Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Rotary magnet sputtering apparatus

Номер патента: US20100126852A1
Опубликовано: 27-05-2010
Автор(ы): Tadahiro Ohmi, Takaaki Matsuoka, Tetsuya Goto
Принадлежит: Tohoku University NUC, Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11705315B2. Автор: Hiroyuki Toshima,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Magnetron sputtering device, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20180277344A1. Автор: LEI XIAO,Jianhua Du,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160042928A1. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method of producing a thin film by sputtering and an opposed target type sputtering apparatus

Номер патента: CA1325792C. Автор: Sadao Kadokura,Akio Kusuhara,Kazuhiko Honjyo. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1994-01-04.

Sputtering apparatus and method of controlling sputtering apparatus

Номер патента: US12002667B2. Автор: Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN110872694B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-04.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20220148863A1. Автор: TOSHIMA Hiroyuki,ISHIBASHI Shota. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180277344A1. Автор: Xiao Lei,Du Jianhua,Tian Zhongpeng,Gao Xuewei. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

Rotating magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101166396B1. Автор: 다다히로 오미,다카아키 마츠오카,데츠야 고토. Владелец: 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠. Дата публикации: 2012-07-23.

Sputtering apparatus and sputtering film forming method

Номер патента: TWI426144B. Автор: Naoki Takahashi,Kuniaki Horie. Владелец: Ebara Udylite Kk. Дата публикации: 2014-02-11.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US12112929B2. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Sputtering apparatus and target changing device thereof

Номер патента: US20180209036A1. Автор: CAN Wang,Xiaolong He,Jianhua Du,Xuefei Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240258088A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode, method of manufacturing the RMIM electrode, and sputtering apparatus including the RMIM electrode

Номер патента: US20030178299A1. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Ill Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-09-25.

Sputtering apparatus and method of preventing damage thereof

Номер патента: US20110013108A1. Автор: Jaehoon Choi,Junhyung Park,Sanghyo Park,Jaekwang Kim,Seunglyul Lee,Jinhee Yun,Munik Na,Kyoungshik Kim,Kagkyu Jung. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09558921B2. Автор: Jong Yun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Sputtering apparatus, target and shield

Номер патента: US09502223B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09437404B2. Автор: Tetsuya Endo,Noel Abarra. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2016-09-06.

Gas-discharge sputtering apparatus based on planar magnetron with ion source

Номер патента: RU2752334C1. Автор: Александр Петрович Семенов,Ирина Александровна Семенова,Дмитрий Бадма-Доржиевич Цыренов,Эрдэм Олегович Николаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2021-07-26.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: CA1225364A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Radio Frequency Sputtering Apparatus

Номер патента: GB1169748A. Автор: Leslie Arthur Holland,Tony Ian Putner. Владелец: Edwards High Vacuum International Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: US5006218A. Автор: Kunio Tanaka,Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1991-04-09.

Magnetron sputtering electrode, and sputtering apparatus proided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: US20100051454A1. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Junya Kiyota,Yasuhiko Akamatsu,Tatsunori Isobe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-04.

Sputtering apparatus with magnetic module

Номер патента: US20110303536A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-15.

Method of depositing thin film of metal oxide by magnetron sputtering apparatus

Номер патента: AU1250400A. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2001-01-25.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US8221594B2. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-07-17.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US11239064B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-02-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9299544B2. Автор: Tetsuya Endo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20230035198A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US11978615B2. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Facing target sputtering apparatus

Номер патента: US20150027883A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Sun-Jin Lee,Ou-Hyen Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Method for manufacturing half-metallic magnetic oxide and plasma sputtering apparatus used in the same

Номер патента: US20030070914A1. Автор: Jin Hong,CHANG Lee,Sung Lee,Chae Kim,Kap Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates

Номер патента: US20240150886A1. Автор: Patrick A. Ward,John T. Bobbitt, Iii,Zachary Duca. Владелец: Battelle Savannah River Alliance LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130299348A1. Автор: Wei-Cheng Ling. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09715997B2. Автор: Seung-Ho Choi,Dae-Sang Yoon,Young-Bun Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09627187B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Method and apparatus for controlling magnetron sputtering apparatus having separation limit magnetic field for separating target exposed to separation discharge

Номер патента: JPS6141767A. Автор: ドナルド・エム・ミンツ. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1986-02-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB1419496A. Автор: . Владелец: Lucas Industries Ltd. Дата публикации: 1975-12-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4569745A. Автор: Setsuo Nagashima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-02-11.

Multi-rod type magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4879017A. Автор: Hee-Yong Lee. Владелец: Dae Ryung Vacuum Co Ltd. Дата публикации: 1989-11-07.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA1193227A. Автор: Kovilvila Ramachandran,Enrico Giani. Владелец: Canadian Patents and Development Ltd. Дата публикации: 1985-09-10.

Sputtering apparatus with rotating target and target cooling

Номер патента: US5262032A. Автор: Klaus Hartig,Joachim Szczyrbowski,Anton Dietrich. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1993-11-16.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4422916A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1983-12-27.

Reactive sputtering apparatus and cathode elements therefor

Номер патента: US3890217A. Автор: Kenneth Burrows,Robert Hiscutt. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1975-06-17.

Cathodic sputtering apparatus

Номер патента: CA1230079A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-12-08.

Ferromagnetic high speed sputtering apparatus

Номер патента: US4401546A. Автор: Kyuzo Nakamura,Yoshifumi Ohta,Taiki Yamada. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1983-08-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB2346155A. Автор: Paul Rich,Keith Edward Buchanan,Stephen Robert Burgess. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2000-08-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4411763A. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1983-10-25.

Conical-frustum sputtering target and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4747926A. Автор: Shigeru Kobayashi,Tamotsu Shimizu,Takeshi Oyamada,Hikaru Nishijima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-05-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP1176625A3. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2005-11-23.

Sputtering apparatus with rotatable sputtering target

Номер патента: US20110174612A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: US12014911B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Tatsuo HIRASAWA,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND ITS VACUUM ATMOSPHERE EXCHANGE DEVICE

Номер патента: US20200123648A1. Автор: Huang Qiuping. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-23.

Controlling device of cathode sputter apparatus and cathode sputter magnetron and controlling method therefor

Номер патента: KR900004601B1. Автор: 엠.민츠 도날드. Владелец: 베리안 어소시에이츠, 인코포레이티드. Дата публикации: 1990-06-30.

Facing targets sputtering apparatus

Номер патента: KR102184777B1. Автор: 김경환,김상모. Владелец: 가천대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-11-30.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP1953257A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-08-06.

Magnetron unit, magnetron sputtering apparatus, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20090236219A1. Автор: Tetsuya Endo,Noel Einstein Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-09-24.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US09399817B2. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160225591A1. Автор: JR. William A.,MEREDITH,Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9312108B2. Автор: William A. Meredith, Jr.,Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-04-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20150126818A. Автор: 다니엘 테오도르 크로울리,패트릭 로렌스 모르스,존 로버트 게르만. Владелец: 스퍼터링 컴포넌츠 인코포레이티드. Дата публикации: 2015-11-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100212087B1. Автор: 히토시 야마니시,사무 아오쿠라이,마사히데 요코야마,타카히로 타키사와. Владелец: 마츠시타덴키산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 1999-08-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102147442B1. Автор: 다니엘 테오도르 크로울리,패트릭 로렌스 모르스,존 로버트 게르만. Владелец: 뷔홀러 아게. Дата публикации: 2020-08-25.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2591491A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin Dubs. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-05-15.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: US20140246313A1. Автор: Mark R. Erickson,Ady Hershcovitch,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: US09905401B2. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: US09812296B2. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-11-07.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: EP1939321A1. Автор: Noriaki Tani,Satoru Ishibashi,Sadayuki Ukishima,Satoru Takasawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-07-02.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: EP2772932A1. Автор: Mark Erickson,Ady Hershcovitch,Henry Poole,Arthur Custer,Nader Jamshidi. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-03.

Sputtering apparatus and method of thin film formation

Номер патента: US20100078313A1. Автор: Katsuya Yoshioka,Toshinobu Chiba. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Sputtering apparatus and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20100155228A1. Автор: Hiroshi Takano,Hideki Ueno,Shoji Takiguchi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-06-24.

Circularly symmetric, large-area, high-deposition-rate sputtering apparatus for the coating of disk substrates

Номер патента: US5232569A. Автор: Richard D. Weir,Carl W. Nelson. Владелец: Tulip Memory Systems Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: EP3254296A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-12-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20200255935A1. Автор: Hiroshi Sone,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240194462A1. Автор: Shinichi Iwasaki,Akinori Ebe,Soichi Ogawa,Yusuke Kondo,Kazuo Satoh,Yoshiharu Kakehi,Shiro Ikuhara. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Rotary magnet sputtering apparatus

Номер патента: US20110000783A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2011-01-06.

Rotating magnet sputtering equipment

Номер патента: JPWO2009110404A1. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,大見　忠弘,後藤　哲也,孝明 松岡,松岡　孝明. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2011-07-14.

Magnetic field generation apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: US09607813B2. Автор: Jun Sasaki,Atsuhiro Abe,Ryoichi Hiratsuka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200643204A. Автор: Toyoaki Hirata,Masami Nakasone. Владелец: Thin Film Process Soft Inc. Дата публикации: 2006-12-16.

Cathode device and sputtering apparatus

Номер патента: US20200377992A1. Автор: Katsuaki Nakano,Yukihito Tashiro. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Sputtering apparatus for depositing a film

Номер патента: TW583329B. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Ill Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-04-11.

Sputtering apparatus and manufacturing method of electronic device

Номер патента: TW201241213A. Автор: Nobuo Yamaguchi,Yuichi Otani. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09758862B2. Автор: Patrick Lawrence Morse. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09574265B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180261440A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2018-09-13.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20230138552A1. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Sputtering apparatus for coating at least one substrate and process for the regulation of the apparatus

Номер патента: EP1197580B1. Автор: Reimund Böwer,Jürgen Prof. Dr.-Ing. Bechtloff,Peter Hennes,Manfred Czybik. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2004-03-17.

Magnetic field generating apparatus, magnetic field generating method, sputtering apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US20090277779A1. Автор: Masao Sasaki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-11-12.

Magnetic field generating apparatus, magnetic field generating method, sputtering apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: JP2009299184A. Автор: Masao Sasaki,雅夫 佐々木. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-12-24.

A sputtering apparatus and a sputtering apparatus

Номер патента: TWI519662B. Автор: Akira Hamada,Tomotake Nashiki. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2016-02-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20120160672A1. Автор: Tetsuya Endo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20180033595A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20150096881A1. Автор: TSUNEKAWA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM

Номер патента: US20190153582A1. Автор: Todo Soya. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND CATHODE DEVICE THEREOF

Номер патента: US20210202221A1. Автор: WANG Zhengan. Владелец: Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-07-01.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20210217586A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20210222289A1. Автор: Sasaki Shunsuke,Kokaze Yutaka,IIWAHASHI Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

Magnet Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210249241A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-08-12.

MAGNETRON, MAGNETRON SPUTTERING CHAMBER, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190244796A1. Автор: Yang Yujie,ZHANG Tongwen. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

CATHODE DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200377992A1. Автор: Nakano Katsuaki,Tashiro Yukihito. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102101720B1. Автор: 패트릭 로렌스 모스. Владелец: 뷔홀러 아게. Дата публикации: 2020-04-21.

Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatuses

Номер патента: KR20200066377A. Автор: 슈우지 사이토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2020-06-09.

Magnetic controlled tube sputtering apparatus

Номер патента: CN1067118C. Автор: 横山政秀,早田博. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-06-13.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100793569B1. Автор: 조수범. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2008-01-14.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101097329B1. Автор: 정석원,최승호,송현근,최영묵. Владелец: 삼성모바일디스플레이주식회사. Дата публикации: 2011-12-23.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR102245606B1. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2021-04-28.

Planar typed magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100345924B1. Автор: 남경훈,한전건,무실 진드리시. Владелец: 무실 진드리시. Дата публикации: 2002-07-27.

Sputtering apparatus and method for regenerating thereof

Номер патента: KR20010104524A. Автор: 최동욱,백금주,김승율,권형두. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-26.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR20160087986A. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2016-07-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20140118186A. Автор: 심재윤,최승호. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-10-08.

Improvements in or relating to Sputtering Apparatus

Номер патента: GB1169747A. Автор: Leslie Arthur Holland,Tony Ian Putner. Владелец: Edwards High Vacuum International Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

Magnet control system of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101885123B1. Автор: 김정건,소병호,고무석,이구현,전명우. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-08-03.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: DE112005001299T5. Автор: Atsushi Ota,Makoto Arai,Isao Sugiura,Shinichiro Taguchi,Noriaki Tani,Junya Kiyota. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-05-03.

High speed sputtering apparatus

Номер патента: JPS5323881A. Автор: Kazuyuki Tsuruoka. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 1978-03-04.

High uniformity facing target type sputtering apparatus

Номер патента: KR100822312B1. Автор: 배은현,김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 자이맥스. Дата публикации: 2008-04-15.

MAGNETRON CATHODE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: DE3476563D1. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: BOC Group Ltd. Дата публикации: 1989-03-09.

High Vacuum Sputter Apparatus

Номер патента: KR100740905B1. Автор: 서창환. Владелец: 엘지.필립스 엘시디 주식회사. Дата публикации: 2007-07-19.

Sputtering apparatus capable of changing distance between substrate and deposition preventing plate used for film formation

Номер патента: US6309525B2. Автор: Masayasu Futagawa,Kiyoshi Mito. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2001-10-30.

Facing-targets-type sputtering apparatus

Номер патента: US20030094365A1. Автор: Sadao Kadokura,Hisanao Anpuku. Владелец: FTS Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

A kind of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN208762572U. Автор: 刘洋,张伟,韩晓琳,邬英,汪振南,杨永雷,雷绍温,见东伟,刘福山. Владелец: Shanxi Miyazole Equipment Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-19.

Magnetron element and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201820371A. Автор: 楊玉傑. Владелец: 北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2018-06-01.

Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same

Номер патента: US7520965B2. Автор: Ronghua Wei. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 2009-04-21.

Cathode sputtering apparatus

Номер патента: DE19653999C1. Автор: Stefan Kempf,Eggo Dipl Ing Sichmann,Michael Muecke. Владелец: Singulus Technologies AG. Дата публикации: 1998-01-22.

Magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: KR101434033B1. Автор: 시게루 미즈노,다츠오 하타노,데츠야 미야시타,아츠시 고미,야스시 미즈사와,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-25.

Sputtering apparatus capable of changing distance between substrate and deposition preventing plate used for film formation

Номер патента: CN1664163A. Автор: 水户清,二川正康. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-09-07.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: KR102160158B1. Автор: 조현욱. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-09-28.

Target device and sputtering apparatus

Номер патента: WO2017221821A1. Автор: 雅紀 白井,悟 高澤,拓司 山本,石橋　暁. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2017-12-28.

Dual magnetrong sputtering apparatus utilizing control means for delivering balanced power

Номер патента: WO2005004314A2. Автор: Eric A. Seymour,Annabelle Pratt. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2005-01-13.

Large capacity sputtering apparatus.

Номер патента: FR94900E. Автор: Georges Dubois,Ghislaine Goupil. Владелец: Lignes Telegraphiques et Telephoniques LTT SA. Дата публикации: 1970-01-16.

Magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104928635B. Автор: 杨玉杰,王厚工,邱国庆. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Magnet unit and sputtering apparatus for magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5386329B2. Автор: 辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真,善勝 佐藤,重光 佐藤,敬臣 倉田. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-01-15.

Method and apparatus for regulating coated speed by computercontrol in sputtering apparatus

Номер патента: JPS54139892A. Автор: Toomasu Tanaa Furederitsuku. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1979-10-30.

Sputtering apparatus and method of forming film

Номер патента: US11230760B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-01-25.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: US20080317564A1. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-12-25.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US11901166B2. Автор: Yusuke Kikuchi,Tetsuya Miyashita,Kanto Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Sputtering apparatus, film formation method, and method for manufacturing product

Номер патента: US20230029343A1. Автор: Kazuya Demura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-01-26.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US11742190B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Einstein Noel Abarra,Tatsuo HIRASAWA,Masato Shinada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20240068087A1. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20240162021A1. Автор: Yukitaka Yamaguchi. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

A power source device for a sputtering apparatus and a sputtering apparatus using the power source device

Номер патента: TW389966B. Автор: Noboru Kuriyama,Nobuaki Utsunomiya,Yutaka Yatsu,Yuji Yasumoto. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2000-05-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201118191A. Автор: IVAN Maidanchuk,Jong-Won Hong,Seok-Rak Chang,Dong-Hyun Lee,Byoung-Keon Park,Ki-Yong Lee,Yun-Mo CHUNG,Jong-Ryuk Park,Kil-won Lee,Byung-Soo So,Jae-Wan Jung,Min-Jae Jeong,Tae-Hoon Yang,Won-Bong Baek,Heung-Yeol Na,Eu-Gene Kang,Bo-Kyung Choi,Jin-Woo Seo. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201118192A. Автор: Jong-Won Hong,Seok-Rak Chang,Dong-Hyun Lee,Byoung-Keon Park,Jin-Wook Seo,Ki-Yong Lee,Yun-Mo CHUNG,Jong-Ryuk Park,Kil-won Lee,Byung-Soo So,Jae-Wan Jung,Min-Jae Jeong,Tae-Hoon Yang,Won-Bong Baek,Heung-Yeol Na,Eu-Gene Kang,Bo-Kyung Choi,Ivan Maidanchuyk. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

스퍼터링 방법 및 스퍼터링 장치(sputtering method and sputtering apparatus)

Номер патента: KR19980019122A. Автор: 아키라 오쿠다,마사히데 요꼬야마,히로시 하야타. Владелец: 마쓰시타 덴키 산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 1998-06-05.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20160005577A1. Автор: Keizo Tsukamoto. Владелец: Ayabo Corp. Дата публикации: 2016-01-07.

