微波等离子体处理方法

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230377844A1. Автор: Shingo Takahashi,Jenhung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Microwave plasma apparatus and method for materials processing

Номер патента: US09932673B2. Автор: Eric Jordan,Kamal Hadidi,Paul P. Woskov,Baki Cetegen. Владелец: Amastan Technologies Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: EP4287784A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2023-12-06.

Microwave plasma treatment device

Номер патента: US20240098866A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2024-03-21.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Microwave plasma processing device

Номер патента: EP3041324A1. Автор: Jaeho Kim,Hajime Sakakita. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2016-07-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US7819082B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-10-26.

Microwave plasma reactors

Номер патента: US09890457B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen,Yajun Gu. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2018-02-13.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US20080173402A1. Автор: Nobumasa Suzuki,Yuu Nishimura,Yusuke Fukuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-24.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5700326A. Автор: Akio Koganei,Takashi Kurokawa,Toshio Adachi,Hiroshi Echizen,Shuichiro Sugiyama,Kazumasa Takatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-12-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09767993B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Apparatus for forming functional deposited film by microwave plasma CVD process

Номер патента: US4998503A. Автор: Tsutomu Murakami,Masahiro Kanai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1991-03-12.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Process and apparatus for forming a deposited film using microwave-plasma CVD

Номер патента: US5449880A. Автор: Satoshi Takaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1995-09-12.

Microwave plasma deposition device

Номер патента: US20120234241A1. Автор: I-Nan Lin,Ton-Rong TSENG. Владелец: MASTEK TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2012-09-20.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: EP3791421A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2021-03-17.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: WO2019216772A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: Bergen Teknologioverforing AS. Дата публикации: 2019-11-14.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing device

Номер патента: US09670584B2. Автор: Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20200294777A1. Автор: Satomi Inoue,Masahiro Sumiya,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota,Nanako TAMARI,Koichi Nakaune. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and dielectric window

Номер патента: US20230326716A1. Автор: Hiroshi Kaneko,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US12020900B2. Автор: Satoru Kawakami,Tsuyoshi Moriya,Hiroyuki Onoda,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo,Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA1299773C. Автор: Hiroshi Nishimura,Seitaro Matsuo,Mikiho Kiuchi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240062991A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US5849455A. Автор: Shigenori Ueda,Junichiro Hashizume,Shinji Tsuchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-15.

Processing system and processing method

Номер патента: US20190326105A1. Автор: Kenji Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Magnet holding structures for plasma processing applications

Номер патента: WO2022086709A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Method for manufacturing electrode plate for plasma processing device

Номер патента: US5961361A. Автор: Shosuke Endoh,Masaaki Mitsuno. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-05.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US20160093409A1. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Magnetic holding structures for plasma processing applications

Номер патента: US20240297059A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US09514918B2. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240018660A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20230056750A1. Автор: Takeshi Ishida,Katsutoshi Ishigami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US6076481A. Автор: Atsushi Yamagami,Satoshi Takaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230245870A1. Автор: Satoru Kawakami,Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: WO2009102151A1. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-08-20.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Microwave Plasma Source, Microwave Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20180218880A1. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Microwave plasma source, microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11942308B2. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Microwave plasma source, microwave plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11056317B2. Автор: Yasuaki Taniike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-06.

Modular precipitation reactor using microwave plasma

Номер патента: RU2725428C1. Автор: Аликс ЖИКЕЛЬ,ПОРТ Франсуа ДЕ. Владелец: Диам Консепт. Дата публикации: 2020-07-02.

Device for hybrid plasma processing

Номер патента: EP1236381A1. Автор: Ladislav Bardos,Hana Barankova. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-04.

Flim forming method of carbon-containing film by microwave plasma

Номер патента: US12018375B2. Автор: Takashi Matsumoto,Makoto Wada,Masahito Sugiura,Ryota IFUKU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Modular reactor for microwave plasma-assisted deposition

Номер патента: US11859279B2. Автор: Alix Gicquel,Francois Des Portes. Владелец: Diam Concept. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Deposition processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200273712A1. Автор: Yuji Nagai,Yoshimitsu Kon,Lifu Li,Atsushi UTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09431263B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Plasma processing method

Номер патента: US11830758B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213000A1. Автор: Masanobu Honda,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama,Satoru TERUUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US20230260754A1. Автор: Yonggyu Han,DaeYoun Kim,KiChul Um,DooHan Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240194459A1. Автор: Masanobu Honda,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama,Satoru TERUUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing methods and apparatus

