1. Автор: BENEDICTO Theophilo OTTONI FILHO,BENEDICTO Arthur OTTONI. Владелец: Theophilo Ottoni Estudos Projetos E Tecnologia Em Recursos Hidricos Ltda. Дата публикации: 2024-06-12.

Portable combustion-powered device with priming combustion chamber and main combustion chamber

Номер патента: EP1615684A1. Автор: Christopher John Team Consulting Ltd. HURLSTONE,Stephen Philip Team Consulting Limited KIRKWOOD,Andrew Robert Team Consulting Limited FRY. Владелец: Team Holdings UK Ltd. Дата публикации: 2006-01-18.

Pump having a valve mechanism stopping and permitting flow between a suction chamber and a discharge chamber

Номер патента: US12018675B2. Автор: Tomoo Harada. Владелец: Advics Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Pipe with storage chamber and method of making same

Номер патента: US4080972A. Автор: Robert C. Furlow. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-03-28.

Fastener-driving tool with one or more combustion chambers and an exhaust gas recirculation system

Номер патента: AU2018311701B2. Автор: James Haberstroh,Chinbay Q. Fan,Patrick Talano. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-03-21.

Genome extraction device of dual chamber structure in which outer chamber and bead chamber are combined with each other

Номер патента: US11938478B2. Автор: Sunyoung Lee,Hae-Joon Park,Dong-Hun Kim,Young-Shik Cho,Kwanhun LIM,In-Ae KIM,Hyo-Lim PARK. Владелец: SD Biosensor Inc. Дата публикации: 2024-03-26.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: US11911886B2. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-02-27.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: US20190168367A1. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-06-06.

Maintenance drawer for the combustion chamber and smoke aspiration fan of the flue of a bio-mass powered thermal boiler

Номер патента: WO2009063528A3. Автор: Antonio Ungaro. Владелец: Antonio Ungaro. Дата публикации: 2009-08-20.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: AU2018374745A1. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2020-06-18.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: WO2019108393A1. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2019-06-06.

Fastener-driving tool with multiple combustion chambers and usable with fuel canisters of varying lengths

Номер патента: EP3717179A1. Автор: Marc Largo,Maureen Shea,Charles ZHAO. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2020-10-07.

Container comprising a first chamber and a second chamber

Номер патента: US20160073679A1. Автор: David Rushforth,Eva Sommarstrom,Paul Gibson. Владелец: British American Tobacco Investments Ltd. Дата публикации: 2016-03-17.

Maintenance drawer for the combustion chamber and smoke aspiration fan of the flue of a bio-mass powered thermal boiler

Номер патента: WO2009063528A2. Автор: Antonio Ungaro. Владелец: UNGARO SRL. Дата публикации: 2009-05-22.

Magnetron sputtering yöntemi ile cam üzerine kalay kaplamada kullanılan kalay hedef (target) imalatı tekniği.

Номер патента: TR200604005A2. Автор: Dr. Ali̇ Arslan Kaya Doç.. Владелец: Tübi̇tak-Turki̇ye Bi̇li̇msel Ve Teknoloji̇k Araştirma Kurumu. Дата публикации: 2008-02-21.

Production method for tin targets used in magnetron sputtering coating of glass

Номер патента: EP1887101B1. Автор: Ali Arslan Kaya. Владелец: Scientific and Technological Research Council of Turkey TUBITAK. Дата публикации: 2016-11-23.

Magnetron sputtering apparatus and manufacture of compound single crystal film

Номер патента: JPS6114194A. Автор: Tatsuo Fukami,Hidetoshi Tsuchiya,龍夫 深海,英俊 土屋. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-01-22.

Technology forming film coat and magnetron facility for its implementation

Номер патента: RU2210619C2. Автор: Адил Жианшахович Тулеушев,Валерий Николаевич Володин,Владимир Николаевич Лисицын,Юрий Жианшахович Тулеушев,Светлана Николаевна Ким. Владелец: Дочернее государственное предприятие "Институт ядерной физики" Национального ядерного центра Республики Казахстан. Дата публикации: 2003-08-20.