Pulsed sputtering apparatus and pulsed sputtering method

Номер патента: EP2963149B1. Автор: Keizo Tsukamoto. Владелец: Ayabo Corp. Дата публикации: 2020-01-08.

Organic light emitting display apparatus using facing target sputtering apparatus and method of manufacturing the organic light emitting display apparatus

Номер патента: US20150028295A1. Автор: Su-Hyuk Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: WO2013026491A1. Автор: Evelyn Scheer,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-02-28.

A target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201142061A. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-12-01.

Target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20110186421A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-08-04.

Coating layer forming method of shield and sputtering apparatus utilizing the shield and thin layer forming method utilizing the sputtering apparatus

Номер патента: KR100267886B1. Автор: 이창근,이은희,윤능구. Владелец: 주식회사아이피에스. Дата публикации: 2000-10-16.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20160005577A1. Автор: Tsukamoto Keizo. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US20150021166A1. Автор: Evelyn Scheer,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20150041310A1. Автор: Choi Seung-Ho,Yoon Dae-Sang,Jeon Young-Bun. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-02-12.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20190096642A1. Автор: Tsukamoto Keizo. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170110299A1. Автор: LEE Dong Hee,SHIN Hyun Eok,SHIN Sang Won,JEONG Chang Oh,PARK Joon Yong,SOHN Sang Woo,KANG Hyun Ju. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140291148A1. Автор: Toru Ishimura,Naoyuki Okamoto,Yasushi Yasumatsu. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200255935A1. Автор: Takei Junichi,SONE Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-13.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333745A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5641375A. Автор: Fumio Hosomi,Masazumi Katase. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-04-18.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JPS5996268A. Автор: Kimio Kinoshita,Masato Sugiyama,木下　公夫,杉山　征人. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1984-06-02.

Configuration for Substrate Coating Using Sputtering Apparatus

Номер патента: KR970065763A. Автор: 츠찌르보우스키 요아힘,테슈너 괴츠,츠멜티 안톤,브루흐 위르겐,마르크바르트 디트마르. Владелец: 발쩌스 운트 레이볼트 도이치란드 홀딩 아크티엔게젤샤프트. Дата публикации: 1997-10-13.

Cathodic sputtering apparatus

Номер патента: US4443318A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1984-04-17.

High speed sputtering apparatus for ferromagnetic body

Номер патента: JPS57160113A. Автор: Kyuzo Nakamura,Yoshifumi Oota,Hiroki Yamada. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1982-10-02.

Cathode sputtering apparatus for depositing thin films on surfaces to be coated.

Номер патента: FR95311E. Автор: . Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1970-08-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101441386B1. Автор: 박재희,이봉금. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-09-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5538946A. Автор: Koichi Kobayashi,Tetsuya Ogawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-03-18.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2096735A1. Автор: James J. Hofmann,Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-05-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0073643A1. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1983-03-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: DE19707269A1. Автор: TANAKA TAKESHI,Umehara Satoshi,Kamei Mitsuhiro,Setoyama Eiji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-11-06.

Device for supporting a rotatable target and sputtering apparatus

Номер патента: US8623184B2. Автор: Frank Schnappenberger,Jürgen MULTERER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-01-07.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0073643B1. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1988-05-04.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US5106474A. Автор: Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard,James J. Hoffmann. Владелец: Viratec Thin Films Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP1176625A2. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2002-01-30.

Device for supporting a rotatable target and sputtering apparatus

Номер патента: CN102834896A. Автор: 法兰克·施纳朋伯格,于尔根·穆尔特尔. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-12-19.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US8808514B2. Автор: Zhenyu Xie. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-19.

Sputtering apparatus and cvd mask coating method using the same

Номер патента: US20230220533A1. Автор: Sungmin Hur. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9966241B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09812302B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2017-11-07.

Triode sputtering apparatus

Номер патента: CA928249A. Автор: J. Vegh Bertalan,E. Coates Alfred. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1973-06-12.

Sputtering apparatus, method of driving the same,

Номер патента: TWI354709B. Автор: Hyuk Sang Yoon,Hwan Kyu Yoo,Byung Han Yun. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW412594B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2000-11-21.

SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20220044920A1. Автор: Abarra Einstein Noel,IWASHITA Hiroyuki,TOSHIMA Hiroyuki,ISHIBASHI Shota,HIRASAWA Tatsuo,SHINADA Masato. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: US20190080883A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2019-03-14.

Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180155821A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-06-07.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: US20150206714A1. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101801794B1. Автор: 이기조,변상근. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2017-11-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20050011757A1. Автор: Toshinari Noda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-01-20.

Method of forming a sputtering apparatus

Номер патента: US6267852B1. Автор: John H. Givens,Shane B. Leiphart. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-07-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: CN100378245C. Автор: 野田俊成. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-02.

Techniques for depositing transparent conductive oxide coatings using dual C-MAG sputter apparatuses

Номер патента: US20100200395A1. Автор: Yiwei Lu,Anton Dietrich,Bryce Corsner. Владелец: Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique CRVC. Дата публикации: 2010-08-12.

Sputtering apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09997339B2. Автор: Eiji Nakamura,Shin Imai,Yasushi Yasumatsu,Hiroyuki Toya,Shigenori Ishihara,Shintaro Suda,Yuu Fujimoto,Toshikazu Nakazawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

RF sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09960018B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09449800B2. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Sputtering apparatus and film formation method

Номер патента: EP4397782A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240063003A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Sputtering apparatus and magnet unit

Номер патента: US09761423B2. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering Apparatus and Method of Discriminating State Thereof

Номер патента: US20170283940A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-10-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20090166195A1. Автор: Toshiyuki Ota,Yukihiro Kobayashi,Koichi Yoshizuka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20090159429A1. Автор: Naoki Tsukamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-06-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20210222289A1. Автор: Shunsuke Sasaki,Yutaka Kokaze,Teruaki IIWAHASHI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Sputtering apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220235450A1. Автор: Hyun Cho,Ki Woong Kim,Hyeon Woo Seo,Hee Ju SHIN,Se Chung Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-07-28.

Film forming unit for sputtering apparatus

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Shuuji Saitou. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Sputtering apparatus and method for thin film electrode deposition

Номер патента: US20230085216A1. Автор: Nam Wook Kang,Jeong Il LEE,Myung Soo Huh,Cheol Lae Roh,You Jong Lee,Doo Seon YU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US10840071B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-11-17.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US11404255B2. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: AU2018391532B2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US20210082675A1. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: EP4398283A2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Sputtering apparatus, film deposition method, and control device

Номер патента: US09991102B2. Автор: Koji Tsunekawa,Takeo Konno,Masahiro Suenaga. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US09644260B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-09.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09410236B2. Автор: Wen-Tsai Yen,Shih-Wei Chen,Chung-Hsien Wu,Ying-Hsin WU,Jui-Fu HSUEH,Kuan-Chu CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: EP4230763A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-08-23.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: US20230374652A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-11-23.

Sputtering apparatuses and methods of manufacturing a magnetic memory device using the same

Номер патента: US9934950B2. Автор: Woojin Kim,JoonMyoung LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20040216992A1. Автор: Kenji Ando,Hidehiro Kanazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-04.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: EP4324015A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: US20240136156A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Sputter apparatus with a pipe cathode and method for operating this sputter apparatus

Номер патента: TW200724707A. Автор: Andreas Sauer,Juergen Henrich,Andreas Geiss,Felix Brinckmann. Владелец: Applied Films Gmbh & Co Kg. Дата публикации: 2007-07-01.

Sputter apparatus with a pipe cathode and method for operating this sputter apparatus

Номер патента: US20070144891A1. Автор: Andreas Sauer,Jürgen Henrich,Andreas Geiss,Felix Brinckmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-28.

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20210104380A1. Автор: Futter Richard John,Davidson Ryan James,Leveneur Jerome,Kennedy John Vedamuthu. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

Sputtering Apparatuses and Methods of Manufacturing a Magnetic Memory Device Using the Same

Номер патента: US20170110301A1. Автор: KIM WOOJIN,Lee Joonmyoung. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

Sputtering Apparatus and Sputtering Method

Номер патента: US20210292886A1. Автор: Katsuaki Nakano. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101006452B1. Автор: 이재경,김소영,정창오,김진혁,조범석,서영갑,백금주. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2011-01-06.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR101290706B1. Автор: 나오키 와타나베,도루 기타다,모토노부 나가이,마사히로 스에나가,다케오 곤노. Владелец: 캐논 아네르바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-07-31.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR101332274B1. Автор: 나오키 와타나베,도루 기타다,모토노부 나가이,마사히로 스에나가,다케오 곤노. Владелец: 캐논 아네르바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-11-22.

Sputtering apparatus and monitoring method thereof

Номер патента: KR101464315B1. Автор: 이형근,이재승,유운종,김흥곤. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2014-11-21.

Sputtering apparatus of circle magnetron

Номер патента: KR100559246B1. Автор: 정윤모,한전건. Владелец: 학교법인 성균관대학. Дата публикации: 2006-03-15.

Reactive sputtering apparatus and process for forming thin film using same

Номер патента: KR100277321B1. Автор: 소네 가쯔호. Владелец: 미다라이 후지오. Дата публикации: 2001-01-15.

Sputtering apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US20090211897A1. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-08-27.

Reactive sputtering apparatus and method for forming composite metal compound or mixed film using same

Номер патента: CN110637103B. Автор: 税所慎一郎. Владелец: Shincron Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-08.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: WO2022218592A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2022-10-20.

Sputtering apparatus, thin film formation apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: SG161156A1. Автор: Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

High rate sputtering apparatus and method

Номер патента: TW200914641A. Автор: Dennis Hollars. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2009-04-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160027623A1. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-01-28.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20220145445A1. Автор: Suzuki Koji,Tashiro Yukihito,Nagashima Hideto. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2022-05-12.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: CN114182220A. Автор: 松本行生. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2022-03-15.

sputtering apparatus

Номер патента: KR101174146B1. Автор: 김성은,유환규,이천수,윤병한. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2012-08-14.

Reactive sputter apparatus with expanded plasma region

Номер патента: KR20190080122A. Автор: 최정욱,김찬홍,정수성. Владелец: 주식회사 선익시스템. Дата публикации: 2019-07-08.

Sputtering Apparatus and Method for Depositing Film

Номер патента: KR20220036341A. Автор: 유키오 마츠모토. Владелец: 캐논 톡키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-03-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140353150A1. Автор: Jae-Bum Park,Bo-Hwan Park,Eui-Jung Kang. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Magnet structure body and cathode unit for magnetron sputtering apparatus and the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200724703A. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Takanobu Hori,Yasukuni Iwasaki. Владелец: Shinmaywa Ind Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

Sputtering apparatus including target mounting and control

Номер патента: US09738967B2. Автор: Jeffrey L Kokoschke,Dennis M Brabender. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Sputtering apparatus, thin film forming method and method for manufacturing field effect transistor

Номер патента: TW201026871A. Автор: Kazuya Saito,Makoto Arai,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-16.

Box-shaped facing-targets sputtering apparatus and method for producing compound thin film

Номер патента: TWI247821B. Автор: Sadao Kadokura,Hisanao Anpuku. Владелец: FTS Corp. Дата публикации: 2006-01-21.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: TW503470B. Автор: Junichi Wada,Atsuko Sakata,Koichi Watanabe,Hideto Matsuyama,Tomio Katata. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-09-21.

Gas supply system and sputtering apparatus having same

Номер патента: US20110278163A1. Автор: Hsin-Chin Hung. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-17.

Sputtering apparatus, method of driving the same,

Номер патента: TWI354710B. Автор: Tae Hyun Lim,Hwan Kyu Yoo,Byung Han Yun. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-21.

System for supplying mixed gases, sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW201142056A. Автор: Hsin-Chin Hung. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-01.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210351022A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210082674A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210005438A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333745A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09928998B2. Автор: Yohsuke Shibuya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate cooling apparatus, sputtering apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5462272B2. Автор: 徹哉 遠藤,アインシタイン ノエル アバラ. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-04-02.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236B1. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr. LÜMKEMANN. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236C0. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr Lümkemann. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Substrate cooling device, sputtering apparatus and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20120193216A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-08-02.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210005438A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20210010127A1. Автор: KIM Ki Woong,Cho Hyun,Seo Hyeon Woo,Shin Hee Ju,Oh Se Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-01-14.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20180057928A1. Автор: Yamamoto Hiroki,Morimoto Naoki,Kohari Shinji,Nanba Takahiro,Kamii Masanobu,Kondo Tomoyasu. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-03-01.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210082674A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

Ion Source Device, Sputtering Apparatus and Method

Номер патента: US20190122873A1. Автор: Xue Tao,ZHANG Yan Fang,CHUNG Hei Ping,CHONG Sing Kai. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Sputtering apparatus and method of manufacturing magnetic memory device using the same

Номер патента: US20190136368A1. Автор: Woojin Kim,Sang Hwan Park,Ki Woong Kim,Heeju Shin,Se Chung Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-09.

Sputtering apparatus and method thereof

Номер патента: US20150184285A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Takayuki Fukasawa,Yeon-Keon MOON,Sang-Woo Sohn,Sang-won Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Rf sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US20170213706A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-07-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160247667A1. Автор: Yohsuke Shibuya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

MANUFACTURING METHOD OF OXIDE FILM AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160247902A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-25.

Sputtering apparatus and manufacturing method of magnetoresistive element

Номер патента: US20150259788A1. Автор: Kazuya Sawada,Toshihiko Nagase,Youngmin EEH,Koji Ueda,Daisuke Watanabe,Makoto Nagamine,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-09-17.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20200243311A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: US20170342547A1. Автор: Seungho Choi,Kanghee Lee,Haeyoung YOO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-30.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333746A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20150376774A1. Автор: Kim Kyu Sik,RYUICHI Satoh. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: CN110177898B. Автор: 中村真也,田代征仁. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-01-01.

Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control

Номер патента: US20080011599A1. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoshke. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2008-01-17.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101356918B1. Автор: 시게루 미즈노,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-01-28.

Sputtering apparatus for film forming

Номер патента: CN101542013B. Автор: 佐佐木雅夫. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-05-04.

Sputtering apparatus including target mounting and/or control

Номер патента: CA2658075A1. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoschke. Владелец: Jeffrey L. Kokoschke. Дата публикации: 2008-01-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0205917B1. Автор: Katsuhide C/O Toyoda Gosei Co. Ltd. Manabe,Masatoshi C/O Toyoda Gosei Co. Ltd. Tsutsui. Владелец: Toyoda Gosei Co Ltd. Дата публикации: 1990-10-31.

Sputtering apparatus and method for producing thin film

Номер патента: WO2020241010A1. Автор: 哲宏 大野,弘敏 阪上. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2020-12-03.

Triode sputtering apparatus for depositing uniform coatings

Номер патента: US3305473A. Автор: Roger M Moseson. Владелец: Consolidated Vacuum Corp. Дата публикации: 1967-02-21.

Sputtering source, sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2004346388A. Автор: Akira Ishibashi,Hajime Nakamura,Atsushi Ota,Shigemitsu Sato,肇 中村,暁 石橋,淳 太田,淳也 清田,Junya Kiyota,弘樹 大空,重光 佐藤,Seisuke Sueshiro,政輔 末代,Hiroki Ozora. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2004-12-09.

Sputtering apparatus, transparent conductive film manufacturing method

Номер патента: JP5026087B2. Автор: 悟 高澤,暁 石橋,禎之 浮島,日出夫 竹井. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-09-12.

Ionization sputtering apparatus

Номер патента: JPH10259480A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林,Hajime Sahase,▲肇▼ 佐長谷. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1998-09-29.

Sputtering apparatus, thin film forming method and method for manufacturing field effect transistor

Номер патента: CN102187007A. Автор: 清田淳也,仓田敬臣,赤松泰彦,石桥晓,斋藤一也,新井真. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

Magnet transportation system, sputtering apparatus including the same and sputtering method

Номер патента: US8512527B2. Автор: Youn-Goo Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-20.

Plasma generator, plasma sputtering apparatus, and plasma sputtering method

Номер патента: JPWO2018143164A1. Автор: 和貴 高橋,保正 佐々木,潤 福島,晃 安藤. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2019-11-21.

Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control

Номер патента: EP2059625A2. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoschke. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2009-05-20.

Sputtering apparatus and method thereof

Номер патента: US10184171B2. Автор: Satoh Ryuichi,Kyu Sik Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-01-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201213584A. Автор: Tae-Sung Lee,Hyung-Seok Yoon,Sung-Tae Namgoong,Byoung-Woo Park. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2012-04-01.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US11834738B2. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering Apparatus and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same

Номер патента: US20140151216A1. Автор: Hyung-Jun Kim,Sang-Woo Sohn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US20210079517A1. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-18.

Magnetron Sputtering Apparatus for Thick Layer

Номер патента: KR101100366B1. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 코리아 인스트루먼트. Дата публикации: 2011-12-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20210151292A1. Автор: Yasunori Ando,Daisuke Matsuo,Yoshitaka Setoguchi,Shigeaki Kishida. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201202459A. Автор: Yukio Kikuchi,Kenichi Imakita. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-16.

SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20210082675A1. Автор: GOMI Atsushi,HATANO Tatsuo,ONO Kazunaga,MOTOMURA Yuuki,OTAGIRI Yasuhiro,FUJIHARA Tomoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THE SAME

Номер патента: US20190144992A1. Автор: KIM Dong-Il,KIM Seung-Hyuk,RA Ki-Hwan. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246312A1. Автор: JR. William A.,MEREDITH,Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering apparatus, film deposition method, and control device

Номер патента: US20180254172A1. Автор: Koji Tsunekawa,Takeo Konno,Masahiro Suenaga. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-09-06.

Sputtering Apparatus for EMI shielding of Semiconductor Packages and In-line Sputtering Deposition System Having the Same

Номер патента: KR101479251B1. Автор: 김봉석,김창수,윤철,이민진,김종운. Владелец: (주) 씨앤아이테크놀로지. Дата публикации: 2015-01-05.

Magnet arrangement body, magnet unit and the magnetic controlled tube sputtering apparatus including this

Номер патента: CN110073464A. Автор: 金正健,苏秉镐,金宣映,禹昌远,赵成基. Владелец: Ulvac Korea Ltd. Дата публикации: 2019-07-30.

Sputtering apparatus for emi shielding of semiconductor packages and in-line sputtering deposition system having the same

Номер патента: TWI532865B. Автор: 尹哲,金昌壽,金鍾云,李民鎭,金鳳石. Владелец: 核心整合科技股份有限公司. Дата публикации: 2016-05-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100341653B1. Автор: 아베겐이찌로. Владелец: 닛뽕덴끼 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-06-22.

Sputtering target producing few particles, backing plate or sputtering apparatus and sputtering method producing few particles

Номер патента: WO2002040733A1. Автор: Hirohito Miyashita,Yasuhiro Yamakoshi,Takeo Okabe. Владелец: Nikko Materials Company, Limited. Дата публикации: 2002-05-23.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9911338D0. Автор: . Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-07-14.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20050093230A. Автор: 김성은,박정권. Владелец: 엘지.필립스 엘시디 주식회사. Дата публикации: 2005-09-23.

Ion beam sputtering apparatus

Номер патента: WO2002048424A1. Автор: Mervyn Howard Davis. Владелец: Nordiko Limited. Дата публикации: 2002-06-20.

Magnet structure, magent unit and sputtering apparatus having the same

Номер патента: TWI741165B. Автор: 金正健,金宣映,蘇秉鎬,禹昌遠,趙成基. Владелец: 南韓商Ulvac 韓國股份有限公司. Дата публикации: 2021-10-01.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: CN103849841B. Автор: 陈世伟,严文材,吴忠宪,吴英信,薛瑞福,陈冠竹. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-12.

FACING TARGETS SPUTTERING APPARATUS, ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS MANUFACTURED USING THE FACING TARGETS SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20150028297A1. Автор: Kim Hun,Park Jin-Woo,CHOI Su-Hyuk. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-01-29.

METHOD FOR FORMING OLED ORGANIC THIN FILM LAYERS FOR USING RF SPUTTERING APPARATUS, RF SPUTTERING APPARATUS, AND APPARATUS FOR FORMING TARGET TO BE USED IN RF SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200259084A1. Автор: SO Moon Sook. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-13.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF FABRICATING MAGNETIC MEMORY DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20210079517A1. Автор: Kim Whankyun,Jeong Junho,Park Jeong-Heon,Lee Joonmyoung,Noh Eunsun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-18.

FILM-FORMING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190078196A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya,HENMI Mitsunori. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-03-14.

Magnetron sputtering apparatus for thick layer

Номер патента: KR20100117236A. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 케이아이자이맥스. Дата публикации: 2010-11-03.

Non-magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101323204B1. Автор: 허윤성,고정곤,윤훈만. Владелец: (주)이루자. Дата публикации: 2013-10-30.

Rare-earth magnet sputtering target and its manufacture method

Номер патента: CN105026607B. Автор: 娉芥浮骞夸俊,泽渡广信. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-05-31.

Modular sputtering apparatus

Номер патента: AU3851289A. Автор: Christopher Case,Michael P. Lauro,Roland Beaulieu,Everett E. Chrissman,Joseph J. Loferski. Владелец: BROWN UNIVERSITY. Дата публикации: 1990-01-12.

Non - magnetic Particle Dispersive Type Strong Magnetic Sputtering Target

Номер патента: TWI393794B. Автор: Kazuyuki Satoh. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2013-04-21.

Laser sputtering apparatus and a method for the production of dielectric thin films using the same

Номер патента: KR930004070B1. Автор: 유끼오 니시가와,요시가즈 요시다,구니오 다나카,유스께 타까다. Владелец: 마쓰시다 덴끼 가부시기가이샤. Дата публикации: 1993-05-20.

Triode sputtering apparatus using an electron emitter

Номер патента: US3515663A. Автор: George E Bodway. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1970-06-02.

Sputtering apparatus and method for producing electrode film

Номер патента: TW201835364A. Автор: 青沼大介,阿部大和,竹見崇,熊木智洋. Владелец: 日商佳能特機股份有限公司. Дата публикации: 2018-10-01.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD USING MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20180269043A1. Автор: Nagase Toshihiko,Ueda Koji,YAMAKAWA Koji,EEH Youngmin,SAWADA Kazuya. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2018-09-20.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR FILM USING SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170365451A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

Method and apparatus for depositing aluminum oxide film and sputtering apparatus

Номер патента: KR101871899B1. Автор: 요시히로 이케다,코우코우 수우,신야 나카무라,유우스케 미야구치. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2018-06-27.

Method of Depositing Aluminum Oxide Film, Method of Forming the Same, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180057929A1. Автор: Suu Koukou,IKEDA Yoshihiro,Nakamura Shinya,Miyaguchi Yuusuke. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-03-01.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180174808A1. Автор: Suetsugu Daisuke,OKUDA Akira,Tanabe Masaaki,TAKII YOSIMASA. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

Semiconductor device manufacturing method and sputtering apparatus

Номер патента: JP4573913B1. Автор: 学 池本,述夫 山口,公子 真下,和昭 松尾. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-11-04.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR102450392B1. Автор: 강현주,정창오,손상우. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2022-10-04.

Sputtering cathode, sputtering apparatus and manufacturing method of film forming element

Номер патента: KR20180121798A. Автор: 히로시 이와타,토시유키 네즈,유타 타카쿠와,나오야 오카다,잇페이 사토,나오노리 시바타,케이이치 하시모토. Владелец: 케이힌 람테크 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-11-08.

Ac power connector, sputtering apparatus and method therefor

Номер патента: KR102114019B1. Автор: 슈테판 켈러,프랑크 슈나펜베르거,안케 헬미히,마르쿠스 벤데르. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2020-05-22.

Ac power connector, method for providing ac power, and sputtering apparatus

Номер патента: EP3084803B1. Автор: Frank Schnappenberger,Stefan Keller,Marcus Bender,Anke Hellmich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-15.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JP3419899B2. Автор: 靖浩 堀池,孝之 深沢. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-06-23.

AC power connector, sputtering apparatus and method therefor

Номер патента: CN105830194A. Автор: S·凯勒,A·赫尔米希,M·本德,F·施纳朋伯格. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-03.

Sputtering apparatus and method of forming layer using the same

Номер патента: KR102470195B1. Автор: 김기웅,김우진,이준명. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-11-23.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11094515B2. Автор: Akira Okuda,Masaaki Tanabe,Daisuke Suetsugu,Yosimasa Takii. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-17.

Strong magnetic sputtering target

Номер патента: TWI509096B. Автор: Yuki Ikeda,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2015-11-21.

Manufacturing method of flat panel display using sputtering apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: KR100932934B1. Автор: 남경원. Владелец: 삼성모바일디스플레이주식회사. Дата публикации: 2009-12-21.

Semiconductor device, method of fabricating the same, and sputtering apparatus

Номер патента: US5903023A. Автор: Shinichi Hoshi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1999-05-11.

Gas intake device of magnetron sputtering vacuum chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09899192B2. Автор: Wenbo Sun,Qiping ZHANG. Владелец: Hefei BOE Display Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Cathode sputtering apparatus

Номер патента: US3878085A. Автор: John F Corbani. Владелец: Sloan Technology Corp. Дата публикации: 1975-04-15.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4356073A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1982-10-26.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20110114473A1. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170137932A1. Автор: Guangcai Yuan. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Magnetic sputtering target

Номер патента: TWI480385B. Автор: Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2015-04-11.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20150102371A1. Автор: DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-16.

METHOD OF MANUFACTURING TUNNEL MAGNETORESISTIVE EFFECT ELEMENT AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160276583A1. Автор: Seino Takuya,OTANI Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20170309480A1. Автор: ISHIBASHI Keiji,DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100270460B1. Автор: 마사히코 고바야시. Владелец: 아넬바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2000-12-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JPWO2009157439A1. Автор: 森本　　直樹,直樹 森本,久三 中村,近藤　智保,智保 近藤,恒吉 鎌田,中村　久三. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Substrate stage, sputtering apparatus provided with substrate stage, and film forming method

Номер патента: KR20100102150A. Автор: 유키오 기쿠치,궈화 션. Владелец: 가부시키가이샤 아루박. Дата публикации: 2010-09-20.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: KR101604977B1. Автор: 오지영,황재군,윤병한. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2016-03-22.

Magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP4762187B2. Автор: 修 山崎,繁樹 松中. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

A cathode unit and a sputtering apparatus having the cathode unit

Номер патента: TWI465598B. Автор: Daisuke Mori,Naoki Morimoto,Kyuzo Nakamura,Tomoyasu Kondo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-12-21.

Manufacturing method of absorb layer for perovskite solar cell and sputtering apparatus for perovskite thin film

Номер патента: KR20190053452A. Автор: 정재원,이영일,정용철,유태혁,현예섭. Владелец: 주식회사 조인솔루션. Дата публикации: 2019-05-20.

Substrate support for sputtering apparatus

Номер патента: CN110325663B. Автор: 欧阳煦,潘业光. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-08-02.

Sputtering apparatus for semiconductor device

Номер патента: KR0127233Y1. Автор: 오재섭. Владелец: 문정환. Дата публикации: 1998-12-01.

Sputtering apparatus and method for forming thin film using the same

Номер патента: KR102177209B1. Автор: 최승호,윤대상,전영분. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-11-11.

Sputtering apparatus and manufacturing apparatus for liquid crystal device

Номер патента: US20100000859A1. Автор: Shinichi Fukada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-01-07.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20110266146A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201923129A. Автор: 吉田大介,清水豪,高橋誠,湯山明,佐藤雄亮. Владелец: 日商愛發科股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-16.

Method for producing organic thin-film device by use of facing-targets-type sputtering apparatus

Номер патента: TW593721B. Автор: Junji Kido,Sadao Kadokura,Akira Yokoi. Владелец: Int Mfg & Eng Services Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-21.

A sputtering apparatus having enhanced adhesivity of particles and a manufacturing method thereof

Номер патента: WO2004034450A1. Автор: Joo Sik Yoon. Владелец: TM TECH CO., LTD.. Дата публикации: 2004-04-22.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20090127109A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Supported plasma sputtering apparatus for high deposition rate over large area

Номер патента: US4038171A. Автор: Ronald W. Moss,Edwin D. McClanahan, Jr.,Nils Laegreid. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 1977-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4290876A. Автор: Takeshi Nakamura,Hiroshi Nishiyama,Kenji Ando,Suehiro Kato. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1981-09-22.

Magnetic head manufacturing method using sputtering apparatus

Номер патента: US5718812A. Автор: Satoshi Takaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-02-17.

Multitarget sequential sputtering apparatus

Номер патента: US3864239A. Автор: James C Administrator Fletcher,Rindge Shima. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1975-02-04.

Holding apparatus, assembly system, sputtering apparatus, machining method and machining apparatus

Номер патента: WO2007023941A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2007-03-01.

Sputtering apparatus and method for forming coating film by sputtering

Номер патента: US20090162618A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-25.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Tamayo Hiroki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US09748081B2. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160042928A1. Автор: Yamada Satoshi,HIGASHISAKA Ryuji. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2016-02-11.

SPUTTERING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND CONTROL DEVICE

Номер патента: US20160079045A1. Автор: TSUNEKAWA Koji,Konno Takeo,SUENAGA Masahiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: WO2014134004A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9418823B2. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP2961857A4. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-08-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP2961857A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-01-06.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3686314A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: BUEHLER AG. Дата публикации: 2020-07-29.

Rotary magnet switch

Номер патента: US20150145622A1. Автор: Scott Quigley,Donald Macleod,Edward J. Terrenzi,Faheem F. Faheem,Ross Malin,M. Spenser Brouwer,Paul William Paolillo. Владелец: Qinetiq North America Inc. Дата публикации: 2015-05-28.

Sputtering target assembly and sputtering apparatus using the same

Номер патента: US20030165639A1. Автор: Jae Park. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-04.

A sputtering apparatus

Номер патента: JPS51126978A. Автор: Naokichi Hosokawa,Takashi Misumi,Shinya Homan,Shoichi Aoshima. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1976-11-05.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: GB9919361D0. Автор: . Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1999-10-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20010054551A1. Автор: Akira Okuda,Kiyoshi Saeki,Toshiyuki Fujioka,Shigeru Namiki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-27.

Control apparatus and a film forming method of a sputtering apparatus, a sputtering apparatus

Номер патента: TWI500792B. Автор: Yoshinori Nagamine,Hiroshi Tsunematsu. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-09-21.

MAGNETIC FIELD GENERATION APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150014158A1. Автор: Sasaki Jun,ABE ATSUHIRO,Hiratsuka Ryoichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150262796A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,Konaga Kazuya,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2015-09-17.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150262797A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2015-09-17.

SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR FILM WITH THE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170352540A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Watanabe Masahiro,OKAZAKI Kenichi,HANDA Takuya,HOSAKA Yasuharu. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering apparatus and gas supply pipe for sputtering apparatus

Номер патента: KR102194915B1. Автор: 문연건,손상우,신상원,카츠시 키시모토,타카유키 후카사와. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-12-28.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN112553583B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-28.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN111188019B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4111782A. Автор: Alan S. Penfold,John A. Thornton. Владелец: Telic Corp. Дата публикации: 1978-09-05.

Magnetic field providing apparatus, magnetron sputtering apparatus and the method using the equipment

Номер патента: CN107012440A. Автор: 王鑫,杜建华. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-04.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170018412A1. Автор: Ueki Yuhya,Wakamori Yasuhiro. Владелец: Sakai Display Products Corporation. Дата публикации: 2017-01-19.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160027624A1. Автор: SHIBAMOTO Masahiro,KARINO Susumu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2016-01-28.

FACING TARGET SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150027883A1. Автор: Kim Hun,Park Jin-Woo,Kim Ou-Hyen,Lee Sun-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

MAGNET MODULE AND SPUTTERING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20220148779A1. Автор: LEE Nayoung,LEE KWANYONG,NAM SANGMOK. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

SPUTTERING APPARATUS AND MAGNET UNIT

Номер патента: US20150107992A1. Автор: SUZUKI Hidekazu. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-23.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING A TRANSMISSIVE CONDUCTIVE LAYER OF A LIGHT EMITTING DEVICE

Номер патента: US20140197026A1. Автор: KIM Gi Bum,SHIN Young Chul,HUR Won Goo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-07-17.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150187549A1. Автор: GOMI Atsushi,Miyashita Tetsuya,NAKAMURA Kanto,KITADA Toru. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

SPUTTERING APPARATUS, TARGET AND SHIELD

Номер патента: US20140284210A1. Автор: ISHIHARA Shigenori. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160203961A1. Автор: KIM Jong Yun. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-14.

FILM FORMING UNIT FOR SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-07-04.

MAGNET UNIT AND MANETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150235751A1. Автор: ENDO Tetsuya,Abarra Einstein Noel. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20150235817A1. Автор: Goto Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20160233056A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-11.