Номер патента: WO1999026796A1. Автор: Oleg Siniaguine. Владелец: Trusi Technologies, Llc. Дата публикации: 1999-06-03.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing device

Номер патента: US09922803B2. Автор: Chien Chou,Chi-Hsien Huang,Chao-Sung Lai,Chu-Fa Chan. Владелец: Chang Gung University CGU. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus

Номер патента: US09422623B2. Автор: Yasushi Kamiya,Einstein Noel Abarra,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US6155201A. Автор: Takashi Ohtsuka,Hitoshi Murayama,Kazuyoshi Akiyama,Kazuto Hosoi,Toshiyasu Shirasuna,Ryuji Okamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

PEALD titanium nitride with direct microwave plasma

Номер патента: US11823870B2. Автор: Hanhong Chen,Philip A. Kraus,Arkaprava Dan,Joseph AuBuchon,Kyoung Ha Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420294A1. Автор: Takashi Matsumoto,Makoto Wada,Ryota IFUKU,Nobutake KABUKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing method

Номер патента: US5858258A. Автор: Hiroshi Kojima,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240071727A1. Автор: Takuma Sato,Shota Yoshimura,Motoki NORO,Hsinkai WANG,Kota Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Systems, methods, and device for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: US20240199427A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: WO2024129261A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Workpiece processing chamber having a rotary microwave plasma source

Номер патента: WO2015187322A1. Автор: Qiwei Liang,Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-10.

Methods and systems for reclamation of li-ion cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: US20220223379A1. Автор: Richard K. Holman,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Methods and systems for reclamation of li-ion cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4275239A1. Автор: Richard K. Holman,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Plasma Processing Method and Plasma Processing System

Номер патента: US20230178343A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220415628A1. Автор: Kazuhito Yamada,Masanori Takahashi,Shota Ezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Conversion of Organic Material to Doped Nanocarbon Structures via Microwave Plasma Pyrolysis

Номер патента: US20240286907A1. Автор: Orlando Auciello,Benjamin Stein. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2024-08-29.

Conversion of Organic Material to Nanocarbon Structures via Microwave Plasma Pyrolysis

Номер патента: US20240287711A1. Автор: Orlando Auciello,Benjamin Stein. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2024-08-29.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Plasma processing of lithium transition metal oxides for lithium ion batteries

Номер патента: EP3897963A1. Автор: Richard K. Holman,Kamal Hadidi,Gregory Wrobel. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2021-10-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Microwave plasma processing device

Номер патента: US5290993A. Автор: Takashi Fujii,Tetsunori Kaji,Yoshinao Kawasaki,Motohiko Yoshigai,Masaharu Nishiumi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-03-01.

Microwave plasma processing process and apparatus

Номер патента: USRE36224E. Автор: Shuzo Fujimura,Toshimasa Kisa,Yasunari Motoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-06-08.

Apparatus and method for uniform microwave plasma processing using TE1101 modes

Номер патента: US5302803A. Автор: Joseph L. Cecchi,James E. Stevens. Владелец: Consortium for Surface Processing Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Microwave plasma generator

Номер патента: CA1286427C. Автор: Donald K. Smith,Marcel P.J. Gaudreau. Владелец: Applied Science and Technology Inc. Дата публикации: 1991-07-16.

Microwave plasma generator

Номер патента: WO1988010506A1. Автор: Donald K. Smith,Marcel P. J. Gaudreau. Владелец: Applied Science & Technology, Inc.. Дата публикации: 1988-12-29.

Microwave plasma apparatus

Номер патента: GB2442990A. Автор: Xiaoming Duan,Neil Philip Wright,Ba Duong Phan. Владелец: C Tech Innovation Ltd. Дата публикации: 2008-04-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing method

Номер патента: US20170207068A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20150170880A1. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386787A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US20150382442A1. Автор: Michael Mueller,Sam Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09852890B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09711331B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09544987B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method

Номер патента: US20170178925A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11871503B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: US20220199369A1. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240213004A1. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153742A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Antenna assembly and plasma processing equipment including same

Номер патента: US20230197409A1. Автор: GALSTYAN OGSEN,Hyun Jin Kim,Jung Hwan Lee,Dong Jun Park,Sang Hyeok Ahn. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: IL126393A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-03-10.

