微波等离子体处理方法
Номер патента: CN100447297C
Опубликовано: 31-12-2008
Автор(ы): 仓岛秀夫, 小林亮, 山田幸司, 并木恒久
Принадлежит: TOYO SEIKAN KAISHA LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-12-2008
Автор(ы): 仓岛秀夫, 小林亮, 山田幸司, 并木恒久
Принадлежит: TOYO SEIKAN KAISHA LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma Processing Method
Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.