Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Microwave plasma generator

Номер патента: US20070272663A1
Опубликовано: 29-11-2007
Автор(ы): Chuen-Yuan Hsu, Jun-Wei Su, Kuan-Jiuh Lin
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Microwave plasma generator

Номер патента: WO2003041111A1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: Accentus Plc. Дата публикации: 2003-05-15.

Microwave plasma generator

Номер патента: EP1449233B1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2006-03-15.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Microwave plasma generator

Номер патента: US20040256056A1. Автор: Stephen Hall,James Shawcross,Robert Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2004-12-23.

Microwave plasma generator

Номер патента: EP1449233A1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2004-08-25.

A microwave plasma reactor with a plurality of emitters and absorbers and a method for plasma processing a workpiece using such a microwave plasma reactor

Номер патента: WO2024088791A1. Автор: Jürgen WEICHART,Luca Marcaccioli,Jörg PATSCHEIDER,Kevin Hug,Fabio ISA,Marco CAPODURI,Hamza EL GHANNUDI,Günter RATZ. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-05-02.

Microwave plasma apparatus for generating a uniform plasma

Номер патента: US5359177A. Автор: Masakazu Taki,Keisuke Namba,Kenji Yoshizawa,Junichi Nishimae. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-10-25.

Device for the production of homogenous microwave plasma

Номер патента: CA2294197C. Автор: Hildegard Sung-Spitzl. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-16.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: WO2023229928A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: US20230377848A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Microwave plasma source

Номер патента: US5480533A. Автор: Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-01-02.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Plasma generator using microwave

Номер патента: US20040051463A1. Автор: Yuichi Sakamoto,Kazuaki Senda. Владелец: Mikuro Denshi Corp Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

Plasma generator using microwave

Номер патента: US6717368B1. Автор: Yuichi Sakamoto,Kazuaki Senda. Владелец: Mikuro Denshi Corp Ltd. Дата публикации: 2004-04-06.

Plasma generating apparatus

Номер патента: US5173641A. Автор: Nobuo Ishii,Issei Imahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1992-12-22.

Microwave plasma generator

Номер патента: CA1286427C. Автор: Donald K. Smith,Marcel P.J. Gaudreau. Владелец: Applied Science and Technology Inc. Дата публикации: 1991-07-16.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Microwave plasma generator

Номер патента: WO1988010506A1. Автор: Donald K. Smith,Marcel P. J. Gaudreau. Владелец: Applied Science & Technology, Inc.. Дата публикации: 1988-12-29.

Microwave plasma CVD apparatus comprising dual plungers for two-dimension plasma position adjustment

Номер патента: US5292371A. Автор: Munehiro Chosa,Haruo Yasui. Владелец: Idemitsu Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-03-08.

Microwave plasma apparatus

Номер патента: GB2442990A. Автор: Xiaoming Duan,Neil Philip Wright,Ba Duong Phan. Владелец: C Tech Innovation Ltd. Дата публикации: 2008-04-23.

Microwave plasma reactor for production of synthetic diamond material

Номер патента: RU2540399C1. Автор: Джон Роберт БРЭНДОН,Александр Лэмб КАЛЛЕН,Стивен Дэвид УИЛЛЬЯМС,Джозеф Майкл ДОДСОН,Джонатан Джеймс УИЛМАН,Кристофер Джон Ховард УОРТ. Владелец: Элемент Сикс Лимитед. Дата публикации: 2015-02-10.

Microwave plasma processing process and apparatus

Номер патента: USRE36224E. Автор: Shuzo Fujimura,Toshimasa Kisa,Yasunari Motoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-06-08.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: WO2012084660A1. Автор: Stephen David Williams,Joseph Michael Dodson,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Alexander Lamb CULLEN. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2012-06-28.

Microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: US10403477B2. Автор: Stephen David Williams,Joseph Michael Dodson,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Alexander Lamb CULLEN. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-09-03.

Microwave plasma processing device

Номер патента: US5290993A. Автор: Takashi Fujii,Tetsunori Kaji,Yoshinao Kawasaki,Motohiko Yoshigai,Masaharu Nishiumi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-03-01.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US20080173402A1. Автор: Nobumasa Suzuki,Yuu Nishimura,Yusuke Fukuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-24.

Process and apparatus for forming a deposited film using microwave-plasma CVD

Номер патента: US5449880A. Автор: Satoshi Takaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1995-09-12.

Microwave plasma processing apparatus, microwave processing method and microwave feeding apparatus

Номер патента: US7325511B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Naohisa Goto,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-05.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: WO2019216772A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: Bergen Teknologioverforing AS. Дата публикации: 2019-11-14.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: EP3791421A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2021-03-17.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5700326A. Автор: Akio Koganei,Takashi Kurokawa,Toshio Adachi,Hiroshi Echizen,Shuichiro Sugiyama,Kazumasa Takatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-12-23.

Production and characterization of carbon nanowall thin films by pulsed filtered catodic vacuum arc deposition and electron cyclotron resonance microwave plasma tecniques

Номер патента: WO2022169434A1. Автор: Birsen KESIK ZEYREK,Hamide KAVAK. Владелец: Cukurova Universitesi Rektorlugu. Дата публикации: 2022-08-11.

Coaxial type impedance matching device and impedance detecting method for plasma generation

Номер патента: US20060144519A1. Автор: Takashi Ogino,Shigeru Kasai,Toshiaki Kitamura,Yuki Osada,Koichi Rokuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-07-06.

Remote plasma generator using ceramic

Номер патента: US09773645B2. Автор: Kang-Ho Lee,Jung-hyun Cho,Sang-Jean Jeon,Kwang-Young Jung,Moo-Jin Kim,Soon-Im Wi,Yun-sik Yang,Chung-Huan Jeon,Jang-Hyoun Youm,Ja-Woo Lee,Heok-Jae Lee,Sun-Uk Kim,Jang-kyu CHOI. Владелец: DANDAN Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Atmospheric pressure plasma generating apparatus by induction electrode

Номер патента: WO2008075817A1. Автор: Seok Kyun Song. Владелец: Uion Co., Ltd.. Дата публикации: 2008-06-26.

Plasma generating method, plasma generating apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20070193512A1. Автор: Kenji Kato,Hitoshi Yoneda,Akinori Ebe,Hiroshige Deguchi,Yuichi Setsuhara. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-23.

Plasma generation by mode-conversion of RF-electromagnetic wave to electron cyclotron wave

Номер патента: US20030232151A1. Автор: Mirko Vukovic. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-12-18.

Method of igniting plasma and plasma generating system

Номер патента: US20220115211A1. Автор: Bryan Liao. Владелец: SPP Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Plasma generation device

Номер патента: US09984857B2. Автор: Joachim Mai. Владелец: Meyer Burger Germany GmbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma generator

Номер патента: US09704691B2. Автор: Evgenij Vladimirovich BERLIN,Vasily Juryevich GRIGORYEV. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma generation systems with multi-dimensional impedance matching networks

Номер патента: US12080520B2. Автор: Keith Rouse,Gary Russell,Anthony Oliveti,Tigran Poghosyan,Dean Maw. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma generator, plasma treatment device, and method for providing electric power in a pulsed manner

Номер патента: US12087544B2. Автор: Sebastian Hubertus Schulz,Thomas Pernau,Florian Nachbauer,Felix Walk. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma generating method and apparatus for generating rotating electrons in the plasma

Номер патента: US5436424A. Автор: Noboru Nomura,Ichiro Nakayama,Mitsuhiro Okuni,Tokuhiko Tamaki,Masafumi Kubota. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1995-07-25.

Plasma Generation Apparatus

Номер патента: US20190355558A1. Автор: Jung-hyung Kim,Dae-Jin Seong,Hyo Chang LEE. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2019-11-21.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and method of controlling plasma generating apparatus

Номер патента: US20180096826A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and method of controlling plasma generating apparatus

Номер патента: US10643824B2. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-05.

Vacuum Plasma Generator

Номер патента: US20080143260A1. Автор: Jürgen Ramm,Daniel Lendi,Gerhard Tuymer. Владелец: Oerlikon Trading AG Truebbach. Дата публикации: 2008-06-19.

Plasma generating unit and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: US20160027617A1. Автор: Jung Hwan Lee,Duk Hyun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-28.

Plasma generator for edge uniformity

Номер патента: WO2024112387A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-30.

Temperature-controlled plasma generation system

Номер патента: US20200251312A1. Автор: Li-Shi Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12131889B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Takeshi Ando,Yuki Tanaka,Kiwamu Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma generator systems and methods of forming plasma

Номер патента: US09591738B2. Автор: David Cheung,Prashanth Kothnur,Huatan Qiu. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Cluster tool soft etch module and ecr plasma generator therefor

Номер патента: AU1240692A. Автор: Ebrahim Ghanbari. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1992-12-30.

Radio frequency plasma generator

Номер патента: GB2317265A. Автор: Michael Inman,Peter Charles Johnson. Владелец: AEA Technology PLC. Дата публикации: 1998-03-18.

Plasma generator, plasma processing device, and method of manufacturing semiconductor device using the plasma processing device

Номер патента: US20230117953A1. Автор: Sejin Oh,Sanghun Kim,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Taemin EARMME,Changyun Lee,Sangki NAM,Seongmoon Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma generator

Номер патента: US10115569B2. Автор: Hongseub KIM. Владелец: Jehara Corp. Дата публикации: 2018-10-30.

Plasma generator, plasma treatment device, and method for providing electric power in a pulsed manner

Номер патента: US20210111001A1. Автор: Sebastian Hubertus Schulz,Thomas Pernau,Florian Nachbauer,Felix Walk. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2021-04-15.

Plasma generator

Номер патента: US20170372875A1. Автор: Hongseub KIM. Владелец: Jehara Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Plasma generating apparatus and method for operating same

Номер патента: US20240006150A1. Автор: Sae Hoon Uhm,Yun Seong Lee,Yeong Hoon SOHN,Se Hong PARK. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma generator systems and methods of forming plasma

Номер патента: US20090250334A1. Автор: David Cheung,Prashanth Kothnur,Huatan Qiu. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-10-08.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20220122812A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Takeshi Ando,Yuki Tanaka,Kiwamu Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma generating apparatus and method for operating same

Номер патента: US11791133B2. Автор: Sae Hoon Uhm,Yun Seong Lee,Yeong Hoon SOHN,Se Hong PARK. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Plasma generator

Номер патента: US20230060486A1. Автор: Sangchul Han,Myoungsoo Kim,Changyun Lee,Daeman SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma generator for edge uniformity

Номер патента: US20240170261A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma generator

Номер патента: US12016109B2. Автор: Sangchul Han,Myoungsoo Kim,Changyun Lee,Daeman SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-18.

Large area microwave plasma apparatus with adaptable applicator

Номер патента: EP1027475A4. Автор: Joachim Doehler. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 2007-05-02.

Window for microwave plasma processing device

Номер патента: WO1992022085A1. Автор: Takashi Inoue,Masahiko Tanaka,Shunji Miyahara,Ching-Hwa Chen,David Pirkle. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1992-12-10.

Large area microwave plasma apparatus with adaptable applicator

Номер патента: EP1027475A1. Автор: Joachim Doehler. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 2000-08-16.

Microwave plasma cvd apparatus

Номер патента: US5178683A. Автор: Fumio Takamura. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 1993-01-12.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US5983829A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Device for generating powerful microwave plasmas

Номер патента: CA2248250C. Автор: Benedikt Aschermann,Ralf Spitzl. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-08.

Microwave introducing mechanism, microwave plasma source and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: KR101314485B1. Автор: 다로 이케다. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-10-07.

Microwave introducing mechanism, microwave plasma source and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: CN101971302A. Автор: 池田太郎. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-09.

Linear microwave plasma generating device using permanent magnet

Номер патента: JPH11288799A. Автор: Marc Delaunay,ドゥローネイ マルク. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1999-10-19.

Microwave plasma generator

Номер патента: US6401653B1. Автор: Michio Taniguchi,Kazuki Kondo,Shoichiro Minomo,Shigeki Amadatsu. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2002-06-11.

Microwave plasma generating apparatus with improved heat protection of sealing o-rings

Номер патента: KR100616191B1. Автор: 토마스 노왁,하리 포네칸티,츄도무 다나까,챠우 티. 엔가이엔,케빈 페어바이른. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-08-25.

Microwave plasma generating device

Номер патента: US20060065195A1. Автор: Masaaki Nagatsu. Владелец: Hamamatsu Foundation for Science and Technology Promotion. Дата публикации: 2006-03-30.

Coaxial resonator microwave plasma generator

Номер патента: US6204603B1. Автор: Benedikt Aschermann,Ralf Spitzl. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-03-20.

Microwave plasma generation device

Номер патента: KR100242332B1. Автор: 다다시 사또,겐이찌 나쯔이,사또시 이찌무라,다까시 이가. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2000-02-01.

Microwave plasma generator

Номер патента: EP1391911B1. Автор: Yuichi Sakamoto,Kazuaki C/o Mikuro Denshi Corporation Ltd. Senda. Владелец: Mikuro Denshi Corp Ltd. Дата публикации: 2011-02-09.

Top plate of microwave plasma processing apparatus, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20110000780A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Kiyotaka Ishibashi,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-01-06.

Method of and apparatus for microwave-plasma production

Номер патента: GB9701072D0. Автор: . Владелец: EA Technology Ltd. Дата публикации: 1997-03-12.

Large area microwave plasma apparatus with adaptable applicator

Номер патента: AU9404598A. Автор: Joachim Doehler. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1999-04-23.

Microwave plasma device

Номер патента: US09941126B2. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Microwave plasma device

Номер патента: US09934974B2. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Microwave plasma treatment appts. for semiconductor - useful for thin film and etching in electronics, comprises chamber partition of microwave transparent material

Номер патента: DE4133030A1. Автор: Masahiro Tanaka,Mitsuo Nakatani,Kunihiko Watanabe,Kazuo Suzuki,Satoru Todoroki. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1992-04-09.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: JP6478748B2. Автор: 河西　　繁,伸彦 山本,太郎 池田,池田　太郎,聡 谷原,河西　繁. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-06.

Microwave plasma process apparatus and plasma process control method

Номер патента: JP5138131B2. Автор: 忠弘 大見,昌樹 平山,成利 須川,哲也 後藤. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-06.

Microwave plasma source and plasma processing device

Номер патента: TWI430358B. Автор: Shigeru Kasai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-11.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US20150013913A1. Автор: Toshihiko Iwao,Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

MICROWAVE PLASMA REACTOR FOR MANUFACTURING SYNTHETIC DIAMOND MATERIAL

Номер патента: US20140230729A1. Автор: Wort Christopher John Howard,Williams Stephen David,Brandon John Robert,Wilman Jonathan James,DODSON JOSEPH MICHAEL,Cullen Alexander Lamb. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2014-08-21.

WORKPIECE PROCESSING CHAMBER HAVING A ROTARY MICROWAVE PLASMA ANTENNA WITH SLOTTED SPIRAL WAVEGUIDE

Номер патента: US20180190472A1. Автор: Stowell Michael W.. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

MICROWAVE PLASMA DEVICE

Номер патента: US20180226255A1. Автор: CHEN Lee,FUNK Merritt,Zhao Jianping. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2018-08-09.

Microwave plasma processing process and apparatus

Номер патента: US5364519A. Автор: Shuzo Fujimura,Toshimasa Kisa,Yasunari Motoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-11-15.

High efficient-atmospheric microwave plasma system

Номер патента: KR100500360B1. Автор: 김상영,이근호,홍정미. Владелец: 고등기술연구원연구조합. Дата публикации: 2005-07-12.

Microwave Plasma Treatment

Номер патента: KR100373971B1. Автор: 사또다까시,와따나베가쯔야,하이까따에리. Владелец: 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2003-05-09.

Microwave plasma device

Номер патента: DE102018000401A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Ralf Spitzl. Дата публикации: 2019-07-25.

Device for generating microwave plasmas

Номер патента: DE4235914A1. Автор: Juergen Prof Dr Engemann,Frank Dipl Phys Werner. Владелец: Juergen Prof Dr Engemann. Дата публикации: 1994-04-28.

Device and method for locally producing microwave plasma

Номер патента: US20100116790A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2010-05-13.

Device and method for locally producing microwave plasma

Номер патента: CA2666131A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2008-04-24.

Device and method for locally producing microwave plasma

Номер патента: AU2007312620A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2008-04-24.

Device and method for locally producing microwave plasma

Номер патента: EP2080215A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2009-07-22.

Apparatus and method for local generation of microwave plasmas

Номер патента: DE102006048816A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2008-04-17.

Device for generating powerful microwave plasmas

Номер патента: DE29623199U1. Автор: . Владелец: Spitzl Ralf Dr. Дата публикации: 1998-04-02.

Device for generating homogeneous microwave plasmas

Номер патента: DE19726663A1. Автор: Hildegard Dr Ing Sung-Spitzl. Владелец: SUNG SPITZL HILDEGARD DR ING. Дата публикации: 1999-01-28.

Apparatus and method for generating high power microwave plasmas

Номер патента: DE102006048815B4. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2016-03-17.

Microwave plasma etching method and apparatus

Номер патента: KR930005012B1. Автор: 세이지 사무가와,마사미 사사끼,스미오 모리. Владелец: 세끼모도 다다히로. Дата публикации: 1993-06-11.

Microwave plasma device

Номер патента: KR20200109363A. Автор: 랄프 슈피츨. Владелец: 랄프 슈피츨. Дата публикации: 2020-09-22.

Microwave Plasma Treatment

Номер патента: KR960002630A. Автор: 다까시 사또,가쯔야 와따나베,에리 하이까따. Владелец: 가부시끼가이샤 히다찌 세이사꾸쇼. Дата публикации: 1996-01-26.

Linear microwave plasma source with permanent magnets

Номер патента: EP0932183A1. Автор: Marc Delaunay. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1999-07-28.

High density microwave plasma apparatus

Номер патента: KR20180075001A. Автор: 유승민,박승일,김성봉,윤성영,오재성,임정현,윤정우,유석재,박연수,전형원. Владелец: 한국기초과학지원연구원. Дата публикации: 2018-07-04.

Microwave plasma etching device

Номер патента: JPS60134423A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,芳文 小川,Takeshi Ninomiya,健 二宮,Sadayuki Okudaira,敬三 鈴木,西松　茂,奥平　定之. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-07-17.

Microwave plasma processing apparatus and method

Номер патента: KR100311104B1. Автор: 나오끼 마쓰모또,도시오 나까니시. Владелец: 도쿄 엘렉트론 가부시키가이샤. Дата публикации: 2001-11-15.

Microwave plasma cvd apparatus

Номер патента: EP0449081A3. Автор: Fumio Takamura. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 1992-03-18.

Microwave plasma CVD apparatus

Номер патента: EP0449081B1. Автор: Fumio Takamura. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 1995-06-21.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JPH0693447B2. Автор: 芳文 小川,健 二宮,定之 奥平,茂 西松,敬三 鈴木. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-11-16.

Film forming equipment using microwave plasma

Номер патента: JPH0686663B2. Автор: 健 二宮,訓之 作道,敬三 鈴木,克己 登木口. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-11-02.

Method and device for microwave plasma etching.

Номер патента: DE59009845D1. Автор: Seiji C O Nec Corpora Samukawa,Masami C O Anelva Corp Sasaki,Sumio C O Anelva Corp Mori. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 1995-12-14.

MICROWAVE PLASMA MACHINING DEVICE

Номер патента: DE69231405T2. Автор: Takashi Inoue,Masahiko Tanaka,Shunji Miyahara,Ching-Hwa Chen,David Pirkle. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-07-19.

Microwave plasma-etching equipment

Номер патента: JPS59130428A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Sadayuki Okudaira,Ichiro Shikamata,敬三 鈴木,西松　茂,奥平　定之,鹿又　一郎. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-07-27.

Device for the production of homogenous microwave plasma

Номер патента: CA2294197A1. Автор: Hildegard Sung-Spitzl. Владелец: Hildegard Sung-Spitzl. Дата публикации: 1998-12-30.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: CA3221936A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: US12106939B2. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for oxidizing a silicon carbide based on microwave plasma at an ac voltage

Номер патента: US20200152451A1. Автор: HONG Chen,Yun Bai,Xinyu Liu,Xiaoli Tian,Yidan TANG,Chengyue Yang,Shengkai WANG,Zhonglin Han. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2020-05-14.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: US20230225042A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: PlasmaFlow LLC. Дата публикации: 2023-07-13.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: AU2022285734A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: EP4348696A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2024-04-10.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: US20220392751A1. Автор: Andrew Murray,Garrett Hill. Владелец: PlasmaFlow LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: WO2022256528A4. Автор: Garrett Hill. Владелец: Plasma Flow, LLC. Дата публикации: 2023-01-05.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Apparatus for forming functional deposited film by microwave plasma CVD process

Номер патента: US4998503A. Автор: Tsutomu Murakami,Masahiro Kanai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1991-03-12.

Microwave plasma deposition device

Номер патента: US20120234241A1. Автор: I-Nan Lin,Ton-Rong TSENG. Владелец: MASTEK TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2012-09-20.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Focalized microwave plasma reactor

Номер патента: US11183369B2. Автор: Chih-Chen Chang,Kun-Ping Huang,Yu-Wen Chi. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2021-11-23.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Multi-port Phase Compensation Nested Microwave-plasma Apparatus for Diamond Film Deposition

Номер патента: US20230260756A1. Автор: Jie Liu,Liping Yan,Zhiqun Cheng,Tiansong Deng. Владелец: Hangzhou Dianzi University. Дата публикации: 2023-08-17.

Plasma generation apparatus and method

Номер патента: EP1354336A2. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-10-22.

Plasma generation apparatus and method

Номер патента: WO2002059934A3. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma generating device comprising a rotating body

Номер патента: US09779915B2. Автор: Jae Beom Park. Владелец: APPLIED PLASMA Inc CO Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma generating apparatus

Номер патента: US20080218086A1. Автор: Shigeki Sakai. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma generation quality monitoring using multi-channel sensor data

Номер патента: WO2024229041A1. Автор: Tao Zhang,Jeremy Smith,Vivek Bharat SHAH,John POULOSE,Ghadeh HADI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma generation quality monitoring using multi-channel sensor data

Номер патента: US20240371617A1. Автор: Tao Zhang,Jeremy Smith,Vivek Bharat SHAH,John POULOSE,Ghadeh HADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma generator and thermal electron emitter

Номер патента: US09659755B2. Автор: Masateru Sato. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Atmospheric-pressure plasma generator

Номер патента: EP3832697A1. Автор: Takahiro Jindo. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2021-06-09.

Plasma generating device

Номер патента: US09576775B2. Автор: Stefan Nettesheim,Georg Kuegerl,Markus Puff. Владелец: Reylon Plasma GmbH. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma-Generating Structures, Display Devices, and Methods of Forming Plasma-Generating Structures

Номер патента: US20120001539A1. Автор: Stephen J. Kramer,Neal Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-01-05.

Droplet removing device and method in plasma generator

Номер патента: US7976612B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-07-12.

Droplet removing device and method in plasma generator

Номер патента: EP1862565B1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2012-04-25.

Plasma-Generating Structures, Display Devices, and Methods of Forming Plasma-Generating Structures

Номер патента: US20120001539A1. Автор: Stephen J. Kramer,Neal Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma generation device with microstrip resonator

Номер патента: US20150015140A1. Автор: Mehrnoosh Vahidpour,Mark Denning. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2015-01-15.

Plasma generating device

Номер патента: US20220020564A1. Автор: Chia-Chiang Chang. Владелец: Ap Plasma Corp. Дата публикации: 2022-01-20.