DEPOSITION PREVENTIVE PLATE, SPUTTERING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20190259587A1. Автор: MIURA Tatsuhiko. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2019-08-22.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140374250A1. Автор: ISHIHARA Shigenori. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150303042A1. Автор: Ueda Keisuke,SHINADA Masato. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170345629A1. Автор: Suzuki Hidenori,HAMAYA Takashi,TSUGANE Hideaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-30.

Magnetron type sputtering apparatus

Номер патента: JPS5514853A. Автор: Toshiaki Ogata. Владелец: Suwa Seikosha KK. Дата публикации: 1980-02-01.

Cathode part of magnetron type sputtering apparatus

Номер патента: JPS575871A. Автор: Hidefumi Funaki. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1982-01-12.

Both-side sputtering apparatus for forming magnetic film

Номер патента: JPS60106962A. Автор: Makoto Oishi,Masaaki Imamura,誠 大石,今村　昌明. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-06-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5585672A. Автор: Minoru Oosaki. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1980-06-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101352379B1. Автор: 유성진,안병철,정종범. Владелец: (주)다스. Дата публикации: 2014-01-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101002204B1. Автор: 황상수. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2010-12-20.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2076916B1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: IHI Hauzer Techno Coating BV. Дата публикации: 2014-12-10.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2009052874A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2009-04-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3137646A4. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-11-01.

An end-block for a rotatable target sputtering apparatus

Номер патента: CN101044257A. Автор: W·德博斯谢尔,K·德拉尔特,J·德博埃韦尔,G·拉佩勒. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2007-09-26.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: KR20140045195A. Автор: 조현욱. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-04-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102182674B1. Автор: 정창오,강수형,신상원. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-11-26.

Sputter deposition source, sputtering apparatus and method of operating thereof

Номер патента: KR101950857B1. Автор: 안드레아스 로프. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2019-02-21.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: WO2012066080A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Bekaert Advanced Coatings. Дата публикации: 2012-05-24.

Electrode part structure of sputtering apparatus

Номер патента: JPS59197569A. Автор: Koji Okamoto,Mizuo Edamura,Kyoji Kajikawa,康治 岡本,枝村　瑞郎,梶川　享志. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1984-11-09.

Pulse sputtering apparatus and pulse sputtering method

Номер патента: JP4931013B2. Автор: 浩 玉垣,忠雄 沖本. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-05-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6086272A. Автор: Naokichi Hosokawa,Shiro Fukushima,細川　直吉,福島　志郎. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1985-05-15.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20040050690A1. Автор: Stephen Burgess,Gordon Green,Robert Trowell,Anthony Barrass,Robert Teagle,Ian Moncrieff. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2202801A1. Автор: Yoji Arita. Владелец: Mitsubishi Kasei Corporation. Дата публикации: 1990-07-30.

Sputtering apparatus and film manufacturing method

Номер патента: EP1187172A2. Автор: Naoki 2-7 Senpukugaoka 2-chome Morimoto,Tomoyasu 1888-33 Higashitanaka Kondo,Hideto 311 Haitsu-gotenba Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2002-03-13.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: AU550796B2. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1986-04-10.

Device for avoiding arcing in vacuum sputtering apparatuses

Номер патента: EP0591675B1. Автор: Johann Sturmer,Michael Dr. Lübbehusen,Gernot Dipl.-Ing. Thorn. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1996-07-24.

Sputtering Apparatus and Method, and Sputtering Control Program

Номер патента: US20080023318A1. Автор: Shunji Kuroiwa. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2008-01-31.

Electrode part structure of sputtering apparatus

Номер патента: JPS59197570A. Автор: Koji Okamoto,Mizuo Edamura,Kyoji Kajikawa,康治 岡本,枝村　瑞郎,梶川　享志. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1984-11-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3137646A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-03-08.

Alternating current power supply for sputtering apparatus

Номер патента: CN102334273A. Автор: 柳谷好男. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-25.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2009209386A. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Nobuyoshi Yamaoka,明彦 藤▲崎▼,伸嘉 山岡,篤史 古屋. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: TWI654327B. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith,丹尼爾 西奧多 科絡里,派翠克 羅倫斯 摩斯,約翰 羅勃 爵曼,威廉Ａ 梅爾迪斯. Владелец: 美商濺鍍零件公司. Дата публикации: 2019-03-21.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0634500B1. Автор: Peter A. Sieck,Milan R. Kirs,Terry A. Trumbly. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1998-05-20.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0724025B1. Автор: Peter A. Sieck,James G. Rietzel,Norman E. Allen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 2002-04-10.

Magnetron cathode sputtering apparatus.

Номер патента: EP0070899A1. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1983-02-09.

Vacuum sputtering apparatus

Номер патента: EP0081331B1. Автор: David W. Hoffman. Владелец: Ford Motor Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-19.

Sputtering apparatus for semiconductor device manufacture

Номер патента: KR960005377Y1. Автор: 조경수. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1996-06-28.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2008049634A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2008-05-02.

An end-block for a rotatable target sputtering apparatus

Номер патента: EP1803144A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Krist Dellaert,Joannes De Boever,Stijn Porteman. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2007-07-04.

Magnetron sputtering apparatus and control method thereof

Номер патента: CN113755809A. Автор: 张�浩,王国峰,杨忠武. Владелец: Beihai Huike Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-07.

Method and apparatus for cleaning a target of a sputtering apparatus

Номер патента: US20070023276A1. Автор: Jeffrey Reiter. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2007-02-01.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210140033A1. Автор: Nakano Katsuaki,Yaginuma Kanji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-05-13.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170137932A1. Автор: YUAN Guangcai. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

Cathode Unit for Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190194798A1. Автор: Nakamura Shinya,Tashiro Yukihito. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-06-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5399081A. Автор: Mitsumasa Umezaki,Hiroshi Sugawara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1978-08-30.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR102180440B1. Автор: 박찬석,백신혜,강형식. Владелец: (주)이노시아. Дата публикации: 2020-11-18.

Sputtering apparatus of fibrous structure

Номер патента: KR20150049482A. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2015-05-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101374664B1. Автор: 김영민,이춘수,장명수,김기찬,강승익,은희관. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2014-03-18.

Intracavity magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: CN110205595A. Автор: 韩成明,薛道荣,李峰,褚敬堂,刘子毓. Владелец: Hebei Daorong New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-06.

Method of manufacturing tunnel magnetoresistive effect element and sputtering apparatus

Номер патента: US20160276583A1. Автор: Yuichi Otani,Takuya Seino. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW329019B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi,Masahito Ishiwara. Владелец: ANERUBA KK. Дата публикации: 1998-04-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130037406A1. Автор: Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Method of handling a substrate after sputtering and sputtering apparatus

Номер патента: TW332307B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi. Владелец: ANERUBA KK. Дата публикации: 1998-05-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS53144475A. Автор: Keiichi Nagasaki,Kensuke Nakada,Yukio Murakawa,Takao Nagasaki. Владелец: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1978-12-15.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW200920868A. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Yasuhiko Akamatsu,Takaomi Kurata,Tatsunori Isobe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-05-16.

FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140097079A1. Автор: ENDO Tetsuya,Hosoya Hiroyuki. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-04-10.

SAMPLE PREPARATION SYSTEM AND METHOD FOR ELECTRON MICROSCOPE OBSERVATION, PLASMA TREATMENT APPARATUS, SPUTTERING APPARATUS, AND TAPE FEEDING MECHANISM USED FOR SAMPLE PREPARATION

Номер патента: US20220068598A1. Автор: Goto Shuichi,Okano Hideyuki,SHIBATA Shinsuke,SHINDO Tomoko. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

Target module of a facing sputtering apparatus, facing sputtering apparatus, and method of depositing a thin film using the same

Номер патента: KR102194765B1. Автор: 김훈,김우현,유승규,이웅수,강석우. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-12-24.

SPUTTERING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND CONTROL DEVICE

Номер патента: US20130105298A1. Автор: TSUNEKAWA Koji,Konno Takeo,SUENAGA Masahiro. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-02.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130180850A1. Автор: Rohrmann Hartmut,Dubs Martin. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-07-18.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20130186743A1. Автор: MIZUNO Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-07-25.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING TARGET MOUNTING AND CONTROL

Номер патента: US20130220795A1. Автор: Brabender Dennis M.,Kokoschke Jeffrey L.. Владелец: CARDINAL CG COMPANY. Дата публикации: 2013-08-29.

MAGNETRON SOURCE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20130277205A1. Автор: LIU XU,Geng Bo,Wu Xuewei,QIU Guoqing,Li Yangchao. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-10-24.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130277213A1. Автор: SHIBUYA Yohsuke. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130299345A1. Автор: ENDO Tetsuya,Abarra Noel. Владелец: iZA CORPORATION. Дата публикации: 2013-11-14.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140027278A1. Автор: Ohmi Tadahiro,Goto Tetsuya,Matsuoka Takaaki. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-30.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140061029A1. Автор: Morse Patrick Lawrence. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-03-06.

Rotary Cathode Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180030591A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-02-01.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD FOR COMPOSITE METAL COMPOUND FILM OR MIXTURE FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200040440A1. Автор: SAISHO Shinichiro. Владелец: SHINCRON CO., LTD.. Дата публикации: 2020-02-06.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140158531A1. Автор: Choi Jai-Hyuk. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-06-12.

Sputtering Apparatus and Method of Forming Film

Номер патента: US20200080192A1. Автор: Nakamura Shinya,Tashiro Yukihito. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2020-03-12.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140166479A1. Автор: Kim Dong-Jin,JUNG Sun-Young,Park Jin-Woo,Sin Sang-Wook,Lee Il-Sang. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-19.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20140183035A1. Автор: Morohashi Shinichi. Владелец: YAMAGUCHI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-07-03.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246310A1. Автор: Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

IN-SITU SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246311A1. Автор: III Arthur W.,Erickson Mark R.,Poole Henry J.,Jamshidi Nader,Custer,Hershcovitch Ady. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-04.

IN-SITU SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246313A1. Автор: III Arthur W.,Erickson Mark R.,Poole Henry J.,Custer,Hershcovitch Ady. Владелец: POOLE VENTURA, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering Apparatus and Method of Forming Film

Номер патента: US20210214841A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-07-15.

GAS INTAKE DEVICE OF MAGNETRON SPUTTERING VACUUM CHAMBER AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160196956A1. Автор: Sun Wenbo,ZHANG Qiping. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140291146A1. Автор: Choi Seung-Ho,Sim Jae-Yun. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-10-02.

SPUTTERING APPARATUS AND TARGET CHANGING DEVICE THEREOF

Номер патента: US20180209036A1. Автор: He Xiaolong,Wang Can,Du Jianhua,SUN Xuefei. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-07-26.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140353150A1. Автор: PARK Bo-Hwan,PARK Jae-Bum,KANG Eui-Jung. Владелец: Samsung SDI Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-12-04.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF FORMING A LAYER USING THE SAME

Номер патента: US20170327941A1. Автор: Kim Ki-Woong,LEE Joon-myoung,KIM WOO-JIN. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-16.

AC POWER CONNECTOR, SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREFOR

Номер патента: US20160336151A1. Автор: KELLER Stefan,SCHNAPPENBERGER Frank,HELLMICH Anke,BENDER Marcus. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6013068A. Автор: Toshiaki Ikeda,Yukio Yoshino,幸夫 吉野,利昭 池田. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1985-01-23.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101341433B1. Автор: 이상철,오기용. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2013-12-13.

Sputter apparatus

Номер патента: KR101344220B1. Автор: 김재용,신호식,염정훈. Владелец: 주식회사 케이시엠시. Дата публикации: 2013-12-23.

Ion Beam Sputtering Apparatus

Номер патента: KR102213033B1. Автор: 황윤석,허윤성,고정곤. Владелец: (주)화인솔루션. Дата публикации: 2021-02-05.

Sputtering apparatus for making barrier film for integrated circuit

Номер патента: KR19980070035A. Автор: 고바야시마사히코. Владелец: 아네루바가부시키가이샤. Дата публикации: 1998-10-26.

Sputtering apparatus and sputtering processing system using the same

Номер патента: KR100189675B1. Автор: 지로 이께다. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 1999-06-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR960011245B1. Автор: 츠카사 고바야시,나오키치 호소가와. Владелец: 아네루바 가부시기가이샤. Дата публикации: 1996-08-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101293129B1. Автор: 김강석,안유경. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2013-08-12.

Opposed target type sputtering apparatus

Номер патента: JPS6046369A. Автор: Yoshihiko Ueda,Masahiko Naoe,Yoichi Hoshi,Hironobu Muroi,陽一 星,直江　正彦,植田　吉彦,室井　尋伸. Владелец: OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK. Дата публикации: 1985-03-13.

Magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus using magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP4990521B2. Автор: 典明 谷,肇 中村,孝 小松,淳也 清田,新井　　真,尚浩 李. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Roll­to­roll sputtering apparatus

Номер патента: KR102274884B1. Автор: 박성완,안우영. Владелец: 주식회사 테토스. Дата публикации: 2021-07-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5881970A. Автор: Yasuhiko Sato,保彦 佐藤. Владелец: Clarion Co Ltd. Дата публикации: 1983-05-17.

Magnetron sputtering apparatus and thin film deposition method using the same

Номер патента: KR102171871B1. Автор: 정대호,이호선,소현섭. Владелец: 경희대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-10-30.

Ion Milling and Sputtering Apparatus

Номер патента: KR20200134826A. Автор: 황윤석,허윤성,고정곤. Владелец: (주)화인솔루션. Дата публикации: 2020-12-02.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: WO2007083608A1. Автор: Takashi Kagechika,Tomonobu Hata,Nobumasa Nambu,Nagayasu Nakamura,Hideki Sasanuma,Hisami Nishio. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2007-07-26.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TWI401334B. Автор: Hajime Nakamura,Takashi Komatsu,Makoto Arai,Noriaki Tani,Junya Kiyota,Motoshi Kobayashi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

A sputtering apparatus and an ion source

Номер патента: EP0523695A1. Автор: Mitsuo Kato,Kenichi Yanagi,Toshio Taguchi,Tadashi Rokkaku,Ichiro Yamashita,Kazuya Tsurusaki,Kenji Atarashiya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1993-01-20.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: CN101784693A. Автор: 大空弘树,佐藤重光,小松孝,矶部辰德,谷口英男,川口昌男. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-21.

Method and arrangement for regulating the discharge process in a cathode sputtering apparatus

Номер патента: GB2021294A. Автор: . Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1979-11-28.

Magnetic sputter targets manufactured using directional solidification

Номер патента: US20070169853A1. Автор: Abdelouahab Ziani,David Long,Bernd Kunkel,Anirban Das,Jun Hui. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-07-26.

Full density Co-W magnetic sputter targets

Номер патента: US20080170959A1. Автор: Bernd Kunkel,Anirban Das,Steven Roger Kennedy,Fenglin Yang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2008-07-17.

Apparatus for heating fluids by rotary magnetic induction

Номер патента: US20180176999A1. Автор: Edgar WILHELM BAVESTEELLO,Ximena CORREA TORRES,Alexis GUARDA MAXIMOWITZ. Владелец: Evus Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Rotary magnet

Номер патента: US20240039383A1. Автор: Karin Kohler,Claus Peter Hasel,Florian Rauch. Владелец: SVM Schultz Verwaltungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-02-01.

Apparatus for constituting a rotary magnetic brush

Номер патента: US4397539A. Автор: Gerard Normand. Владелец: Compagnie Industrielle de Telecommunication CIT Alcatel SA. Дата публикации: 1983-08-09.

Sputtering bracket and sputtering apparatus having same

Номер патента: US20110247931A1. Автор: Hou-Yao Lin,Tai-Sheng Tsai. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-13.

High frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS5494444A. Автор: Oorufuon Biyaruko Jiyosefu,Esu Rekaton Jiyon. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200407447A. Автор: Joo-Sik Yoon. Владелец: TM Tech CO Ltd. Дата публикации: 2004-05-16.

SPUTTER APPARATUS, CONTROL DEVICE FOR SPUTTER APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD

Номер патента: US20130161182A1. Автор: NAGAMINE Yoshinori,TSUNEMATSU Hiroshi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-27.

Sputtering apparatus for coating cylinders

Номер патента: GB2041984A. Автор: . Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1980-09-17.

TARGET DEVICE, SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING A TARGET DEVICE

Номер патента: US20130186752A1. Автор: SATO Masaru,Takahashi Kazutoshi,KADOWAKI Yutaka,LIN Chengfu. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2013-07-25.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130299348A1. Автор: LING WEI-CHENG. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-14.

SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20130306464A1. Автор: HAYATA HIROSHI. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2013-11-21.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140102890A1. Автор: Yi Hun Jung,SONG Eun-Ju,JUNG Youngjae. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-17.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20140144769A1. Автор: YEN Wen-Tsai,CHEN Shih-Wei,WU Chung-Hsien,WU Ying-Hsin,HSUEH Jui-Fu,CHEN Kuan-Chu. Владелец: TSMC SOLAR LTD.. Дата публикации: 2014-05-29.