Manufacturing method of cast target from tantalum-based alloy for magnetron sputtering

Номер патента: RU2454483C2. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-06-27.

Manufacturing method of cast target from molybdenum-based alloy for magnetron sputtering

Номер патента: RU2454484C2. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-06-27.

Focusing magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA1195287A. Автор: Steven D. Hurwitt,Arnold J. Aronson,Walter H. Class,Michael L. Hill. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1985-10-15.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: RU2135634C1. Автор: В.Г. Васильев. Владелец: Санкт-Петербургский государственный технический университет. Дата публикации: 1999-08-27.

Substrate holder and installation for application of coating by method of magnetron sputtering on its base

Номер патента: RU2437964C2. Автор: Вера Дмитриевна Мирошникова,Алексей Валерьевич Жданов,Татьяна Дмитриевна Мирошникова,Евгений Васильевич Лизюков,Павел Викторович Смолин. Владелец: Павел Викторович Смолин. Дата публикации: 2011-12-27.

Methods for Manufacturing a Vacuum Chamber and Components Thereof, and Improved Vacuum Chambers and Components Thereof

Номер патента: US20120000811A1. Автор: . Владелец: Kurt J. Lesker Company. Дата публикации: 2012-01-05.

High-yield ICF containment chambers and power reactors

Номер патента: US20120002773A1. Автор: . Владелец: Innoven Energy Partners. Дата публикации: 2012-01-05.

DELIVERING A CONDUIT INTO A HEART WALL TO PLACE A CORONARY VESSEL IN COMMUNICATION WITH A HEART CHAMBER AND REMOVING TISSUE FROM THE VESSEL OR HEART WALL TO FACILITATE SUCH COMMUNICATION

Номер патента: US20120004589A1. Автор: . Владелец: Medtronic, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Gas turbine engine combustion chamber and nozzle module

Номер патента: RU2493492C1. Автор: Николай Борисович Болотин. Владелец: Николай Борисович Болотин. Дата публикации: 2013-09-20.

Method of fuel preparation for feed into combustion chamber and device to this effect

Номер патента: RU2335652C1. Автор: Василий Николаевич Лыженков,Михаил Геннадьевич Ивашиненко,Евгений Васильевич Лыженков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Автосервис-Дигзал 07". Дата публикации: 2008-10-10.

Method for in-line production of work at non-benching version of extraction of chambers along strike on chamber-and-pillar system

Номер патента: RU2488693C1. Автор: Иван Васильевич Махраков,Виктор Прокопьевич Тациенко,Виталий Витальевич Матвеев,Александр Петрович Корнаушенко,Константин Александрович Малахов,Дмитрий Олегович Щербинин. Владелец: Открытое акционерное общество "Севуралбокситруда". Дата публикации: 2013-07-27.

Free-piston double-cylinder energy module of double purpose with common external combustion chamber and linear power generator

Номер патента: RU2468224C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2012-11-27.

Gas turbine engine combustion chamber and method of its operation

Номер патента: RU2505749C1. Автор: Александр Михайлович Старик,Наталия Сергеевна Титова,Ростислав Иванович Сериков,Олег Николаевич Фаворский,Александр Сергеевич Шарипов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный институт авиационного моторостроения им. П.И. Баранова". Дата публикации: 2014-01-27.

Drying method of sawn timber in convective drying chambers and device for method's implementation

Номер патента: RU2554455C1. Автор: Людмила Леонидовна Кротова,Владимир Юрьевич Буданов,Андрей Владимирович Лызенко. Владелец: Андрей Владимирович Лызенко. Дата публикации: 2015-06-27.

