High density microwave plasma generation apparatus, and magnetron sputtering deposition system using the same
Номер патента: US09506142B2
Опубликовано: 29-11-2016
Автор(ы): Hirotaka TOYODA, Kensuke Sasai
Принадлежит: Nagoya University NUC, Sumitomo Riko Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-11-2016
Автор(ы): Hirotaka TOYODA, Kensuke Sasai
Принадлежит: Nagoya University NUC, Sumitomo Riko Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma generation source including belt-type magnet and thin film deposition system using this
Номер патента: US09589772B2. Автор: Suk Jae Yoo,Seong Bong Kim. Владелец: Korea Basic Science Institute KBSI. Дата публикации: 2017-03-07.