Sputtering Method and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210079514A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya,Hashimoto Kazuyoshi,Noro Mitsunori. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-03-18.

SPUTTERING APPARATUS AND RECORDING MEDIUM FOR RECORDING CONTROL PROGRAM THEREOF

Номер патента: US20150101927A1. Автор: Yamaguchi Nobuo,Watanabe Naoki,TSUNEKAWA Koji,KOSUDA Motomu. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-16.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140238848A1. Автор: SEO Jin-Weon. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-28.

SPUTTERING APPARATUS FOR REDUCING SUBSTRATE DAMAGE AND METHOD FOR APPLYING THE SAME

Номер патента: US20140261169A1. Автор: Chu PeiMing. Владелец: EverDisplay Optronics (Shanghai) Limited. Дата публикации: 2014-09-18.

Sputtering Apparatus and Method of Discriminating State Thereof

Номер патента: US20170283940A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2017-10-05.

Phase control type high frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS59205477A. Автор: Yoshiaki Shimizu,Kibatsu Shinohara,Toshiaki Fujioka,己抜 篠原,藤岡　俊昭,清水　美章. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1984-11-21.

Method of fabricating epitaxial thin-film using metal oxide sputtering target and sputtering apparatus

Номер патента: KR102243631B1. Автор: 김상모,박정웅. Владелец: 가천대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-04-22.

Sputtering method for semiconductor device and sputtering apparatus for this method

Номер патента: KR0161390B1. Автор: 이기홍,이덕형,주석호,백충열. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-02-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6326357A. Автор: Kenichi Kubo,久保　謙一. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1988-02-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6115966A. Автор: Nobuo Kawakami,Eisuke Ueda,川上　伸男,上田　映介. Владелец: Shimazu Seisakusho KK. Дата публикации: 1986-01-24.

Laser sputtering apparatus

Номер патента: KR930009990B1. Автор: 유끼오 니시가와,요시가즈 요시다,쿠니오 타나카. Владелец: 다니이 아끼오. Дата публикации: 1993-10-13.

Plasma sputtering apparatus for forming a coating layer inside a cylinder and method for forming coating layer using the same

Номер патента: KR980008349A. Автор: 허명수. Владелец: 주식회사 고진공산업. Дата публикации: 1998-04-30.

Ion beam sputtering apparatus and film deposition method for a multilayer for a reflective-type mask blank for EUV lithography

Номер патента: US20070087578A1. Автор: Takashi Sugiyama,Toshiyuki Uno,Satoru Takaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-19.

High frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS5399082A. Автор: Mitsumasa Umezaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1978-08-30.

Sputtering apparatus with gas injection nozzle assemblly

Номер патента: KR101083110B1. Автор: 김성은. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2011-11-11.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR100962494B1. Автор: 김진영. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2010-06-14.

Target for high profitable sputtering apparatus

Номер патента: JPS53114787A. Автор: Chikara Hayashi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 1978-10-06.

Black matrix laminated film and reactive sputtering apparatus

Номер патента: US5922181A. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-07-13.

Stacked-film-forming system, sputtering apparatus, and method for forming stacked film

Номер патента: US20080233301A1. Автор: Katsunori Takahashi,Kazuya Takahashi,Yoichi Sato. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

PLASMA CVD APPARATUS, PLASMA CVD METHOD, REACTIVE SPUTTERING APPARATUS, AND REACTIVE SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20140023796A1. Автор: Ueda Masanori,Ejiri Hiroe,Nomura Fumiyasu,Sakamoto Keitaro. Владелец: Toray Industries, Inc.. Дата публикации: 2014-01-23.

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND REACTIVE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140158524A1. Автор: Nakagawa Takashi,OTANI Yuichi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-12.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS AND REACTIVE SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Hiroki Tamayo. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-20.

SPUTTERING APPARATUS AND PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170140907A1. Автор: SHIMOKAWA Hidetoshi,Ichikawa Atsuyuki,HIROMI Taichi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2017-05-18.

Sputtering apparatus and vacuum processing apparatus

Номер патента: JP5497572B2. Автор: 伸彦 植野,信人 宮内,秀紀 若林. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-05-21.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US20160086779A1. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Rotary magnet thermal induction

Номер патента: CN114269033A. Автор: A.J.霍比斯,R.布朗,R.G.卡马特,D.E.本津斯基,D.A.盖恩斯鲍尔,A.J.W.帕龙,P.克内尔森,M.科斯米基,D.M.库斯特斯,N.耶尔,R.B.沃斯塔夫,A.马纳夫巴西,C.O.孙,D.S.赖特,C.贝森. Владелец: Novelis Inc Canada. Дата публикации: 2022-04-01.

Electronic devices with rotary magnetic latches

Номер патента: US20230266800A1. Автор: Lucas R. Compton,James T. Handy. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Improvements in rotary magnetic transmissions

Номер патента: GB761682A. Автор: William Arnold Chambers. Владелец: Ronald Trist and Co Ltd. Дата публикации: 1956-11-21.

Rotary magnet

Номер патента: JPS55166908A. Автор: Takeshi Oshima,Hiroaki Mori,Masami Ujiie,Seiichi Kamata,Yoshiya Fujishima,Hirokazu Iinuma. Владелец: HARA DENKI KK. Дата публикации: 1980-12-26.

Rotary magnetic actuator

Номер патента: AU6093899A. Автор: Stephane Veyne. Владелец: Sagem SA. Дата публикации: 2000-05-01.

Switching force booster with rotary magnet - has switching armature with contacts and magnets and steel screws opposite armature magnets

Номер патента: DE2559699A1. Автор: Spaeter Genannt Werden Wird. Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-08-11.

Slip contacting device for rotary magnetic heads in a magnetic recording and reproducing equipment

Номер патента: GB927308A. Автор: . Владелец: Nippon Victor KK. Дата публикации: 1963-05-29.

Garnet type magnetic material, high faraday rotary magnetic film containing the same and manufacture method thereof

Номер патента: JPS61110408A. Автор: ベルナール・フェラン,マリー・フランソワーズ・アルマン,ヤク・ダバール,ウベール・モリシヨー. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1986-05-28.

Novel microstrip circulator based on magnetic rotary magnetic sheet

Номер патента: CN113809497A. Автор: 吴春艳. Владелец: Chengdu Chensi Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-12-17.

Rotary magnetic field generator for magnetic domain storage elements - is energized and deenergized within quarter of cycle

Номер патента: DE2417874B1. Автор: Franz Dipl-Ing Navratil. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1975-07-10.

Rotary magnetic position sensor having pole differentiated magnets

Номер патента: US20040104720A1. Автор: Claudia Ramirez. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-03.

SERVO-ACTUATED ROTARY MAGNETIC LATCHING MECHANISM AND METHOD

Номер патента: US20210174995A1. Автор: Shamma Jeff S.,FIAZ Usman Amin. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-10.

Rotary magnet has relatively rotatable armature and yoke with off-set working air gaps between same with the overlapping surface of one gap reducing and that of the other increasing during relative rotation

Номер патента: DE102005049022A1. Автор: Jurgen Heller,Hartmut Berg,Thorsten Grunwald,Mathias Jotter,Borgar Pfeiffer,Manfred Rufer,Jens Storjohann,Jochen Trenkmann. Владелец: Kuhnke GmbH. Дата публикации: 2007-04-12.

Rotary magnet

Номер патента: JPS5889060A. Автор: Nobuyuki Moriyama,展行 森山. Владелец: RICHO KEIKI KK. Дата публикации: 1983-05-27.

Rotary magnetic switch

Номер патента: US2540294A. Автор: Harold E Schleicher. Владелец: Arrow Hart and Hegeman Electric Co. Дата публикации: 1951-02-06.

Rotary magnet for adjustment angle below 90íÒ

Номер патента: DE478878C. Автор: . Владелец: BBC Brown Boveri France SA. Дата публикации: 1929-07-03.

Rotary magnetic coupling device

Номер патента: JP6493351B2. Автор: 高志 浦野,一義 花房,浦野　高志. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

ROTARY MAGNET SWITCH

Номер патента: US20150145622A1. Автор: Quigley Scott,Macleod Donald,Terrenzi Edward J.,Faheem Faheem F.,Malin Ross,Brouwer M. Spenser,Paolillo Paul William. Владелец: QINETIQ NORTH AMERICA, INC.. Дата публикации: 2015-05-28.

rotary magnet

Номер патента: DE10204460A1. Автор: Bernd Hein. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2003-08-07.

Full stroke energized rotary magnet

Номер патента: US3092737A. Автор: Harold J Mccreary. Владелец: Automatic Electric Laboratories Inc. Дата публикации: 1963-06-04.

Remote controllable rotary magnet for electromagnetic drive of a body that can be rotated in both directions

Номер патента: DE663464C. Автор: . Владелец: BBC Brown Boveri France SA. Дата публикации: 1938-08-06.

A method for manufacturing a semiconductor device and a plating apparatus and a sputtering apparatus therefor

Номер патента: KR100352569B1. Автор: 우에노가즈요시. Владелец: 닛본 덴기 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-09-12.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20130277206A1. Автор: ISHIBASHI Keiji,DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

Sputtering Apparatus and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same

Номер патента: US20140151216A1. Автор: KIM Hyung-Jun,SOHN Sang-Woo. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-06-05.

Magnet structure and sputtering apparatus having the same

Номер патента: KR101888173B1. Автор: 김정건,소병호,고무석,천민호,주광복. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-08-13.

Sputtering apparatus using unifrom plasma

Номер патента: KR100708831B1. Автор: 손상호,백금주,김승율. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-04-17.

Sputtering apparatus using unifrom plasma

Номер патента: KR20010107142A. Автор: 손상호,백금주,김승율. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-12-07.

Semiconductor package sputtering method using liquid adhesive for electromagnetic interference shielding and sputtering apparatus therefor

Номер патента: CN105378919A. Автор: 金钟云,金昌寿,李民镇. Владелец: Cni Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-02.

Shield manufacturing method for semiconductor sputtering apparatus

Номер патента: KR960014958B1. Автор: 장정수. Владелец: 장정수. Дата публикации: 1996-10-23.

Rotary magnetic refrigerating machine

Номер патента: RU2708002C1. Автор: Евгений Павлович Красноперов,Дмитрий Сергеевич Яшкин,Сергей Викторович Шавкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2019-12-03.

Rotary magnetic recording/reproducing apparatus and method of fabricating the same

Номер патента: EP1037200A3. Автор: Shun Kayama,Junichi Ogasawara. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-10-04.

Rotary magnetic head device and method of producing a rotary magnetic head device

Номер патента: US20030026045A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Kunio Sawai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-06.

Rotary magnetic separator

Номер патента: WO2020025979A1. Автор: Michael ALLIN. Владелец: Solids Handling And Process Engineering Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-02-06.

Rotary magnetic head apparatus having reproduction signal wiring power-supply wiring and recording signal wiring sections in a rotor and a stator arranged in a predetermined manner

Номер патента: US20010043421A1. Автор: Tadashi Ozue,Toshio Shirai,Tomohiro Ikegami. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Magnetic recording apparatus of rotary magnetic type having cross-talk cancelling function

Номер патента: US4965681A. Автор: Hiroyuki Takimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-10-23.

Rotary magnetic head

Номер патента: US4509084A. Автор: Tomio Sakamoto,Yoshiharu Fujioka,Akio Onuki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1985-04-02.

Magnetic head, recording and/or playback method for tape-type magnetic recording medium and rotary magnetic head mechanism

Номер патента: EP1189209A3. Автор: Jun Sony Corporation Takayama,Yasuo Sony Corporation Sugizaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-11-09.

Magnetic head, recording and/or playback method for tape-type magnetic recording medium and rotary magnetic head mechanism

Номер патента: US20020085315A1. Автор: Jun Takayama,Yasuo Sugizaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatus for regulating the force rendered to a magnetic disc by a magnetic head in a rotary magnetic disc device

Номер патента: US4853806A. Автор: Kazukiyo Tamada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1989-08-01.

Balance compensated rotary magnetic head device

Номер патента: US4823218A. Автор: Makoto Ibe,Masanori Kochi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1989-04-18.

Rotary magnetic head device using plural magnets and coils to position plural magnetic heads

Номер патента: US5684652A. Автор: Kazuo Mori,Norihiro Yonezawa,Kimihide Nakatsu,Tetsuya Shigeeda,Kazuyuki Kokubo. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1997-11-04.

Rotary magnetic head device in magnetic recording and reproducing apparatus

Номер патента: US5223992A. Автор: Yasuo Mitsuhashi. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1993-06-29.

Device for detecting the rotating phase of rotary magnetic heads of video tape recording apparatus

Номер патента: US3883890A. Автор: Shizuhiko Tanigawa,Shozo Kanda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1975-05-13.

Rotary carrier for carrying rotary magnetic heads

Номер патента: US4306262A. Автор: Takashi Takano. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1981-12-15.

Rotary magnetic disc device with improved disc pack positioning structure

Номер патента: US4860136A. Автор: Naoki Kobayashi,Hidemi Sasaki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1989-08-22.

Rotary magnetic head cylinder device for reduced vibration and proper head/type alignment

Номер патента: US5661622A. Автор: Akihiro Nakajima,Kuniaki Hirayama,Kiyokazu Watanabe,Eijiro Tazawa,Masanori Kochi,Yoshio Uemura,Toshihiko Imachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-08-26.

Method and apparatus for helical scan type magnetic recording and reproducing with a rotary magnetic head

Номер патента: US4764819A. Автор: Kanji Kubo,Yoshiaki Doyama. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-08-16.

Rotary magnetic position indicator having odd number of positions

Номер патента: US3735303A. Автор: P Harden. Владелец: Bowmar Instrument Corp. Дата публикации: 1973-05-22.

Rotary magnetic separators

Номер патента: US4455228A. Автор: George H. Jones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-06-19.

Rotary magnetic head drum apparatus

Номер патента: US20050168875A1. Автор: Kuniaki Hirayama,Hidekazu Takeda,Shinji Okada,Yoshio Uemura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2005-08-04.

Simulation apparatus for optimizing sputtering apparatus and simulation method therefor

Номер патента: US5850356A. Автор: Hiroaki Yamada,Toshiyuki Ohta,Toshiki Shinmura. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-12-15.

Rotary magnetic isolation coupling

Номер патента: US4184090A. Автор: Patrick M. Taiani,El-Sayed M. Marzouk. Владелец: NOVA RES FOUNDATION CORP. Дата публикации: 1980-01-15.

Rotary magnet

Номер патента: GB202308497D0. Автор: . Владелец: SVM Schultz Verwaltungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2023-07-19.

Rotary magnetic brush composition apparatus

Номер патента: JPS57132174A. Автор: Noruman Jieraaru. Владелец: Compagnie Industrielle de Telecommunication CIT Alcatel SA. Дата публикации: 1982-08-16.

Rotary magnetic actuation system

Номер патента: EP3927425B1. Автор: Ali Kosar,Havva Yagci Acar,Devrim Gozuacik,Merve ZUVIN,Ozlem KUTLU,Sarp AKGÖNÜL,Mükerrem Ilker SEVGEN. Владелец: Sabanci Üniversitesi Nanoteknoloji Arastirma Ve Uygulama Merkezi Sunum. Дата публикации: 2023-07-12.

Rotary magnetic indicator system

Номер патента: GB2005449B. Автор: . Владелец: Veeder Industries Inc. Дата публикации: 1982-05-26.

Method of operating rotary magnetic field rotary electric machine

Номер патента: JPS59209096A. Автор: ギユンタ−・ロ−ト,クリスチアン・ウルバンケ. Владелец: Siemens Schuckertwerke AG. Дата публикации: 1984-11-27.

Circuit for forming voltage signal proportional to magnetic flux component in rotary magnetic field machine

Номер патента: JPS5523799A. Автор: Doraizaitoru Warutaa,Kerensuperugaa Deiitaa,Zarutsuman Teodooru,Shiyureegeru Toomasu,Deiitaa Waigeru Uorufu. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1980-02-20.

Controllable rotary magnetic repulsion type magnetic suspension device

Номер патента: CN112350615A. Автор: 彭楚尧,于金鹏,崔庆文. Владелец: Deep Magnetism Technology Shenzhen Co ltd. Дата публикации: 2021-02-09.

Rotary magnetic suspension device and gyroscope magnetic suspension method

Номер патента: CN101882903A. Автор: 洪证南. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-10.

APPARATUS FOR HEATING FLUIDS BY ROTARY MAGNETIC INDUCTION

Номер патента: US20180176999A1. Автор: WILHELM BAVESTEELLO Edgar,CORREA TORRES Ximena,GUARDA MAXIMOWITZ Alexis. Владелец: EVUS, INC.. Дата публикации: 2018-06-21.

ROTARY MAGNETIC BEARING ASSEMBLY

Номер патента: FR3075899B1. Автор: Jeremy Patarin,Etienne Ghiringhelli,Didier Bleses. Владелец: Rheonova. Дата публикации: 2020-01-10.