Method measuring level of noise in pressure chambers and device for its realization

Номер патента: RU2092796C1. Автор: С.П. Гончаров,А.Е. Колесников,Т.Г. Попова. Владелец: Войсковая часть 20914. Дата публикации: 1997-10-10.

An access chamber, and components of an access chamber

Номер патента: AU2017203950B2. Автор: Allyn Kirkby. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-25.

Method for stabilisation of fuel combustion process in combustion chamber, and combustion chamber of straight-jet engine of aircraft

Номер патента: RU2454607C1. Автор: Геннадий Павлович Носков,Александр Сергеевич Вахрушев,Евгений Владимирович Дмитриев,Сергей Анатольевич Зосимов,Алексей Анатольевич Николаев,Валерий Николаевич Серманов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный аэрогидродинамический институт имени профессора Н.Е. Жуковского" (ФГУП "ЦАГИ"). Дата публикации: 2012-06-27.

Method of providing given level of magnitude of hypogeomagnetic field induction vector in cylindrical screening chamber and apparatus therefor

Номер патента: RU2545466C2. Автор: . Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АкваГелиос". Дата публикации: 2015-03-27.

Device to inspect exposed parts of breakage chamber and to set it into safe condition

Номер патента: RU2052100C1. Автор: Ю.Д. Шварц,В.И. Гридасов,Г.В. Пейхель,Д.С. Кутузов,И.С. Зицер,Б.Х. Блаев. Владелец: Тырнаузский вольфрамомолибденовый комбинат. Дата публикации: 1996-01-10.

Method of igniting fuel mixture in engine combustion chamber and device to this effect

Номер патента: RU2339840C2. Автор: щенко Василий Иванович Лукь,Василий Иванович Лукьященко,ев Вадим Северианович Бел,Вадим Северианович Беляев,Эдуард Махмутович Юлдашев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт машиностроения" (ФГУП ЦНИИмаш). Дата публикации: 2008-11-27.

Method of fuel components feed in three-component liquid propellant rocket engine combustion chamber and aligned-jet nozzle to this end

Номер патента: RU2502887C1. Автор: . Владелец: Черниченко Владимир Викторович. Дата публикации: 2013-12-27.

Underwater apparatus with docking and suction chamber and device for centering and hauling

Номер патента: RU2468961C1. Автор: Сергей Николаевич Смирнов,Борис Израилевич Голдовский,Виктор Борисович Кудряков,Александр Брониславович Акинчиц,Лев Борисович Чнегов,Дмитрий Михайлович Подкопаев. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральное конструкторское бюро "Лазурит". Дата публикации: 2012-12-10.

Sampling box of high-toxicity materials from sealed chamber, and sampling device

Номер патента: RU2477851C1. Автор: Сергей Фёдорович Долбищев,Павел Владимирович Кладов,Лев Николаевич Кожаев,Александр Фёдорович Сергеев,Михаил Васильевич Тюрин. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" - Госкорпорация "Росатом". Дата публикации: 2013-03-20.

Device to control colume of combustion chamber and compression ratio of internal combustion engibne

Номер патента: RU2206773C1. Автор: Г.А. Ибадуллаев. Владелец: Ибадуллаев Гаджикадир Алиярович. Дата публикации: 2003-06-20.

Gas turbine engine combustion chamber and method of its operation

Номер патента: RU2513527C1. Автор: Александр Михайлович Старик,Наталия Сергеевна Титова,Ростислав Иванович Сериков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный институт авиационного моторостроения им. П.И. Баранова". Дата публикации: 2014-04-20.

Two-cylinder free piston energy module with common external combustion chamber and linear electric generator with opposite movement of armatures

Номер патента: RU2422655C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2011-06-27.