High frequency antenna and plasma processing device

Номер патента: EP3896717A1. Автор: Akinori Ebe,Hajime Tsuda,Hideki Moriuchi. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2021-10-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11854772B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923170B2. Автор: Satoru Kawakami,Hiroyuki Yamamoto,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11967485B2. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20210043495A1. Автор: Daichi KAWASAKI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240222095A1. Автор: Takashi Yamamura,Yasutaka HAMA,Chunhsiang YANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

Номер патента: US9728377B2. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-08-08.

Method and apparatus for preventing instabilities in radio-frequency plasma processing

Номер патента: EP1671347A1. Автор: Michael Kishinevsky. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297021A1. Автор: Yoshinori Yoshida,Yutaka Kouzuma,Kazuyuki Hirozane. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Apparatus for indirect atmospheric pressure plasma processing

Номер патента: US12080525B2. Автор: Erwin Van Hoof,Annick Vanhulsel,Jan Cools. Владелец: VITO NV. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: US20240357727A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Microwave plasma torch and method of use thereof

Номер патента: US12075553B1. Автор: Hossam GABER,Mustafa Abdalmejeed Mansour Aldeeb. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-27.

Microwave Plasma Generation Method and Microwave Plasma Generator

Номер патента: US20090128041A1. Автор: Masahiko Uchiyama,Takuya Urayama,Kazunari Fujioka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-05-21.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: EP4397139A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Microwave plasma torch

Номер патента: US20170095787A1. Автор: Yong-Cheol Hong. Владелец: Korea Basic Science Institute KBSI. Дата публикации: 2017-04-06.

A portable microwave plasma discharge unit

Номер патента: WO2007013875A3. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Jay Joongsoo Kim. Дата публикации: 2007-08-02.

Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency

Номер патента: CA2572391C. Автор: Sang Hun Lee,Jay Joongsoo Kim. Владелец: SAIAN CORP. Дата публикации: 2012-01-24.

Portable microwave plasma systems including a supply line for gas and microwaves

Номер патента: US7271363B2. Автор: Sang Hun Lee,Togo Kinoshita,Jay Joongsoo Kim. Владелец: Amarante Technologies Inc. Дата публикации: 2007-09-18.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: AU2022340711A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: WO2023034688A9. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and apparatus for real time optimization of a microwave plasma

Номер патента: CA3228842A1. Автор: Michael Kozlowski,Zongren Shang. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-03-09.

Processing system and processing method for blocked microreactor

Номер патента: US11951450B2. Автор: Ziyi Zhang,Lichen RUI,Liangliang LIN. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-09.

Processing system and processing method for blocked microreactor

Номер патента: US20230134983A1. Автор: Ziyi Zhang,Lichen RUI,Liangliang LIN. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-04.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Apparatus for plasma-processing flexible printed circuit boards

Номер патента: US20080308042A1. Автор: Chih-Yi Tu,Ze Long,Szu-Min Huang. Владелец: Foxconn Advanced Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Plasma processing apparatus for powder and plasma processing method for powder

Номер патента: CA2488137C. Автор: Eiji Hirakawa,Gang Han,Shujiroh Uesaka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2009-05-12.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing method

Номер патента: US09558962B2. Автор: Kandabara N. Tapily,Fumitaka Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

System to continuously produce carbon fiber via microwave assisted plasma processing

Номер патента: US09427720B2. Автор: Felix L. Paulauskas,Terry L. White,Timothy S. Bigelow. Владелец: UT Battelle LLC. Дата публикации: 2016-08-30.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Microwave plasma light source

Номер патента: RU2569320C2. Автор: Эндрю Саймон Нит,Барри ПРЕСТОН. Владелец: Сиравижэн Лимитед. Дата публикации: 2015-11-20.

Window for microwave plasma processing device

Номер патента: WO1992022085A1. Автор: Takashi Inoue,Masahiko Tanaka,Shunji Miyahara,Ching-Hwa Chen,David Pirkle. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1992-12-10.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: WO2023229928A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: US20230377848A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Microwave plasma generator

Номер патента: US20070272663A1. Автор: Kuan-Jiuh Lin,Jun-Wei Su,Chuen-Yuan Hsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-29.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US5983829A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Microwave plasma apparatus for generating a uniform plasma

Номер патента: US5359177A. Автор: Masakazu Taki,Keisuke Namba,Kenji Yoshizawa,Junichi Nishimae. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-10-25.

Focalized microwave plasma reactor

Номер патента: US11183369B2. Автор: Chih-Chen Chang,Kun-Ping Huang,Yu-Wen Chi. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2021-11-23.