IMPROVEMENT IN ROTARY MAGNET ROTOR MACHINES

Номер патента: FR2565044B1. Автор: Loic Le Corre,Albert Lionel Rolland. Владелец: Precision Mecanique Labinal SA. Дата публикации: 1987-08-28.

IMPROVEMENT IN ROTARY MAGNET ROTOR MACHINES

Номер патента: FR2548843A1. Автор: Christian Vanderschaeghe. Владелец: Precision Mecanique Labinal SA. Дата публикации: 1985-01-11.

Rotary magnetic attraction device

Номер патента: CN113088430A. Автор: 黄群山,黄纯珠. Владелец: GUANGZHOU XINCHENG BIOTECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-09.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS6430002A. Автор: Masanori Kawachi,Makoto Ibe. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1989-01-31.

Control method of rotary magnet type polyphase synchronous motor and its equipment

Номер патента: JPH1080188A. Автор: Hiroshi Araki,Satoru Kato,覚 加藤,博司 荒木,Sadaaki Kojima,定章 小島. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-03-24.

Rotary magnetic encoder

Номер патента: JPS5785193A. Автор: Katsuyoshi Tamura,Hiromi Kanai,Wataru Nozaki,Yasukazu Morita,Naohiko Koizumi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-05-27.

ROTARY MAGNETIC TRANSMISSION STRUCTURE

Номер патента: US20160049846A1. Автор: Wang Zhongming. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-18.

Rotary magnetic field winding

Номер патента: JPS5671451A. Автор: Futoshi Hiyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1981-06-15.

MAGNETODYNAMIC AUTOELECTROLYSIS WITH ROTARY MAGNETIC FIELD

Номер патента: FR2398542A1. Автор: . Владелец: Interatom Internationale Atomreaktorbau GmbH. Дата публикации: 1979-02-23.

Rotary magnetic pole type brushless DC generator

Номер патента: CN113270989A. Автор: 不公告发明人. Владелец: Tan Zhidao. Дата публикации: 2021-08-17.

Method and apparatus for control of rotary magnet type polyphase synchronous motor

Номер патента: CN1175816A. Автор: 荒木博司,加藤觉,小岛定章. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-03-11.

Servo system for controlling a rotary magnetic head in a video tape recorder

Номер патента: US3290449A. Автор: Morita Tsuneo. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1966-12-06.

Device for and method of operating rotary magnetic field machine

Номер патента: JPS5523800A. Автор: Doraizaitoru Warutaa,Kerensuperugaa Deiitaa,Zarutsuman Teodooru,Shiyureegeru Toomasu,Waigeru Uorufudeiitaa. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1980-02-20.

Rotary magnetic apparatus

Номер патента: PL305068A1. Автор: Kohei Minato. Владелец: Kohei Minato. Дата публикации: 1995-03-20.

Target apparatus for sputtering, and sputtering apparatus therewith, sputtering method, manufacturing method of organic light emitting device, and manufacturing method of organic TFT thereby

Номер патента: KR100659085B1. Автор: 정경훈,허명수,이규성,김한기,정석헌. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2006-12-21.

Rotary magnetic coupling actuated valve with external magnets and internal magnetic flux path

Номер патента: US09797521B1. Автор: Edward P DAVIS. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-24.

Detection of clogging of gaps in rotary magnetic heads

Номер патента: AU2660384A. Автор: Koichi Nakayama,Masakazu Sonoda,Toshiyuki Sado. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1984-10-11.

Improvements in or relating to Developing Displaced Magnetic Phases and Producing Rotary Magnetic Fields.

Номер патента: GB189518033A. Автор: William Phillips Thompson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1895-11-16.

Self-centering rotary magnetic suspension device

Номер патента: US3811740A. Автор: G Sacerdoti,A Catitti,L Soglia. Владелец: Comitato Nazionale per lEnergia Nucleare CNEN. Дата публикации: 1974-05-21.

INSIDE ROTARY MAGNETIC FIELD ROTATING

Номер патента: RU2014110521A. Автор: Вэй Чэнь,Лайцзю ХАН,Цзохуэй ЛИ,Фэн СУНЬ,Ифэн ВАН,Цинлун ЛЮ,Фэнлин СЮЙ,Чжэньхуа ЛВ. Владелец: Шэнли Дриллинг Текнолоджи Ресерч Инститьют Оф Синопек. Дата публикации: 2015-10-10.

Rotary magnetic separator for processing slurry mixes

Номер патента: CA956274A. Автор: Hugh T. Reading. Владелец: Readings of Lismore Pty Ltd. Дата публикации: 1974-10-15.

Rotary magnetic field type induction stirrer

Номер патента: JPS57118845A. Автор: Masanao Nanba. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-07-23.

Control pulse generating rotary magnet and its assembling method in video tape recorder or the like

Номер патента: JPS56124147A. Автор: Shigeo Ota. Владелец: MIZUKI SEIMITSU KK. Дата публикации: 1981-09-29.

Cross coil rotary magnet instrument

Номер патента: AU8215782A. Автор: Not Given Name. Владелец: Mannesmann VDO AG. Дата публикации: 1982-10-07.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS57189326A. Автор: Tomio Sakamoto,Yoshiharu Fujioka. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-20.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS57152512A. Автор: Isao Yasuda,Kazuaki Koyama,Yoshihiko Kawai. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-09-20.

Rotary magnetic separator

Номер патента: AU9009282A. Автор: George Henry Jones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-26.

Rotary magnetic separators

Номер патента: ZA828061B. Автор: George Henry Jones. Владелец: George Henry Jones. Дата публикации: 1983-09-28.

Improvements in rotary magnetic separators

Номер патента: DE3271442D1. Автор: George Henry Jones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-07-03.

Rotary magnetic head device

Номер патента: GB8320401D0. Автор: . Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-09-01.

Rotary magnetic actuator

Номер патента: US3359517A. Автор: Harry F Rayfield. Владелец: Burroughs Corp. Дата публикации: 1967-12-19.

Rotary magnetic rotor and magnetic sorter for magnetic sorting of different metals

Номер патента: FI97866B. Автор: Richard Burt Wolanski,Richard Rodney Osterberg. Владелец: Huron Valley Steel Corp. Дата публикации: 1996-11-29.

Rotary magnetic coupling actuated valve with external magnets and internal magnetic flux path

Номер патента: IL264734B. Автор: P DAVIS Edward. Владелец: Davis Edward P. Дата публикации: 2022-03-01.

Magnetic head, method for recording/reproducing tape-like magnetic recording medium, and rotary magnetic head mechanism

Номер патента: EP1205910A4. Автор: Jun Takayama,Masahiro Kanaguchi,Yasuo Sugizaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-11-24.

Rotary magnetic drum with small outupt difference and magnetic tape medium recording regenerator with the same magnetic drum

Номер патента: CN1469346A. Автор: ,真柄敦. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2004-01-21.

Rotary magnet valve

Номер патента: CA2160970C. Автор: Daniel Brillant. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 1999-01-12.

Recording and reproduction system for control signal of rotary magnetic head type vtr equipped with fixed magnetic head for overall-width erasure

Номер патента: JPS5794952A. Автор: Yoshihiko Ota. Владелец: Nippon Victor KK. Дата публикации: 1982-06-12.

Oil filtering method adopting full-frequency-band working condition self-adaptive filtering, magnetization, rotary magnetic field and centrifuging

Номер патента: CN105736524A. Автор: 徐燚超. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-07-06.

Device for track centering of the working gaps of a rotary magnetic head over the data signal tracks of a magnetic tape

Номер патента: DE2323820C3. Автор: Walter Siegbert Buslik,Dale Howard Pennington. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1975-03-06.

Magnetic recording and method for controlling incline of rotary magnetic drum

Номер патента: KR100237268B1. Автор: 요시오 미즈타니. Владелец: 닛폰 비구타 가부시키가이샤. Дата публикации: 2000-01-15.

MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS PROVIDED WITH A DEVICE FOR ADJUSTING ROTARY MAGNETIC HEAD TRACK TRACKING ERRORS

Номер патента: FR2473829A1. Автор: Hisao Kinjo,Kinjo Hisao. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1981-07-17.

Rotary magnetic head type magnetic recorder/reproducer

Номер патента: JPS5619282A. Автор: Masao Tomita,Koichi Ikata,Takenobu Isaka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-02-23.

Device for presetting the track position of the rotary magnetic head and the sensing gain of a magnetic tape recorder

Номер патента: DE2533512C3. Автор: Rilchard Arlen Leavitt. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1981-05-27.

Direct current instrument with a rotary magnet arranged within a field coil and magnetized transversely to the axis of rotation

Номер патента: DE911763C. Автор: Harold Theodore Faus. Владелец: AEG AG. Дата публикации: 1954-05-20.

DEVICE FOR CONTROLLING THE SCANNING OF ROTARY MAGNETIC HEADS OF A RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS ON MAGNETIC TAPE

Номер патента: FR2521806B1. Автор: Seisuke Hiraguri. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1988-04-08.

Device for controlling the track position of a rotary magnetic head on a magnetic tape

Номер патента: DE2530731C2. Автор: Nelson Kay Longmont Col. Arter,George William Boulder Col. Brock,Howard Carl Longmont Col. Jackson,James Warren Boulder Col. Leggate. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1983-02-17.

Information recording method on magnetic tape by rotary magnetic head

Номер патента: JPS60136953A. Автор: Shigeru Araki,茂 荒木. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1985-07-20.

Apparatus for controlling the rotary magnetic head height position during the recording operation of a video magnetic tape recorder

Номер патента: DE3105699C2. Автор: Seisuke Yokohama Kanagawa Hiraguri. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1984-05-03.

Permanent magnet system for rotary magnetic refrigeration apparatus

Номер патента: CN101012985A. Автор: 夏东. Владелец: Institute of Electrical Engineering of CAS. Дата публикации: 2007-08-08.

Crossed structure magnetic separator with tetrapolar rotary magnetic circuit and annular rotors

Номер патента: AU2009315919B2. Автор: Jose Pancracio Ribeiro,Marcio Augusto Teixeira Ribeiro. Владелец: Gaustec Int GmbH. Дата публикации: 2015-04-02.

DEVICE FOR CONTROLLING THE SCANNING OF ROTARY MAGNETIC HEADS OF A RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS ON MAGNETIC TAPE

Номер патента: FR2521806A1. Автор: Seisuke Hiraguri. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1983-08-19.

A kind of steel plate leakage magnetic detection device based on rotary magnetization field

Номер патента: CN106290552A. Автор: 王杰,伍剑波,黄晓明,罗阳,方辉. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 2017-01-04.

Dynamic magnetic force capturing device for rotary magnetic medium

Номер патента: CN107132498B. Автор: 陈禄政,肖庆飞,杨若瑜,郑永明,曾剑武. Владелец: KUNMING UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2023-07-07.

Floating type magnetic head for recording and reproducing of rotary magnetic disk

Номер патента: JPS63200313A. Автор: Masaki Hagiwara,Masayoshi Uchida,正義 内田,萩原　正喜. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1988-08-18.

HOT WATER SUPPLY APPARATUS USING ROTARY MAGNETIC BODY

Номер патента: US20180180278A1. Автор: LEE Young Taek. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-28.

Hall measurement system with rotary magnet

Номер патента: US9041389B2. Автор: Oki Gunawan,Tayfun Gokmen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-05-26.

Rotary magnetic therapeutical appliance

Номер патента: EP0373722A2. Автор: Hajime Nakagawa. Владелец: Shin Atsu Shin Clinic Inc. Дата публикации: 1990-06-20.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6482315A. Автор: Atsushi Ito,Takeshi Ebihara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1989-03-28.

Rotor for rotary magnetic head

Номер патента: JPS5720914A. Автор: Kiyoshi Nagatani. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-02-03.

Rotary magnetic head apparatus and a device for electrically connecting the same

Номер патента: KR0178552B1. Автор: 마사유키 아라카와,마사오 세가와,마코토 타카기. Владелец: 도시바 에이.브이.이 가부시기가이샤. Дата публикации: 1999-04-15.

Rotary magnet refrigerator

Номер патента: SU1668829A1. Автор: Николай Васильевич Филин,Владимир Алексеевич Куликов,Андрей Леонидович Довбиш,Владлен Дмитриевич Коваленко,Игорь Иванович Михайлов,Петр Леонидович Ронжин. Владелец: Балашихинское научно-производственное объединение криогенного машиностроения им.40-летия Октября. Дата публикации: 1991-08-07.

Rotary magnetic refrigeration device and application thereof

Номер патента: CN101979937B. Автор: 刘敏,俞炳丰,P·W·爱高尔夫,朱小许. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2012-05-23.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS6185670A. Автор: Kazuo Okada,Yoshiaki Nakayama,一雄 岡田,中山　喜昭. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-01.

Rotary magnetic head unit

Номер патента: SU830917A1. Автор: А.Г. Кошелев,С.Д. Кретов. Владелец: Предприятие П/Я Р-6707. Дата публикации: 1983-02-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS56105323A. Автор: Yoshio Ueda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1981-08-21.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS59178601A. Автор: Akira Shibata,晃 柴田,Hikari Masui,Noboru Kojima,昇 小島,Akira Terada,Kenji Fuse,健二 布施,増井　光,寺田　明. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-10-09.

Vertical air-cooled multi-temperature-zone refrigerator based on rotary magnetic refrigerator and control method thereof

Номер патента: CN109323504B. Автор: 晏刚,鱼剑琳,钱苏昕. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2020-07-28.

Rotary magnetic head drum structure

Номер патента: KR0135853B1. Автор: 구자염. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1998-05-15.

ROTARY MAGNETIC HEADS

Номер патента: FR2408892A1. Автор: . Владелец: LAVRENTIEV KONSTANTIN. Дата публикации: 1979-06-08.

TRACK TRACKING DEVICE FOR RECORDING AND / OR READING APPARATUS OF THE ROTARY MAGNETIC HEAD TYPE

Номер патента: FR2482399A1. Автор: Yasuomi Namiki. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1981-11-13.

Control signal recording system of rotary magnetic head type vtr

Номер патента: JPS5792455A. Автор: Yoshihiko Ota. Владелец: Nippon Victor KK. Дата публикации: 1982-06-09.

Rotary magnetic massaging body-building bed

Номер патента: CN2920028Y. Автор: 吴静波. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-11.

Position controller for rotary magnetic head

Номер патента: JPS60182510A. Автор: Moriyuki Kawaguchi,川口　守幸. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1985-09-18.

Material feed process and assembly for a rotary magnetic separator

Номер патента: AU2020242352A1. Автор: Michael John Flanagan. Владелец: Flanagan Rory Michael. Дата публикации: 2021-02-25.

Continuously rotary magnetic refrigerator or heat pump

Номер патента: CA2611992A1. Автор: Andrej Kitanovski,Peter Williams Egolf,Osmann Sari,Ata-Caesar Derrick,Fabrice Gendre. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Displacing device of rotary magnetic head

Номер патента: JPS581830A. Автор: Shinji Ozaki,信二 尾崎. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-01-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS56165907A. Автор: Noriaki Masuda,Shinji Ozaki,Nobuyuki Kaku,Akimichi Terada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1981-12-19.

Rotary magnetic head

Номер патента: EP0064765A1. Автор: Tomio Sakamoto,Yoshiharu Fujioka,Akio Onuki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-17.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS63113861A. Автор: Naoki Kobayashi,Hidemi Sasaki,英美 佐々木,直樹 小林. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 1988-05-18.

Rotary magnetic head device

Номер патента: GB2112995A. Автор: Toshinori Takahashi,Keigo Okano,Yoshitaka Iwabuchi,Hisanori Tsumiyama. Владелец: Nippon Victor KK. Дата публикации: 1983-07-27.

A rotary magnetic-drive device

Номер патента: GB2181660B. Автор: Yasuo Akitsu,Osamu Kyo. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 1989-09-13.

Arrangement for correcting the amplitude frequency characteristic of the playback signal of a rotary magnetic head

Номер патента: DE2854470B2. Автор: Konstantin Andreevitsch Lavrentiev. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-12-18.

Track recording and reproducing system of rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS6028079A. Автор: Haruo Ito,春雄 伊藤. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1985-02-13.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS56159832A. Автор: Jiro Torio. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1981-12-09.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS63266667A. Автор: Naoki Kobayashi,Hidemi Sasaki,Kiyotaka Kaneko,清隆 金子,英美 佐々木,直樹 小林. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 1988-11-02.

The linear polarization method for correcting phase of space universal rotary magnetic field azimuthal error

Номер патента: CN104983386B. Автор: 杨振强,白建卫,张永顺,苏忠侃,迟明路. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2017-01-04.

Rotary magnetic head having low output difference, and tape medium recording and reproducing device using the same

Номер патента: KR100579064B1. Автор: 마가라아쯔시. Владелец: 알프스 덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-05-12.

Tracking device for rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS6032171A. Автор: Mitsuhisa Nakagawa,光久 中川. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1985-02-19.

Rotary magnetic head device of vtr

Номер патента: JPS5832226A. Автор: Takuji Ono,大野　卓爾. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-02-25.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS59229733A. Автор: Katsuhiro Kubo,勝裕 久保,Mitsuru Ogura,充 小倉. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1984-12-24.