Method of inflammation of fuel components in rocket engine combustion chamber and device realising this method (variants)

Номер патента: RU2326263C1. Автор: Анатолий Васильевич Иванов,Владимир Сергеевич Рачук,ев Вадим Северианович Бел,Вадим Северианович Беляев,Эдуард Махмутович Юлдашев,Сергей Григорьевич Ребров,Андрей Николаевич Голиков,Николай Борисович Пономарев,Григорий Анатольевич Моталин,Николай Владимирович Плетнев,Андрей Борисович Архипов,Леонид Федорович Жигарев,Виталий Юрьевич Гутерман. Владелец: Открытое акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики" (ОАО КБХА). Дата публикации: 2008-06-10.

Method for stepwise burning of fuel in boiler with cooled combustion chambers and fire tubes

Номер патента: RU2213907C1. Автор: В.В. Осинцев,Г.Ф. Кузнецов,М.П. Сухарев. Владелец: Южно-Уральский государственный университет. Дата публикации: 2003-10-10.

Combustion method of wood wastes, and heat generator for its implementation with heater and heat exchange chamber and cover plate of combustion chamber

Номер патента: RU2484378C1. Автор: Владислав Борисович Кузнецов,Александр Владимирович Широков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БЛИЗНЕЦЫ". Дата публикации: 2013-06-10.

Blowing method of combustion chamber of free-piston two-cylinder power module with common external combustion chamber and linear electric generator

Номер патента: RU2476699C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2013-02-27.

Scramjet with pulse detonation combustion chamber and hypersonic jet flow combined with supersonic direct flow in "one-in-one" manner

Номер патента: RU2524591C1. Автор: Александр Александрович Соколов,Александр Юрьевич Соколов. Владелец: Александр Юрьевич Соколов. Дата публикации: 2014-07-27.

Mobile body-container having variable volume, support means of transformable body-container chamber and device for transformable body-container chamber panel movement

Номер патента: RU2229569C1. Автор: М.З. Кардашенко,В.Н. Ухов,Х.Ф. Фёдоров,Б.А. Котов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Проект-техника". Дата публикации: 2004-05-27.

Method for measuring effective volume and testing leakproofness of pneumatic brake chambers and device to this effect

Номер патента: RU2333468C1. Автор: Александр Иванович Федотов,Александр Анатольевич Смолин,Иван Михайлович Григорьев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Иркутский государственный технический университет" (ГОУ ИрГТУ). Дата публикации: 2008-09-10.

Method of combustion products recirculation in pulsating combustion chamber and device for its realisation

Номер патента: RU2486410C2. Автор: Руслан Бафаевич Сейфетдинов,Бафа Османович Сейфетдинов,Марат Бафаевич Сейфетдинов. Владелец: Марат Бафаевич Сейфетдинов. Дата публикации: 2013-06-27.

Front device for combustion chamber and method of its operation

Номер патента: RU2285865C1. Автор: Александр Юрьевич Васильев,Виктор Иванович Ягодкин,Виктор Иванович Фурлетов,Вячеслав Петрович Ляшенко,шенко В чеслав Петрович Л. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный институт авиационного моторостроения им. П.И. Баранова". Дата публикации: 2006-10-20.

Device for reeeving of pipeline diagnostics and cleaning facilities into start-up chamber and withdrawal from receiving chamber

Номер патента: RU2390392C1. Автор: Ильмер Юсупович Хасанов,Юрий Алексеевич Черных,Ульфат Нурлыгаянович Сабиров,Борис Сергеевич Посягин,Ильдар Мансурович Гималетдинов,Петр Евгеньевич Ревин. Владелец: Ильмер Юсупович Хасанов. Дата публикации: 2010-05-27.

Method and apparatus for inspecting refractory lining in coke oven chambers and the like

Номер патента: CA1099393A. Автор: Francis H. Bricmont. Владелец: Bricmont and Associates Inc. Дата публикации: 1981-04-14.

Reverberatory Furnace with Separate Dust Chambers and Regenerating Chambers Arranged in Pairs.

Номер патента: GB190821095A. Автор: Emil Kirchberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-09-23.