Connection of high-performance pulse discharge plasma generator, especially for magnetron sputtering

Номер патента: US12051578B2. Автор: Jan Sykora,Roman Sykora,Lubomir Caplovic,Jana Bohovicova,Marcel Mesko. Владелец: Slovenka Technicka Univerzita V Bratilasve. Дата публикации: 2024-07-30.

Pulsed Plasma Generator

Номер патента: US20130026919A1. Автор: Kirk W. Rosener. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-01-31.

Plasma generation unit and method of discriminating state of physical quantity which is used for plasma generation

Номер патента: US20200294766A1. Автор: Hideo Kato,Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Plasma generating device

Номер патента: US09809039B2. Автор: Guido G. Willems,Hermanus M. KUYPERS. Владелец: Oce Technologies BV. Дата публикации: 2017-11-07.

Antenna for plasma generation, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09552966B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Plasma generation for thin film deposition on flexible substrates

Номер патента: US09435028B2. Автор: Eric R. Dickey. Владелец: Lotus Applied Technology LLC. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma generating device with stepped waveguide transition

Номер патента: US4788473A. Автор: Takashi Igarashi,Haruhisa Mori,Masanao Hotta,Yoshinobu Ono,Motoo Nakano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-11-29.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma generating apparatus

Номер патента: US20200236773A1. Автор: Kedar K. Pai,Chris Timmons. Владелец: Board of Regents for Oklahoma Agricultural and Mechanical Colleges. Дата публикации: 2020-07-23.

Plasma generator

Номер патента: US09536709B2. Автор: Yoshiaki Tatsumi,Li Luo,Satomi KOYAMA. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Radio-frequency plasma generating system and method for adjusting the same

Номер патента: US11885315B2. Автор: Dmytro Rafalskyi,Stanislav DUDIN. Владелец: Thrustme. Дата публикации: 2024-01-30.

Induction concentration remote atmospheric pressure plasma generating apparatus

Номер патента: US7453191B1. Автор: Seok Kyun Song. Владелец: Uion Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-18.

Plasma generation device and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140299272A1. Автор: Akihiro Tsuji,Song Yun Kang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-09.

Plasma generation using multi-step ionization

Номер патента: EP1614136A2. Автор: Roman Chistyakov. Владелец: Zond LLC. Дата публикации: 2006-01-11.

Electrode material for low-temperature plasma generator

Номер патента: RU2176833C1. Автор: С.Е. Виноградов,В.В. Рыбин,В.И. Шекалов,А.А. Сафронов,ев В.Н. Шир,В.Н. Ширяев,Ф.Г. Рутберг. Владелец: Закрытое акционерное общество Научно-производственный центр "СОЛИТОН-НТТ". Дата публикации: 2001-12-10.

Plasma-Generating Structures, Display Devices, Plasma-Enhanced Treatments, Methods Of Forming Plasma-Generating Structures; Methods Of Plasma-Assisted Etching, And Methods Of Plasma-Assisted Deposition

Номер патента: US20090015160A1. Автор: Stephen J. Kramer,Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-15.

Device and method for plasma generation in a wide pressure range and system and method for optical gas analysis/detection by means of such a device

Номер патента: US20240177979A1. Автор: Stefan Kaiser,Urs Walchli,Bernhard Andreaus,Astrid WALDNER. Владелец: INFICON AG. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma-generating structures, display devices, and methods of forming plasma-generating structures

Номер патента: US8274221B2. Автор: Stephen J. Kramer,Neal R. Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-09-25.

Plasma generation chamber with smooth plasma resistant coating

Номер патента: US09460898B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Soonam Park,Sung Je Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Surface wave plasma generating antenna and surface wave plasma processing apparatus

Номер патента: EP2495749A1. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-05.

Two-phased atmospheric plasma generator

Номер патента: US11651943B2. Автор: Sang In LEE. Владелец: Nova Engineering Films Inc. Дата публикации: 2023-05-16.

Plasma-Generating Structures and Display Devices

Номер патента: US20120313517A1. Автор: Stephen J. Kramer,Neal Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-12-13.

A plasma generating device

Номер патента: EP3129230A1. Автор: Guido G. Willems,Hermanus M. KUYPERS. Владелец: Oce Technologies BV. Дата публикации: 2017-02-15.

Dielectric barrier-type plasma generation device and plasma discharge initiation method for dielectric barrier-type plasma generation device

Номер патента: EP4120803A1. Автор: Takahiro Hiraoka,Kensuke Nakamura,Takanori Samejima. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-01-18.

Substrate processing apparatus, plasma generation apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240096604A1. Автор: Kaoru Yamamoto,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Methods of forming plasma-generating structures; methods of plasma-assisted etching, and methods of plasma-assisted deposition

Номер патента: US8033884B2. Автор: Stephen J. Kramer,Neal R. Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Plasma-generating structures and display devices

Номер патента: US8674602B2. Автор: Stephen J. Kramer,Neal R. Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-18.

Plasma-generating electrode device, an electrode-embedded article, and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US6101969A. Автор: Ryusuke Ushikoshi,Koichi Umemoto,Yusuke Niori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Plasma generation device and plasma head cooling method

Номер патента: US11929237B2. Автор: Takahiro Jindo,Shinji TAKIKAWA,Tomoko HIGASHIDA. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Plasma generation device and plasma head cooling method

Номер патента: EP3846593A1. Автор: Takahiro Jindo,Tomoko NIWA,Shinji TAKIKAWA. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2021-07-07.

Plasma generating device

Номер патента: US20230136018A1. Автор: Ji Hoon Kim,Sae Hoon Uhm,Yun Seong Lee,Yeong Hoon SOHN,Se Hong PARK. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Plasma generation for thin film deposition on flexible substrates

Номер патента: EP2994553A1. Автор: Eric R. Dickey. Владелец: Lotus Applied Technology LLC. Дата публикации: 2016-03-16.

Plasma generating device

Номер патента: US5369336A. Автор: Shunpei Yamazaki,Shigenori Hayashi,Hideomi Koinuma. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1994-11-29.

High flow vacuum chamber including equipment modules such as a plasma generating source, vacuum pumping arrangement and/or cantilevered substrate support

Номер патента: US5948704A. Автор: Neil Benjamin,Jon Hylbert,Stefano Mangano. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1999-09-07.

Plasma generator

Номер патента: US10879047B2. Автор: Takahiro Jindo,Toshiyuki Ikedo. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2020-12-29.

Microwave plasma source for spatial plasma enhanced atomic layer deposition (pe-ald) processing tool

Номер патента: WO2019169253A1. Автор: Tsutomu Tanaka,Kallol Bera,Jozef Kudela,John C. Forster,Alexander V. Garachtchenko,Anantha K. Subramani,Dmitry A. Dzilno,Avinash SHERVEGAR,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-09-06.

Microwave Plasma Source For Spatial Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) Processing Tool

Номер патента: US20210050187A1. Автор: Tsutomu Tanaka,Kallol Bera,Jozef Kudela,John C. Forster,Alexander V. Garachtchenko,Anantha K. Subramani,Dmitry A. Dzilno,Avinash SHERVEGAR,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Microwave emission mechanism, microwave plasma source and surface wave plasma processing apparatus

Номер патента: US09520272B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yutaka Fujino,Yuki Osada,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Cavity resonator of microwave plasma generating apparatus

Номер патента: US09526160B2. Автор: Shuitsu Fujii,Katsumi Oi. Владелец: Adtec Plasma Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Tuner, microwave plasma source and impedance matching method

Номер патента: US09520273B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Microwave plasma processing device and gate valve for microwave plasma processing device

Номер патента: US20080006371A1. Автор: CAI Tian,Hideki Nagaoka,Masakazu Ban,Sunao Muraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-01-10.

Microwave plasma processing device and gate valve for microwave plasma processing device

Номер патента: US20110265952A1. Автор: Hideki Nagaoka,Masakazu Ban,Sunao Muraoka,Cai Zhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Microwave plasma source for spatial plasma enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) processing tool

Номер патента: US11823871B2. Автор: Tsutomu Tanaka,Kallol Bera,Jozef Kudela,John C. Forster,Alexander V. Garachtchenko,Anantha K. Subramani,Dmitry A. Dzilno,Avinash SHERVEGAR,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Microwave plasma generation device and microwave plasma processing device

Номер патента: WO2010016414A1. Автор: 清隆 石橋. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2010-02-11.

Microwave plasma generator and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: JPWO2010016414A1. Автор: 清隆 石橋,石橋　清隆. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-01-19.

Large area microwave plasma apparatus

Номер патента: CA1317644C. Автор: Joachim Doehler,Jeffrey M. Krisko. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1993-05-11.

Microwave plasma processing apparatus, method for manufacturing microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: CN101048029A. Автор: 堀口贵弘. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-03.

A microwave-excited plasma processing apparatus using a linear microwave plasma source excited by toothed waveguide plasma reactors

Номер патента: DE102008001514A1. Автор: Ching-Huei Wu,Tean-Mu Shen,Chih-Chen Chang,Tung-Chuan Wu,Chan-Hsing Lo,Muh-Wang Liang,Fu-Ching Tung,Jung-Chen Chien,Jung-Chen Ho. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-07-02.

Microwave-excited plasma procwssing apparatus using linear microwave plasma source excited by ridged wave-guide plasma reactors

Номер патента: TW200926908A. Автор: Ching-Huei Wu,Tean-Mu Shen,Chih-Chen Chang,Tung-Chuan Wu,Chan-Hsing Lo,Muh-Wang Liang,Fu-Ching Tung,Jung-Chen Chien,Jung-Chen Ho. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2009-06-16.

Workpiece processing chamber having a rotary microwave plasma antenna with slotted spiral waveguide

Номер патента: US09928993B2. Автор: Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Microwave plasma processing device, plasma processing method, and microwave radiating member

Номер патента: KR100485235B1. Автор: 다다히로 오미,히라야마마사키,고토데츠야. Владелец: 다다히로 오미. Дата публикации: 2005-04-27.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: DE69625149D1. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-01-16.

Microwave irradiating antenna, microwave plasma source, and plasma processing device

Номер патента: KR101722307B1. Автор: 시게루 가사이,다로 이케다,준 나카고미,토모히토 고마츠. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-03-31.

Microwave plasma processing device, plasma processing method, and microwave radiating member

Номер патента: EP1398826A4. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-06.

Microwave plasma processing device, plasma processing method, and microwave radiating member

Номер патента: US6818852B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-16.

Microwave-excited plasma source using ridged wave-guide line-type microwave plasma reactor

Номер патента: US20090151637A1. Автор: Ching-Huei Wu,Tean-Mu Shen,Chih-Chen Chang,Tung-Chuan Wu,Chan-Hsing Lo,Muh-Wang Liang,Fu-Ching Tung,Jung-Chen Chien,Jung-Chen Ho. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-06-18.

Electrode cooling system in a multi-electrode microwave plasma excitation source

Номер патента: US20140042888A1. Автор: Edward Reszke,Krzysztof Jankowski,Andrzej Ramsza. Владелец: Instytut Optyki Stosowanej. Дата публикации: 2014-02-13.

Microwave plasma generator with the short cross-sectional side of the resonator parallel to the chamber axis

Номер патента: US6198224B1. Автор: Benedikt Aschermann,Ralf Spitzl,Marko Walter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-03-06.

Device for microwave plasma generation

Номер патента: EP0434933B1. Автор: Roland Dr. Gesche,Karl-Heinz Dr. Kretschmer. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1995-05-24.

Microwave plasma generating device

Номер патента: KR930011765B1. Автор: 요시카즈 요시다. Владелец: 다니이 아끼오. Дата публикации: 1993-12-20.

Atmospheric pressure microwave plasma generating device with self-ignition function

Номер патента: KR101936595B1. Автор: 김종훈,한재영. Владелец: 주식회사 에어브릿지. Дата публикации: 2019-01-09.

Microwave plasma generator

Номер патента: JPWO2003037503A1. Автор: 片山　秀雄,秀雄 片山,節 安斎. Владелец: 節 安斎. Дата публикации: 2005-02-17.

Gas tube end cap for a microwave plasma generator

Номер патента: WO2004021392A1. Автор: Albert Wang. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2004-03-11.

Plasma treatment device with two microwave plasma sources coupled together and method for operating such a plasma treatment device

Номер патента: EP3309815B1. Автор: Joachim Mai. Владелец: Meyer Burger Germany GmbH. Дата публикации: 2019-03-20.

Microwave plasma applicator with gas cooling

Номер патента: TW477045B. Автор: Simon Yavelberg,Dmitry Lubomirsky,Harald Herchen,David Palagashvili,Donald J Olgado. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-02-21.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US20150015139A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supply method

Номер патента: JP6178140B2. Автор: 聡 川上,和史 金子,俊彦 岩尾. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-09.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: KR20150007257A. Автор: 가즈시 가네코,사토루 가와카미,도시히코 이와오. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-01-20.

Microwave plasma processing apparatus and method of supplying microwaves using the apparatus

Номер патента: TW201010520A. Автор: Shinya Nishimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-01.

Device and method for producing microwave plasma with a high plasma density

Номер патента: EP2080424B1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2011-07-06.

Device and method for producing microwave plasma with a high plasma density

Номер патента: CA2666125A1. Автор: Ralf Spitzl. Владелец: Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh. Дата публикации: 2008-04-24.

Microwave plasma source for spatial plasma enhanced atomic layer deposition (pe-ald) processing tool

Номер патента: JP2022153353A. Автор: KUDELA Jozef,BERA KALLOL,Shervegar Avinash,努 田中,Tsutomu Tanaka,ジョゼフ クデラ，,カロル ベラ，,John C Forster,アレキサンダー ヴィー． ガラチチェンコ，,V Garachtchenko Alexander,ドミートリイ エー． ジルノ，,A Dzilno Dmitry,アヴィナッシュ シェルヴェガー，,シアオプー リー，,xiao-pu Li,アナンタ ケー． スブラマニ，,K Subramani Anantha,ジョン シー． フォスター，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-12.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: US20210057190A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2021-02-25.

Microwave plasma device

Номер патента: US20140377966A1. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-12-25.

MICROWAVE PLASMA REACTOR FOR MANUFACTURING SYNTHETIC DIAMOND MATERIAL

Номер патента: US20190318917A1. Автор: Wort Christopher John Howard,Williams Stephen David,Brandon John Robert,Wilman Jonathan James,DODSON JOSEPH MICHAEL,Cullen Alexander Lamb,WILMAN HELEN. Владелец: ELEMENT SIX TECHNOLOGIES LIMITED. Дата публикации: 2019-10-17.

Microwave Plasma Processing Apparatus And Method

Номер патента: KR950027912A. Автор: 다다시 기무라,요시까즈 요시다,시니찌 미즈구찌,야스나오 오까자끼. Владелец: 마쯔시다 덴끼 산교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1995-10-18.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP3020580B2. Автор: 徹 大坪,一郎 佐々木,和博 大原. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-03-15.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: GB201021865D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2011-02-02.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: CN103339707A. Автор: J·R·布莱顿,A·L·卡伦,S·D·威廉斯,J·M·多德森,J·J·威尔曼,C·J·H·沃特. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2013-10-02.

Microwave plasma reactor

Номер патента: GB0516695D0. Автор: . Владелец: BOC Group Ltd. Дата публикации: 2005-09-21.

Microwave plasma reactor and deposition apparatus incorporating such a reactor.

Номер патента: FR2694474B1. Автор: Jacques Bernard. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 1994-10-14.

Tuner, microwave plasma source and impedance matching method

Номер патента: KR101813619B1. Автор: 유키 오사다,히로유키 미야시타. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-12-29.

Microwave plasma processing system

Номер патента: DE69524671T2. Автор: Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Takeshi Akimoto,Kyoichi Komachi. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2002-08-14.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: EP2656372A1. Автор: Stephen David Williams,Joseph Michael Dodson,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Alexander Lamb CULLEN. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2013-10-30.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: SG191217A1. Автор: Stephen David Williams,Joseph Michael Dodson,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Alexander Lamb CULLEN. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Microwave plasma apparatus

Номер патента: GB0421998D0. Автор: . Владелец: C Tech Innovation Ltd. Дата публикации: 2004-11-03.

Microwave plasma processing system

Номер патента: DE69524671D1. Автор: Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Takeshi Akimoto,Kyoichi Komachi. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2002-01-31.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: CA2821624A1. Автор: Stephen David Williams,Joseph Michael Dodson,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Alexander Lamb CULLEN. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Microwave plasma containment shield shaping

Номер патента: US20100078320A1. Автор: Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-04-01.

Microwave plasma processing apparatus and method

Номер патента: EP0653775B1. Автор: Yoshiaki Sato,Katsuyoshi Kudo,Minoru Soraoka,Hideki Kihara,Tsuyoshi Umemoto,Hironobu Kawahara,Mitsuru Katamoto,Tooru Yukimasa,Hirofumi Kakutani. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-02-10.

Microwave plasma containment shield shaping

Номер патента: WO2010036489A3. Автор: Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-05-27.

Workpiece treatment chamber with the rotary microwave plasma antenna containing open flume type helix waveguide

Номер патента: CN107112190A. Автор: 迈克尔·W·斯托厄尔. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Microwave plasma sterilization apparatus and sterilization method using the same

Номер патента: JP4716457B2. Автор: 雅章 永津. Владелец: National Institute of Japan Science and Technology Agency. Дата публикации: 2011-07-06.

Compact microwave plasma applicator utilizing conjoining electric fields

Номер патента: US09831066B1. Автор: Chaolin Hu,Mohammad Kamarehi,Olivia Keller. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Microwave plasma applicator with improved power uniformity

Номер патента: US09653266B2. Автор: XING Chen,Kevin W. Wenzel,Chengxiang Ji,Erin MADDEN,Ilya Pokidov. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Microwave radiation antenna, microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US09548187B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino,Yuki Osada,Akira Tanihara,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Apparatus and method for uniform microwave plasma processing using TE1101 modes

Номер патента: US5302803A. Автор: Joseph L. Cecchi,James E. Stevens. Владелец: Consortium for Surface Processing Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Microwave plasma generating device and method for operating same

Номер патента: KR101880702B1. Автор: 요하임 마이,헤르만 쉴렘. Владелец: 마이어 버거 (저머니) 게엠베하. Дата публикации: 2018-07-20.

MICROWAVE RADIATION ANTENNA, MICROWAVE PLASMA SOURCE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140158302A1. Автор: IKEDA Taro,Kasai Shigeru,Osada Yuki,KOMATSU Tomohito,MIYASHITA Hiroyuki,FUJINO Yutaka,TANIHARA Akira. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2014-06-12.

MICROWAVE PLASMA SOURCE AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180127880A1. Автор: Nakanishi Toshio,HAN Cheonsoo,Kotani Koji,Nishijima Souichi. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-10.

MICROWAVE EMISSION MECHANISM, MICROWAVE PLASMA SOURCE AND SURFACE WAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140361684A1. Автор: IKEDA Taro,Osada Yuki,KOMATSU Tomohito,MIYASHITA Hiroyuki,FUJINO Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-11.

Microwave plasma source and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: KR101943754B1. Автор: 도시오 나카니시,고지 고타니,소우이치 니시지마,한천수. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-01-29.

Microwave plasma processing device, dielectric window manufacturing method and microwave plasma processing method

Номер патента: CN101155463A. Автор: 大见忠弘,平山昌树,堀口贵弘. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-04-02.

Microwave plasma process device, plasma ignition method, plasma forming method, and plasma process method

Номер патента: KR100573210B1. Автор: 다다히로 오미,히라야마마사키,스가와시게토시,고토데츠야. Владелец: 다다히로 오미. Дата публикации: 2006-04-24.

Microwave plasma process apparatus, plasma ignition method, plasma formation method, and plasma process method

Номер патента: JP4799748B2. Автор: 忠弘 大見,昌樹 平山,成利 須川,哲也 後藤. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-26.

Remote plasma apparatus for generating high-power density microwave plasma

Номер патента: US20220415617A1. Автор: Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-29.

Microwave plasma generating device and method for operating same

Номер патента: US20150091442A1. Автор: Mai Joachim,SCHLEMM Hermann. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-02.

Pocket Size Microwave Plasma Generator with Improved Manufacture Convenience And Structural Stability

Номер патента: KR101458592B1. Автор: 이현우. Владелец: 주식회사 메디플. Дата публикации: 2014-11-07.

Linear microwave plasma generating device

Номер патента: KR101980273B1. Автор: 김영우,이강일,최용섭,장수욱,이희재. Владелец: 한국기초과학지원연구원. Дата публикации: 2019-05-21.

Microwave plasma generating device and method for operating same

Номер патента: CN104380429A. Автор: J·迈,H·施勒姆. Владелец: Roth and Rau AG. Дата публикации: 2015-02-25.

Apparatus and process for remote microwave plasma generation

Номер патента: EP0874386A3. Автор: Yashraj K. Bkatnagar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-11-25.

Plasma Treatment Device with Two Microwave Plasma Sources Coupled to One Another, and Method for Operating a Plasma Treatment Device of this Kind

Номер патента: US20190252156A1. Автор: Mai Joachim. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-15.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MICROWAVE SUPPLYING METHOD

Номер патента: US20160172163A1. Автор: Iwao Toshihiko,Kawakami Satoru,KANEKO Kazushi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2016-06-16.

Method of Efficient Coaxial Delivery of Microwaves into a Mode Stabilized Resonating Chamber for the Purpose of Deposition of Microwave Plasma CVD Polycrystalline Diamond Films

Номер патента: US20170253963A1. Автор: Eissler Elgin E.,Sabens David. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20120090782A1. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Microwave Plasma Source and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20170032933A1. Автор: IKEDA Taro,Harada Tamotsu,HARA Emiko. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

Microwave Plasma Source For Spatial Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) Processing Tool

Номер патента: US20210050187A1. Автор: KUDELA Jozef,Tanaka Tsutomu,BERA KALLOL,FORSTER John C.,SUBRAMANI ANANTHA K.,Dzilno Dmitry A.,Shervegar Avinash,Garachtchenko Alexander V.,LI Xiaopu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

MICROWAVE PLASMA SOURCE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150170881A1. Автор: IKEDA Taro,KOMATSU Tomohito,FUJINO Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-18.

MICROWAVE PLASMA SOURCE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160284516A1. Автор: IKEDA Taro,Kasai Shigeru,YAMAMOTO Nobuhiko,TANIHARA Akira. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

ANTENNA, MICROWAVE PLASMA SOURCE INCLUDING THE SAME, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20170330727A1. Автор: Lee Sangheon,Park YongKyun,LEE Dongsoo,LEE YEONGKWANG. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-16.

MICROWAVE PLASMA SOURCE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160358757A1. Автор: IKEDA Taro,KOMATSU Tomohito. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

REMOTE PLASMA APPARATUS FOR GENERATING HIGH-POWER DENSITY MICROWAVE PLASMA

Номер патента: US20220415617A1. Автор: MOALEM MEHRAN. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-29.

antenna, microwave plasma source including the same, and plasma processing apparatus

Номер патента: KR20170129332A. Автор: 이상헌,이동수,박용균,이영광. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2017-11-27.

Microwave plasma torch and method for generating plasma

Номер патента: KR100189311B1. Автор: 다다시 기무라,시니찌 미즈구찌,요시카즈 요시다,요시노부 나가노,도루 가와세. Владелец: 마쓰시따 덴끼 상교가부시끼가이샤. Дата публикации: 1999-06-01.

Antenna, microwave plasma source including antenna, and plasma processing apparatus

Номер патента: CN107454732B. Автор: 李永光,李尚宪,李东洙,朴龙均. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-26.