Device for the production of homogenous microwave plasma

Номер патента: CA2294197C. Автор: Hildegard Sung-Spitzl. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-16.

Microwave plasma generator

Номер патента: US20040256056A1. Автор: Stephen Hall,James Shawcross,Robert Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2004-12-23.

Microwave plasma generator

Номер патента: EP1449233A1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2004-08-25.

Microwave plasma generator

Номер патента: WO2003041111A1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: Accentus Plc. Дата публикации: 2003-05-15.

Microwave plasma generator

Номер патента: EP1449233B1. Автор: James Timothy Shawcross,Stephen Ivor Hall,Robert Frew Gillespie. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2006-03-15.

Microwave plasma source

Номер патента: US5480533A. Автор: Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-01-02.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Workpiece processing method

Номер патента: US09607811B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing method

Номер патента: US20040157447A1. Автор: Tomohiro Okumura,Mitsuo Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing method

Номер патента: US09384992B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210302841A1. Автор: Takahiro Kimura,Shohei Nakamura,Akira Horikoshi,Shigeru Takatsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing system

Номер патента: US12112920B2. Автор: Jaewon Jeong,Juho Lee,Junghyun Cho,Daebeom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Inductively coupled plasma source for plasma processing

Номер патента: US09653264B2. Автор: Dongsoo Lee,Andreas Kadavanich,Vladimir Nagorny. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method

Номер патента: US20060249481A1. Автор: Takashi Fuse. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-11-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Vacuum processing method

Номер патента: US11961719B2. Автор: Kazumasa Okuma,Takao Arase,Nozomu Yoshioka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240071728A1. Автор: Shota Yoshimura,Takanori BANSE,Hsinkai WANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma processing method

Номер патента: US20120125890A1. Автор: Hitoshi Kobayashi,Takeshi Ohmori,Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Hiroaki Ishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-05-24.

Plasma processing method

Номер патента: US8486291B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Takeshi Ohmori,Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Hiroaki Ishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-07-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US11990348B2. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-15.

Plasma processing method

Номер патента: US20240194461A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Takanori Nakatsuka,Yuta Takagi,Kenta TAMARU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20240006188A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210159049A1. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: WO2023199450A1. Автор: Mamoru Yakushiji,Kenichi Kuwahara,Andre Amend. Владелец: Hitachi High-Tech Corporation. Дата публикации: 2023-10-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087853A1. Автор: Kazuhiko Nakamura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US20240234087A1. Автор: Yang Yang,Fernando Silveira,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing system and edge ring replacement method

Номер патента: US20240234102A9. Автор: Kenichi Kato,Shin Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing system

Номер патента: US20020144980A1. Автор: Shinya Hasegawa,Yoshimi Watabe,Yukito Nakagawa,Yoichiro Numasawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2002-10-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing assemblies including hinge assemblies

Номер патента: WO2013078003A1. Автор: Greg Sexton. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-30.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US12125673B2. Автор: Fabrice CUBAYNES,Dmitry GRISHIN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20070075039A1. Автор: Tomohiro Okumura,Tadashi Kimura,Mitsuo Saitoh,Yoichiro Yashiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-05.

Plasma processing method, and element chip manufacturing method

Номер патента: US20210202207A1. Автор: Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Plasma processing method

Номер патента: US20190326103A1. Автор: Takahiro Murakami,Muneyuki Omi,Dai Igarashi,Rei Ibuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Substrate processing method

Номер патента: US11742211B2. Автор: Takahiro Kimura,Kenji Nakanishi,Akira Horikoshi,Yayoi TAKEICHI,Miyoshi Ueno,Shigeru Takatsuji,Takaaki Yanagida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377899A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Tetsuya Nishizuka,Kenta Ono,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225585A1. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9583317B2. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20240194450A1. Автор: Motohiro Tanaka,Yasushi Sonoda,Yusuke Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Atmospheric plasma processing method and atmospheric plasma processing apparatus

Номер патента: US20230253194A1. Автор: Akihisa Yoshida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma processing method

Номер патента: US9899241B2. Автор: Yasuhiro Nishimori,Shunsuke Kanazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278676A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240120187A1. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20220336197A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230282447A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Takahiro Yonezawa,Koki Tanaka,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11842886B2. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Hirokazu Ueda,Mitsutoshi ASHIDA,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method