Rotary through dryer having multiple vacuum chambers and associated heaters

Номер патента: CA1088743A. Автор: Morris R. Rivers,Frederick D. Helversen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-11-04.

Deposition chamber and method of using the same

Номер патента: SG195401A1. Автор: Feng Li,Feng Liu,Boon Chung Alvin Lim,Lay-Huat Ang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-12-30.

Forced air pesticide vaporizer with heatsink vaporization chamber and offset exhaust chamber

Номер патента: NZ739571A. Автор: J Martens Allen,B Martens Kristopher. Владелец: Techtoba Inc. Дата публикации: 2020-03-24.

Magnetron sputtering apparatus and process.

Номер патента: MY103984A. Автор: Russel Austin R,W Seeser James,Ian Seddon Richard,M Lefebvre Paul,W Manley Barry,A Scobey Michael. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1993-10-30.

Magnetron sputtering system

Номер патента: RU2151439C1. Автор: Л.Г. Косицын,П.С. Ананьин,В.П. Кривобоков,О.С. Кузьмин,В.Н. Легостаев. Владелец: Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете. Дата публикации: 2000-06-20.

Magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus provided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5049561B2. Автор: 泰彦 赤松,孝 小松,辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-10-17.

Reduce the method and magnetron sputtering apparatus of magnetron sputtering apparatus deposition rate

Номер патента: CN105734511B. Автор: 赵可可,边国栋,宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-06.

Magnetron sputtering apparatus cathode unit and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2023049164A. Автор: 悟 高澤,幸太 河原,Kota Kawahara,利哉 青柳,Toshiya Aoyagi,Satoru Takazawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-04-10.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: JP5180796B2. Автор: 克尚 加茂. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2013-04-10.

Magnetron sputtering method, magnetron sputtering apparatus and magnet unit used therefor

Номер патента: JP3834111B2. Автор: 政秀 横山,賢治 丸山. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-10-18.

Magnetron sputtering apparatus, backing plate, target assembly and magnetron sputtering method

Номер патента: JP2016023329A. Автор: Kazuhiro Fukushima,誠樹 森,Masaaki Kawasugi,Seiki Mori,正晃 河杉,福島　和宏,和宏 福島. Владелец: PROMATIC KK. Дата публикации: 2016-02-08.

Seat for magnetron sputtering target and magnetron sputtering apparatus using same

Номер патента: TW201102452A. Автор: Tai-Sheng Tsai. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-16.

Device for high-speed magnetron sputtering

Номер патента: RU2311492C1. Автор: Виктор Иванович Чайрев,Джун Мьен Чой. Владелец: Чой Джун Мьён. Дата публикации: 2007-11-27.

METHOD OF MAGNETRON SPUTTERING AND A METHOD FOR DETERMINING A POWER MODULATION COMPENSATION FUNCTION FOR A POWER SUPPLY APPLIED TO A MAGNETRON SPUTTERING SOURCE

Номер патента: US20120279851A1. Автор: . Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2012-11-08.

Magnetron sputtering equipment and magnetron sputtering method

Номер патента: CN104213089A. Автор: 李岩,张峰,辛旭,杜晓健. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-17.

magnetron sputtering apparatus and magnetron control method

Номер патента: CN103422065B. Автор: 陈春伟,夏威,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Magnetron sputtering target holder and magnetron sputtering device comprising same

Номер патента: CN101928928B. Автор: 蔡泰生. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Magnetic field regulator, target assembly of magnetron sputtering device and magnetron sputtering device

Номер патента: CN215440668U. Автор: 王国峰,杨忠武,孙佳琦,张汝康. Владелец: Beihai Huike Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-07.

Magnetron sputtering chamber and vacuum coating equipment comprising same

Номер патента: CN203096161U. Автор: 王叔晖,刘竹杨. Владелец: SHANGHAI FADE MACHINERY EQUIPMENT CO Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Magnetron sputtering source and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN103088306A. Автор: 刘旭,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Magnetron sputtering electrode and magnetron sputtering device

Номер патента: CN219010442U. Автор: 彭华明,段勤肄,潘高,赵超军,章潇. Владелец: Chengdu Tianma Micro Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-12.