Antenna, microwave plasma source including the same, plasma processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US10553401B2. Автор: Sangheon Lee,Dongsoo Lee,Yongkyun Park,Yeongkwang Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-04.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, SLOT ANTENNA, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20150013907A1. Автор: SENDA Takahiro,Iwao Toshihiko,Fujii Toru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-01-15.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, SLOT ANTENNA, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20150013911A1. Автор: Iwao Toshihiko,KANEKO Kazushi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-01-15.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, SLOT ANTENNA, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20150013912A1. Автор: Iwao Toshihiko,Fujii Toru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-01-15.

MODULAR MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20180053634A1. Автор: Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-22.

MICROWAVE PLASMA DEVICE

Номер патента: US20210084743A1. Автор: Spitzl Ralf. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

MICROWAVE PLASMA REACTORS

Номер патента: US20140220261A1. Автор: Asmussen Jes,Gu Yajun,Grotjohn Timothy A.. Владелец: BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-08-07.

METHODS AND APPARATUS FOR MICROWAVE PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS

Номер патента: US20200152433A1. Автор: Asmussen Jes,Grotjohn Timothy A.. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

METHOD FOR OXIDIZING A SILICON CARBIDE BASED ON MICROWAVE PLASMA AT AN AC VOLTAGE

Номер патента: US20200152451A1. Автор: Liu Xinyu,Chen Hong,BAI YUN,Tian Xiaoli,TANG Yidan,YANG Chengyue,WANG Shengkai,HAN Zhonglin. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

METHODS AND APPARATUS FOR MICROWAVE PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS

Номер патента: US20170183778A1. Автор: Lu Jing,Asmussen Jes,Gu Yajun,Nad Shreya. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-29.

WORKPIECE PROCESSING CHAMBER HAVING A ROTARY MICROWAVE PLASMA ANTENNA WITH SLOTTED SPIRAL WAVEGUIDE

Номер патента: US20160196955A1. Автор: Stowell Michael W.. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20160217979A1. Автор: Kim Jaeho,Sakakita Hajime. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

MICROWAVE PLASMA REACTOR FOR MANUFACTURING SYNTHETIC DIAMOND MATERIAL

Номер патента: US20140308461A1. Автор: Williams Stephen David,Brandon John Robert,DODSON JOSEPH MICHAEL,Cullen Alexander Lamb. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2014-10-16.

FOCALIZED MICROWAVE PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200211825A1. Автор: Chang Chih-Chen,Huang Kun-Ping,Chi Yu-Wen. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2020-07-02.

METHODS AND APPARATUS FOR MICROWAVE PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS

Номер патента: US20200216960A1. Автор: Lu Jing,Asmussen Jes,Gu Yajun,Nad Shreya. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

MICROWAVE PLASMA APPLICATOR WITH IMPROVED POWER UNIFORMITY

Номер патента: US20150279626A1. Автор: Chen Xing,Ji Chengxiang,Pokidov Ilya,Wenzel Kevin W.,Madden Erin. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2015-10-01.

TUNER, MICROWAVE PLASMA SOURCE AND IMPEDANCE MATCHING METHOD

Номер патента: US20160276139A1. Автор: Osada Yuki,MIYASHITA Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

Apparatus for generating thermodynamically cold microwave plasma

Номер патента: US20140361689A1. Автор: Weisgerber Jonas Martin. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-11.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US20170271132A1. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2017-09-21.

TRANSPARENT PRESSURE BARRIER FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20200287258A1. Автор: Stowell Michael W.,Williams Peter Todd. Владелец: Lyten, Inc.. Дата публикации: 2020-09-10.

MICROWAVE PLASMA APPLICATOR WITH IMPROVED POWER UNIFORMITY

Номер патента: US20150318148A1. Автор: Chen Xing,Ji Chengxiang,Pokidov IIya,Wenzel Kevin W.,Madden Erin. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2015-11-05.

Microwave Plasma Source With Split Window

Номер патента: US20190311886A1. Автор: KUDELA Jozef,Tanaka Tsutomu,Ramasamy Balamurugan,Chandrasekar Siva,Dzilno Dmitry A.,Shah Kartik,Truong Quoc,Shervegar Avinash,Garachtchenko Alexander V.,Xia Yanjun. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-10.

MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND APPLICATION THEREOF

Номер патента: US20190326097A1. Автор: Scullin Matthew L.,Miao Yong,Ma Yi,Griffin Christopher E.,Lu Di,ZHU Jinhua,Wu Jianxin,Ai Yonggan. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-24.

COMPACT MICROWAVE PLASMA APPLICATOR UTILIZING CONJOINING ELECTRIC FIELDS

Номер патента: US20170345622A1. Автор: Hu Chaolin,Kamarehi Mohammad,Keller Olivia. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2017-11-30.

MODULAR MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20200381217A1. Автор: Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

Microwave plasma processing method and apparatus

Номер патента: JP4595276B2. Автор: 恒久 並木,敏秀 家木,亮 小林,幸司 山田,秀夫 倉島. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2010-12-08.

Device for processing microwave plasma

Номер патента: JPS5776843A. Автор: Hiroshi Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-05-14.

Method of treatment with a microwave plasma

Номер патента: KR100830911B1. Автор: 나미키츠네히사,이에키도시히데,고바야시아키라,야마다코지,구라시마히데오. Владелец: 도요 세이칸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-05-22.

Waveguide Antenna type Microwave Plasma Source

Номер патента: KR101952834B1. Автор: 이호준,차주홍. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-02-27.

Apparatus for generating thermodynamically cold microwave plasma

Номер патента: EP2751826B1. Автор: Martin Weisgerber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-14.

Compact microwave plasma applicator utilizing combined electric field

Номер патента: CN109155229B. Автор: 穆罕默德·卡马雷希,胡朝林,奥利维亚·凯勒. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2020-07-10.

Microwave Plasma Burner

Номер патента: KR100522658B1. Автор: 박유병,닥닥키쉬빌리엠아이,크리스닌에스아이,코지이고르. Владелец: 주식회사 대원팝틴폼. Дата публикации: 2005-10-20.

Compact device and method having good efficiency for generating remote microwave plasma

Номер патента: JPH1174097A. Автор: Yashraj K Bkatnagar,ケー． バートナガー ヤシュラージ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-03-16.

Microwave Plasma Device for Exhaust Gas Trap of Deposition Process And Exhaust Gas Trap of Deposition Process Having the Same

Номер патента: KR102085726B1. Автор: 이성은,김대운,장현석,이봉주. Владелец: (주)그린사이언스. Дата публикации: 2020-04-23.

DEVICE AND METHOD FOR DEPOSITING DIAMOND BY DCPV ASSISTED BY MICROWAVE PLASMA.

Номер патента: FR2678956A1. Автор: Moisan Michel,Bou Pierre,Coulon Michel,Vandenbulcke Lionel,Quilgars Alain. Владелец: Pechiney Recherche GIE. Дата публикации: 1993-01-15.

DEVICE AND METHOD FOR DEPOSITING DIAMOND BY MICROWAVE PLASMA ASSISTED DCPV.

Номер патента: FR2678956B1. Автор: Moisan Michel,Bou Pierre,Coulon Michel,Vandenbulcke Lionel,Quilgars Alain. Владелец: Pechiney Recherche GIE. Дата публикации: 1993-09-24.

Method of treatment with a microwave plasma

Номер патента: EP1220281A3. Автор: Akira c/o Toyo Seikan Group Kobayashi,Tsunehisa c/o Toyo Seikan Group Namiki,Toshihide c/o Toyo Seikan Group Ieki,Koji c/o Toyo Seikan Group Yamada,Hideo c/o Toyo Seikan Group Kurashima. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2007-01-17.

Microwave plasma processing apparatus and use method thereof

Номер патента: CN101521151A. Автор: 大见忠弘,平山昌树. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2009-09-02.

Microwave plasma applicator with improved power uniformity

Номер патента: CN106465530A. Автор: 陈星�,冀成相,艾琳·马登,伊利雅·波可多夫,凯文·W·文策尔. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2017-02-22.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2670623B2. Автор: 康浩 鈴木,澄雄 森,英二 藤山,正巳 佐々木. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 1997-10-29.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: EP0380119B1. Автор: Shuzo C/O Fujitsu Limited Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-07-13.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: KR101454569B1. Автор: 존 로버트 브랜든,알렉산더 램 컬렌,조셉 마이클 더슨,스테픈 데이빗 윌리엄스. Владелец: 엘리멘트 식스 리미티드. Дата публикации: 2014-10-23.

Microwave plasma applicator with improved power uniformity

Номер патента: EP3123840B1. Автор: XING Chen,Kevin W. Wenzel,Chengxiang Ji,Erin MADDEN,Ilya Pokidov. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2019-12-25.

Apparatus and process for dcpv diamond deposit assisted by microwave plasma

Номер патента: CA2073645A1. Автор: Michel Moisan,Michel Coulon,Pierre Bou,Lionel Vandenbulcke,Alain Quilgars. Владелец: Alain Quilgars. Дата публикации: 1993-01-13.

High power microwave plasma applicator

Номер патента: JP3989584B2. Автор: エス． ロウ カム,シー． エッティンガー ゲイリー,シャン クアンヤン. Владелец: エーケーティー株式会社. Дата публикации: 2007-10-10.

Treating apparatus using microwave plasma

Номер патента: KR940002736B1. Автор: 류조 호오진,나오끼 스즈끼. Владелец: 다니이 아끼오. Дата публикации: 1994-03-31.

High power microwave plasma applicator

Номер патента: KR100491214B1. Автор: 씨. 에팅거 게리,샹 쿠안유안,에스. 로 캄. Владелец: 에이케이티 가부시키가이샤. Дата публикации: 2005-08-04.

Compact microwave plasma applicator utilizing conjoining electric fields

Номер патента: WO2017205034A3. Автор: Chaolin Hu,Mohammad Kamarehi,Olivia Keller. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2018-07-26.

Method of treatment with a microwave plasma

Номер патента: TWI262748B. Автор: Koji Yamada,Tsunehisa Namiki,Akira Kobayashi,Hideo Kurashima,Toshihide Ieki. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2006-09-21.

Microwave plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: CN1168422A. Автор: 铃木伸昌. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-12-24.

Apparatus for generating thermodynamically cold microwave plasma

Номер патента: WO2013029593A3. Автор: Martin Weisgerber. Владелец: Martin Weisgerber. Дата публикации: 2013-04-25.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: CN1038673A. Автор: 村上勉,金井正博,川上一郎,新井孝至. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-10.

Microwave plasma processing device.

Номер патента: DE69010516D1. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-08-18.

Microwave plasma reactor for treating harmful gas and apparatus for treating harmful gas with the same

Номер патента: KR101946936B1. Автор: 김민재,이상현,강경두. Владелец: (주)클린팩터스. Дата публикации: 2019-05-08.

Tuner and microwave plasma source

Номер патента: CN102365785B. Автор: 池田太郎,河西繁,长田勇辉. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-02-26.

Plasma generation apparatus and plasma generation method

Номер патента: US09960011B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sang-Won Lee,Young-Rok Kim,Yong-Gwan Lee,Sae-Hoon Uhm,Jin-Joong Kim,Kyu-Hun Lee. Владелец: Plasmart Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma generator with at least one non-metallic component

Номер патента: US09865422B2. Автор: Thomas N. Horsky,Sami K. Hahto. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising plasma generator, and method thereof

Номер патента: US20220115204A1. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

High density microwave plasma generation apparatus, and magnetron sputtering deposition system using the same

Номер патента: US09506142B2. Автор: Hirotaka TOYODA,Kensuke Sasai. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2016-11-29.

Microwave plasma reactor for synthetic diamond material

Номер патента: RU2666135C2. Автор: Джеффри Алан СКАРСБРУК,Джон Роберт БРЭНДОН,Айан ФРАЙЕЛ,Майкл Эндрю КУПЕР,Бен Льюлин ГРИН. Владелец: Элемент Сикс Текнолоджиз Лимитед. Дата публикации: 2018-09-06.

Modular precipitation reactor using microwave plasma

Номер патента: RU2725428C1. Автор: Аликс ЖИКЕЛЬ,ПОРТ Франсуа ДЕ. Владелец: Диам Консепт. Дата публикации: 2020-07-02.

Microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: US09410242B2. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Joseph Michael Dodson,Steven Edward Coe,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Microwave plasma processing device

Номер патента: EP3041324A1. Автор: Jaeho Kim,Hajime Sakakita. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2016-07-06.

Microwave plasma light source

Номер патента: RU2569320C2. Автор: Эндрю Саймон Нит,Барри ПРЕСТОН. Владелец: Сиравижэн Лимитед. Дата публикации: 2015-11-20.

Methods of manufacturing synthetic diamond material by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition from a microwave generator and gas inlet(s) disposed opposite the growth surface area

Номер патента: US09637838B2. Автор: Daniel James Twitchen,Geoffrey Alan Scarsbrook,Matthew Lee Markham,Steven Edward Coe,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacturing

Номер патента: RU2543986C2. Автор: Джеффри Алан СКАРСБРУК,Джон Роберт БРЭНДОН,Александр Лэмб КАЛЛЕН,Джозеф Майкл ДОДСОН,Кристофер Джон Ховард УОРТ,Карлтон Найджел ДОДЖ,Пол Николас ИНГЛИС,Тимоти Питер МОЛЛАРТ,Чарлз Саймон Джеймс ПИКЛЕС,Стивен Эдвард КОЭ. Владелец: Элемент Сикс Лимитед. Дата публикации: 2015-03-10.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: CA2946433A1. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Ian Friel,John Robert Brandon,Michael Andrew Cooper,Ben Llewlyn Green. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-12-23.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: CA2946433C. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Ian Friel,John Robert Brandon,Michael Andrew Cooper,Ben Llewlyn Green. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2018-10-02.

Microwave plasma reactors

Номер патента: US09890457B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen,Yajun Gu. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2018-02-13.

Microwave Plasma Source, Microwave Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20180218880A1. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Microwave plasma source, microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11056317B2. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-06.

Microwave plasma source, microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11942308B2. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Method of Manufacture of Free Standing Microwave Plasma CVD Polycrystalline Diamond Films with Major Dimensions on the Order of One Wavelength of the Utilized Microwave

Номер патента: US20170298515A1. Автор: Elgin E. Eissler,David SABENS,Charles D. Tanner. Владелец: II VI Inc. Дата публикации: 2017-10-19.

METHOD OF ENHANCING HIGH-k FILM NUCLEATION RATE AND ELECTRICAL MOBILITY IN A SEMICONDUCTOR DEVICE BY MICROWAVE PLASMA TREATMENT

Номер патента: US20150249009A1. Автор: Robert D. Clark,Kandabara N. Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-09-03.

Workpiece processing chamber having a rotary microwave plasma source

Номер патента: WO2015187322A1. Автор: Qiwei Liang,Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-10.

PEALD titanium nitride with direct microwave plasma

Номер патента: US11823870B2. Автор: Hanhong Chen,Philip A. Kraus,Arkaprava Dan,Joseph AuBuchon,Kyoung Ha Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Flim forming method of carbon-containing film by microwave plasma

Номер патента: US12018375B2. Автор: Takashi Matsumoto,Makoto Wada,Masahito Sugiura,Ryota IFUKU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Modular reactor for microwave plasma-assisted deposition

Номер патента: US11859279B2. Автор: Alix Gicquel,Francois Des Portes. Владелец: Diam Concept. Дата публикации: 2024-01-02.

Methods and systems for reclamation of li-ion cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: US20220223379A1. Автор: Richard K. Holman,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Methods and systems for reclamation of li-ion cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4275239A1. Автор: Richard K. Holman,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus

Номер патента: US10220107B2. Автор: Yoshihiro Sakaguchi,Minoru Egawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-05.

Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus

Номер патента: US20170281813A1. Автор: Yoshihiro Sakaguchi,Minoru Egawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240249923A1. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma generation device

Номер патента: US09741542B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and system for detecting operation failure of plasma generating device based on artificial intelligence

Номер патента: US20230091962A1. Автор: Chang Hoon Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-23.

System and method for detecting abnormal operation of plasma generating apparatus based on artificial intelligence

Номер патента: EP4141907A1. Автор: Chang Hoon Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-01.

Electrode assemblies, plasma generating apparatuses, and methods for generating plasma

Номер патента: US09997322B2. Автор: Peter C. Kong,Brent A. Detering,Jon D. Grandy,Larry D. Zuck. Владелец: Battelle Energy Alliance Llc. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma generator, annealing device, deposition crystallization apparatus and annealing process

Номер патента: US09865435B2. Автор: Seiji Fujino,Xiangjun TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma generation source including belt-type magnet and thin film deposition system using this

Номер патента: US09589772B2. Автор: Suk Jae Yoo,Seong Bong Kim. Владелец: Korea Basic Science Institute KBSI. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and plasma generator

Номер патента: US12068136B2. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma generation apparatus, deposition apparatus, and plasma generation method

Номер патента: US09824867B2. Автор: Eiji Furuya. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma generating device, method of controlling the same, and substrate processing device including the plasma generating device

Номер патента: US09536708B2. Автор: Jong Sik LEE,Hyun Jun Kim,Jeong Hee CHO,Hee Sun Chae,Han Saem RHEE. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Plasma generator, manufacturing method of rotating electrode for plasma generator, method for performing plasma treatment of substrate, and method for forming thin film having mixed structure by using plasma

Номер патента: US09373484B2. Автор: Sung Hun Lee,Dong Ho Kim,Yong Soo Jeong,Jae Wook Kang,Jung Heum Yoon,Kee-Seok Nam,Jung-Dae Kwon,Gun Hwan Lee,Chang Su Kim,Sung Gyu Park. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Plasma generation device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200173027A1. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and plasma generation device

Номер патента: US20230220552A1. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Plasma generation device comprising porous ceramic dielectric

Номер патента: US20220406570A1. Автор: Seung-Hoon Lee,Do-Geun Kim,Chang-Su Kim,Hun-kwan PARK. Владелец: Korea Institute of Materials Science KIMS. Дата публикации: 2022-12-22.

Plasma generating device and plasma cleaning device

Номер патента: US20200139412A1. Автор: Yongqing Wang. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Plasma generation device

Номер патента: US09928992B2. Автор: Yoshihiro Sakaguchi,Shin-Ichi Imai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma generating device

Номер патента: US20240258092A1. Автор: Naoki Takahashi. Владелец: Atonarp Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US20200107430A1. Автор: Yark Yeon Kim. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2020-04-02.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma generator with a plasma generation tip and with an activation switch

Номер патента: EP3533378A1. Автор: Ming J. Cheng. Владелец: Gyrus ACMI Inc. Дата публикации: 2019-09-04.

A plasma generating apparatus and an alignment process for liquid crystal displays using the apparatus

Номер патента: WO2005029538A3. Автор: Seok Kyun Song. Владелец: Seok Kyun Song. Дата публикации: 2005-06-09.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11967490B2. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Plasma generator and method of its control

Номер патента: RU2525442C2. Автор: ЛАЙТЕР Ханс,МЮЛЛЕР Йоханн,КАДРНОШКА Вернер,КИЛЛИНГЕР Райнер,КУКИС Ральф,ШУЛЬТЕ Георг. Владелец: Астриум Гмбх. Дата публикации: 2014-08-10.

Intake plasma generator systems and methods

Номер патента: US20230332564A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: Thrivaltech LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Intake plasma generator systems and methods

Номер патента: US11773811B2. Автор: Garrett Hill. Владелец: Thrivaltech LLC. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma generator, annealing device, deposition crystallization apparatus and annealing process

Номер патента: US20170103876A1. Автор: Seiji Fujino,Xiangjun TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-13.

Plasma generation device, method of controlling characteristic of plasma, and substrate processing device using same

Номер патента: US20160020073A1. Автор: Jong Sik LEE,Han Saem Lee,Hyun Jun Kim,Jeong Hee CHO,Hee Sun Chae. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2016-01-21.

Dual signal coaxial cavity resonator plasma generation

Номер патента: US09873315B2. Автор: James E. Smith,Michael J. SPENCER,Andrew D. LOWERY. Владелец: WEST VIRGINIA UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-23.

ECR plasma generator and an ECR system using the generator

Номер патента: US6155200A. Автор: Yasuhiro Horiike,Kohei Kawamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

A high density plasma generating apparatus

Номер патента: WO2020039191A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and plasma generating apparatus

Номер патента: US20230197408A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US10674592B2. Автор: Yark Yeon Kim. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2020-06-02.

Plasma generating device

Номер патента: US11996278B2. Автор: Naoki Takahashi. Владелец: Atonarp Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma generating apparatus

Номер патента: US20140306597A1. Автор: MAKOTO Miyamoto,Kazutoshi Takenoshita,Yoshitaka Terao,Yukika Yamada,Nobutake Hirai. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-10-16.

Substrate processing apparatus, plasma generating apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240222087A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Continuous plasma generator

Номер патента: GB862900A. Автор: . Владелец: US Atomic Energy Commission (AEC). Дата публикации: 1961-03-15.

Plasma generating apparatus and plasma treatment apparatus

Номер патента: US8133348B2. Автор: Ivan Petrov Ganachev,Yoshikazu Tsugami,Kohei Shimatani,Masashi Yamage. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2012-03-13.

Processes depending on plasma generation

Номер патента: CA1303253C. Автор: Daniel Lawrence Flamm,Dale Edward Ibbotson,Wayne Lee Johnson. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1992-06-09.

Plasma generation apparatus, deposition apparatus using the same, and deposition method

Номер патента: US11823865B2. Автор: Hitoshi Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230238222A9. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Conversion of Organic Material to Doped Nanocarbon Structures via Microwave Plasma Pyrolysis

Номер патента: US20240286907A1. Автор: Orlando Auciello,Benjamin Stein. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2024-08-29.

Conversion of Organic Material to Nanocarbon Structures via Microwave Plasma Pyrolysis

Номер патента: US20240287711A1. Автор: Orlando Auciello,Benjamin Stein. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma generation provision, internal combustion engine and analysis provision

Номер патента: US20140261271A1. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Plasma generation provision, internal combustion engine and analysis provision

Номер патента: US09693442B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma generating apparatus

Номер патента: US09452236B2. Автор: MAKOTO Miyamoto,Kazutoshi Takenoshita,Yoshitaka Terao,Yukika Yamada,Nobutake Hirai. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma Generation Device and Facility for Manufacturing Electrode Assembly Including the Same

Номер патента: US20240367428A1. Автор: Sang Kyun Lee,Yong Tae Lee,Kyoung Won Kang. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Nonthermal plasma generator and method of manufacturing the same

Номер патента: WO2021038194A1. Автор: Ahmed Hussein,Keith Parker,Adrian SCHMIEDER,Hagen MOON. Владелец: Hieta Technologies Limited. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma generator and internal combustion engine

Номер патента: US09903337B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Power supply circuit for plasma generation, plasma generating apparatus, plasma processing apparatus and plasma processed object

Номер патента: US7719198B2. Автор: Akio Harada,Hirofumi Takikawa,Yoshimi Nishimura. Владелец: Daiken Kagaku Kogyo KK. Дата публикации: 2010-05-18.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US20240071735A1. Автор: Jaesik Kim,Hyunyoung Lee,Jeonghae CHOI,Eunji AN,InTae Kim. Владелец: Feagle Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma generating system

Номер патента: US20240023224A1. Автор: Leonid YANOVITZ,Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: CAPS Medical Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Ignition or plasma generation apparatus

Номер патента: US8226901B2. Автор: Yuji Ikeda,Minoru Makita. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2012-07-24.