A kind of rotary magnet torsion-testing tooling and its operating method

Номер патента: CN108490376A. Автор: 白俊杰. Владелец: TSE TECHNOLOGY (NINGBO) CO LTD. Дата публикации: 2018-09-04.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5922218A. Автор: Masayuki Kuroda,正幸 黒田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1984-02-04.

Multiplex read-in/out unit with group of rotary magnetic heads

Номер патента: JPS52143803A. Автор: Kazunori Kinoshita. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1977-11-30.

Rotary magnetic head position detector

Номер патента: JP2653275B2. Автор: 勝行 首藤. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1997-09-17.

Rotary-magnetic-head dynamic track following device

Номер патента: CN1084999A. Автор: 梶田信幸,上岛孝正. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1994-04-06.

Tracking apparatus for rotary magnetic recording medium

Номер патента: DE3570790D1. Автор: Izumi C O Fuji Photo Fi Miyake. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-06.

Device and process for separating particles with a rotary magnet system

Номер патента: EP0898496A1. Автор: Hubertus Exner. Владелец: Hubertus Exner. Дата публикации: 1999-03-03.

Linear and rotary magnetic sensor

Номер патента: US20010038281A1. Автор: David Nyce,Lawrence Russell,Mauro Togneri. Владелец: Togneri Mauro G.. Дата публикации: 2001-11-08.

Tracking device for rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS6116075A. Автор: Izumi Miyake,泉 三宅. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1986-01-24.

Mobile phone shell with rotary magnetic attraction support

Номер патента: CN219499424U. Автор: 谢李韵婷. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Rotary magnetic head unit and apparatus for fastening same

Номер патента: CN1052091C. Автор: 高木亮,荒川雅之,濑川雅雄. Владелец: Toshiba AVE Co Ltd. Дата публикации: 2000-05-03.

Digital information reproducing apparatus using rotary magnetic heads

Номер патента: US20030197966A1. Автор: Shigeru Yamazaki,Kenmei Masuda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-10-23.

Automatic tracking device for rotary magnetic head

Номер патента: JPS54148421A. Автор: Yukio Kubota. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1979-11-20.

Reciprocating self-control rotary magnetic field magneto-rheological polishing machine

Номер патента: CN113977360B. Автор: 罗军,王鸿云,王毅龙,毕成,吴克钱,姜宇新,邓樵. Владелец: Taizhou University. Дата публикации: 2023-08-25.

Rotary magnetic memory storage

Номер патента: JPS51147303A. Автор: Hiroyuki Ishikawa,Koreaki Kurane. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1976-12-17.

Rotary magnetic field generator

Номер патента: JPS5347734A. Автор: Jiyosefu Buraun Roorando. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1978-04-28.

Rotary magnet toy

Номер патента: US1608353A. Автор: Zaikine Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 1926-11-23.

Electromechanical modulation magnetoresistive rotary magnetic field probe

Номер патента: EP4145163A4. Автор: James Geza Deak,Zhimin Zhou. Владелец: MultiDimension Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Cross coil rotary magnet measuring element

Номер патента: AU2840584A. Автор: Roland Duffait,Christian Lindig. Владелец: Mannesmann VDO AG. Дата публикации: 1985-02-14.

Material feed process and assembly for a rotary magnetic separator

Номер патента: US20220048042A1. Автор: Michael John Flanagan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-17.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5794926A. Автор: Noriaki Masuda,Shinji Ozaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-06-12.

Rotary magnetic head unit

Номер патента: JPS5573922A. Автор: Tetsuji Fukada,Yukihiko Ise. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1980-06-04.

Rotary magnetic drum device

Номер патента: JPS6079510A. Автор: Masanori Kawachi,Akira Iwama,河内　正範,岩間　章. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-05-07.

Measuring method for displacement of rotary magnetic head

Номер патента: JPS59144030A. Автор: Hideo Nakaya,秀雄 中屋. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1984-08-17.

Rotary magnetic recording reproducer

Номер патента: JPS5235608A. Автор: Yasuhiko Koike. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1977-03-18.

Apparatus for controlling the position of rotary magnetic head along recording track

Номер патента: SU986302A3. Автор: Вакисака Есиаки,Сакамота Китоси. Владелец: Сони Корпорейшн (Фирма). Дата публикации: 1982-12-30.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS5936324A. Автор: Yuji Taga,龍彦 土屋,Kumeo Tawara,Tatsuhiko Tsuchiya,多賀　雄次,田原　久米男. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-02-28.

Rotary magnetic head unit and its manufacture

Номер патента: JPS5294114A. Автор: Kazuo Kataoka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1977-08-08.

Assembly of rotary magnetic head unit

Номер патента: SU1514253A3. Автор: Genrikh Khutter. Владелец: Philips Nv. Дата публикации: 1989-10-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: KR900009371Y1. Автор: 노브 쯔네 아이하라. Владелец: 다나가신사꾸. Дата публикации: 1990-10-10.

TRACK TRACKING DEVICE FOR RECORDING AND / OR READING APPARATUS OF THE ROTARY MAGNETIC HEAD TYPE

Номер патента: FR2482399B1. Автор: . Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1985-11-08.

DEVICE FOR INSPECTING FOUCAULD CURRENTS WITH ROTARY MAGNETIC FIELD.

Номер патента: FR2693798B1. Автор: . Владелец: Framatome SA. Дата публикации: 1996-09-13.

Rotary magnetic head drum assembly

Номер патента: KR100238918B1. Автор: 신이찌 하세가와,요이찌로 센슈,겐이찌 후까호리,아끼히로 우에따께. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2000-01-15.

Rotary magnetic head devices

Номер патента: EP0273620B1. Автор: Seiji Sato,Susumu Matsubara,Eiji Yano,Hisashi Suwa,Katsuyuki Koizumi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1992-03-18.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS55150126A. Автор: Akihiro Watanabe,Jiro Torio,Kazuhiko Nagao,Fumio Terui. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1980-11-21.

Rotary magnetic head device

Номер патента: KR930011689B1. Автор: 히데오 자마,미쯔오 아베,도시오 쯔찌야,노부오 아라이,마스미 히사또미. Владелец: 가부시끼가이샤 히다찌세이사꾸쇼. Дата публикации: 1993-12-18.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5567938A. Автор: Yukihiko Ise,Mineo Mino,Takenobu Isaka,Kiichiro Yamada. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1980-05-22.

Device and process for separating particles with a rotary magnet system

Номер патента: WO1997044137A1. Автор: Hubertus Exner. Владелец: Hubertus Exner. Дата публикации: 1997-11-27.

Rotary magnetic recording and reproducing apparatus

Номер патента: CN1038883C. Автор: 河内正范,中岛明弘,上村善雄,井町利彦,平山国明,田泽英二郎,渡边清和. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-06-24.

Electromagnetic rotary magnet measuring mechanism

Номер патента: DE1813202A1. Автор: Ernst Bursa,Hannak Ing Guenther. Владелец: Telephon und Telegraphen Fabriks AG Kapsch und Soehne . Дата публикации: 1969-12-04.

Recording and reproducing device for rotary magnetic head

Номер патента: JPS61204805A. Автор: 一郎 岡部,Ichiro Okabe. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1986-09-10.

Rotary magnetic head device

Номер патента: KR19980081735A. Автор: 오즈에다다시,시라이도시오,이케가미도모히로,사이토다케히코. Владелец: 소니(주). Дата публикации: 1998-11-25.

Electromagnetic tracking system and method based on electric control rotary magnetic field

Номер патента: CN103575271A. Автор: 丁宁,沙敏,邬小玫,金炼,王一枫. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-02-12.

Tracking correction apparatus of rotary magnetic head

Номер патента: JPS5478104A. Автор: Keitaro Yamashita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1979-06-22.

Rotary magnetic negative stiffness vibration damper

Номер патента: CN109235686B. Автор: 张睿,刘俊才,田利. Владелец: Shandong University. Дата публикации: 2020-03-31.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS61168115A. Автор: Tetsuya Mino,Keisuke Nakamura,佳祐 中村,三野　哲也. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1986-07-29.

Rotary magnetic head drum device

Номер патента: JPS60185204A. Автор: Shinji Okada,Yasuharu Moriyama,晋二 岡田,森山　安治. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-09-20.

High resolution absolute orientation rotary magnetic encoder

Номер патента: US8760153B2. Автор: Anthony Parakka. Владелец: Dexter Magnetic Technologies Inc. Дата публикации: 2014-06-24.

Rotary magnetic variation measuring equipment and measuring method for transformer substation

Номер патента: CN115128526B. Автор: 张鑫,王坤,张旭,杨飞,韩锋,李国亮,吕妍,王冰洁,刘玉娇,刘潇阳,吕琦,夏文华,陈卯,梁祖辉. Владелец: Zaozhuang Power Supply Co of State Grid Shandong Electric Power Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-16.

Rotary magnetic head device

Номер патента: KR920010449B1. Автор: 김동춘. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1992-11-28.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5894127A. Автор: Toshinori Takahashi,Kazunori Tsumiyama,利典 高橋,積山　寿徳. Владелец: Nippon Victor KK. Дата публикации: 1983-06-04.

Improved steerability of downhole ranging tools using rotary magnets

Номер патента: WO2023044176A1. Автор: Pete L. SCHIEMEIER,Sean HINKE. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2023-03-23.

Rotary magnetic head device

Номер патента: KR960005117B1. Автор: 히데끼 노노야마. Владелец: 오오가 노리오. Дата публикации: 1996-04-20.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS62192907A. Автор: Yoshiaki Shimizu,Takuji Ono,Masaru Doi,Kazuo Ino,良昭 清水,Kozo Ishihara,勝 土井,宏三 石原,大野　卓爾,伊野　一夫. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-24.

Rotary magnet instrument

Номер патента: DE839385C. Автор: Serge Held. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 1952-05-19.

Electromagnetic induction damping for rotary magnet measuring devices

Номер патента: DE921212C. Автор: Max Baermann. Владелец: Individual. Дата публикации: 1954-12-13.

Rotary Magnet Valve

Номер патента: CA2160970A1. Автор: Daniel Brillant. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 1997-02-11.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS56140525A. Автор: Atsushi Takeuchi,Hideki Sakumoto,Hideo Agari,Kazunori Umee. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-11-02.

Improvements to rotary magnetic separators

Номер патента: FR683827A. Автор: . Владелец: MATERIEL ELECTRO MAGNETIQUE SO. Дата публикации: 1930-06-18.

A kind of building materials quartz sand rotary magnetic optional equipment

Номер патента: CN108405174A. Автор: 其他发明人请求不公开姓名,余家铖. Владелец: Nanchang Run Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-17.

Rotary magnet measuring mechanism

Номер патента: DE2360845C3. Автор: Bruno 7812 Bad Krozingen Schmitt. Владелец: Hellige GmbH. Дата публикации: 1981-09-24.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS59198561A. Автор: Etsuro Saito,悦朗 斉藤. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1984-11-10.

Rotary magnetic head assembly

Номер патента: JPS6442018A. Автор: Toshiro Tsukahara,Shigehiro Yabu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-02-14.

ROTARY MAGNETIC TURNING DEVICE FOR PUMP ACCESSORY HANDLE COVER LOCK PARTS

Номер патента: RU2015154962A. Автор: Д. СМИТ Джейсон. Владелец: ЭфЭмСи ТЕКНОЛОДЖИЗ, ИНК.. Дата публикации: 2017-06-29.

Improved steerability of downhole ranging tools using rotary magnets

Номер патента: TW202314288A. Автор: 皮特 Ｌ 席爾邁爾,肖恩 欣客. Владелец: 美商哈利伯頓能源服務公司. Дата публикации: 2023-04-01.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5958651A. Автор: Shinji Ozaki,信二 尾崎. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-04-04.

Inexpensive rotary magnetic bearing with active centring along the rotation axis

Номер патента: EP0958459A1. Автор: Christophe Bernus,Charles Les Chaumettes Lambert. Владелец: AIRBUS GROUP SAS. Дата публикации: 1999-11-24.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS59162617A. Автор: Katsuhiro Kubo,勝裕 久保,Mitsuru Ogura,充 小倉. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1984-09-13.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS6185668A. Автор: Kazuo Okada,Yoshiaki Nakayama,一雄 岡田,中山　喜昭. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-01.

Cross coil rotary magnet measuring element

Номер патента: AU578610B2. Автор: Roland Duffait,Christian Lindig. Владелец: Mannesmann VDO AG. Дата публикации: 1988-11-03.

Sputtering apparatus having automatic mount apparatus

Номер патента: JPS57120670A. Автор: Haijitsuhi Ururitsuhi,Kotsushiyu Uorufugangu,Uetsukento Jiigufuriito,Teshiyuneru Getsutsu. Владелец: BEBU. Дата публикации: 1982-07-27.

SHIELD MASK MOUNTING FITTING FOR A SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160214136A1. Автор: KIM Jong Yun. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

Method and device for contactless measurement of specific electric resistance of metal alloy by method of rotary magnetic field

Номер патента: RU2531056C1. Автор: Аркадий Моисеевич Поводатор,Владимир Викторович Вьюхин,Владимир Степанович Цепелев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина". Дата публикации: 2014-10-20.

Single-phase-three-phase transformer with rotary magnetic field

Номер патента: RU2335027C1. Автор: Николай Иванович Богатырев,Олег Владимирович Григораш,Антон Евгеньевич Усков,Вадим Николаевич Темников,Юрий Григорьевич Пугачев. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2008-09-27.

Differential relay based on transformers with rotary magnetic field

Номер патента: RU2555858C2. Автор: Роман Александрович Шестак,Борис Андреевич Коробейников,Андрей Геннадьевич Печенкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВПО "КубГТУ"). Дата публикации: 2015-07-10.

Single-phase-three-phase transformer with rotary magnetic field

Номер патента: RU2417471C1. Автор: Олег Владимирович Григораш,Алина Олеговна Григораш,Евгений Анатольевич Власенко,Антон Евгеньевич Усков,Александр Владимирович Бутенко,Олег Владимирович Григораш (RU),Евгений Анатольевич Власенко (RU),Антон Евгеньевич Усков (RU),Алина Олеговна Григораш (RU),Александр Владимирович Бутенко (RU). Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2011-04-27.

ROTARY MAGNET SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120064259A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

Rotary magnetic separator

Номер патента: RU2209685C1. Автор: А.Г. Звегинцев,С.А. Елфимов. Владелец: Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН. Дата публикации: 2003-08-10.

Variable-ratio transformer with rotary magnetic field

Номер патента: RU2222066C2. Автор: С.В. Мишин,Е.М. Старчуков,Т.С. Подлужный. Владелец: Иркутский военный авиационный инженерный институт. Дата публикации: 2004-01-20.

Rotary drum for magnetic recording and reproducing device of rotary magnetic head type

Номер патента: JPS61134902A. Автор: Yoshiyuki Sasaki,慶幸 佐々木. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1986-06-23.

Device for treating biological test objects in rotary magnetic field

Номер патента: RU2039578C1. Автор: С.В. Колпаков,Д.А. Синицкий,Г.Ф. Игнатьев. Владелец: Центральное конструкторское бюро "Геофизика". Дата публикации: 1995-07-20.

Welding transformer with rotary magnetic field

Номер патента: RU2178925C2. Автор: В.А. Шаповалов,Н.Е. Кузнецов. Владелец: Тольяттинский политехнический институт. Дата публикации: 2002-01-27.

Material feed process and assembly for a rotary magnetic separator

Номер патента: ZA202100696B. Автор: John Flanagan Michael. Владелец: Rory Michael Flanagan. Дата публикации: 2022-02-23.

Rotary magnetic data storage system

Номер патента: CA537575A. Автор: H. Nelson Dale. Владелец: Teleregister Corp. Дата публикации: 1957-02-26.

Rotary magnetic actuator

Номер патента: CA643762A. Автор: J. Buchtenkirch Arthur. Владелец: North Atlantic Industries Inc. Дата публикации: 1962-06-26.

Rotary magnetic motor

Номер патента: GB202108620D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-08-04.

Rotary magnetic motor No 2

Номер патента: GB202108907D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-08-04.

Rotary magnetic work holders

Номер патента: CA580918A. Автор: Stead Clifford. Владелец: Taft Peirce Manufacturing Co. Дата публикации: 1959-08-04.

Rotary magnet

Номер патента: JPS5767218A. Автор: Toshitaka Aoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-04-23.

Rotary magnet

Номер патента: JPS54106808A. Автор: Shinichi Hirasawa,Takeshi Oshima,Masami Ujiie,Keiichi Nagakura. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1979-08-22.

Rotary magnetic head device and rotary transformer used therein

Номер патента: JP2618477B2. Автор: 寿一 森川,敏男 陰地. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-06-11.

Rotary screen printing machine device with rotary magnetic device

Номер патента: CN213353881U. Автор: 吴超. Владелец: Nanjing Jieyin Digital Printing Equipment Co ltd. Дата публикации: 2021-06-04.