Номер патента: US20140083975A1. Автор: Ryoichi Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200168441A1. Автор: Koichi Tateshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20140080311A1. Автор: Naoki Matsumoto,Masaru Sasaki,Jun Yoshikawa,Tetsuya Nishizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230326718A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Takenobu Ikeda,Hikoichiro Sasaki,Shirong GUO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing method

Номер патента: US20170243765A1. Автор: Yasuhiro Nishimori,Shunsuke Kanazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11862441B2. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US12009190B2. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240194487A1. Автор: Yu Zhao,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240112892A1. Автор: Pei Ye. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2024123375A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Plasma processing system and method of processing substrate

Номер патента: US12020898B2. Автор: Akihiro Yokota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A2. Автор: John E. Cronin,Murray D. Sirkis,Eric J. Strang,Yu Wang Bibby. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2002-01-31.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: EP4283655A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: US20240162006A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A3. Автор: John E Cronin,Yu Wang Bibby,Eric J Strang,Murray D Sirkis. Владелец: Murray D Sirkis. Дата публикации: 2002-06-20.

Multi-phase dc plasma processing system

Номер патента: WO1996024153A1. Автор: Geoffrey N. Drummond. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 1996-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Power supply device for plasma processing

Номер патента: US09997903B2. Автор: Albert Bulliard,Benoit Fragnière,Joël Oehen. Владелец: Solvix GmbH. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Atmospheric-pressure plasma processing apparatus for substrates

Номер патента: US09892907B2. Автор: Wenbin Hu,Wentong HUANG. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Dielectric window supporting structure for inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09818581B1. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Vni Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9685305B2. Автор: Koji Maruyama,Akira Koshiishi,Masato Horiguchi,Tetsuri Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11923229B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing method

Номер патента: US9824864B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11862436B2. Автор: Toru Fujii,Kohei Otsuki,Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Processing method, placing pedestal, plasma processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20210013016A1. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278677A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

A controller for a matching unit of a plasma processing system

Номер патента: US20220404785A1. Автор: Peter Daly,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon,Ian OLIVIERI. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2022-12-22.

Plasma processing system

Номер патента: US20200219707A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US11456183B2. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014006A1. Автор: Naoki Fujiwara,Takahiro Takeuchi,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210233743A1. Автор: Takuto YOSHIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11749503B2. Автор: Takuto YOSHIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Plasma processing method

Номер патента: US11887814B2. Автор: Mamoru Yakushiji,Kenichi Kuwahara,Masaaki Taniyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20120145323A1. Автор: Hitoshi Tamura,Seiichi Watanabe,Naoki Yasui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11972925B2. Автор: Ken Kobayashi,Mitsunori Ohata,Bong seong Kim,Yoon Ho BAE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20200043744A1. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US11107663B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-31.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20240047239A1. Автор: Miyako Matsui,Tatehito Usui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11094512B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-08-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20220384148A1. Автор: Mamoru Yakushiji,Kenichi Kuwahara,Masaaki Taniyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing method

Номер патента: US20210066087A1. Автор: Takeshi Shima,Hayato Watanabe,Takeshi Shimada,Yusuke Nagamitsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240212984A1. Автор: Isao Mori,Ryosuke Ochiai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220301834A1. Автор: Hwajun Jung,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Wan Sung Jin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Plasma processing method and apparatus.

Номер патента: MY118033A. Автор: Tomohiro Okumura,Ichiro Nakayama,Hideo Haraguchi,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-30.

Method for plasma processing

Номер патента: US6093457A. Автор: Tomohiro Okumura,Ichiro Nakayama. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2000-07-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240038511A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240006153A1. Автор: Atsuki KUSUNOKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20120181252A1. Автор: Masaru Tanaka,Hiroyuki Makino. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-07-19.

Plasma processing method

Номер патента: US11699573B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014005A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda,Nobuo Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014013A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda,Nobuo Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing apparatus, impedance matching method, and plasma processing method

Номер патента: US20200203129A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing method

Номер патента: US12009219B2. Автор: Takayuki Hoshi,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing device, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240096593A1. Автор: Toshiyuki Sasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Microwave applicator, plasma processing apparatus having same, and plasma processing method

Номер патента: US6870123B2. Автор: Nobumasa Suzuki,Shigenobu Yokoshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180130643A1. Автор: Motoko Hara,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11830751B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Takashi Nishijima,Shoichiro Matsuyama,Jinyoung Park,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240006165A1. Автор: Tong Wu,Hiroki Endo,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090253246A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220199363A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020909B2. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A3. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Saurabh J Ullal. Дата публикации: 2008-07-31.