Configurable plasma generating system

Номер патента: US20240022116A1. Автор: Leonid YANOVITZ,Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: CAPS Medical Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Configurable plasma generating system

Номер патента: US11990769B2. Автор: Leonid YANOVITZ,Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: CAPS Medical Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Electrode for plasma generation

Номер патента: US20110232492A1. Автор: Hirohisa Tanaka,TAKASHI Ogawa,Isao Tan,Kazuya Naito,Hirotoshi Fujikawa,Yoonho Kim,Kazuhiko Madokoro. Владелец: Daihatsu Motor Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Electrode for plasma generation

Номер патента: US8623125B2. Автор: Hirohisa Tanaka,TAKASHI Ogawa,Isao Tan,Kazuya Naito,Hirotoshi Fujikawa,Yoonho Kim,Kazuhiko Madokoro. Владелец: Daihatsu Motor Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-07.

Spark plug and plasma generating device

Номер патента: US09638158B2. Автор: Yuji Ikeda,Minoru Makita. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma generation module, purification component, device and air conditioning system

Номер патента: US20240075180A1. Автор: Fang Liu,Ben Liu,Wenwen WANG,Xianjie WANG. Владелец: Midea Group Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Dielectric barrier discharge plasma generator

Номер патента: EP4380319A1. Автор: Takahiro Hiraoka,Kensuke Nakamura. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-06-05.

Power cable with an overmolded probe for power transfer to a non-thermal plasma generator and a method for constructing the overmolded probe

Номер патента: US10896771B2. Автор: Peter Farrell. Владелец: Volt Holdings LLC. Дата публикации: 2021-01-19.

Chemical vapor deposition reactor to grow diamond film by microwave plasma chemical vapor deposition

Номер патента: US11214871B2. Автор: Elgin E. Eissler,David SABENS,Charles D. Tanner. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2022-01-04.

Microwave plasma discharge device

Номер патента: US5961851A. Автор: Jianou Shi,Mohammad Kamarehi,Gerald Cox,Richard Pingree. Владелец: Fusion Systems Corp. Дата публикации: 1999-10-05.

Microwave plasma generation chamber and plasma generation method

Номер патента: JP6732006B2. Автор: ハマー，マイク. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2020-07-29.

Method for treating of surfaces and materials by microwave plasma entails producing microwave-excited plasma microwave-conducting waveguide and adapting field construction of plasma movement to defined run length

Номер патента: DE102004053003A1. Автор: Torsten Neumann,Udo Krohmann. Владелец: Krohmann Udo Dipl-Ing. Дата публикации: 2006-05-04.

Method for constructing microwave plasma nozzle array, microwave plasma nozzle array unit and microwave plasma system

Номер патента: JP4896880B2. Автор: サン ハン リー,ジェイ ジョンソ キム. Владелец: SAIAN CORP. Дата публикации: 2012-03-14.

MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICE FOR PLASMA OXIDATION OF SIC

Номер патента: US20190362945A1. Автор: Liu Xinyu,BAI YUN,TANG Yidan,YANG Chengyue,WANG Shengkai. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-28.

Plasma nozzle array for providing uniform scalable microwave plasma generation

Номер патента: CA2574114A1. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Jay Joongsoo Kim. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma nozzle array for providing uniform scalable microwave plasma generation

Номер патента: WO2006014862A3. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Jay Joongsoo Kim. Дата публикации: 2007-01-18.

Microwave plasma generation device for SiC plasma oxidation

Номер патента: CN108735570B. Автор: 刘新宇,白云,汤益丹,杨成樾,王盛凯. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2019-06-18.

MICROWAVE INTRODUCING MECHANISM, MICROWAVE PLASMA SOURCE AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20130180661A1. Автор: IKEDA Taro,Kasai Shigeru,Osada Yuki,MIYASHITA Hiroyuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-07-18.

Microwave Plasma Source, Microwave Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20180218880A1. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Microwave Plasma Source, Microwave Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20180218883A1. Автор: Iwao Toshihiko. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-02.

Microwave introduction mechanism, microwave plasma source and microwave plasma processing device

Номер патента: KR101208884B1. Автор: 다로 이케다. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-12-05.

Hydraulic fluid cooling of high power microwave plasma tubes

Номер патента: US5235251A. Автор: LaVerne A. Schlie. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1993-08-10.

Microwave introduction mechanism, microwave plasma source and microwave plasma treatment device

Номер патента: WO2012032942A1. Автор: 池田　太郎,長田　勇輝,大幸 宮下,河西　繁. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2012-03-15.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170358835A1. Автор: Nakanishi Toshio,Tanaka Kouji,Aita Michitaka,Nogami Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-14.

Microwave plasma processing apparatus, dielectric board provided with slot board for microwave plasma processing apparatus, and method for manufacturing dielectric board

Номер патента: TW201119521A. Автор: Masahiro Okesaku,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

High pressure microwave plasma reactors

Номер патента: WO2024015294A1. Автор: Leslie Bromberg,Kim-Chinh Tran,Jorj Ian OWEN,Jonathan Whitlow. Владелец: Maat Energy Company. Дата публикации: 2024-01-18.

CHAMBERS FOR MICROWAVE PLASMA GENERATION

Номер патента: US20180228012A1. Автор: HAMMER Michael Ron. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-09.

Portable low power consumption microwave plasma generator

Номер патента: KR101012345B1. Автор: 이재구,준 최,이자 펠리페. Владелец: 포항공과대학교 산학협력단. Дата публикации: 2011-02-09.

Cavity resonator of microwave plasma generating apparatus

Номер патента: KR101614028B1. Автор: 슈이치 후지이,카츠미 오이. Владелец: 가부시키가이샤 아도테쿠 프라즈마 테쿠노로지. Дата публикации: 2016-04-20.

Microwave plasma generating chamber

Номер патента: CN107926107B. Автор: M·哈默尔. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2020-07-03.

Cavity resonator of microwave plasma generator

Номер патента: JP5458427B1. Автор: 修逸 藤井,克己 大井. Владелец: 株式会社アドテック プラズマ テクノロジー. Дата публикации: 2014-04-02.

Chambers for microwave plasma generation

Номер патента: US10327321B2. Автор: Michael Ron Hammer. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2019-06-18.

Cavity resonator of microwave plasma generator

Номер патента: JPWO2014192062A1. Автор: 修逸 藤井,克己 大井,藤井　修逸. Владелец: Adtec Plasma Tech Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-23.

Chambers for microwave plasma generation

Номер патента: AU2016304411A1. Автор: Mike Hammer. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2018-03-15.

Microwave plasma generation and the magnetron sputtering film formation device of this device of employing

Номер патента: CN103262663B. Автор: 笹井建典,丰田浩孝. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2016-12-14.

Microwave plasma generating apparatus and process for the preparation of diamond thin film utilizing same

Номер патента: EP0420117A2. Автор: Kazuyuki Fukumoto,Ryohei Itatani. Владелец: Idemitsu Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1991-04-03.

Microwave plasma generating apparatus and process for preparing diamond layer by utilizing same

Номер патента: CA2069942A1. Автор: Toshio Isozaki,Nariyuki Hayashi,Ryohei Itatani. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-04-02.

Microwave plasma generating apparatus and process for the preparation of diamond thin film utilizing same

Номер патента: EP0420117A3. Автор: Kazuyuki Fukumoto,Ryohei Itatani. Владелец: Idemitsu Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1991-10-09.

DEVICE FOR DEPOSITING THIN FILMS ASSISTED BY MICROWAVE PLASMA

Номер патента: FR3118280B1. Автор: Fabien Ozanne,Alexandre Bes,Anna Lacoste. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2022-12-02.

DEVICE FOR THE DEPOSITION OF THIN FILMS ASSISTED BY MICROWAVE PLASMA

Номер патента: FR3118280A1. Автор: Fabien Ozanne,Alexandre Bes,Anna Lacoste. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2022-06-24.

Modular reactor for microwave plasma assisted deposition

Номер патента: ES2801850T3. Автор: Alix Gicquel,Portes François Des. Владелец: Diam Concept. Дата публикации: 2021-01-14.

Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator

Номер патента: AU2014240387A1. Автор: Ashok Menon,Jovan Jevtic,Velibor Pikelja. Владелец: RADOM CORP. Дата публикации: 2015-10-01.

Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator

Номер патента: CA2905931A1. Автор: Ashok Menon,Jovan Jevtic,Velibor Pikelja. Владелец: RADOM CORP. Дата публикации: 2014-10-02.

Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator

Номер патента: CA2905931C. Автор: Ashok Menon,Jovan Jevtic,Velibor Pikelja. Владелец: RADOM CORP. Дата публикации: 2021-10-26.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: GB201121486D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2012-01-25.

Method of efficient coaxial delivery of microwaves into a mode stabilized resonating chamber for the purpose of deposition of microwave plasma CVD

Номер патента: GB201703380D0. Автор: . Владелец: II VI Inc. Дата публикации: 2017-04-19.

Microwave plasma processing device and plasma processing gas supply member

Номер патента: CN1759204A. Автор: 山田幸司,小林亮,仓岛秀夫,并木恒久,蓝原武志,小野泽康哲. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2006-04-12.

Plasma treatment device having a linear microwave plasma source and having a gas-conducting device

Номер патента: WO2019233703A1. Автор: Joachim Mai. Владелец: MEYER BURGER (GERMANY) GmbH. Дата публикации: 2019-12-12.

Corrugated plasma trap arrangement for creating a highly efficient downstream microwave plasma system

Номер патента: US7554053B2. Автор: Mohammad Kamarehi,Ing-Yann Albert Wang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-06-30.

Modular microwave plasma source and plasma processing tool

Номер патента: TW202131382A. Автор: 菲利浦亞倫 克勞司,泰正 蔡. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-08-16.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: KR101774089B1. Автор: 다로 이케다,유타카 후지노,도모히토 고마츠. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-09-01.

Modular microwave plasma source and plasma processing tool

Номер патента: TWI721090B. Автор: 菲利浦亞倫 克勞司,泰正 蔡. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-11.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: KR101240842B1. Автор: 시게루 가사이. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-03-08.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: JPWO2008013112A1. Автор: 河西　　繁,河西　繁. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-17.

Microwave plasma reactors

Номер патента: US20130069531A1. Автор: Michael Becker,David King,Jing Lu,Jes Asmussen,Thomas Schuelke,Timothy Grotjohn,M. Kagan Yaran,Donnie K. Reinhard,Kadek W. Hemawan,Yajun Gu. Владелец: Fraunhofer USA Inc. Дата публикации: 2013-03-21.

ELECTRODE COOLING SYSTEM IN A MULTI-ELECTRODE MICROWAVE PLASMA EXCITATION SOURCE

Номер патента: US20140042888A1. Автор: JANKOWSKI Krzysztof,RAMSZA Andrzej,RESZKE Edward. Владелец: Instytut Optyki Stosowanej. Дата публикации: 2014-02-13.

MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20190013187A1. Автор: Meloni Mark A.. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: US20170040145A1. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Ian Friel,John Robert Brandon,Michael Andrew Cooper,Ben Llewlyn Green. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

PEALD TITANIUM NITRIDE WITH DIRECT MICROWAVE PLASMA

Номер патента: US20210050186A1. Автор: Chen Hanhong,Kraus Philip A.,AuBuchon Joseph,KIM Kyoung Ha,Dan Arkaprava. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacture

Номер патента: US20150061191A1. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Joseph Michael Dodson,Steven Edward Coe,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Carlton Nigel Dodge,Charles Simon James Pickles,Timothy Peter Mollart,Alexander Lamb CULLEN,Paul Nicolas Inglis. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

MODULAR REACTOR FOR MICROWAVE PLASMA-ASSISTED DEPOSITION

Номер патента: US20210087676A1. Автор: GICQUEL Alix,DES PORTES François. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-25.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220277935A1. Автор: IKEDA Taro,KOMATSU Tomohito,SATO Mikio,KAMATA Eiki. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

MICROWAVE PLASMA LAMP WITH ROTATING FIELD

Номер патента: US20150155155A1. Автор: Kim Jin-Joong,Kim Kyoung-Shin. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-04.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US20150162167A1. Автор: Jin Hyuk Choi,Sang Chul Han,Seung Hun Oh,Guen Suk Lee,Young-Dong Lee,Jong Il Kee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-11.

MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20190157045A1. Автор: Meloni Mark A.. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190189398A1. Автор: IKEDA Taro,KOMATSU Tomohito,SATO Mikio,KAMATA Eiki. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-20.

Multifunctional Microwave Plasma and Ultraviolet Light Deodorization Treatment Device

Номер патента: US20190209729A1. Автор: JIANG Tianhua. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

Microwave Plasma Spectrometer Using Dielectric Resonator

Номер патента: US20190215943A1. Автор: Menon Ashok,Jevtic Jovan,Pikeija Velibor. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

Chemical Vapor Deposition Reactor to Grow Diamond Film by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20190242016A1. Автор: Eissler Elgin E.,Tanner Charles D.,Sabens David. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

Facility for treating containers by microwave plasma, comprising a solid-state generator and adjustment method

Номер патента: US20180363141A1. Автор: Yves-Alban Duclos,Denis Turlotte. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2018-12-20.

MICROWAVE PLASMA LIGHT SOURCE

Номер патента: RU2013103609A. Автор: Эндрю Саймон Нит,Барри ПРЕСТОН. Владелец: Сиравижэн Лимитед. Дата публикации: 2014-08-10.

Microwave plasma processing method

Номер патента: KR101101026B1. Автор: 고지 야마다,히데오 쿠라시마,아키라 고바야시,쓰네히사 나미끼. Владелец: 도요 세이칸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-12-29.

Multifunction microwave plasma ultraviolet deodorization complete set of equipments

Номер патента: CN108014616A. Автор: 姜天华. Владелец: Chengdu Tiantain Medical Electronics Science And Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-11.

Microwave plasma processing method

Номер патента: CN100447297C. Автор: 山田幸司,小林亮,仓岛秀夫,并木恒久. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2008-12-31.

Microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond materials

Номер патента: JP6763785B2. Автор: ジェフリー アラン スカーズブルック,ジェフリー アラン スカーズブルック,ジョン ロバート ブランドン,ジョン ロバート ブランドン,イアン フリエル,マイケル アンドリュー クーパー,マイケル アンドリュー クーパー,ベン リュウリン グリーン,ベン リュウリン グリーン. Владелец: エレメント シックス テクノロジーズ リミテッド. Дата публикации: 2020-09-30.

Apparatus for the growing diamonds by microwave plasma chemical vapour deposition process and substrate stage used therein

Номер патента: KR101722478B1. Автор: 데비 샨커 미스라. Владелец: 아이아이에이 테크놀러지스 피티이. 엘티디.. Дата публикации: 2017-04-03.

Microwave plasma processing device

Номер патента: TW201116168A. Автор: Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-05-01.

INSTALLATION FOR PROCESSING MICROWAVE PLASMA CONTAINERS COMPRISING A SOLID STATE GENERATOR

Номер патента: FR3035881B1. Автор: Yves-Alban Duclos,Denis Turlotte. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2019-09-27.

Microwave plasma CVD equipment

Номер патента: JP5142074B2. Автор: 良樹 西林,喜之 山本,貴浩 今井,暁彦 植田,貴一 目黒. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2013-02-13.

MODULAR REACTOR FOR MICROWAVE PLASMA-ASSISTED DEPOSITION

Номер патента: FR3060024B1. Автор: Alix Gicquel,Francois Des Portes. Владелец: Diam Concept. Дата публикации: 2019-05-31.

Modular microwave plasma source

Номер патента: US11404248B2. Автор: Philip Allan Kraus,Thai Cheng Chua. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-02.

Facility for treating containers by microwave plasma, comprising a solid-state generator and adjustment method

Номер патента: EP3292229B1. Автор: Yves-Alban Duclos,Denis Turlotte. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2020-09-16.

Modular microwave plasma source

Номер патента: CN109564843A. Автор: 菲利普·艾伦·克劳斯,蔡泰正. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-04-02.

Modular microwave plasma source

Номер патента: CN113690125A. Автор: 菲利普·艾伦·克劳斯,蔡泰正. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-11-23.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP5297885B2. Автор: 伸也 西本. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-09-25.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP5001862B2. Автор: 崎 幸 一 山,野 正 樹 佐. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-15.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: CN102362557A. Автор: 石桥清隆. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-02-22.

Form the microwave plasma chemical vapor deposition method and the equipment of big area film continuously

Номер патента: CN1048568A. Автор: 金井正博,狩谷俊光,松山深照,藤岡靖,武井哲也,中川克巳,越前裕. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1991-01-16.

Microwave plasma based applicator

Номер патента: JP2872637B2. Автор: ハーチェン ヘラルド,ブラウン ウィリアム. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-03-17.

Method and device for microwave plasma deposition of a coating on a thermoplastic container surface

Номер патента: US20090229521A1. Автор: Jean-Michel Rius,Yann Pernel. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2009-09-17.

Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacture

Номер патента: US9738970B2. Автор: Geoffrey Alan Scarsbrook,Joseph Michael Dodson,Steven Edward Coe,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Carlton Nigel Dodge,Charles Simon James Pickles,Timothy Peter Mollart,Alexander Lamb CULLEN,Paul Nicolas Inglis. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

DEPOSITION INSTALLATION, USING MICROWAVE PLASMA, INTERNAL BARRIER COATING IN THERMOPLASTIC CONTAINERS

Номер патента: FR2907037B1. Автор: Yves Alban Duclos. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2009-01-09.

Microwave plasma emitter device cavity resonator

Номер патента: WO2014192062A1. Автор: 克己 大井,藤井　修逸. Владелец: 株式会社アドテック プラズマ テクノロジー. Дата публикации: 2014-12-04.

Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacture

Номер патента: KR101454568B1. Автор: 존 로버트 브랜든,티모시 피터 몰라트,알렉산더 램 컬렌,조셉 마이클 더슨,칼톤 니젤 다지,폴 니콜라스 잉글리스,제프리 앨런 스카스브룩,찰스 시몬 제임스 피클스,스티븐 에드워드 코에,크리스토퍼 존 하워드 워트. Владелец: 엘리멘트 식스 리미티드. Дата публикации: 2014-10-23.

Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator

Номер патента: US10285256B2. Автор: Ashok Menon,Jovan Jevtic,Velibor Pikelja. Владелец: RADOM CORP. Дата публикации: 2019-05-07.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: KR102131539B1. Автор: 다로 이케다,도모히토 고마츠,미키오 사토,에이키 가마타. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-07-07.

Microwave plasma chemical synthesis of ultrafine powders

Номер патента: US20030172772A1. Автор: Krupashankara Sethuram,Raja Kalyanaraman. Владелец: Materials Modification Inc. Дата публикации: 2003-09-18.

Method for improved remote microwave plasma source for use with substrate processing system

Номер патента: US6271148B1. Автор: Chien-Teh Kao,Joseph Yudovsky,Ronald L. Rose,Kenneth Tsai,Quyen Pham,Calvin R. Augason. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-08-07.

Microwave plasma chemical vapour deposition apparatus

Номер патента: PT2836622T. Автор: Shanker Misra Devi. Владелец: Iia Tech Pte Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Microwave plasma abatement apparatus

Номер патента: KR101593687B1. Автор: 앤드류 제임스 시레이,제임스 로버트 스미스,마리레나 라도이우. Владелец: 에드워즈 리미티드. Дата публикации: 2016-02-12.

Method for Rounding and Trimming Edges of Nanowires by Microwave Plasma

Номер патента: KR102396835B1. Автор: 코리 바이다,칸다바라 엔 타필리,잉 트리켓,치히로 타무라,게리트 제이 뢰싱크,카오루 마에카와. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-05-10.

Method and device for microwave plasma deposition of a coating on a thermoplastic container surface

Номер патента: CN1717961A. Автор: 让-米歇尔·里于斯,Y·佩内尔. Владелец: Sidel SA. Дата публикации: 2006-01-04.

Microwave plasma processing device

Номер патента: WO2006092985A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Kiyotaka Ishibashi,Nobuhiko Yamamoto,Caizhong Tian. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2006-09-08.

Portable Electrodless Microwave Plasma Torch

Номер патента: KR20000018134A. Автор: 엄환섭,홍용철,이수창. Владелец: 홍용철. Дата публикации: 2000-04-06.

Use the microwave plasma spectrometer of dielectric resonator

Номер патента: CN105122042B. Автор: 约万·耶夫蒂奇,阿肖克·梅农,韦利博尔·皮凯利亚. Владелец: RADOM CORP. Дата публикации: 2019-09-20.

Microwave Plasma Generation Method and Microwave Plasma Generator

Номер патента: US20090128041A1. Автор: Masahiko Uchiyama,Takuya Urayama,Kazunari Fujioka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-05-21.

Microwave plasma torch

Номер патента: US20170095787A1. Автор: Yong-Cheol Hong. Владелец: Korea Basic Science Institute KBSI. Дата публикации: 2017-04-06.

Microwave plasma sterilisation system and applicators therefor

Номер патента: US09675716B2. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICES AND PLASMA TORCHES

Номер патента: FR2921538B1. Автор: Daniel Guerin,Jean Christophe Rostaing,Michel Moisan,Zenon Zakrzewski. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-11-13.

MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICES AND PLASMA TORCHES

Номер патента: FR2921538A1. Автор: Daniel Guerin,Jean Christophe Rostaing,Michel Moisan,Zenon Zakrzewski. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-03-27.

Thick polycrystalline synthetic diamond wafers for heat spreading applications and microwave plasma chemical vapour deposition synthesis techniques

Номер патента: EP2882890A1. Автор: Joseph Michael Dodson,Paul Nicolas Inglis,Gruffudd Trefor Williams,Christopher John KELLY. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-06-17.

Thick polycrystalline synthetic diamond wafers for heat spreading applications and microwave plasma chemical vapour depositon synthesis techniques

Номер патента: US09478938B2. Автор: Joseph Michael Dodson,Paul Nicolas Inglis,Gruffudd Trefor Williams,Christopher John KELLY. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Microwave plasma reactor

Номер патента: RU2694432C1. Автор: Игорь Анатольевич Леонтьев,Юрий Михайлович ЯШНОВ. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн". Дата публикации: 2019-07-15.

Microwave Plasma Generator

Номер патента: KR930005114A. Автор: 요시카즈 요시다. Владелец: 다니이 아끼오. Дата публикации: 1993-03-23.

Microwave plasma generator, method of decomposing organic halide, and system for decomposing organic halide

Номер патента: US20020074946A1. Автор: Tetsuya Ikeda,Minoru Danno. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2002-06-20.

Microwave plasma generator, method of decomposing organic halide, and system for decomposing organic halide

Номер патента: US20020070669A1. Автор: Tetsuya Ikeda,Minoru Danno. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2002-06-13.

Thick polycrystalline synthetic diamond wafers for heat spreading applications and microwave plasma chemical vapour deposition synthesis techniques

Номер патента: GB201314319D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2013-09-25.

Sample table and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: TW201133699A. Автор: Nobuyuki Okayama,Yasuhiro Otsuka,Kenji Sudou,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-01.

Method for microwave plasma substrate heating

Номер патента: TW448240B. Автор: James Lam,David Hodul. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2001-08-01.

Systems, methods, and device for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: US20240199427A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Microwave plasma apparatus and methods for processing feed material utiziling multiple microwave plasma applicators

Номер патента: AU2023215437A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,John COLWELL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Microwave transmission device and microwave plasma equipment

Номер патента: CN114759333B. Автор: 陈森林,李俊宏,李东亚. Владелец: Chengdu Neoman Hueray Microwave Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-09-02.

Thick polycrystalline synthetic diamond wafers for heat spreading applications and microwave plasma chemical vapour deposition synthesis techniques

Номер патента: WO2014026930A1. Автор: Joseph Michael Dodson,Paul Nicolas Inglis,Gruffudd Trefor Williams,Christopher John KELLY. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2014-02-20.