Insulating block for magnetron sputtering and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN210193987U. Автор: Shixin Qi,齐士新. Владелец: Tianjin CSG Energy Conservation Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-27.

Magnetron sputtering target of magnetron sputtering film plating machine

Номер патента: CN102703872A. Автор: 赵铭. Владелец: GUANGDONG YOUTONG INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-03.

Magnetic control source, magnetron sputtering equipment and magnetron sputtering method

Номер патента: CN102560387B. Автор: 耿波,邱国庆,边国栋,武学伟,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-28.

Magnetron assembly and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN103972016B. Автор: 吕峰,王厚工,耿波,边国栋,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Sputter deposition method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP4161642B2. Автор: 栄治 志堂寺,安彦 赤尾,淳一 陰山. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-08.

Magnetron sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2023069659A. Автор: Masaki Hasegawa,正樹 長谷川,辰徳 磯部,淳介 松崎,Junsuke Matsuzaki,祐輔 氏原,Yusuke Ujihara,Tatsunori Isobe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-18.

High-power pulse magnetron sputtering apparatus and surface treatment apparatus

Номер патента: TWI381063B. Автор: Der Jun Jan,jin yu Wu,Wen Lung Liung,Ming Jui Tsai,Cheng Chang Hsieh,Shin Wu Wei,Chia Cheng Lee,Chi Fong Ai. Владелец: Iner Aec Executive Yuan. Дата публикации: 2013-01-01.

Magnetron assembly and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN105779952B. Автор: 李冰,边国栋,宿晓敖. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-08.

Magnetron sputtering method and magnetron launcher of particles

Номер патента: PL146632B1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1989-02-28.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20130081938A1. Автор: MIZUNO Shigeru,GOMI Atsushi,TOSHIMA Hiroyuki,HATANO Tatsuo,MIZUSAWA Yasushi,Miyashita Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-04.

Can monitor in real time chip temperature lifting needle system and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104746035B. Автор: 耿波,张同文,常大磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Magnetron sputtering device and sputtering method

Номер патента: JP2000045069A. Автор: Masahiro Yamamoto,Toshiyuki Suemitsu,敏行 末光,昌裕 山本,達之 森,政秀 横山,Masahide Yokoyama,Tatsuyuki Mori. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2000-02-15.

Magnetron sputtering apparatus and process

Номер патента: CN103173730B. Автор: 陈春伟,夏威,王厚工,宗令蓓,窦润江. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Pre-sputtering protection and radio frequency cleaning mixing arrangement in a kind of magnetron sputtering

Номер патента: CN206692725U. Автор: 徐靖,谢云,关江敏. Владелец: BEIJING CHUANGSHI WEINA TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-01.

Integral type for magnetron sputtering production line sputters round target

Номер патента: CN208201109U. Автор: 杨林,金炯�,姜琼. Владелец: Hangzhou Vacuum Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-07.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120073960A1. Автор: Ikeda Masayoshi,SHIBUYA Yohsuke,Sago Yasumi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120090991A1. Автор: Xie Zhenyu. Владелец: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-04-19.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120118733A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-17.

MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120160673A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130105309A1. Автор: MIZUNO Shigeru,TOSHIMA Hiroyuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

Rotation Plus Vibration Magnet for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20130213797A1. Автор: Chou You-Hua,Lin Bo-Hung,Tsai Ming-Chih,Kao Chung-En. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-08-22.

Side magnet frame and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN105779949B. Автор: 宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-18.

Dual magnetron sputtering apparatus and thin film body manufacturing method

Номер патента: JP4873681B2. Автор: 雅之 亀井. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2012-02-08.

