双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法
Номер патента: CN111286706B
Опубликовано: 03-05-2022
Автор(ы): 刘奎, 刘子毓, 赵娟, 钟洪伟, 陈年庚
Принадлежит: Beijing Enlightenment Clean Energy Technology Co ltd, Beijing Tsinghua Solar Systems Co ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-05-2022
Автор(ы): 刘奎, 刘子毓, 赵娟, 钟洪伟, 陈年庚
Принадлежит: Beijing Enlightenment Clean Energy Technology Co ltd, Beijing Tsinghua Solar Systems Co ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Double-chamber three-station multi-target co-sputtering magnetron sputtering coating method
Номер патента: CN111286706A. Автор: 赵娟,刘奎,钟洪伟,刘子毓,陈年庚. Владелец: Beijing Tsinghua Solar Systems Co ltd. Дата публикации: 2020-06-16.