Microwave plasma torch and method of use thereof

Номер патента: US12075553B1. Автор: Hossam GABER,Mustafa Abdalmejeed Mansour Aldeeb. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-27.

Microwave plasma processing apparatus and plasma head thereof

Номер патента: JP4474363B2. Автор: 忠弘 大見,昭彦 廣江,昌樹 平山,昌幸 北村,貴弘 堀口. Владелец: Future Vision Inc. Дата публикации: 2010-06-02.

Method for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: WO2024129261A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Microwave plasma sterilisation system and applicators therefor

Номер патента: CA2741133C. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Microwave plasma apparatus and method for materials processing

Номер патента: US09932673B2. Автор: Eric Jordan,Kamal Hadidi,Paul P. Woskov,Baki Cetegen. Владелец: Amastan Technologies Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Microwave plasma sterilisation system and applicators therefor

Номер патента: US10688204B2. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: EP4287784A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2023-12-06.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: US20240098866A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2024-03-21.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: US20240357727A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: EP4397139A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Method of depositing dielectric films using microwave plasma

Номер патента: US20120115334A1. Автор: Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-05-10.

SIOX PROCESS CHEMISTRY DEVELOPMENT USING MICROWAVE PLASMA CVD

Номер патента: US20130302999A1. Автор: WON Tae Kyung,CHO Seon-Mee,CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,WHITE John M.,KUDELA Jozef,Yim Dong-Kil. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-14.

METHOD OF CORNER ROUNDING AND TRIMMING OF NANOWIRES BY MICROWAVE PLASMA

Номер патента: US20170125517A1. Автор: Leusink Gerrit J.,Wajda Cory,MAEKAWA Kaoru,Tapily Kandabara N.,TAMURA Chihiro,Trickett Ying. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-04.

APPARATUS FOR PRODUCING Si NANOPARTICLES USING MICROWAVE PLASMA AND PRODUCTION METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20160152480A1. Автор: Lee Jin-Seok,Choi Sun-Ho,JANG Bo-Yun,KIM Joon-Soo,KOO Jeong-Boon. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

THICK POLYCRYSTALLINE SYNTHETIC DIAMOND WAFERS FOR HEAT SPREADING APPLICATIONS AND MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITON SYNTHESIS TECHNIQUES

Номер патента: US20150222087A1. Автор: DODSON JOSEPH MICHAEL,WILLIAMS GRUFFUDD TREFOR,Inglis Paul Nicolas,Kelly Christopher John. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-06.

METHOD OF ENHANCING HIGH-k FILM NUCLEATION RATE AND ELECTRICAL MOBILITY IN A SEMICONDUCTOR DEVICE BY MICROWAVE PLASMA TREATMENT

Номер патента: US20150249009A1. Автор: Clark Robert D.,Tapily Kandabara N.. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

METHOD OF FORMING SILICON NITRIDE FILMS USING MICROWAVE PLASMA

Номер патента: US20190259598A1. Автор: Chen Hanhong,Chan Kelvin,Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

MICROWAVE PLASMA DEVICE

Номер патента: US20140374025A1. Автор: CHEN Lee,FUNK Merritt,Zhao Jianping. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

METHOD FOR MANUFACTURING GROOVED MOSFET DEVICE BASED ON TWO-STEP MICROWAVE PLASMA OXIDATION

Номер патента: US20190362966A1. Автор: Liu Xinyu,BAI YUN,TANG Yidan,YANG Chengyue,WANG Shengkai. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-28.

Film deposition method and film deposition apparatus using microwave plasma CVD

Номер патента: JP3591977B2. Автор: 正博 金井,豪人 吉野,博和 大利,耕平 吉田,雅敏 田中,裕 越前. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-11-24.

Microwave plasma torch

Номер патента: KR101813955B1. Автор: 홍용철. Владелец: 주식회사 엔팩. Дата публикации: 2018-01-04.

High density microwave plasma apparatus

Номер патента: KR20170075394A. Автор: 유승민,박승일,김성봉,윤성영,오재성,임정현,윤정우,유석재,박연수,전형원. Владелец: 한국기초과학지원연구원. Дата публикации: 2017-07-03.

Apparatus for continuously forming large-area functional deposited films by microwave plasma CVD

Номер патента: JP2824808B2. Автор: 正博 金井,哲也 武井,竜次 岡村,博明 新納. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-11-18.

Microwave Plasma Diagnosis Apparatus

Номер патента: KR101456542B1. Автор: 김대웅,김정형,신용현,성대진,유신재. Владелец: 한국표준과학연구원. Дата публикации: 2014-10-31.

A kind of experimental provision of visual research microwave plasma auxiliary firing

Номер патента: CN106762330B. Автор: 张新华,王兆文,成晓北,武文杰. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2018-11-02.

The manufacturing method of groove MOSFET element based on microwave plasma oxidation

Номер патента: CN108735607A. Автор: 刘新宇,白云,汤益丹,杨成樾,王盛凯. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2018-11-02.

Microwave plasma processor

Номер патента: JPS61258428A. Автор: Shuzo Fujimura,Yasunari Motoki,藤村　修三,本木　保成. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-11-15.

Production of an aluminum nitride thin layer used in thin film technology comprises subjecting the thin layer to a microwave plasma after is has been deposited

Номер патента: DE10053834A1. Автор: Jai Young Lee,Hae Yeol Kim,Min Hee Cho,Youn Seon Kang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2001-05-17.

Microwave plasma apparatus and methods for processing feed material utiziling multiple microwave plasma applicators

Номер патента: WO2023150461A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,John COLWELL. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-08-10.

A portable microwave plasma discharge unit

Номер патента: WO2007013875A3. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Jay Joongsoo Kim. Дата публикации: 2007-08-02.

Microwave plasma apparatus and methods for processing feed material utiziling multiple microwave plasma applicators

Номер патента: US20240057245A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,John COLWELL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Microwave plasma apparatus and methods for processing feed material utiziling multiple microwave plasma applicators

Номер патента: WO2023150461A9. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,John COLWELL. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-09-14.

Microwave plasma device with increased selectivity of nitrogen oxide and method of producing nitrogen oxide-containing water using same

Номер патента: US20230234020A1. Автор: Hee Jae Lee,Yong Cheol Hong,Se Min Chun,Geon Woo Yang. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2023-07-27.

Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency

Номер патента: CA2572391C. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: SAIAN CORP. Дата публикации: 2012-01-24.

Portable microwave plasma systems including a supply line for gas and microwaves

Номер патента: US7271363B2. Автор: Sang Hun Lee,Togo Kinoshita,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Amarante Technologies Inc. Дата публикации: 2007-09-18.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: AU2022340711A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: WO2023034688A9. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: CA3228842A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-03-09.

Material synthesis technology by microwave plasma torch with atmospheric pressure and high temperature

Номер патента: US11930585B2. Автор: Ye Bai,Dashuai Li. Владелец: Chengdu Landmarks Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Compound double coaxial line atmospheric pressure low-temperature microwave plasma jet source

Номер патента: US20210029816A1. Автор: Yang Yan,Chaoyang Zhang,Xiaoyun Li,Wenjie Fu,Cong NIE. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2021-01-28.

Plasma generation and use of plasma generation apparatus

Номер патента: RU2543049C2. Автор: Хью ПОТТС,Деклан Эндрю ДАЙВЕР. Владелец: Зе Юниверсити Корт Оф Зе Юниверсити Оф Глазго. Дата публикации: 2015-02-27.

Plasma generating device, and internal combustion engine

Номер патента: US20140202411A1. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2014-07-24.

Plasma generating device, and internal combustion engine

Номер патента: US09909552B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma Generation Device Assembly, Arc Mitigation Device, and Method of Assembling a Plasma Generation Device Assembly

Номер патента: US20140118879A1. Автор: Ravi Kumar,Srinivas Naga Palvadi,Sudhakar Sambaiah Pachunoori. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2014-05-01.

Plasma generation device

Номер патента: US20130119865A1. Автор: Yuji Ikeda,Minoru Makita. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Plasma generation device assembly, arc mitigation device, and method of assembling a plasma generation device assembly

Номер патента: US09468084B2. Автор: Ravi Kumar,Srinivas Naga Palvadi,Sudhakar Sambaiah Pachunoori. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-10-11.

Plasma generating device

Номер патента: US09358519B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2016-06-07.

Anode of arc plasma generator and arc plasma generator

Номер патента: RU2504931C2. Автор: И Ли,Юйпен ВАН,Шуо ЯН,Дзиньхуа ЯН. Владелец: Янтай Лунъюань Пауэр Текнолоджи Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-01-20.

Plasma generation device and internal combustion engine

Номер патента: US09709019B2. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma generation device assembly, arc mitigation device, and method of assembling a plasma generation device assembly

Номер патента: US09468083B2. Автор: Ravi Kumar,Srinivas Naga Palvadi,Dharamveer Surya Parkash Bathla. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-10-11.

Cold plasma generating array

Номер патента: US12102836B2. Автор: Kyle Yeates. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-10-01.

Cold plasma generating system

Номер патента: US12059190B2. Автор: Jacob Cohen,Yakov Krasik,Joshua Felsteiner,Yakov Slutsker,Ziv Gil,Yoav Binenbaum. Владелец: Rambam Med Tech Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Magnetized coaxial plasma generation device

Номер патента: US09706633B2. Автор: Tomohiko Asai,Jun'ichi Sekiguchi,Tadafumi Matsumoto. Владелец: NIHON UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US20150167625A1. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2015-06-18.

Plasma generating module for uterine cervix and plasma generating apparatus for uterine cervix including the same

Номер патента: AU2022292366A1. Автор: Hee Kyung Kim,Byung Su Kwon. Владелец: Ibmsol Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma-generating device, plasma surgical device, use of a plasma-generating device and method of generating a plasma

Номер патента: EP1905284A2. Автор: Nikolay Suslov. Владелец: PLASMA SURGICAL AB. Дата публикации: 2008-04-02.

Repeatable plasma generator and method for the same

Номер патента: WO2013100835A1. Автор: Denny Åberg. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2013-07-04.

Method of operating a piezoelectric plasma generator

Номер патента: US12075551B2. Автор: Robert Krumphals,Amnon Lam,Eliezer FUCHS,Markus Puff,Alexander Melischnig,Betsalel Rechav. Владелец: TDK Electronics AG. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma generation device

Номер патента: US9114373B2. Автор: Tatsuya Misawa,Nobuya Hayashi. Владелец: Saga University NUC. Дата публикации: 2015-08-25.

Cold plasma generator and applications comprising same

Номер патента: WO2023160811A1. Автор: Thi Hong Lien Luong. Владелец: Luong Thi Hong Lien. Дата публикации: 2023-08-31.

Plasma generating system having movable electrodes

Номер патента: US09699880B2. Автор: Sang Hun Lee,Toru Tanibata,Orion Weihe. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Repeatable plasma generator and method for the same

Номер патента: US09551547B2. Автор: Denny Åberg. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2017-01-24.

Electric-arc plasma generator for working of part surface

Номер патента: RU2763161C1. Автор: Виктор Николаевич Мещеряков,Владимир Владимирович Пикалов,Алексей Михайлович Евсеев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Липецкий государственный технический университет" (ЛГТУ). Дата публикации: 2021-12-27.

Method of production of arc discharge in plasma generator and device for its realization

Номер патента: RU2115269C1. Автор: Жан Капашевич Кульжанов. Владелец: Жан Капашевич Кульжанов. Дата публикации: 1998-07-10.

Skin care device with plasma generating device

Номер патента: EP4329434A3. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

System and method for plasma-surface-treatment of cylindric and annular workpieces using atmospheric-pressure plasma generator

Номер патента: US20220061146A1. Автор: Chang Hoon Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-24.

Dielectric barrier discharge plasma generator

Номер патента: US20230403781A1. Автор: Zheng Chen,HAO Meng,Jun Qi,Yi Dong DU,Li Dong HE. Владелец: ASMPT Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma generator using spiral conductors

Номер патента: WO2015061654A1. Автор: Laura J. Smith,Kenneth L. Dudley,George N. Szatkowski,Truong X. Nguyen,Jay J. Ely,Sandra V. Koppen,Larry A. TICATCH. Владелец: United States Of America, As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration. Дата публикации: 2015-04-30.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma generation device, plasma treatment device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: EP4351281A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Plasma Generator and Reaction Apparatus

Номер патента: US20100135867A1. Автор: Yuichiro Ishizaki. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2010-06-03.

Plasma generation module for uterine cervix

Номер патента: US20240285329A1. Автор: Hee Kyung Kim,Byung Su Kwon. Владелец: Ibmsol Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Low power plasma generator

Номер патента: WO2004062326A3. Автор: Jeffrey A Hopwood,Felipe Iza. Владелец: Univ Northeastern. Дата публикации: 2004-09-23.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US09661732B2. Автор: Shin-Ichi Imai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Chip for plasma generation, plasma generator, and plasma spectrometry method

Номер патента: US09625319B2. Автор: Yasunori Shiraki,Takashige Tanaka. Владелец: Arkray Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma generation mechanism and light source apparatus

Номер патента: EP4444045A2. Автор: Hironobu Hirata,Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-09.

Plasma generator using spiral conductors

Номер патента: US09497846B2. Автор: Laura J. Smith,Kenneth L. Dudley,George N. Szatkowski,Truong X. Nguyen,Jay J. Ely,Sandra V. Koppen,Larry A. TICATCH. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2016-11-15.

Dielectric barrier discharge plasma generator

Номер патента: US09433071B2. Автор: Sohail H. Zaidi. Владелец: Plasma Innovations LLC. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma system with a plurality of plasma generating sites

Номер патента: WO2021186450A9. Автор: Ilan Oleg UCHITEL. Владелец: Caps Medical Ltd.. Дата публикации: 2021-10-21.

Vacuum plasma generator

Номер патента: US20070241287A1. Автор: Peter Wiedemuth,Moritz Nitschke,Gerhard ZÄHRINGER,Thorsten Eyhorn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-10-18.

Plasma generator

Номер патента: US20050099134A1. Автор: Manabu Harada. Владелец: Marukomu KK. Дата публикации: 2005-05-12.

Method and control unit for operating a plasma generation apparatus

Номер патента: US09756713B2. Автор: Florian LIECHTI,Albert FRIEDERY,Hartmut KOSCHNITZKE,Rene GROEBER. Владелец: OERLIKON METCO AG. Дата публикации: 2017-09-05.

Nozzle for a plasma generation device

Номер патента: US9686847B2. Автор: Thomas Bickford Holbeche. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device

Номер патента: US12075552B2. Автор: Nikolay Suslov,Igor Rubiner. Владелец: Plasma Surgical Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

A nozzle for a plasma generation device

Номер патента: EP3097749A1. Автор: Thomas Bickford Holbeche. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2016-11-30.

Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device

Номер патента: US09913358B2. Автор: Nikolay Suslov,Igor Rubiner. Владелец: Plasma Surgical Investments Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma generator, and cleaning and purifying device apparatus and small-sized electrical appliance using plasma generator

Номер патента: US09392680B2. Автор: Kenji Narita,Wataru Sanematsu,Akihiko Saitoh,Masaharu Machi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

System and method for plasma generation and compression

Номер патента: CA2984756C. Автор: Stephen Howard,Michel Laberge,Meritt Reynolds,Alexander Mossman,Blake Rablah,Peter O'shea,Donald Froese,Charles Eyrich. Владелец: General Fusion Inc. Дата публикации: 2019-08-13.

Plasma generation system and method with magnetic field stabilization

Номер патента: WO2023245064A1. Автор: Andy Liao,Jean-Christoph BTAICHE,Vahid Damideh. Владелец: Fuse Energy Technologies Corp.. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma generating device

Номер патента: US20150010439A1. Автор: Yuji Ikeda. Владелец: Imagineering Inc. Дата публикации: 2015-01-08.

Method and apparatus for impedance matching in a power delivery system for remote plasma generation

Номер патента: US11956885B2. Автор: Mohammad Kamarehi,Ilya Pokidov,Kenneth B. Trenholm,Fedir Viktorovych Teplyuk. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Method and apparatus for impedance matching in a power delivery system for remote plasma generation

Номер патента: WO2023022878A9. Автор: Mohammad Kamarehi,Ilya Pokidov,Kenneth B. Trenholm,Fedir Viktorovych Teplyuk. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Method and apparatus for impedance matching in a power delivery system for remote plasma generation

Номер патента: US20240196510A1. Автор: Mohammad Kamarehi,Ilya Pokidov,Kenneth B. Trenholm,Fedir Viktorovych Teplyuk. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma generator

Номер патента: GB2344212B. Автор: Andreas Manz,Jan Cornelis Titus Eijkel,Herbert Stoeri. Владелец: Imperial College of Science Technology and Medicine. Дата публикации: 2000-12-13.

Method and means for use in the installation of plasma generators in shaft furnaces

Номер патента: CA1267435A. Автор: Jan Thornblom,Gunnar Astner. Владелец: SKF Steel Engineering AB. Дата публикации: 1990-04-03.

Plasma generator

Номер патента: CA2351854C. Автор: Andreas Manz,Jan Cornelis Titus Eijkel,Herbert Stoeri. Владелец: CASECT Ltd. Дата публикации: 2007-08-07.

Dc plasma generator for generation of a non-local, non-equilibrium plasma at high pressure

Номер патента: WO2002009482A1. Автор: Christophe Leys. Владелец: Universiteit Gent. Дата публикации: 2002-01-31.

Plasma generating apparatus and method

Номер патента: CA1326886C. Автор: Daniel R. Marantz,Herbert Herman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-02-08.

Plasma generating apparatus, therapeutic method, and method for activating cell or living tissue

Номер патента: US20180368245A1. Автор: Tsuyoshi Uehara,Yu Nagahara,Akira Morooka,Hiroaki Aiba,Takaya OSHITA,Yoshishige Takikawa,Mikimoto Kanazashi. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Plasma generation device

Номер патента: US20230328871A1. Автор: Dong Hun Shin,Hee Jae Lee,Yong Cheol Hong,Se Min Chun,Geon Woo Yang. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2023-10-12.

Cold plasma generating system

Номер патента: US20210338304A1. Автор: Jacob Cohen,Yakov Krasik,Joshua Felsteiner,Yakov Slutsker,Ziv Gil,Yoav Binenbaum. Владелец: Rambam Med Tech Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Cold plasma generating system

Номер патента: EP3222121A1. Автор: Jacob Cohen,Yakov Krasik,Joshua Felsteiner,Yakov Slutsker,Ziv Gil,Yoav Binenbaum. Владелец: Rambam Med Tech Ltd. Дата публикации: 2017-09-27.

Repeatable plasma generator and a method therefor

Номер патента: MY161800A. Автор: Fredrik Olsson,Denny Åberg. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2017-05-15.

Plasma generator and plasma coupling pipe therefor

Номер патента: WO2005076673A1. Автор: Myung-Suk Kim,Kyoung-Ae You. Владелец: Pronix Co., Ltd.. Дата публикации: 2005-08-18.

Plasma generating system

Номер патента: WO2024018464A1. Автор: Leonid YANOVITZ,Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: Caps Medical Ltd.. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma generator

Номер патента: EP4327862A2. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Plasma generator

Номер патента: US11964161B2. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Plasma generator

Номер патента: US20240042224A1. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma generator

Номер патента: EP4327862A3. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Method of manufacturing self-heated hollow cathode from titanium nitride for plasma generation systems

Номер патента: RU2619591C1. Автор: Николай Васильевич Гаврилов,Александр Сергеевич Каменецких,Алексей Викторович Спирин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук (ИЭФ УрО РАН). Дата публикации: 2017-05-17.

Process of plasma generation

Номер патента: RU2216132C2. Автор: А.С. Береснев. Владелец: Деренковский Виктор Яковлевич. Дата публикации: 2003-11-10.

Plasma generator

Номер патента: US4473736A. Автор: Philippe Leprince,Emile Bloyet,Jean Marec. Владелец: Agence National de Valorisation de la Recherche ANVAR. Дата публикации: 1984-09-25.

System for controlling a high plasma torch with high flow rates of plasma-generating gas

Номер патента: US5294773A. Автор: Jean-Marie Lambert. Владелец: AIRBUS GROUP SAS. Дата публикации: 1994-03-15.

Plasma generating system having movable electrodes

Номер патента: CA2848800C. Автор: Sang Hun Lee,Toru Tanibata,Orion Weihe. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Configurable plasma generating system

Номер патента: WO2024018465A1. Автор: Leonid YANOVITZ,Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: Caps Medical Ltd.. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma generating electrode, its manufacturing method, and plasma reactor

Номер патента: EP1701597A4. Автор: Kazuhiro Kondo,Masaaki Masuda,Kenji Dosaka,Atsuo Kondo,Yasumasa Fujioka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2009-07-01.

Repeatable plasma generator and method for the same

Номер патента: US20140352564A1. Автор: Denny Åberg. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2014-12-04.

Repeatable plasma generator and method for the same

Номер патента: EP2798302A1. Автор: Denny Åberg. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2014-11-05.

In-liquid plasma generation device and liquid treatment apparatus

Номер патента: US20200407247A1. Автор: Shohei Nakamura,Motohiro Kono,Akira Horikoshi,Shigeru Takatsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Plasma generating apparatus and on-liquid melting method

Номер патента: US09474142B2. Автор: Yasuyuki MATSUMARU. Владелец: Plusware Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Low power plasma generator

Номер патента: WO2004062326A2. Автор: Jeffrey A. Hopwood,Felipe Iza. Владелец: NORTHEASTERN UNIVERSITY. Дата публикации: 2004-07-22.

Plasma generation apparatus

Номер патента: US20160120013A1. Автор: Shin-Ichi Imai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-28.

Multichannel plasma generation system and method

Номер патента: WO2023245062A2. Автор: Raymond Golingo,Jean-Christoph BTAICHE,Vahid Damideh. Владелец: Fuse Energy Technologies Corp.. Дата публикации: 2023-12-21.

Skin care device with plasma generating device

Номер патента: EP4329434A2. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Skin care device with plasma generating device

Номер патента: US20240042223A1. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma generation device for uterine cervix

Номер патента: EP4342520A1. Автор: Hee Kyung Kim,Byung Su Kwon. Владелец: Ibmsol Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Skin care device with plasma generating device

Номер патента: US12005264B2. Автор: Tae Yong Kim,Chang Sik Kim,Myeong Woo KIM,Hyuk Namgoong,Ha Yun Lee. Владелец: Gcs Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma generator and reaction apparatus

Номер патента: US8349266B2. Автор: Yuichiro Ishizaki. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2013-01-08.

Plasma generation electrode, plasma reactor, and exhaust gas cleaning apparatus

Номер патента: US20070221633A1. Автор: Keizo Iwama,Masaaki Masuda,Kenji Dosaka,Yasumasa Fujioka,Atsuo Kondou. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2007-09-27.

Method of operating a plasma generating apparatus

Номер патента: US4439662A. Автор: Haruo Tateno. Владелец: RIKEN Institute of Physical and Chemical Research. Дата публикации: 1984-03-27.

Plasma generator

Номер патента: CA2651200C. Автор: Mounir Laroussi. Владелец: Old Dominion University Research Foundation. Дата публикации: 2015-11-03.

Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device

Номер патента: WO2007006517A2. Автор: Nickolay Suslov,Igor Rubiner. Владелец: PLASMA SURGICAL AB. Дата публикации: 2007-01-18.

Dual-mode plasma generation system and method

Номер патента: WO2023245065A1. Автор: Andy Liao,Jean-Christoph BTAICHE,Vahid Damideh. Владелец: Fuse Energy Technologies Corp.. Дата публикации: 2023-12-21.