Plasma processing equipment

Номер патента: US20240203693A1. Автор: Ju Ho Kim,Song Yun Kang,Hee Won MIN,Seok Hwan BAE,Dong Yun YEO,Kui Hyun Yoon,Seung Bin Lim,Ji Yun JU,Seo Yeon Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing equipment

Номер патента: US11804367B2. Автор: Dong Hoon Kim,Hak Young KIM,Byeong Sang KIM,Hee Won MIN,Seok Hwan BAE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A2. Автор: Anthony de la Llera,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-05-29.

Window edge heater for high power plasma processing applications

Номер патента: WO2023219905A1. Автор: Dan Marohl,Craig Rosslee,Ambarish CHHATRE,David Setton. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046452B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051570B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US20150221482A1. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384154A1. Автор: Kazuya Matsumoto,Atsushi Sasaki,Shingo Takahashi,Koichi Nagami,Yusuke HAYASAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A3. Автор: Bhola N De,Charles N Vannutt,Jonathan Ishii. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-08-29.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A2. Автор: Jonathan Ishii,Charles N. Vannutt,Bhola N. De. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1996-05-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Matching unit for semiconductor plasma processing apparatus

Номер патента: US20050098116A1. Автор: Yukio Sato,Katsumi Takahashi,Etsuo Yamagishi,Taku Fukada. Владелец: Pearl Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180174805A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Computer-implemented data presentation techniques for a plasma processing system

Номер патента: WO2006036893B1. Автор: Andrew D Bailey Iii,Puneet Yadav. Владелец: Puneet Yadav. Дата публикации: 2006-06-01.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170259A1. Автор: Hiroshi Kondo,Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190371635A1. Автор: Tomoya Oori. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331978A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus for plasma processing

Номер патента: US12119207B2. Автор: Merritt Funk,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Method and System for Plasma Processing

Номер патента: US20240347317A1. Автор: Qiang Wang,Alok Ranjan,Michael Hummel,Mitsunori Ohata,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Chuck for plasma processing chamber

Номер патента: US12131890B2. Автор: Darrell EHRLICH,Ann Erickson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi-range voltage sensor and method for a voltage controlled interface of a plasma processing system

Номер патента: US09741543B2. Автор: Gary M. Lemson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321550A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Electrode assembly and plasma processing apparatus

Номер патента: US09520276B2. Автор: Takashi Suzuki,Takashi Yamamoto,Masato Horiguchi,Chikako Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Method of detecting arc discharge in a plasma process

Номер патента: US09484189B2. Автор: Markus Winterhalter,Peter Wiedemuth. Владелец: Trumpf Huettinger GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US09412565B2. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Lower electrode assembly of plasma processing chamber

Номер патента: US09412555B2. Автор: Brett C. Richardson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Quan Chau,Keith William Gaff,Hanh Tuong Ha. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing method

Номер патента: US20160300739A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-13.

Processing method of wafer

Номер патента: US20240312824A1. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Processing method for semiconductor surface defects and preparation method for semiconductor devices

Номер патента: US12033857B2. Автор: Xianghong Jiang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09911596B2. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Wafer processing method and wafer processing apparatus

Номер патента: SG132691A1. Автор: Isamu Kawashima. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150357187A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160351390A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-01.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9443724B2. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Plasma processing method

Номер патента: US9018075B2. Автор: Toru Ito,Hayato Watanabe,Hiroaki Ishimura,Akito Kouchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-04-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20020090826A1. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-11.

Plasma processing method

Номер патента: US9653321B2. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20110168674A1. Автор: Takashi Satoh,Satoshi Mayumi,Shunsuke Kunugi,Takashi Umeoka. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-14.

Plasma processing method

Номер патента: US20240194489A1. Автор: Motohiro Tanaka,Yasushi Sonoda,Yusuke Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A9. Автор: Jisoo Kim,Bi-Ming Yen,Peter K Loewenhardt,Binet Worsham. Владелец: Binet Worsham. Дата публикации: 2005-11-24.

Methods and apparatus for integrating and controlling a plasma processing system

Номер патента: US20120138085A1. Автор: Chung-Ho Huang,Cheng-Chieh Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Wafer bonding structures and wafer processing methods

Номер патента: US09640451B2. Автор: Wei Wang,Chao ZHENG,Junde Ma. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Video processing method, video displaying method and video processing device

Номер патента: US09654725B2. Автор: Je-Lung Fan,Tsai-Fong WU. Владелец: Vatics Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Signal processing method and device

Номер патента: RU2656812C2. Автор: Бинь Ван,Цзэсинь ЛЮ,Лэй МЯО. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-06-06.