Magnetron sputtering apparatus and method for producing transparent conductive film

Номер патента: JP5447240B2. Автор: 英治 横塚,徳行 中山. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2014-03-19.

Magnetron sputtering apparatus and film forming method using the same

Номер патента: JP4957992B2. Автор: 隆之 井関. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2012-06-20.

Arc ion source reinforced magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN201169620Y. Автор: 黎明,杨兵,付德君,余益飞. Владелец: WUHAN XINGE COATING EQUIPMENT CO Ltd. Дата публикации: 2008-12-24.

Magnetron sputtering anode

Номер патента: GB202108955D0. Автор: . Владелец: Gencoa Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Magnetron sputtering device

Номер патента: TW574404B. Автор: Tun-Ho Teng. Владелец: Hannstar Display Corp. Дата публикации: 2004-02-01.

Magnetron sputtering device

Номер патента: GB9223211D0. Автор: . Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 1992-12-16.

Magnetron sputter

Номер патента: TW201104002A. Автор: Ming-Chih Lai,Cheng-Tsung Liu. Владелец: Univ Nat Sun Yat Sen. Дата публикации: 2011-02-01.

Magnetron sputtering equipment

Номер патента: TW201102453A. Автор: Wesley Huang,Yu-Sen Yang,Yong-Fang Su. Владелец: Univ Nat Kaohsiung 1St Univ Sc. Дата публикации: 2011-01-16.

Processing apparatus and magnetron sputter

Номер патента: TWI249584B. Автор: Cheng-Ju Tung. Владелец: Chi Mei Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2006-02-21.

Producing method of aluminum fluoride thin film by utilizing reactive magnetron sputtering process with pure aluminum target

Номер патента: TW201006945A. Автор: Bo-Hui Liao,zheng-zhong Li,Min-Zhong Liu. Владелец: Univ Nat Central. Дата публикации: 2010-02-16.

Processing apparatus and magnetron sputter

Номер патента: TW200600600A. Автор: Cheng-Ju Tung. Владелец: Chi Mei Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2006-01-01.

Reaction chamber and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN103882397B. Автор: 刘晓伟,郭总杰,郭会斌,王守坤,冯玉春. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-13.

Cylindrical Magnetron Sputter Source Utilizing Halbach Magnet Array

Номер патента: US20120048724A1. Автор: McLeod Paul S.. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-01.

MAGNETRON SPUTTERING CATHODE AND FILM FORMATION APPARATUS

Номер патента: US20120097534A1. Автор: Yamada Shinya,ISHIBASHI Satoru,Takahashi Hirohisa,Sakuma Kouhei. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-04-26.

MAGNETRON-SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120171784A1. Автор: Wang Wensheng. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-07-05.

Cylindrical Rotating Magnetron Sputtering Cathode Device and Method of Depositing Material Using Radio Frequency Emissions

Номер патента: US20130008777A1. Автор: . Владелец: Mustang Vacuum Systems, Inc.. Дата публикации: 2013-01-10.

ROTARY CATHODES FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM

Номер патента: US20130032476A1. Автор: Crowley Daniel Theodore,Neal Michelle Lynn. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2013-02-07.

MEDIUM FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING DEVICE

Номер патента: US20130056352A1. Автор: HUANG TENG-TSUNG,CHANG HSIN-PEI,PENG LI-QUAN. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-07.

MAGNETIC CORE FOR CYLINDRICAL MAGNETRON SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20130168242A1. Автор: HUANG TENG-TSUNG,XU HUA-YONG,LIU ZHEN-ZHANG. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-04.

FTO THIN FILM PREPARATION USING MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION WITH PURE TIN TARGET

Номер патента: US20130243967A1. Автор: LEE Cheng-Chung. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2013-09-19.

CYLINDRICAL MAGNETRON SPUTTERING TARGET ASSEMBLY

Номер патента: US20130264199A1. Автор: HUANG TENG-TSUNG,XU HUA-YONG,LIU ZHEN-ZHANG. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.