Three-phase alternating current plasma generator

Номер патента: WO1997029619A1. Автор: Hugh W. Greene,Paul E. Chism, Jr.,Philip G. Rutberg,Alexei A. Safronov,Vasili N. Shiriaev. Владелец: Scientific Utilization, Inc.. Дата публикации: 1997-08-14.

Plasma generators, reactor systems and related methods

Номер патента: EP1689549A2. Автор: Peter C. Kong,James E. Lee,Robert J. Pink. Владелец: Battelle Energy Alliance Llc. Дата публикации: 2006-08-16.

Plasma generators, reactor systems and related methods

Номер патента: WO2005057618A2. Автор: Peter C. Kong,James E. Lee,Robert J. Pink. Владелец: Bechtel Bwxt Idaho, Llc. Дата публикации: 2005-06-23.

Plasma-generating device, plasma surgical device and use of plasma surgical device

Номер патента: CA2614378C. Автор: Nikolay Suslov. Владелец: PLASMA SURGICAL AB. Дата публикации: 2014-09-02.

Coaxial cavity type, radiofrequency wave, plasma generating apparatus

Номер патента: CA2010245C. Автор: Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 1993-05-11.

Electrode assembly for plasma generation

Номер патента: CA3014970A1. Автор: Montgomery William Childs. Владелец: Aureon Energy Ltd.. Дата публикации: 2019-02-18.

Nozzle for a plasma generator

Номер патента: US3707615A. Автор: Anthony J Rotolico,Edwardo Romero. Владелец: Metco Inc. Дата публикации: 1972-12-26.

Plasma generator having a power supply with multiple leakage flux coupled transformers

Номер патента: CA2629240C. Автор: Ralph M. Francis, Jr.. Владелец: Plasma Technics Inc. Дата публикации: 2016-07-26.

Long arc column plasma generator and method

Номер патента: US3673375A. Автор: Salvador L Camacho. Владелец: Technology Application Services Corp. Дата публикации: 1972-06-27.

Plasma generation systems and methods with enhanced electrode configurations

Номер патента: WO2022220932A3. Автор: Raymond Golingo,Ayan CHOUDHURY,Zahra SEIFOLLAHI MOGHADAM. Владелец: Fuse Energy Technologies Corp.. Дата публикации: 2023-01-26.

Underwater plasma generating apparatus

Номер патента: US11849531B2. Автор: Hon Kil Kwak. Владелец: K Fusion Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Plasma-generating device

Номер патента: US20140097740A1. Автор: I-Nan Lin. Владелец: Tamkang University. Дата публикации: 2014-04-10.

Plasma generator

Номер патента: US11785701B2. Автор: Akinori Ebe. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Plasma generator ignition circuit

Номер патента: WO2001045130A3. Автор: Oleg Siniaguine,Patrick Halahan. Владелец: Trusi Technologies Llc. Дата публикации: 2002-01-31.

Non-thermal plasma generator for detection and treatment of maladies

Номер патента: US20210068896A1. Автор: Bryon K. Eckert,Bradley N. Eckert,Huan Truong. Владелец: Chiscan Holdings LLC. Дата публикации: 2021-03-11.

Non-thermal plasma generator for detection and treatment of maladies

Номер патента: US20220061916A1. Автор: Bryon K. Eckert,Bradley N. Eckert,Huan Truong. Владелец: Chiscan Holdings LLC. Дата публикации: 2022-03-03.

A hot plasma generator that uses a process controller method for output energy and spot size/depth to treat dermal complications irrespective of operator's skills

Номер патента: WO2023281303A1. Автор: Mahdi FADAVI JAHROMI,Hassan FADAVI JAHROMI. Владелец: Tahjiz Electronic Exon. Дата публикации: 2023-01-12.

Method for processing polyimide film in the flame of nonequilibrium heterogeneous low-temperature microwave plasma under atmospheric pressure

Номер патента: RU2657899C1. Автор: Андрей Александрович Жуков,Алексей Сергеевич Шиляев,Руслан Назипович Закиров,Анастасия Александровна Халтурина. Владелец: Закрытое акционерное общество "Руднев-Шиляев". Дата публикации: 2018-06-18.

A microwave plasma system for efficiently producing nitric acid and nitrogen fertilizers

Номер патента: WO2023137047A1. Автор: Nicolas H. Pinkowski,Joshua M. McEnaney,John A. SCHWALBE,Sreekumar CHOCKALINGAM. Владелец: Nitricity Inc.. Дата публикации: 2023-07-20.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma reactor for obtaining a homogeneous nanocrystalline diamond film

Номер патента: RU2644216C2. Автор: Евгений Евсеевич Ашкинази,Виктор Григорьевич Ральченко,Виталий Иванович Конов,Андрей Петрович Большаков,Вадим Станиславович Седов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (ИОФ РАН). Дата публикации: 2018-02-08.

Systems, methods, and devices for producing a material with desired characteristics using microwave plasma

Номер патента: US20230001376A1. Автор: Makhlouf Redjdal,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,Pawel MATYS,Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-01-05.

Systems, methods, and devices for producing a material with desired characteristics using microwave plasma

Номер патента: AU2022303174A1. Автор: Makhlouf Redjdal,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,Pawel MATYS,Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Systems, methods, and devices for producing a material with desired characteristics using microwave plasma

Номер патента: CA3221491A1. Автор: Makhlouf Redjdal,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,Pawel MATYS,Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-01-05.

Systems, methods, and devices for producing a material with desired characteristics using microwave plasma

Номер патента: EP4364535A1. Автор: Makhlouf Redjdal,Saurabh Ullal,Michael C. KOZLOWSKI,Pawel MATYS,Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Microwave plasma monitoring system for real-time elemental analysis

Номер патента: US6429935B1. Автор: Yixiang Duan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2002-08-06.

Microwave plasma system for efficiently producing nitric acid and nitrogen fertilizers

Номер патента: US20230219052A1. Автор: Nicolas H. Pinkowski,Joshua M. McEnaney,John A. SCHWALBE,Sreekumar CHOCKALINGAM. Владелец: Nitricity Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Method for the production of multiphase composite materials using microwave plasma process

Номер патента: WO2014153318A1. Автор: Kamal Hadidi,Makhlouf Redjdal. Владелец: AMASTAN LLC. Дата публикации: 2014-09-25.

Method of manufacturing core-shell particles by a microwave plasma process

Номер патента: US11801555B2. Автор: Kamal Hadidi,Gregory Wrobel. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

High-speed diamond growth using a microwave plasma in pulsed mode

Номер патента: CA2512731C. Автор: Francois Silva,Khaled Hassouni,Antoine Rousseau,Alix Helene Gicquel,Xavier Duten,Guillaume Vincent Lombardi. Владелец: Universite Sorbonne Paris Nord Paris 13. Дата публикации: 2012-06-12.

Atmospheric pressure microwave plasma treated porous membranes

Номер патента: EP2001666A2. Автор: Jieh-Hwa Shyu,Alketa Gjoka,Jijun Ge. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Microwave plasma thrust system and methods

Номер патента: WO2023244208A1. Автор: Peter Butzloff. Владелец: Peter Butzloff. Дата публикации: 2023-12-21.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: EP4313447A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Atmospheric Pressure Microwave Plasma Treated Porous Membranes

Номер патента: US20140048476A1. Автор: Jieh-Hwa Shyu,Alketa Gjoka,Jijun Ge. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2014-02-20.

System and method for plasma generation and systems and processes for use thereof

Номер патента: WO2024059355A2. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates, Inc.. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma generating apparatus and plasma generating method

Номер патента: US09540262B2. Автор: Shin-Ichi Imai,Hironori KUMAGAI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Volkov's method of producing chemically active metals and application of vertical stationary "vsp" plasma generator

Номер патента: RU2401477C2. Автор: Анатолий Евгеньевич Волков,Анатолий Евгеньевич Волков (RU). Владелец: Анатолий Евгеньевич Волков. Дата публикации: 2010-10-10.

Pet treatment comb with a plasma generator

Номер патента: EP4212014A1. Автор: Kangyin Qin. Владелец: Shenzhen Petsmile Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-19.

Biological and chemical defense apparatus utilizing cold plasma generated pressurized activated oxygen

Номер патента: US20030175180A1. Автор: John Shannon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-18.

Plasma generation with dialysis systems

Номер патента: US09814822B2. Автор: Matthew Doyle,Alexander Joseph Brown. Владелец: Fresenius Medical Care Holdings Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

Combined induction-arc plasma generator and induction discharge ignition method

Номер патента: RU2558728C1. Автор: Игорь Максимович Уланов,Артем Юрьевич Литвинцев,Михаил Витальевич Исупов,Павел Александрович Мищенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2015-08-10.

Exhaust gas treatment system and method with non-thermal plasma generator

Номер патента: US20200179875A1. Автор: Shyan-Cherng Huang. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2020-06-11.

Method of forming metal powders for additive technologies in plasma generator apparatus with sorting by weight in electric field

Номер патента: RU2745551C2. Автор: Александр Александрович Иванченко,Владимир Сергеевич Балахнин,Иван Николаевич Корепин,Антон Анатольевич Ващилло,Роман Андреевич Кузьменко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ботлихский радиозавод". Дата публикации: 2021-03-26.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: WO2021145843A3. Автор: Galip Akay. Владелец: Galip Akay. Дата публикации: 2022-02-24.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: US20230064758A1. Автор: Galip Akay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-02.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: WO2021145843A2. Автор: Galip Akay. Владелец: Galip Akay. Дата публикации: 2021-07-22.

Treatment of internal spaces using plasma generating device

Номер патента: EP4389034A3. Автор: Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: CAPS Medical Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Plasma generator for an electrothermal-chemical weapons system comprising ceramic, method of fixing the ceramic in the plasma generator and ammunition round comprising such a plasma generator

Номер патента: US20110056402A1. Автор: Lennart Gustavsson,Ola Stark. Владелец: BAE Systems Bofors AB. Дата публикации: 2011-03-10.

Low-temperature plasma generator used in surgery and knife system formed by same

Номер патента: US20150297280A1. Автор: ZHENG Li,Chengdong He. Владелец: Chengdu Mechan Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Plasma generator for an electrothermal-chemical weapons system comprising ceramic, method of fixing the ceramic in the plasma generator and ammunition round comprising such a plasma generator

Номер патента: WO2009123525A1. Автор: Lennart Gustavsson,Ola Stark. Владелец: Bae System Bofors Ab. Дата публикации: 2009-10-08.

Production of hydrogen using plasma generator

Номер патента: RU2440925C1. Автор: Магомед-Эмин Хасаевич Исакаев,Виталий Брониславович Мордынский,Нина Ойзеровна Спектор,Владимир Александрович Катаржис,Алексей Алексеевич Леонов,Александр Семенович Тюфтяев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Объединенный институт высоких температур РАН (ОИВТ РАН). Дата публикации: 2012-01-27.

Medical plasma generator and endoscope using the same

Номер патента: US20110301412A1. Автор: Guang-Sup Cho. Владелец: Industry Academic Collaboration Foundation of Kwangwoon University. Дата публикации: 2011-12-08.

Water vapor plasma generating apparatus, sterilization and disinfection method, and method for antioxidative treatment using water vapor plasma

Номер патента: CA2733163C. Автор: Akira Yamamoto,Chokichi Sato,Kunio Sato,Kenkichi Sato,Toshihiko Hanai,Akio Koga,Hisaharu Ohki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-19.

Oral irrigator having low-temperature plasma generating device

Номер патента: WO2009128579A1. Автор: Hee Woo Kim. Владелец: Eco-From Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-10-22.

Needle adaptor for plasma generating handpiece related application

Номер патента: WO2022246070A1. Автор: James W. Winkelman,Martin E. Schmieg,Craig LOFSTUEN,Kimberly LINTGEN,William R. BETTEN. Владелец: Clear Intradermal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Needle Adaptor for Plasma Generating Handpiece

Номер патента: US20240216035A1. Автор: James W. Winkelman,Martin E. Schmieg,Craig LOFSTUEN,Kimberly LINTGEN,William R. BETTEN. Владелец: Clear Intradermal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for plasma deposition of polymeric coatings and method for plasma generation

Номер патента: RU2190484C1. Автор: Г.Э. Бугров,К.В. Вавилин,С.Г. Кондранин,Е.А. Кралькина,В.Б. Павлов. Владелец: Кралькина Елена Александровна. Дата публикации: 2002-10-10.

Treatment of internal spaces using plasma generating device

Номер патента: EP4389034A2. Автор: Ilan Oleg UCHITEL,Boris Kogan. Владелец: CAPS Medical Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Gas tube for passing plasma generating gases

Номер патента: US5814818A. Автор: Toshio Ohashi,Michio Asai. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 1998-09-29.

Control device for plasma generators

Номер патента: CA1269688A. Автор: Gunnar Astner,Sten-Ove Sjostrom. Владелец: SKF Steel Engineering AB. Дата публикации: 1990-05-29.

MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICES AND PLASMA TORCHES

Номер патента: US20140138361A1. Автор: Moisan Michel,ROSTAING Jean-Christophe,ZAKRZEWSKI Zenon,GUERIN Daniel. Владелец: L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma treatment of surfaces and materials with moving microwave plasma in wave-conducting hollow conductor structure involves moving plasma away from microwave input coupling point

Номер патента: DE10327853A1. Автор: Udo Krohmann. Владелец: Krohmann Udo Dipl-Ing. Дата публикации: 2005-01-05.

Lhniter of microwave plasma torch and microwave plasma torch using the same

Номер патента: KR102435691B1. Автор: 조창현,김지훈,유현종,장수욱. Владелец: 한국핵융합에너지연구원. Дата публикации: 2022-08-24.

Lhniter of microwave plasma torch and microwave plasma torch using the same

Номер патента: KR20220015166A. Автор: 조창현,김지훈,유현종,장수욱. Владелец: 한국핵융합에너지연구원. Дата публикации: 2022-02-08.

HIGH DENSITY MICROWAVE PLASMA GENERATION APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20130270110A1. Автор: TOYODA Hirotaka,Sasai Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

Cavity Resonator of Microwave Plasma Generating Apparatus

Номер патента: US20160157330A1. Автор: FUJII Shuitsu,OI Katsumi. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

A kind of high temperature microwave plasma generator and waste treatment system

Номер патента: CN109442422A. Автор: 舒小明. Владелец: ANHUI HANGTIAN ENVIRONMENTAL ENGINEERING Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-08.

Method and device for igniting and generating an expanding diffuse microwave plasma and method and device for plasma treating surfaces and substances by using this plasma

Номер патента: WO2007028813A3. Автор: Torsten Neumann,Udo Krohmann,Joerg Ehlbeck,Kristian Rackow. Владелец: Inp Inst Fuer Niedertemperatur. Дата публикации: 2007-11-22.

Apparatus for treating powdery materials utilizing microwave plasma

Номер патента: DE3160789D1. Автор: Nishida Katsutoshi,Hirose Masahiko. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1983-09-29.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MICROWAVE SUPPLY METHOD

Номер патента: US20150108897A1. Автор: Ishida Yohei,KANEKO Kazushi,HASHIMOTO Yunosuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-04-23.

A microwave plasma source and method of forming a linearly elongated plasma at atmospheric pressure conditions

Номер патента: DE102008062619B4. Автор: Julius Roch,Dr. Dani Ines,Prof. Dr. Kaskel Stefan. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2012-01-19.

MATERIAL SYNTHESIS TECHNOLOGY BY MICROWAVE PLASMA TORCH WITH ATMOSPHERIC PRESSURE AND HIGH TEMPERATURE

Номер патента: US20220007488A1. Автор: Bai Ye,Li Dashuai. Владелец: Chengdu Landmarks Technology Co., Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Microwave Plasma Spectrometer Using Dielectric Resonator

Номер патента: US20160025656A1. Автор: Menon Ashok,Jevtic Jovan,Pikelja Velibor. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

COMPOUND DOUBLE COAXIAL LINE ATMOSPHERIC PRESSURE LOW-TEMPERATURE MICROWAVE PLASMA JET SOURCE

Номер патента: US20210029816A1. Автор: Li Xiaoyun,YAN Yang,Fu Wenjie,ZHANG Chaoyang,NIE Cong. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2021-01-28.

Microwave Plasma Treatment Apparatus

Номер патента: US20180049304A1. Автор: Kim Jaeho,Sakakita Hajime. Владелец: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2018-02-15.

MICROWAVE PLASMA TORCH

Номер патента: US20170095787A1. Автор: HONG Yong-Cheol. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-06.

MICROWAVE PLASMA STERILISATION SYSTEM AND APPLICATORS THEREFOR

Номер патента: US20200171180A1. Автор: Hancock Christopher Paul. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

MICROWAVE PLASMA STERILISATION SYSTEM AND APPLICATORS THEREFOR

Номер патента: US20170232122A1. Автор: Hancock Christopher Paul. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-17.

MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20200288560A1. Автор: KUNINAKA Hitoshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-10.

SEGMENTED LINER AND METHODS OF USE WITHIN A MICROWAVE PLASMA APPARATUS

Номер патента: US20200314991A1. Автор: Hadidi Kamal,Kozlowski Michael,Duanmu Ning,Turchetti Scott. Владелец: Amastan Technologies Inc.. Дата публикации: 2020-10-01.

WORKPIECE PROCESSING CHAMBER HAVING A ROTARY MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20150351166A1. Автор: Liang Qiwei,Stowell Michael W.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

Workpiece Processing Chamber Having a Rotary Microwave Plasma Source

Номер патента: US20180352617A1. Автор: Liang Qiwei,Stowell Michael W.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-06.

Microwave-Plasma Disinfector (Origreen)

Номер патента: US20220409758A1. Автор: El-Ghazaly Samir,Ghadimi Avval Amirreza,Ghayouraneh Sara,Alfawaz Saleh,Alquaydheb Ibrahim. Владелец: BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ARKANSAS. Дата публикации: 2022-12-29.

NOx reduction system using microwave plasma

Номер патента: KR101567745B1. Автор: 박정봉,김종보,박원균. Владелец: 박정봉. Дата публикации: 2015-11-09.

NOx reduction system using microwave plasma based on selective catalytic reduction

Номер патента: KR101591229B1. Автор: 박정봉. Владелец: 박정봉. Дата публикации: 2016-02-03.

Microwave plasma sterilisation system and applicators therefor

Номер патента: US11097022B2. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2021-08-24.

Method for cooling microwave plasma and system for the selective destruction of chemical molecules using said method

Номер патента: WO2009144110A1. Автор: Pascal Moine,Christian Larquet,Daniel Guerin,Jean-Christophe Rostaing,Michel Moisan,Valere Laurent,Bruno Depert. Владелец: L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-12-03.

Emission control for perfluorocompound gases by microwave plasma torch

Номер патента: US6620394B2. Автор: Han Sup Uhm,Yong C. Hong,Ho-Jun Kang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-16.

Method of cooling a microwave plasma and system for selective destruction of chemical molecules using this method

Номер патента: EP2131633A1. Автор: Pascal Moine,Christian Larquet,Daniel Guerin,Jean-Christophe Rostaing,Michel Moisan,Valere Laurent,Bruno Depert. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-12-09.

Method for cooling microwave plasma and system for the selective destruction of chemical molecules using said method

Номер патента: US20110073282A1. Автор: Pascal Moine,Christian Larquet,Michel Moisan,Valere Laurent,Bruno Depert,Daniel Guelles,Jean-Christophc Rostaing. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2011-03-31.

METHOD FOR STARTING A MICROWAVE PLASMA AND SELECTIVE DESTRUCTION SYSTEM FOR CHEMICAL MOLECULES USING THE SAME

Номер патента: FR2932058A1. Автор: Pascal Moine,Hervé Dulphy,Christian Larquet,Daniel Guerin,Jean Christophe Rostaing,Valere Laurent,Bruno Depert,Krid Aicha El. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-12-04.

Toluene burn decomposition apparatus using microwave plasma and Toluene burn decomposition apparatus with function of flame amplication using Toluene

Номер патента: KR101468923B1. Автор: 이주열,강태성,박병현,임윤희,하태영. Владелец: 주식회사 애니텍. Дата публикации: 2014-12-22.

Microwave Plasma Torch for Metal Powder Treatment or producing Metal Alloy and Method for Treatment of Metal Powder or Material having metal compound Using the Same

Номер патента: KR102130956B1. Автор: 이성은,김대운,장현석,이봉주. Владелец: (주)그린사이언스. Дата публикации: 2020-08-05.

Microwave plasma nozzle with improved plume stability and heating efficiency

Номер патента: JP2008506235A. Автор: サン ハン リー,ジェイ ジョンソ キム. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-28.

Formation of deposited film by microwave plasma cvd

Номер патента: JPH01198479A. Автор: Takeshi Nakamura,毅 中村,Kazusane Sugaya,和実 菅谷,Yoshiaki Moriyama,義明 守山. Владелец: Pioneer Electronic Corp. Дата публикации: 1989-08-10.

Microwave plasma ignition device

Номер патента: CN101852444B. Автор: 白野,蒲力萌. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-13.

Method for carbon dioxide reforming of methane using microwave plasma torch

Номер патента: KR100581476B1. Автор: 엄환섭,홍용철. Владелец: 엄환섭. Дата публикации: 2006-05-23.

Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency

Номер патента: CN101002508A. Автор: 李相勋,金重秀. Владелец: Amarante Technologies Inc. Дата публикации: 2007-07-18.

Microwave plasma ignition device

Номер патента: CN101852444A. Автор: 白野,蒲力萌. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-06.

MICROWAVE PLASMA MANUFACTURING DEVICE

Номер патента: DE3915477A1. Автор: Yukio Okamoto,Seiichi Murayama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1989-11-23.

Method for the production of powders and a sealed microwave plasma reactor

Номер патента: FR2591412A1. Автор: Benoit D Armancourt. Владелец: Air Liquide SA. Дата публикации: 1987-06-12.

A chemical reaction apparatus of radicals produced from microwave plasma torch

Номер патента: KR100954486B1. Автор: 엄환섭,조순천. Владелец: 엄환섭. Дата публикации: 2010-04-22.

Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency

Номер патента: CA2572391A1. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Amarante Technologies, Inc. Дата публикации: 2006-02-09.

Portable arc-seeded microwave plasma torch

Номер патента: CN101022912A. Автор: 斯潘塞·P·郭. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-22.

Utilize the nitrogen oxides abatement system of microwave plasma

Номер патента: CN107847855A. Автор: 金钟甫,朴贞峰,朴洹均. Владелец: Airbaby Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Microwave Plasma Nozzle With Enhanced Plume Stability And Heating Efficiency

Номер патента: US20080017616A1. Автор: Sang Lee,Jay Kim. Владелец: Amarante Technologies Inc. Дата публикации: 2008-01-24.

Portable microwave plasma genertor

Номер патента: KR101802817B1. Автор: 김명수,강성길,이현욱,원임희. Владелец: (주)메디플. Дата публикации: 2017-11-30.

Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency

Номер патента: EP1787500A2. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Amarante Technologies Inc. Дата публикации: 2007-05-23.

Coaxial microwave plasma torch

Номер патента: CN1954647A. Автор: 藤井修逸,拉玛沙米·拉兹,浦山卓也,藤岡万也. Владелец: Adtec Plasma Technology Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-25.

Elimination apparatus and method of biological and chemical warfare agents by portable suction device attached to microwave plasma torch and burner

Номер патента: KR101001460B1. Автор: 엄환섭,홍용철. Владелец: 엄환섭. Дата публикации: 2010-12-15.

Emission Control Method of Perfluorocompound Gases using Microwave Plasma Torch

Номер патента: KR100454085B1. Автор: 엄환섭,홍용철,강호준. Владелец: 엄환섭. Дата публикации: 2004-10-28.