Image processing method, photographing device, and uav

Номер патента: US20230121485A1. Автор: Zhaozao Li. Владелец: Autel Robotics Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Transmission resource assigning method, feedback method and processing method for response signals

Номер патента: EP2154806A3. Автор: Jun Tian,Hua Zhou,Yuantao Zhang. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-04-23.

Data processing method and related device

Номер патента: RU2767042C2. Автор: Хай ТАН. Владелец: Гуандун Оппо Мобайл Телекоммьюникейшнс Корп., Лтд.. Дата публикации: 2022-03-16.

Data processing method and device

Номер патента: EP4354310A1. Автор: Zhibing WANG,Zhenbao LIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Data transmission method and processing method, and device

Номер патента: US20200304339A1. Автор: Ziyong ZHENG,Chengxin HU. Владелец: Comba Telecom Systems China Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Information processing method and apparatus, terminal, and network side device

Номер патента: US20240080700A1. Автор: Peng Sun. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Image processing method and image inspecting method

Номер патента: US20100128923A1. Автор: Toshiaki Kakii,Yoichi Hata,Kiyoshi Nishikawa,Yoshimitsu Goto,Hitoshi Kiya,Masaaki Fujiyoshi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-27.

Video signal processing method and apparatus

Номер патента: US8502916B2. Автор: Jung Hun Jung. Владелец: Humax Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-06.

Video signal processing method and apparatus

Номер патента: WO2007061208A1. Автор: Jung Hun Jung. Владелец: HUMAX CO., LTD.. Дата публикации: 2007-05-31.

Packet processing apparatus, packet processing method, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US9590925B2. Автор: Shinji Yamashita. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Data processing method and apparatus for model

Номер патента: EP4443835A1. Автор: Yan Sun,Yiqun WU,Xiaomeng CHAI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Method for training light filling model, image processing method, and related device thereof

Номер патента: US20240331103A1. Автор: Yi Wei,Liu Lu. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Data processing method for model, and apparatus

Номер патента: US20240357560A1. Автор: Yan Sun,Yiqun WU,Xiaomeng CHAI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Streaming media packet processing method, WiFi chip, and mobile terminal

Номер патента: US09866350B2. Автор: Tongbo Wang,Zhihua Pang. Владелец: Huawei Device Dongguan Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Audio signal processing method and apparatus and differential beamforming method and apparatus

Номер патента: US09641929B2. Автор: Deming Zhang,Haiting Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Packet processing apparatus, packet processing method, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US09590925B2. Автор: Shinji Yamashita. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Image processing method and thermal imaging camera

Номер патента: RU2580076C2. Автор: Мартин ШТРАТМАНН,Маттиас ШМИДЕР. Владелец: Тесто АГ. Дата публикации: 2016-04-10.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Method for the production of multiphase composite materials using microwave plasma process

Номер патента: WO2014153318A1. Автор: Kamal Hadidi,Makhlouf Redjdal. Владелец: AMASTAN LLC. Дата публикации: 2014-09-25.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: EP4313447A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Method of manufacturing core-shell particles by a microwave plasma process

Номер патента: US11801555B2. Автор: Kamal Hadidi,Gregory Wrobel. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Beet roots processing method

Номер патента: RU2485184C2. Автор: Жан-Бенуа ТЬЕРНИ. Владелец: Лезафр Э Компани. Дата публикации: 2013-06-20.

Processing method, processing device and saccharifying method for extrusion cooked beer adjunct

Номер патента: US20100189869A1. Автор: Dechao Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-07-29.

Fuel processing method

Номер патента: RU2272827C2. Автор: Алисдэр Куэнтин КЛАРК,Спенсер Эдуин ТЕЙЛОР. Владелец: Бп Ойл Интернэшнл Лимитед. Дата публикации: 2006-03-27.

Microwave plasma monitoring system for real-time elemental analysis

Номер патента: US6429935B1. Автор: Yixiang Duan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2002-08-06.

Atmospheric pressure microwave plasma treated porous membranes

Номер патента: EP2001666A2. Автор: Jieh-Hwa Shyu,Alketa Gjoka,Jijun Ge. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Microwave plasma thrust system and methods

Номер патента: WO2023244208A1. Автор: Peter Butzloff. Владелец: Peter Butzloff. Дата публикации: 2023-12-21.