Microwave plasma device

Номер патента: CN108834296B. Автор: 吴穹. Владелец: Anhui Aerospace Environmental Engineering Co ltd. Дата публикации: 2020-07-10.

MICROWAVE PLASMA TORCH, DEVICE COMPRISING SUCH A TORCH AND METHOD FOR MANUFACTURING POWDER USING THE SAME

Номер патента: FR2616614B1. Автор: Michel Gastiger,Lahcen Ougarane,Jean-Luc Labat. Владелец: Air Liquide SA. Дата публикации: 1989-10-20.

Microwave plasma source

Номер патента: CN111149438A. Автор: 国中均. Владелец: Institute Of Space And Aeronautical Science. Дата публикации: 2020-05-12.

A kind of igniting inlet duct for microwave plasma reformer

Номер патента: CN105909449B. Автор: 王岩,刘鹏,王军年,王治强,王庆年. Владелец: Jilin University. Дата публикации: 2017-08-08.

Microwave plasma treatment apparatus

Номер патента: EP3264866A4. Автор: Jaeho Kim,Hajime Sakakita. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2018-10-03.

MICROWAVE PLASMA EXCITATORS

Номер патента: FR2880236B1. Автор: Christian Larquet,Daniel Guerin,Jean Christophe Rostaing,Michel Moisan,Zenon Zakrzewski,Mariusz Jasiński,Dariusz Czykowski. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2007-03-30.

Microwave plasma sterilisation system and applicators therefor

Номер патента: US8647585B2. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2014-02-11.

Coaxial microwave plasma torch

Номер патента: EP1734798A4. Автор: Shuitsu Fujii,Takuya Urayama,Raju Ramasamy,Kazunari Fujioka. Владелец: Adtec Plasma Tech Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-29.

Applicator for microwave plasma sterilisation

Номер патента: EP2599506B1. Автор: Christopher Paul Hancock. Владелец: Creo Medical Ltd. Дата публикации: 2018-07-11.

DEVICE FOR TREATMENT WITH MICROWAVE PLASMA

Номер патента: DE3043693A1. Автор: Masahiko Hirose,Tsuyoshi Yasuri,Masahiko Yokohama Kanagawa Yotuyanagi. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-06-04.

Continuous, real time microwave plasma element sensor

Номер патента: WO1995011442A1. Автор: Jeffrey E. Surma,Daniel R. Cohn,Charles H. Titus,J. Kenneth Wittle,Paul P. Woskov,Donna L. Smatlak. Владелец: Electo - Pyrolysis, Inc.. Дата публикации: 1995-04-27.

Microwave plasma and ultraviolet assisted deposition apparatus and method for material deposition using the same

Номер патента: US20190368044A1. Автор: Alfred Grill,Son V. Nguyen,Deepika Priyadarshini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Microwave plasma and ultraviolet assisted deposition apparatus and method for material deposition using the same

Номер патента: US20190368045A1. Автор: Alfred Grill,Son V. Nguyen,Deepika Priyadarshini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Microwave plasma and ultraviolet assisted deposition apparatus and method for material deposition using the same

Номер патента: US20170002469A1. Автор: Alfred Grill,Son V. Nguyen,Deepika Priyadarshini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-05.

Microwave plasma and ultraviolet assisted deposition apparatus and method for material deposition using the same

Номер патента: US09435031B2. Автор: Alfred Grill,Son V. Nguyen,Deepika Priyadarshini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Microwave plasma element sensor

Номер патента: US5909277A. Автор: Paul Thomas,Paul Woskov,Kamal Hadidi. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1999-06-01.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Microwave plasma biomass gasifying fixed bed gasifier and process.

Номер патента: MX358425B. Автор: Zhang Liang,ZHANG Yanfeng,CHEN Yilong,XIA Minggui. Владелец: Wuhan Kaidi General Research Institute Of Engineering & Tech Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-17.

Microwave plasma generator having large treatment area and medical instrument using the same

Номер патента: KR101161113B1. Автор: 이현우. Владелец: 주식회사 메디플. Дата публикации: 2012-06-28.

Microwave plasma generator

Номер патента: JP2649914B2. Автор: 安栄 佐藤. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-09-03.

Method of Manufacture of Free Standing Microwave Plasma CVD Polycrystalline Diamond Films with Major Dimensions on the Order of One Wavelength of the Utilized Microwave

Номер патента: US20170298515A1. Автор: Eissler Elgin E.,Tanner Charles D.,Sabens David. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-19.

A kind of microwave shielding device of microwave plasma CVD equipment

Номер патента: CN110284123A. Автор: 李凡,俞佳宾,眭立洪. Владелец: Jiangsu Yongding Optical Fiber Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-27.

Circulating fluidized bed plasma gasifier with microwave plasma torch

Номер патента: KR101326670B1. Автор: 서명원,윤상준,이재구,김용구. Владелец: 한국에너지기술연구원. Дата публикации: 2013-11-08.

Gasification of biogenic substances in a twin-screw reactor with the aid of microwave plasma

Номер патента: AT518754A2. Автор: Gruber-Schmidt Johann. Владелец: Gs Gruber-Schmidt Gmbh. Дата публикации: 2017-12-15.

MICROWAVE PLASMA REACTORS

Номер патента: US20130101730A1. Автор: Becker Michael,KING David,Lu Jing,Asmussen Jes,Grotjohn Timothy,Reinhard Donnie K.,Schuelke Thomas,Yaran M. Kagan,Hemawan Kadek W.,Gu Yajun. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-25.

Method for growing white color diamonds by using diborane and nitrogen in combination in a microwave plasma chemical vapor deposition system

Номер патента: US20130239615A1. Автор: Devi Shanker Misra. Владелец: IIA Technologies Pte Ltd. Дата публикации: 2013-09-19.

MICROWAVE PLASMA REACTOR FOR MANUFACTURING SYNTHETIC DIAMOND MATERIAL

Номер патента: US20140048016A1. Автор: Wort Christopher John Howard,Scarsbrook Geoffrey Alan,Brandon John Robert,Coe Steven Edward,Wilman Jonathan James,DODSON JOSEPH MICHAEL. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2014-02-20.

Atmospheric Pressure Microwave Plasma Treated Porous Membranes

Номер патента: US20140048476A1. Автор: Gjoka Alketa,Ge Jijun,Shyu Jieh-Hwa. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2014-02-20.

Apparatus and method for rapidly producing synthetic gas from bio-diesel by-product using microwave plasma

Номер патента: US20140054504A1. Автор: Yong Ku Kim,Sang Jun Yoon,Jae Goo Lee. Владелец: Korea Institute of Energy Research KIER. Дата публикации: 2014-02-27.

MICROWAVE PLASMA STERILISATION SYSTEM AND APPLICATORS THEREFOR

Номер патента: US20140066838A1. Автор: Hancock Christopher Paul. Владелец: . Дата публикации: 2014-03-06.

HYDROGEN SULFIDE AND CARBONYL SULFIDE REMOVAL APPARATUS USING MICROWAVE PLASMA, AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20140069011A1. Автор: Lee Jae Goo,YOON Sang Jun,KIM Yong Ku. Владелец: KOREA INSTITUTE OF ENERGY RESEARCH. Дата публикации: 2014-03-13.

MICROWAVE PLASMA AND ULTRAVIOLET ASSISTED DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MATERIAL DEPOSITION USING THE SAME

Номер патента: US20170002469A1. Автор: Grill Alfred,Nguyen Son V.,Priyadarshini Deepika. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-05.

METHODS OF FABRICATING SYNTHETIC DIAMOND MATERIALS USING MICROWAVE PLASMA ACTIVATED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION TECHNIQUES AND PRODUCTS OBTAINED USING SAID METHODS

Номер патента: US20170009376A1. Автор: Friel Ian,Twitchen Daniel,BRANDON John,Markham Matthew,Khan Rizwan,Wort Christopher,COE STEVEN,WILMAN JONATHAN,SCARSBROOK GEOFFREY,ROBERTSON KATHARINE. Владелец: ELEMENT SIX TECHNOLOGIES LIMITED. Дата публикации: 2017-01-12.

MICROWAVE PLASMA REACTOR FOR MANUFACTURING SYNTHETIC DIAMOND MATERIAL

Номер патента: US20150030786A1. Автор: Wort Christopher John Howard,Scarsbrook Geoffrey Alan,Twitchen Daniel James,Brandon John Robert,Coe Steven Edward,Wilman Jonathan James. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2015-01-29.

MICROWAVE PLASMA STERILISATION SYSTEM AND APPLICATORS THEREFOR

Номер патента: US20150056107A1. Автор: Hancock Christopher Paul. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

Apparatus for Growing Diamonds by Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition Process and Substrate Stage Used Therein

Номер патента: US20150059647A1. Автор: Misra Devi Shanker. Владелец: IIa Technologies Pt. Ltd.. Дата публикации: 2015-03-05.

METHOD FOR THE PRODUCTION OF MULTIPHASE COMPOSITE MATERIALS USING MICROWAVE PLASMA PROCESS

Номер патента: US20140217630A1. Автор: Hadidi Kamal,Redjdal Makhlouf. Владелец: AMASTAN LLC. Дата публикации: 2014-08-07.

MICROWAVE PLASMA REACTORS AND SUBSTRATES FOR SYNTHETIC DIAMOND MANUFACTURE

Номер патента: US20140234556A1. Автор: Wort Christopher John Howard,Scarsbrook Geoffrey Alan,Pickles Charles Simon James,Mollart Timothy Peter,Brandon John Robert,Dodge Carlton Nigel,Coe Steven Edward,DODSON JOSEPH MICHAEL,Inglis Paul Nicolas,Cullen Alexander Lamb. Владелец: ELEMENT SIX LIMITED. Дата публикации: 2014-08-21.

MICROWAVE PLASMA AND ULTRAVIOLET ASSISTED DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MATERIAL DEPOSITION USING THE SAME

Номер патента: US20150191824A1. Автор: Grill Alfred,Nguyen Son V.,Priyadarshini Deepika. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2015-07-09.

MICROWAVE PLASMA APPARATUS AND METHOD FOR MATERIALS PROCESSING

Номер патента: US20140287162A1. Автор: Hadidi Kamal,Jordan Eric,Woskov Paul P.,Cetegen Baki. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

MICROWAVE PLASMA GASIFICATION AND RECYCLE INTEGRATED SYSTEM FOR DOMESTIC GARBAGE

Номер патента: US20200238350A1. Автор: DENG Lei,Liu Cheng,Xie Hong,ZHANG Guixin. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-07-30.

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING A MICROWAVE PLASMA ASSISTED DEPOSITION

Номер патента: US20200263294A1. Автор: GICQUEL Alix,DUIGOU Olivier,BIEBER Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-20.

SURFACE TREATMENT METHOD OF CERAMIC POWDER USING MICROWAVE PLASMA FOR ENHANCING FLOWABILITY

Номер патента: US20190300998A1. Автор: SHIN Dong Hun,HONG Yong Cheol,CHUN Se Min,MOON Heung Soo,SHIN Pyoung Woo,PARK Sae Mee. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

MICROWAVE PLASMA AND ULTRAVIOLET ASSISTED DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MATERIAL DEPOSITION USING THE SAME

Номер патента: US20190368044A1. Автор: Grill Alfred,Nguyen Son V.,Priyadarshini Deepika. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

MICROWAVE PLASMA AND ULTRAVIOLET ASSISTED DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MATERIAL DEPOSITION USING THE SAME

Номер патента: US20190368045A1. Автор: Grill Alfred,Nguyen Son V.,Priyadarshini Deepika. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

Methods of fabricating synthetic diamond materials using microwave plasma activated chemical vapour deposition techniques and products obtained using said

Номер патента: GB2526639A. Автор: Daniel James Twitchen,Geoffrey Alan Scarsbrook,Ian Friel,Matthew Lee Markham,Rizwan Uddin Ahmad Khan,Steven Edward Coe,Jonathan James Wilman,John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort,Katharine Louise Robertson. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-12-02.

Methods of fabricating synthetic diamond materials using microwave plasma actived chemical vapour deposition techniques and products obtained using said

Номер патента: GB201320304D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2014-01-01.

NOx reduction system using microwave plasma based on Selective Non-Catalytic Reduction

Номер патента: KR101902331B1. Автор: 박정봉. Владелец: 박원균. Дата публикации: 2018-10-01.

The sterilizer of microwave plasma

Номер патента: KR100961552B1. Автор: 정성욱. Владелец: 에이치케이산업(주). Дата публикации: 2010-06-07.

Method for producing hydrogen gas by microwave plasma discharge

Номер патента: KR100810620B1. Автор: 정용호,이봉주. Владелец: 주식회사 셈테크놀러지. Дата публикации: 2008-03-06.

Manufacturing method for crumpled graphene-carbon nanoparticle composite using microwave plasma system, and crumpled graphene-carbon nanoparticle composite manufactured therefrom

Номер патента: KR101623343B1. Автор: 장희동,조은희,장한권. Владелец: 한국지질자원연구원. Дата публикации: 2016-05-23.

Microwave plasma cvd device

Номер патента: JPS64272A. Автор: Shotaro Okabe,Satoru Sugita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-01-05.

Method for the production of multiphase composite materials using microwave plasma process

Номер патента: US9242224B2. Автор: Kamal Hadidi,Makhlouf Redjdal. Владелец: Amastan Technologies Inc. Дата публикации: 2016-01-26.

Device and method for preparing n-type doped diamond by microwave plasma-hot wire composite chemical vapor deposition

Номер патента: CN111850506B. Автор: 张磊,李辉,刘胜,申胜男,于大洋,王浩丞,聂思媛. Владелец: Shenzhen Research Institute of Wuhan University. Дата публикации: 2022-06-17.

Microwave plasma CVD equipment

Номер патента: JP2609866B2. Автор: 正太郎 岡部,哲 杉田. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-05-14.

Microwave plasma atomic emission spectrometry for directly analyzing solid sample and system thereof

Номер патента: CN107664633B. Автор: 段忆翔,牛广辉. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 2021-10-22.

Chemical vapor deposition device activated by microwave plasma.

Номер патента: FR2695944B1. Автор: Philippe Leprince,Remy Mevrel,Michel Bejet,Ghislaine Seiberras,Claude Indrigo,Claude Le Pennec. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 1994-11-18.

DIAMOND GROWTH AT HIGH SPEED BY MICROWAVE PLASMA IN PULSE REGIME.

Номер патента: FR2849867A1. Автор: Alix Gicquel,Francois Silva,Xavier Futen,Khaled Hassouni,Antoine Rousseau. Владелец: Universite Sorbonne Paris Nord Paris 13. Дата публикации: 2004-07-16.

Rapid growth of diamond using pulsed mode microwave plasma

Номер патента: JP4969780B2. Автор: アリ エレヌ ジクエル、,フランソワ シルヴァ、,ザヴィェ デュタン、,カレ アスーニ、,ギョーム ヴェンセン ロンバルデ、,アントワヌ ルソー、. Владелец: Universite Paris Nord Paris Xiii Institut Galilee. Дата публикации: 2012-07-04.

DEVICE FOR MICROWAVE PLASMA DEPOSITION OF A COATING ON A CONTAINER OF THERMOPLASTIC MATERIAL

Номер патента: FR2792854A1. Автор: Patrick Chollet. Владелец: Sidel SA. Дата публикации: 2000-11-03.

DEPOSITION INSTALLATION, USING MICROWAVE PLASMA, INTERNAL BARRIER COATING IN THERMOPLASTIC CONTAINERS

Номер патента: FR2907036A1. Автор: Damien Cirette,Yves Alban Duclos. Владелец: Sidel Participations SAS. Дата публикации: 2008-04-18.

Method for producing metal oxide nanostructures using microwave plasma device, metal oxide nanostructures manufactured using the same, and photocatalysts including the metal oxide nanostructures

Номер патента: KR102322564B1. Автор: 이병주,조성일,정구환. Владелец: 강원대학교산학협력단. Дата публикации: 2021-11-05.

DEVICE FOR MICROWAVE PLASMA DEPOSITION OF A COATING ON A CONTAINER OF THERMOPLASTIC MATERIAL

Номер патента: FR2792854B1. Автор: Patrick Chollet. Владелец: Sidel SA. Дата публикации: 2001-08-03.

Microwave plasma thin film forming device

Номер патента: JPS63213673A. Автор: Shigeru Takahashi,Yasuhiro Mochizuki,Noboru Suzuki,Atsushi Chiba,淳 千葉,和夫 鈴木,Kazuo Suzuki,Tadashi Sonobe,茂 高橋,Takuya Fukuda,康弘 望月,Naohiro Monma,直弘 門馬,登 鈴木,園部　正,福田　▲琢▼也. Владелец: Hitachi Service Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1988-09-06.

Method for the production of multiphase composite materials using microwave plasma process

Номер патента: CA3169580A1. Автор: Kamal Hadidi,Makhlouf Redjdal. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2014-09-25.

Microwave plasma biomass entrained flow gasifier and process

Номер патента: CN102559272A. Автор: 陈义龙,张岩丰,张亮,夏明贵. Владелец: Wuhan Kaidi Engineering Technology Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-11.

Microwave plasma biomass gasification fixed bed gasification furnace and method

Номер патента: JP5959027B2. Автор: ▲張▼岩▲豊▼,▲陳義龍▼,夏明▲貴▼,▲張▼亮. Владелец: 武▲漢凱▼迪工程技▲術▼研究▲総▼院有限公司. Дата публикации: 2016-08-02.

Microwave plasma cloud exhaust treatment device

Номер патента: CN216143927U. Автор: 汪磊,王新宇,余志红,刘传龙,赵三飞,吴述庆,刘伟方,段信豹. Владелец: Wuhan Hairui Kechuang Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Apparatus for chemical vapour phase deposition activated by a microwave plasma

Номер патента: EP0665903B1. Автор: Philippe Leprince,Remy Mevrel,Michel Bejet,Ghislaine Seiberras,Claude Indrigo,Claude Le Pennec. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 1996-04-24.

Microwave plasma cvd device

Номер патента: JPS6452070A. Автор: Toshiyasu Shirasago. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-02-28.

Device for forming functional deposited film by microwave plasma cvd method

Номер патента: JPS6389670A. Автор: Tetsuya Takei,武井　哲也. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1988-04-20.

Apparatus for surface modification of casing-parts using atmospheric-pressure microwave plasma and method thereof

Номер патента: KR100708320B1. Автор: 김기현,엄환섭,김형석. Владелец: 김형석. Дата публикации: 2007-04-17.

Formation of functional deposited film by microwave plasma cvd

Номер патента: JPS63282271A. Автор: Keishi Saito,恵志 斉藤. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1988-11-18.

Treating method of surface of ceramic powder using microwave plasma for enhancing its flow ability

Номер патента: KR102085420B1. Автор: 신동훈,홍용철,박새미,문흥수,천세민,신평우. Владелец: (주)세원하드페이싱. Дата публикации: 2020-03-05.

Method for the production of multiphase composite materials using microwave plasma process

Номер патента: JP2021112738A. Автор: Hadidi Kamal,Redjdal Makhlouf,マッカルーフ・レジダル,カマル・ハディディ. Владелец: Six K Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Laser assisted microwave plasma spectroscopy

Номер патента: WO2008115287A3. Автор: Andrzej Miziolek,Philip C Efthimion. Владелец: Efthimion Entpr Inc. Дата публикации: 2008-11-06.

Pretreatment method for water-repellent coating glass by microwave plasma torch

Номер патента: KR100706435B1. Автор: 김상영. Владелец: 현대자동차주식회사. Дата публикации: 2007-04-10.

Clinical waste microwave plasma control oxygen cat-cracker

Номер патента: CN107152683A. Автор: 杨明,曹迪,杭志强,曹媛,曹蕴明,王地,王一地,耿小军. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Method for preparing white carbon black by microwave plasma torch

Номер патента: CN114477197A. Автор: 王凤霞,刘松林,朱铧丞,肖玮,史连军. Владелец: Wengfu Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-13.

Microwave plasma biomass gasifying fixed bed gasifier and process

Номер патента: EP2799521A4. Автор: Yanfeng Zhang,Liang Zhang,Yilong Chen,Minggui Xia. Владелец: Wuhan Kaidi Engineering Technology Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-16.

Microwave plasma biomass entrained flow gasifier and process

Номер патента: AP2014007828A0. Автор: Liang Zhang,Yilong Chen,Minggui Xia. Владелец: Wuhan Kaidi Eng Tech Res Inst. Дата публикации: 2014-07-31.

Vacuum pressure control device and microwave plasma CVD device

Номер патента: CN108517556A. Автор: 朱金华,吴建新,缪勇,马懿,卢荻,马修·L·斯卡林,艾永干,克里斯托弗·E·格里芬. Владелец: Fd3m Co. Дата публикации: 2018-09-11.

Apparatus and method for rapidly producing synthetic gas from bio-diesel by-product using microwave plasma

Номер патента: US8999018B2. Автор: Yong Ku Kim,Sang Jun Yoon,Jae Goo Lee. Владелец: Korea Institute of Energy Research KIER. Дата публикации: 2015-04-07.

Microwave plasma source

Номер патента: JPS5940447A. Автор: Hideki Koike,Kuniyuki Sakumichi,Katsumi Tokikuchi,Osami Okada,訓之 作道,Katsunobu Abe,克己 登木口,岡田　修身,安部　勝信,小池　英己. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-03-06.

METHOD AND ITS CORRESPONDING INSTALLATION FOR THE ELIMINATION OF VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS BY MICROWAVE PLASMA.

Номер патента: ES2235639B1. Автор: Sebastian Rubio Garcia,Maria Carmen Quintero Ortega,Antonio Rodero Serrano. Владелец: UNIVERSIDAD DE CORDOBA. Дата публикации: 2006-11-16.

Apparatus and method for producing hydrogen gas by microwave plasma discharge

Номер патента: EP1881944A1. Автор: Bong-Ju Lee,Yong-Ho Jung. Владелец: SEM Technology Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-30.

Externally heated microwave plasma gasifier and synthesis gas production method

Номер патента: KR101625140B1. Автор: 얀펭 장,밍구이 시아,리앙 장,이롱 첸. Владелец: 우한 카이디 엔지니어링 테크놀로지 리서치 인스티튜트 코오퍼레이션 엘티디.. Дата публикации: 2016-05-27.

Microwave plasma-assisted sputtering optical film forming method

Номер патента: CN111074225A. Автор: 毛念新,黄翔鄂,严仲君. Владелец: SHANGHAI JASON VACUUM CO Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

FIXED BED GASATING DEVICE FOR GASING OF MICROWAVE PLASMA BIOMAS AND SIMILAR PROCEDURE

Номер патента: DK2799521T3. Автор: Yanfeng Zhang,Liang Zhang,Yilong Chen,Minggui Xia. Владелец: Wuhan Kaidi Eng Tech Res Inst. Дата публикации: 2019-04-01.

Rice breeding method adopting microwave plasma treatment

Номер патента: CN109121550B. Автор: 李艳,张丽丽,张晓明,张烨,梁超,唐欣,牟晓东,邵龙,范立国,邵长勇,张保友,都明霞,梁凤臣,赵立静,邵希言,初晓玲. Владелец: Shandong Seed Co ltd. Дата публикации: 2021-02-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave plasma generator

Номер патента: RU2153781C1. Автор: Н.И. Малых,М.И. Тактакишвили,И.А. Коссый,М.А. Мисакян,С.И. Грицинин. Владелец: Костин Владимир Владимирович. Дата публикации: 2000-07-27.

METHOD FOR MICROWAVE PLASMA FORMATION OF CUBIC SILICON CARBIDE FILMS ON SILICON (3C-SiC)

Номер патента: RU2538358C1. Автор: Петр Павлович Мальцев,Юрий Владимирович Федоров,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-01-10.

Installation and method for production of nanodispersed powders in microwave plasma

Номер патента: RU2252817C1. Автор: И.Л. Балихин,В.И. Берестенко,И.А. Домашнев,Е.Н. Куркин,В.Н. Троицкий. Владелец: Закрытое акционерное общество "Наноматериалы". Дата публикации: 2005-05-27.

Microwave plasma processing device

Номер патента: RU2539872C1. Автор: Петр Павлович Мальцев,Юрий Владимирович Федоров,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин,Алевтина Александровна Реппа. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-01-27.

Microwave plasma reactor for gas-phase deposition of diamond films in gas flow (versions)

Номер патента: RU2595156C2. Автор: Анатолий Леонтьевич Вихарев,Михаил Александрович Лобаев,Алексей Михайлович Горбачёв,Джеймс Ехрич Батлер. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2016-08-20.

Plasma generator of deceleration radiation

Номер патента: RU2488243C2. Автор: Владимир Иванович Зайцев,Виктор Игоревич Ильгисонис,Виктор Викторович Андреев,Евгений Валентинович Грабовский,Денис Викторович Чупров,Анатолий Михайлович Умнов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (ФГУП "ГНЦ РФ ТРИНИТИ"). Дата публикации: 2013-07-20.

Arc-plasma generator

Номер патента: RU2212773C2. Автор: А.И. Авдеев,Б.И. Авдеев. Владелец: Авдеев Борис Игоревич. Дата публикации: 2003-09-20.

Inductor-type high-frequency plasma generator

Номер патента: RU2233563C2. Автор: В.И. Мазин. Владелец: Мазин Владимир Ильич. Дата публикации: 2004-07-27.

Method of control of aerodynamic streamlining of flying vehicle and plasma generator

Номер патента: RU2271307C2. Автор: Владимир Александрович Иванов,Владимир Сергеевич Сухомлинов. Владелец: Владимир Сергеевич Сухомлинов. Дата публикации: 2006-03-10.

Composition of electrode material for low-temperature plasma generator

Номер патента: RU2381590C1. Автор: Алексей Сергеевич Орыщенко,Евгений Давыдович Бланк,Валерий Васильевич Рыбин,Сергей Евгеньевич Виноградов,Владимир Евгеньевич Кузнецов,Филипп Григорьевич Рутберг,Валентин Иванович Шекалов,Валентин Николаевич Слепнев,Василий Николаевич Ширяев,Алексей Анатольевич Сафронов. Владелец: Учреждение Российской Академии Наук Институт Электрофизики И Электроэнергетики Ран (Иээ Ран). Дата публикации: 2010-02-10.

Plasma generator cathode component

Номер патента: RU2336591C1. Автор: Азат Фивзатович Гайсин,Хаммат Миннахметович Шавалиев,Марат Фарихович Ахатов,нов Альберт Иванович Андри,Альберт Иванович Андриянов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева. Дата публикации: 2008-10-20.

Method increasing service life of plasma generator used for plasma-arc machining of materials

Номер патента: RU2174065C2. Автор: В.П. Ларионов,И.Е. Киренский. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2001-09-27.

Nozzle unit of plasma generator

Номер патента: RU2174063C1. Автор: А.М. Иванов. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2001-09-27.

Three-phase ac plasma generator

Номер патента: RU2231936C1. Автор: А.А. Сафронов,ев В.Н. Шир,В.Н. Ширяев,Ф.Г. Рутберг. Владелец: Сафронов Алексей Анатольевич. Дата публикации: 2004-06-27.

Plasma generator

Номер патента: RU2056180C1. Автор: Геннадий Григорьевич Юрин. Владелец: Геннадий Григорьевич Юрин. Дата публикации: 1996-03-20.

High-frequency capacitive plasma generator

Номер патента: RU2027324C1. Автор: А.В. Дмитриев,Г.Г. Белов,А.Н. Подымов. Владелец: Всероссийский научно-исследовательский проектно-конструкторский и технологический институт токов высокой частоты им.В.П.Вологдина. Дата публикации: 1995-01-20.

Composition of material for making electrodes of low-temperature plasma generators

Номер патента: RU2505882C1. Автор: Николай Александрович Тимофеев,Сергей Вадимович Мурашов,Александр Александрович Пастор,Михаил Алексеевич Ходорковский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ). Дата публикации: 2014-01-27.

Laser-plasma generator of multicharged ions

Номер патента: RU2484549C2. Автор: Владимир Иванович Турчин,Александр Николаевич Балабаев,Юрий Алексеевич Сатов,Александр Викторович Шумшуров. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации - Институт теоретической и экспериментальной физики". Дата публикации: 2013-06-10.

Three-phase plasma generator

Номер патента: RU2225686C1. Автор: А.А. Сафронов,ев В.Н. Шир,В.Н. Ширяев,Ф.Г. Рутберг. Владелец: Сафронов Алексей Анатольевич. Дата публикации: 2004-03-10.

Rail plasma generator to manufacture coats on surfaces of dielectric materials

Номер патента: RU2124069C1. Автор: О.Г. Егоров. Владелец: Егоров Олег Георгиевич. Дата публикации: 1998-12-27.

Method of forming self-incandescent hollow cathode from titanium nitride for nitrogen plasma generating system

Номер патента: RU2513119C2. Автор: Николай Васильевич Гаврилов,Андрей Игоревич Меньшаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук (ИЭФ УрО РАН). Дата публикации: 2014-04-20.

Plasma generator

Номер патента: RU2174064C1. Автор: А.М. Иванов. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2001-09-27.

Three-phase electric arc plasma generator and method for start-up thereof

Номер патента: RU2577332C1. Автор: Андрей Николаевич Голиков,Николай Сергеевич Зайкин,Юрий Семенович Свирчук. Владелец: Государственный научный центр Российской Федерации - федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша". Дата публикации: 2016-03-20.

Glow discharge plasma generator with liquid electrolyte cathode

Номер патента: RU2255436C1. Автор: Х.К. Тазмеев,А.Х. Тазмеев. Владелец: Камский государственный политехнический институт. Дата публикации: 2005-06-27.

Method of producing electric arc plasma generator electrodes

Номер патента: RU2455110C1. Автор: Алексей Сергеевич Майоров,Юрий Николаевич Туманов,Николай Пантелеевич Зарецкий,Юрий Николаевич Туманов (RU),Алексей Сергеевич Майоров (RU),Николай Пантелеевич Зарецкий (RU). Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2012-07-10.

Plasma generator for deposition of powder materials

Номер патента: RU2092981C1. Автор: С.В. Тахвананин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Технопарк ЛТА". Дата публикации: 1997-10-10.

Plasma generator

Номер патента: RU2071189C1. Автор: В.П. Никитин,И.А. Холмянский. Владелец: Никитин Владимир Петрович. Дата публикации: 1996-12-27.

Plasma generator

Номер патента: RU2035845C1. Автор: Станислав Францевич Бялоцкий. Владелец: Станислав Францевич Бялоцкий. Дата публикации: 1995-05-20.

Method of increasing service life of electrode and nozzle devices and process plasma generator for its embodiment

Номер патента: RU2135629C1. Автор: К.В. Васильев,В.И. Зубков. Владелец: Государственное предприятие ВНИИавтогенмаш. Дата публикации: 1999-08-27.

Microwave plasma-chemical reactor

Номер патента: RU2225684C2. Автор: Г.В. Лысов,И.А. Леонтьев,шов О.Ю. Кудр,О.Ю. Кудряшов. Владелец: Аозт "Дигазкрон". Дата публикации: 2004-03-10.

Microwave transmission window, microwave plasma generator, and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: JP4883556B2. Автор: 浩嗣 板. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2012-02-22.

Device for microwave plasma treatment of materials

Номер патента: RU2157061C1. Автор: С.В. Редькин,В.В. Аристов. Владелец: Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН. Дата публикации: 2000-09-27.

Microwave plasma generator

Номер патента: AU2002336214A1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2003-05-19.

Microwave Plasma Generating Plasma and Plasma Torches

Номер патента: US20120018410A1. Автор: . Владелец: L'Air Liquide Societe Anonyme Pour L'Etude Et L "Exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2012-01-26.

Microwave supplying apparatus and microwave plasma system

Номер патента: TW201123997A. Автор: Bo-Hung Lin,Tsun-hsu Chang,Chung-Chun Huang,Chi-Wen Hu. Владелец: Chung Shan Inst Of Science. Дата публикации: 2011-07-01.

Microwave plasma treatment device and microwave plasma treatment method

Номер патента: JPH1154299A. Автор: Nobuo Fujiwara,伸夫 藤原. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1999-02-26.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: JP3643549B2. Автор: 雅司 山華. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-04-27.

Microwave radiation antenna, microwave plasma source, and plasma processing apparatus

Номер патента: JP6283438B2. Автор: 河西　　繁,太郎 池田,豊 藤野,池田　太郎,智仁 小松,藤野　豊,長田　勇輝,勇輝 長田,聡 谷原,大幸 宮下,河西　繁. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-21.

Microwave plasma generator

Номер патента: JP2727747B2. Автор: 善一 吉田. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1998-03-18.

Microwave plasma generator and proton transfer mass spectrometer

Номер патента: CN102103970B. Автор: 段忆翔,詹雪芳. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 2013-08-14.

Microwave plasma generator for treatment of dispersion materials

Номер патента: RU1618261C. Автор: Н.И. Чебаньков. Владелец: Чебаньков Николай Иванович. Дата публикации: 1994-04-15.

Microwave plasma generating device

Номер патента: JPS635524A. Автор: Tatsuo Ito,達男 伊藤,Masuo Tanno,丹野　益男. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-01-11.

Device for microwave-plasma treatment of materials

Номер патента: RU1568805C. Автор: Н.И. Богомолов,С.В. Редькин,В.В. Аристов,Н.С. Самсонов,Ю.С. Боков,Р.Д. Иванов. Владелец: Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов РАН. Дата публикации: 1995-07-25.

Microwave Plasma Reactor

Номер патента: RU2008147517A. Автор: Виктор Григорьевич Ральченко,Константин Федорович Сергейчев,Виктор Григорьевич Ральченко (RU),Константин Федорович Сергейчев (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" (RU). Дата публикации: 2010-06-10.

METHOD OF MICROWAVE PLASMA FORMATION OF CUBIC SILICON CARBIDE FILMS ON SILICON (3С-SiC)

Номер патента: RU2013127679A. Автор: Петр Павлович Мальцев,Юрий Владимирович Федоров,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2014-12-27.

Device using monopole antenna to excite the surface microwave plasma

Номер патента: TW440051U. Автор: Ting-Wei Huang,Jr-Jen Jang,Sheng-Fa Jang,Jen-Huei Tsai. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2001-06-07.

Microwave plasma powder treating device

Номер патента: JPS57124882A. Автор: Masahiko Hirose,Katsutoshi Nishida. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-08-03.

Arc-adjusted high-power microwave plasma cvd device

Номер патента: ZA202110712B. Автор: Mark A Prelas,Yuyi Lin,Wenqiang YU. Владелец: Univ Shandong Technology. Дата публикации: 2022-04-28.

Microwave antenna and microwave plasma processing apparatus

Номер патента: JP4197541B2. Автор: 直樹 松本,稔 本多,敏雄 中西,弘司 福森,潤 山下,敏幸 中村,茂樹 本多. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-12-17.

Method of detecting leakage microwave of microwave plasma device

Номер патента: JPS56128599A. Автор: Hiroshi Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-10-08.

Surface microwave plasma exciting device of multi-microwave source

Номер патента: TW560817U. Автор: Wen-Liang Huang,Chau-Chin HUANG,Jiun-Ru Huang,Jr-Jen Jang. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2003-11-01.

Microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: JP3295336B2. Автор: 伸昌 鈴木. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-06-24.

Method for controlling three-dimensional distribution of plasma density in microwave plasma source with electron-cyclotron resonance

Номер патента: RU2152663C1. Автор: С.А. Кудряшов,Р.К. Яфаров. Владелец: Яфаров Равиль Кяшшафович. Дата публикации: 2000-07-10.

Laser Assisted Microwave Plasma Spectroscopy

Номер патента: US20120008139A1. Автор: Miziolek Andrzej,Efthimion Philip C.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-12.

TUNER AND MICROWAVE PLASMA SOURCE

Номер патента: US20120067523A1. Автор: IKEDA Taro,Kasai Shigeru,Osada Yuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-03-22.

THIN FILM DEPOSITION USING MICROWAVE PLASMA

Номер патента: US20120171391A1. Автор: WON Tae Kyung,NOMINANDA Helinda,CHO Seon-Mee,CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,WHITE John M.,ANWAR Suhail,KUDELA Jozef. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-07-05.

MICROWAVE PLASMA ELECTRON FLOOD

Номер патента: US20120187842A1. Автор: . Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-07-26.

SAMPLE TABLE AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120211165A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-08-23.

MICROWAVE PLASMA ATOMIC FLUORESCENCE MERCURY ANALYSIS SYSTEM

Номер патента: US20120224175A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-09-06.

MICROWAVE PLASMA DEPOSITION DEVICE

Номер патента: US20120234241A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-09-20.

NOZZLE FOR GENERATING MICROWAVE PLASMA FROM COMBUSTION FLAME

Номер патента: US20120235569A1. Автор: Lee Sang Hun,Weihe Orion,Way Andrew,Kim Joong Soo,Koo Jae-Mo,Warfield Richard. Владелец: AMARANTE TECHNOLOGIES, INC/. Дата публикации: 2012-09-20.

Microwave plasma torch generating laminar flow for materials processing

Номер патента: US20130270261A1. Автор: Hadidi Kamal,Redjdal Makhlouf. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

APPARATUS FOR THE DEPOSITION OF DIAMONDS BY MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION PROCESS AND SUBSTRATE STAGE USED THEREIN

Номер патента: US20130272928A1. Автор: Misra Devi Shanker. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

Microwave plasma device

Номер патента: JP2808888B2. Автор: 憲治 吉沢,正和 滝,順一 西前,敬典 難波. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-10-08.

Etching method in microwave plasma etching device

Номер патента: JPS6369228A. Автор: Katsuya Watanabe,克哉 渡辺,Hitoaki Sato,佐藤　仁昭. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-03-29.

Novel household microwave plasma wall-mounted furnace

Номер патента: CN210197678U. Автор: Cheng Liu,刘程,邓磊,Shiyang Huang,黄诗洋,Guixin Zhang,张贵新,Lei Deng. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-03-27.

Microwave plasma film deposition equipment

Номер патента: JP2646664B2. Автор: 哲也 上田,直樹 鈴木,航作 矢野. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-08-27.

Microwave plasma lamp sweep source system based on phase-locked loop

Номер патента: CN103731141A. Автор: 李斌,卢辉,李建清,黄桃,金晓林,朱小芳,杨中海. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2014-04-16.

MICROWAVE PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: RU2013130852A. Автор: Петр Павлович Мальцев,Юрий Владимирович Федоров,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин,Алевтина Александровна Реппа. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-01-10.

DEVICE FOR MICROWAVE PLASMA TREATMENT OF MATERIALS

Номер патента: RU2013132994A. Автор: Петр Павлович Мальцев,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин,Наталья Витальевна Побойкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-01-27.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: JP2009239320A. Автор: 直樹 松本,Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-10-15.

Microwave plasma reaction device for preparing nano-material

Номер патента: CN102794146B. Автор: 王强,李东红,王仲,张贵新,廖姗姗,罗承沐. Владелец: Zhangjiagang Zhidian Electric High-Tech Institute Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-11.

Microwave plasma device

Номер патента: JP3129814B2. Автор: 文雄 高村,誠 三ッ泉. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-31.

Microwave plasma treating equipment

Номер патента: JPS6439380A. Автор: Naoki Suzuki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-02-09.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP3193575B2. Автор: 任光 金清,仁昭 佐藤,博宣 川原,満 片本,勝義 工藤. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-07-30.

Microwave plasma treating apparatus

Номер патента: JPH11204296A. Автор: 直樹 松本,Toshio Nakanishi,Naoki Matsumoto,敏雄 中西,Shinya Nishimoto,伸也 西本. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1999-07-30.

Microwave plasma CVD equipment

Номер патента: JP3149326B2. Автор: 通文 丹花,貴裕 北川. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2001-03-26.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2666697B2. Автор: 徹 大坪,泰広 山口,尚彦 竹内. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-10-22.

Microwave plasma torch for spectral analysis

Номер патента: SU449288A1. Автор: Иван Иванович Девяткин,Вадим Алексеевич Парилов,Михаил Андреевич Иванов,Александр Савельевич Зусмановский,Валентина Михайловна Перминова,Николай Иванович Цемко,Людмила Константиновна Чуприна. Владелец: Предприятие П/Я В-2604. Дата публикации: 1974-11-05.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2629610B2. Автор: 正治 西海,義直 川崎. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-07-09.

Vapor phase synthesis method for diamond by microwave plasma jet

Номер патента: JPS63310795A. Автор: Kenichi Sasaki,Kazuaki Kurihara,和明 栗原,Motonobu Kawarada,謙一 佐々木,河原田　元信. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-12-19.

Microwave plasma CVD apparatus and deposited film forming method

Номер патента: JP3118121B2. Автор: 伸昌 鈴木. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-18.

Microwave plasma torch

Номер патента: JP4109301B2. Автор: 孝之 深沢,傳 篠田,博司 梶山. Владелец: 株式会社アドテック プラズマ テクノロジー. Дата публикации: 2008-07-02.

Microwave plasma processing method

Номер патента: JP2827660B2. Автор: 誠二 寒川. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1998-11-25.

Microwave plasma fluidized bed reaction device

Номер патента: JP2021178279A. Автор: Takeshi Yamamoto,Makoto Tanaka,剛 山本,良 田中. Владелец: Aichi Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2697464B2. Автор: 恭一 小町,良則 岡崎. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1998-01-14.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2718328B2. Автор: 実 山田. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1998-02-25.

Microwave plasma treater

Номер патента: JPS6464222A. Автор: Masami Sasaki,Sumio Mori. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1989-03-10.

Microwave plasma etching equipment

Номер патента: JP3246788B2. Автор: 大本　　豊,良次 福山,誠 縄田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-01-15.

Device for the generation of a microwave plasma with a large expansion and homogeneity

Номер патента: DD263648B5. Автор: Martin Schmidt,Andreas Ohl,Ruediger Wilberg,Thea Rueger. Владелец: Buck Werke Gmbh. Дата публикации: 1996-01-25.

Microwave plasma sterilization method

Номер патента: JP3813586B2. Автор: 雅章 永津. Владелец: National Institute of Japan Science and Technology Agency. Дата публикации: 2006-08-23.

Method for preparing trichlorosilane and dichlorosilane by hydrogenating silicon tetrachloride through microwave plasma

Номер патента: CN101734666A. Автор: 张伟刚,卢振西. Владелец: Institute of Process Engineering of CAS. Дата публикации: 2010-06-16.

Microwave plasma torch device

Номер патента: CN105072793A. Автор: 徐晨,刘文龙. Владелец: ZHEJIANG SUPCON RESEARCH Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-18.

The production method of microwave plasma and device

Номер патента: CN1055275A. Автор: 郭华聪. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 1991-10-09.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP3256005B2. Автор: 哲徳 加治,直行 田村,芳文 小川,久夫 安並. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-12.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2000040600A. Автор: 直樹 松本,Toshio Nakanishi,Naoki Matsumoto,敏雄 中西. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-02-08.

Microwave plasma converter

Номер патента: RU2522636C1. Автор: Алексей Григорьевич Жерлицын,Владимир Петрович Шиян,Геннадий Григорьевич Канаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2014-07-20.

Microwave plasma processor

Номер патента: JPS6293937A. Автор: Yoshifumi Ogawa,芳文 小川,Masaharu Saikai,西海　正治. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-04-30.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP3979453B2. Автор: 直樹 松本,敏雄 中西,伸也 西本. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-19.

Microwave plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: JP4232512B2. Автор: 恒久 並木,亮 小林,幸司 山田,秀夫 倉島. Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA LTD. Дата публикации: 2009-03-04.

Microwave plasma processing device

Номер патента: RU2555743C2. Автор: Петр Павлович Мальцев,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин,Наталья Витальевна Побойкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-07-10.

Microwave plasma biomass entrained bed gasification furnace

Номер патента: CN202390392U. Автор: 陈义龙,张岩丰,张亮,夏明贵. Владелец: Wuhan Kaidi Engineering Technology Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-22.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2901331B2. Автор: 和夫 鈴木,政博 田中,邦彦 渡邉,悟 轟,光雄 中谷. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1999-06-07.

Method for preparing trichlorosilane and dichlorosilane by hydrogenating silicon tetrachloride through microwave plasma

Номер патента: CN101734666B. Автор: 张伟刚,卢振西. Владелец: Institute of Process Engineering of CAS. Дата публикации: 2012-09-26.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: CN211947216U. Автор: 杨阳,黄卡玛,朱铧丞. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 2020-11-17.

Microwave plasma igniter for engine of automobile

Номер патента: CN102121448B. Автор: 樊勇,郑伟,程钰间. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2012-05-30.

Solid waste harmless treatment device based on microwave plasma

Номер патента: CN217503679U. Автор: 张志博,张贵新,赵学伟,夏道路,揭子尧. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-09-27.

Method and device for producing nonequilibrium microwave plasma in high-pressure gases

Номер патента: RU2166240C2. Автор: Г.В. Лысов. Владелец: ООО "Плазма-Т". Дата публикации: 2001-04-27.

High power large tracts of land bias voltage microwave plasma diamond films deposition apparatus

Номер патента: CN206109529U. Автор: 杨兵,黄楠,李俊豪,姜辛,刘鲁生,翟超峰,贾心怡. Владелец: Institute of Metal Research of CAS. Дата публикации: 2017-04-19.

Microwave plasma mass spectrometer

Номер патента: CN105489468A. Автор: 张小华,凌星,王后乐,许华磊,杜永光. Владелец: Beijing Purkinje General Instrument Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-13.

Film forming apparatus using microwave plasma and method thereof

Номер патента: JPH0627346B2. Автор: 健 二宮,訓之 作道,敬三 鈴木,克己 登木口. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-13.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: JPS6372123A. Автор: Shuzo Fujimura,Yoshikazu Kato,藤村　修三,加藤　吉和. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-04-01.

Method and apparatus for synthesizing large area diamond films by microwave plasma jet chemical vapor deposition system and product thereof

Номер патента: TWI429778B. Автор: Chii Ruey Lin,Chun Hsi Su,Chang Yu Ching,Chien Hung Lu,Ming De Wu. Владелец: Univ Nat Taipei Technology. Дата публикации: 2014-03-11.

Microwave plasma processing equipment

Номер патента: JP2511433B2. Автор: 敬 藤井,正治 西海. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-06-26.

Microwave plasma processor

Номер патента: JPS62204530A. Автор: Yoshinao Kawasaki,Hironori Kawahara,義直 川崎,川原　博宣. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-09-09.

Medium resonant cavity for microwave plasma lamp

Номер патента: CN103779177A. Автор: 李斌,卢辉,李建清,黄桃,金晓林,朱小芳,杨中海,诸葛天祥. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2014-05-07.

Tuner and microwave plasma source

Номер патента: JP6444782B2. Автор: 長田　勇輝,勇輝 長田,大幸 宮下. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-26.

Microwave plasma processing method and equipment thereof

Номер патента: JPS6265421A. Автор: Yoshifumi Ogawa,芳文 小川,Masaharu Saikai,Takeo Okada,西海　正治,岡田　建夫. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-03-24.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.