Atmospheric Pressure Microwave Plasma Treated Porous Membranes

Номер патента: US20140048476A1. Автор: Jieh-Hwa Shyu,Alketa Gjoka,Jijun Ge. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2014-02-20.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Method and apparatus for determining cable length for plasma processing equipment

Номер патента: US20230194585A1. Автор: Ji Hyun Kim,Ja Myung GU,Tae Hoon JO,Hyo Seong SEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Image Information Processing Method and Augmented Reality AR Device

Номер патента: US20180120561A1. Автор: Haibo LIU,Meiwen Yang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-03.

Image processing method for smoothing the boundary of an image area

Номер патента: US20010010735A1. Автор: Po-Chin Yang,Chien-Hsing Tang,Yuan-Guan Lin,Hsu-Chu Chien. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-02.

Image processing method for smoothing the boundary of an image area

Номер патента: US6661916B2. Автор: Po-Chin Yang,Chien-Hsing Tang,Yuan-Guan Lin,Hsu-Chu Chien. Владелец: BenQ Corp. Дата публикации: 2003-12-09.

Bank transfer processing method and device

Номер патента: RU2649777C2. Автор: Минцзэ СУНЬ,Юаньюань ХУАН,Ян Чзан. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-04-04.

Text data processing method, neural-network training method, and related device

Номер патента: US20240220730A1. Автор: Xin Jiang,Qun Liu,Yasheng WANG,Xiaojun MENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Neural network compression method, data processing method, and related apparatuses

Номер патента: EP4109350A1. Автор: HAN Shu,Yunhe Wang,Chunjing Xu,Hanting Chen. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-28.

Neural network model training method, image processing method, and apparatus

Номер патента: EP4235506A1. Автор: Li Ma,Yong Qin,Xianping CHEN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Data writing/reading method, a de-interleaving method, a data processing method, a memory and a memory drive apparatus

Номер патента: US8392673B1. Автор: Yoshikazu Sato. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2013-03-05.

Graphic processing method

Номер патента: US20060028486A1. Автор: Fu-Chang Lin. Владелец: Destiny Technology Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Point cloud data processing method, neural network training method, and related device

Номер патента: US20240282119A1. Автор: Chunjing Xu,Hang Xu,Minzhe NIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Information processing method and device, display terminal, and storage medium

Номер патента: US20240311872A1. Автор: Bin Zhou. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Printing data processing method and apparatus, electronic invoice generating method and server

Номер патента: CA3231680A1. Автор: Hu Yang,Bo Zhang,Kaiming Yang,Xuewu HAO. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Point cloud data processing method, neural network training method, and related device

Номер патента: EP4414862A1. Автор: Chunjing Xu,Hang Xu,Minzhe NIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Information processing method and device, display terminal, and storage medium

Номер патента: US12039569B2. Автор: Bin Zhou. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Data processing method

Номер патента: US09881356B2. Автор: Philip Dale,Ainsley KILLEY. Владелец: BAE SYSTEMS plc. Дата публикации: 2018-01-30.

Information processing method and system for executing the information processing method

Номер патента: US09875079B1. Автор: Takeshi Kada. Владелец: Colopl Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Gray image processing method and apparatus based on wavelet transformation

Номер патента: US09443286B2. Автор: Zheng Wang,Xuan Fu,Akihiro Higashi,Jianrong Wu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120001858A1. Автор: Matsuda Kyohei,Suda Yukihiro,NAGAO Yoji. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE-PROCESSING DEVICE AND IMAGE-PROCESSING METHOD, IMAGE-PICKUP DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002849A1. Автор: Tokuse Akira. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMPLANT PROCESSING METHODS FOR THERMALLY LABILE AND OTHER BIOACTIVE AGENTS AND IMPLANTS PREPARED FROM SAME

Номер патента: US20120004323A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING PROGRAM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002010A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING UNIT, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002864A1. Автор: KOUNO MASAKAZU. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING DEVICE AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002067A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

AUDIO EQUIPMENT AND A SIGNAL PROCESSING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002824A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

AUDIO PROCESSING DEVICE, AUDIO PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002828A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING SYSTEM, SHEET PROCESSING METHOD IN THE PRINTING SYSTEM, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001387A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION PROCESSOR AND COMMUNICATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002587A1. Автор: Kito Toshiyuki. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Mushrooms processing method

Номер патента: RU2366260C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2009-09-10.