Magnetically Coupled Rotary Magnetic Encoder with Angle Error Reduction

Номер патента: US20120153940A1. Автор: . Владелец: Joral LLC. Дата публикации: 2012-06-21.

Cleaning method and cleaner device for rotary magnetic head, and magnetic recording and reproducing apparatus utilizing the same

Номер патента: JPH1049839A. Автор: Hisayoshi Chino,悠義 千野,Toshihiro Tokito,俊裕 時任. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1998-02-20.

Device for controlling position of rotary magnetic head with respect to magnetic tape record track

Номер патента: SU923380A3. Автор: Сакамото Хитоси,Вакисака Есиаки. Владелец: Сони Корпорейшн (Инофирма). Дата публикации: 1982-04-23.

Source of rotary magnetic field for checking magnetic integrated circuits

Номер патента: SU1223305A1. Автор: Владимир Васильевич Костин,Николай Николаевич Усов,Николай Леонидович Прохоров,Борис Дмитриевич Напольских,Юрий Дмитриевич Овечкин. Владелец: Институт Электронных Управляющих Машин. Дата публикации: 1986-04-07.

Rotary magnetic head device and magnetic recording and reproducing apparatus

Номер патента: JPH1166502A. Автор: Shinji Okada,晋二 岡田,Noboru Hotta,昇 堀田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-03-09.

Magnetic separator with rotary magnetic system

Номер патента: RU2403980C2. Автор: Анатолий Георгиевич Звегинцев,Анатолий Николаевич Чекменев,Александр Андреевич Свертков,Владимир Викторович Шархов. Владелец: Закрытое акционерное общество Управляющая горная машиностроительная компания "Рудгормаш" (ЗАО "УГМК "Рудгормаш"). Дата публикации: 2010-11-20.

Magnetic group for rotary magnetic therapy device

Номер патента: CN203915781U. Автор: 王冰. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-11-05.

Rotary magnetic head cleaning device in magnetic recording / reproducing device

Номер патента: JP3112107B2. Автор: 安博 橋口,昇 上遠野,幸治 福田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-11-27.

Magnetic signal transmitting device and rotary magnetic drum device

Номер патента: JP2001331901A. Автор: Masahiro Suzuki,芳紀 高井,雅浩 鈴木,Yoshinori Takai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-11-30.

Capstan motor controller for rotary magnetic head type magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS6370958A. Автор: Koji Hosono,Yoshihiro Okamoto,Yukihiko Haikawa,好弘 岡本,幸治 細野,配川　幸彦. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1988-03-31.

Permanent magnet rotary magnet type recovery device

Номер патента: CN101190359A. Автор: 陈缨. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-06-04.

Vertical magnet separator with rotary magnetic system

Номер патента: CN104984822A. Автор: 张雷,胡天麒,张旭,吴龙,吴智,郝以党,杨景玲,张添华. Владелец: MCC Energy Saving and Environmental Protection Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.

Rotary magnetic head device for magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS62173604A. Автор: Noriaki Masuda,Saburo Kazama,Akimichi Terada,Hideyuki Fukuda,秀幸 福田,益田　憲明,風間　三郎,寺田　明猷. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-07-30.

A kind of high pressure resistant rotary magnet of double symmetrical wet types of Alnico magnetic circuit

Номер патента: CN105375660B. Автор: 周建华,孟彬,方珠芳. Владелец: Zhijiang College of ZJUT. Дата публикации: 2017-12-05.

Permanent magnet rotary magnet type recovery device

Номер патента: CN1339326A. Автор: 陈缨. Владелец: TAIJIE ELECTROMAGNETIC INST BEIJING. Дата публикации: 2002-03-13.

Rotary magnetic head device for magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS63247909A. Автор: Masao Kawachi,川地　正男. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1988-10-14.

Soft-magnetic sputtering target and soft-magnetic sputtering material

Номер патента: TWI602940B. Автор: 林致維. Владелец: 光洋應用材料科技股份有限公司. Дата публикации: 2017-10-21.

HIGH RESOLUTION ABSOLUTE ORIENTATION ROTARY MAGNETIC ENCODER

Номер патента: US20120217956A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-08-30.

HALL MEASUREMENT SYSTEM WITH ROTARY MAGNET

Номер патента: US20140028306A1. Автор: Gokmen Tayfun,Gunawan Oki. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2014-01-30.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS5220005A. Автор: Akira Saito. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1977-02-15.

Rotary magnetic field type eddy current examination method

Номер патента: JPS626163A. Автор: Mitsuo Yoshida,Shinji Obara,Michiaki Takahashi,Kazuyoshi Miyazawa,Junichi Fujisawa,淳一 藤沢,小原　信二,高橋　道明,吉田　三男,宮沢　和義. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 1987-01-13.

Contactless current collector for rotary magnetic heads of video tape recorder

Номер патента: SU1102056A1. Автор: Петр Григорьевич Трипачко,Олег Викторович Фраткин. Владелец: Предприятие П/Я А-1705. Дата публикации: 1984-07-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPH01182916A. Автор: Hidetoshi Tsuchida,Masaaki Miki,Mitsunobu Nakajo,条 光 伸 中,木 正 昭 三,田 英 俊 土. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1989-07-20.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS61202361A. Автор: Yasuhisa Hisagai,久貝　安久. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1986-09-08.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS61260402A. Автор: Akira Tamura,昭 田村,Katsuyuki Watanabe,Shinji Ozaki,Toshio Inchi,Masaharu Ono,信二 尾崎,正治 小野,克行 渡辺,陰地　敏男. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-11-18.

Rotary magnetic head drum

Номер патента: JPS60182042A. Автор: Hideo Ouchi,大内　秀夫. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1985-09-17.

Variable transformer with rotary magnetic field

Номер патента: SU1534526A1. Автор: Максим Митрофанович Красношапка,Геннадий Анатольевич Коваленко,Дмитрий Максимович Красношапка. Владелец: Киевское высшее военное авиационное инженерное училище. Дата публикации: 1990-01-07.

Rotary magnetization small micelle water generation device for water pump

Номер патента: CN210214896U. Автор: Lijin Wang,王立锦,Luxue Xu,徐鹿学,Yunjiao Wang,王云蛟,Gangwei Xu,徐钢伟. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-31.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS61162802A. Автор: Hiroshi Shiokawa,Shigeto Shibaike,芝池　成人,塩川　博史. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-07-23.

Rotary magnetic head apparatus

Номер патента: JPH1049842A. Автор: Toshio Osada,Kuniaki Hirayama,Shinji Okada,Tsunenori Iwama,Makoto Ibe,Toshio Oji,晋二 岡田,国明 平山,敏男 陰地,経典 岩間,誠 伊部,俊男 長田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-02-20.

Contactless current collector for rotary magnetic heads of video tape recorder

Номер патента: SU1115096A2. Автор: Олег Викторович Фраткин. Владелец: Предприятие П/Я А-1705. Дата публикации: 1984-09-23.

Variable-ratio transformer with rotary magnetic field

Номер патента: SU1070615A1. Автор: Максим Митрофанович Красношапка,Геннадий Анатольевич Коваленко,Дмитрий Максимович Красношапка. Владелец: Институт Электродинамики Ан Усср. Дата публикации: 1984-01-30.

Rotary magnetic field generati on system

Номер патента: JPS5324235A. Автор: Yukio Nishikawa,Masanori Kogo. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-03-06.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPS61151815A. Автор: 敦夫 大沢,Kenji Ogiji,Nobuyuki Kaku,信行 賀来,Yoshihiro Fukagawa,芳弘 深川,Atsuo Osawa,荻路　憲治. Владелец: Hitachi Video Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1986-07-10.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPH01143005A. Автор: Hiroshi Saito,寛 斎藤. Владелец: Tokai Rika Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-05.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPH01137423A. Автор: Yasuhiro Fujii,保弘 藤井,Kazumi Mori,和美 森. Владелец: IHI Corp. Дата публикации: 1989-05-30.

Source of rotary magnetic field for bubble storage

Номер патента: SU1129652A1. Автор: Владимир Васильевич Костин,Николай Леонидович Прохоров,Дмитрий Викторович Цаплин. Владелец: Институт Электронных Управляющих Машин. Дата публикации: 1984-12-15.

Contactless induction current collector for rotary magnetic heads

Номер патента: SU1265839A1. Автор: Олег Викторович Фраткин,Анатолий Матвеевич Рыкунов,Валентин Владиславович Рычгорский,Яков Григорьевич Гиршберг. Владелец: Ленинградский государственный педагогический институт им.А.И.Герцена. Дата публикации: 1986-10-23.

Dynamic vibration absorbing device for rotary magnetic head mechanism

Номер патента: JPS63181111A. Автор: Hiroaki Kobayashi,広明 小林,Shinji Okada,Yasuharu Moriyama,晋二 岡田,森山　安治. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-07-26.

Infrared hot-massaging rotary magnetic-burning medicine-spraying treating instrument

Номер патента: CN102512318B. Автор: 钟山,钟祖荫,文明英,钟值,钟言理. Владелец: 钟言理. Дата публикации: 2013-11-27.

Power device for rotary magnetic storage device

Номер патента: JPS6373875A. Автор: Katsunori Hayashi,克典 林. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-04-04.

Rotary magnetic infrared physical therapeutic device

Номер патента: CN1631468B. Автор: 沈英魁,韩玉芝,李素香. Владелец: TIANJIN JIANRUI MEDICAL INSTRUMENTS CO Ltd. Дата публикации: 2010-05-26.

A kind of rotary magnet device capable of reversing

Номер патента: CN104658738B. Автор: 林柳叶. Владелец: TSE TECHNOLOGY (NINGBO) CO LTD. Дата публикации: 2016-09-21.

Adjustable transformer with rotary magnetic field

Номер патента: SU1188794A1. Автор: Максим Митрофанович Красношапка,Геннадий Анатольевич Коваленко,Дмитрий Максимович Красношапка. Владелец: Киевское высшее военное авиационное инженерное училище. Дата публикации: 1985-10-30.

Revolving phase detector for rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS61165859A. Автор: Takashi Fukushima,貴司 福島. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1986-07-26.

Rotary magnetic therapy device

Номер патента: CN202263300U. Автор: 王冰. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-06.

Method of producing coaxial contact-free current collector for rotary magnetic heads

Номер патента: SU1597907A1. Автор: Георгий Георгиевич Муравьев,Виталий Дмитриевич Лазарев. Владелец: Предприятие П/Я В-8071. Дата публикации: 1990-10-07.

Controlled rotary magnetic field reactor

Номер патента: SU491164A1. Автор: Игорь Иванович Леонов,Владимир Степанович Новокшенов. Владелец: Казахский политехнический институт им.В.И.Ленина. Дата публикации: 1975-11-05.

Rotary magnetic cell separation method

Номер патента: CN104928280A. Автор: 刘江,刘晓华,朱建民,叶青,田建国,李洲,周洪锐,孙雪莲,黄慧玲,梅剑春,李召雨. Владелец: Joint Dynamics Anda (tianjin) Biological Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-23.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6369002A. Автор: Keitaro Yamashita,山下　啓太郎. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-03-29.

A kind of New Rotary magnetic rheological brake

Номер патента: CN208331046U. Автор: 徐�明,胡国良,李林森,曹大雨. Владелец: East China Jiaotong University. Дата публикации: 2019-01-04.

Rotary magnetic damper device

Номер патента: JP3029700B2. Автор: 和幸 渡辺,一雄 松井,廣文 中野,雅之 磯永. Владелец: 富士電気化学株式会社. Дата публикации: 2000-04-04.

Drum for rotary magnetic head and its production

Номер патента: JPS63211151A. Автор: Hiroshi Onuma,Masanori Nakamura,Tadashi Adachi,Hiroshi Sanpei,大沼　浩,三瓶　博,雅典 中村,安達　忠志. Владелец: Mitsumi Electric Co Ltd. Дата публикации: 1988-09-02.

Directional power relay based on transformers with rotary magnetic field

Номер патента: RU2435269C2. Автор: Борис Андреевич Коробейников,Андрей Борисович Коробейников,Владислав Михайлович Радионов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Электроинтел" (ООО "Электроинтел"). Дата публикации: 2011-11-27.

Rotary magnet

Номер патента: JPS5496716A. Автор: Takeshi Oshima,Masami Ujiie,Keiichi Nagakura,Seiichi Kamata,Tadahiko Maezawa. Владелец: Yamura Shinko Seisakusho KK. Дата публикации: 1979-07-31.

Rotary magnetic propeller

Номер патента: CN105024521A. Автор: 马会全,王雁平,廉春原. Владелец: Changzhou Institute of Technology. Дата публикации: 2015-11-04.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6236724A. Автор: Yutaka Sato,Juichi Morikawa,Kuniaki Hirayama,Shinji Okada,Yasuharu Moriyama,Tsunenori Iwama,Toshio Inchi,豊 佐藤,晋二 岡田,森山　安治,岩間　経典,▲陰▼地　敏男,森川　寿一,平山　国明. Владелец: Hitachi Video Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1987-02-17.

Rotary magnetic head

Номер патента: JPH1153793A. Автор: Shinji Tanaka,慎治 田中,一雄 渋川,Kazuo Shibukawa. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-26.

Tracking device for rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS62159383A. Автор: Kohei Iketani,浩平 池谷. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-15.

A kind of rotary magnetic power propeller

Номер патента: CN105024521B. Автор: 马会全,王雁平,廉春原. Владелец: Changzhou Institute of Technology. Дата публикации: 2018-02-02.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS61211802A. Автор: Noriaki Masuda,Akira Tezuka,Akimichi Terada,Hideyuki Fukuda,明 手塚,秀幸 福田,益田　憲明,寺田　明猷. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-09-19.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS6243861A. Автор: Shigeru Okada,茂 岡田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-02-25.

Squeaking preventor of rotary magnetic head device

Номер патента: JPS5472028A. Автор: Ryuichi Yamayoshi,Shigemichi Honda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1979-06-09.

Rotary magnetic sheet recorder-reproducer

Номер патента: JPS54107322A. Автор: Masanori Isshiki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-08-23.

Rotary magnetic control cylindrical target

Номер патента: CN202347087U. Автор: 陈春红,郑锡辉,靳新军,温达明. Владелец: SUZHOU FUNG YU MACHINERY (GROUP) CO Ltd. Дата публикации: 2012-07-25.

Anti-disease cancer-resistant toothbrush by bidirectional rotation type rotary magnetic field

Номер патента: CN2571344Y. Автор: 叶德顺. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-10.

Dual rotary magnetic field electric motor

Номер патента: CN204145236U. Автор: 谭成刚. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-02-04.

Rotary magnetic head assembly

Номер патента: JPS6442019A. Автор: Tateo Kataoka,Toshiro Tsukahara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-02-14.

Rotary magnetic switch

Номер патента: CA498233A. Автор: E. Schleicher Harold. Владелец: Arrow Hart and Hegeman Canada Ltd. Дата публикации: 1953-12-08.

Vibration type rotary magnetic flux radiating device

Номер патента: JPS57131441A. Автор: Norihei Hatae. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-08-14.

Rotary magnetic actuators

Номер патента: CA612895A. Автор: J. Buchtenkirch Arthur. Владелец: North Atlantic Industries Inc. Дата публикации: 1961-01-17.

HALL MEASUREMENT SYSTEM WITH ROTARY MAGNET

Номер патента: US20140028305A1. Автор: Gokmen Tayfun,Gunawan Oki. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2014-01-30.

Device for synchronizing data displayed from rotary magnetic carrier

Номер патента: SU720488A1. Автор: Валерий Александрович Чулков. Владелец: Предприятие П/Я В-2867. Дата публикации: 1980-03-05.

Servo system in rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS558604A. Автор: Hidetoshi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-01-22.

Rotary magnetic massager and application method thereof

Номер патента: CN104958837A. Автор: 陈永兵,汪明星. Владелец: Violet Home Textile Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6430051A. Автор: Hirohiko Honda,Kaoru Fukuzawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-01-31.

Device for setting the stabilizing the phase position of rotary magnetic head unit

Номер патента: SU1515195A1. Автор: Владимир Карлович Райфшнайдер,Вадим Михайлович Зволинский,Владимир Павлович Шпаченко,Владимир Петрович Веклич,Александр Васильевич Савенко,Игорь Владимирович Канюка. Владелец: Северо-Кавказский горно-металлургический институт. Дата публикации: 1989-10-15.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6313113A. Автор: Kenichi Horikawa,Kentaro Odaka,健太郎 小高,憲一 堀川. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-01-20.

Device for adjusting rotary magnetic heads

Номер патента: SU1501146A1. Автор: Виктор Антонович Школовой,Василий Андреевич Кривонос,Виктор Алексеевич Медынцев. Владелец: Предприятие П/Я В-8689. Дата публикации: 1989-08-15.

Projecting electrode rotary magnetic field coil

Номер патента: JPS5517233A. Автор: Kuniyoshi Konno,Toshiaki Hagiwara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-02-06.

Rotary magnetic pole motor

Номер патента: CN203734400U. Автор: 刘伟,李健,杨振强,李鹏图. Владелец: JINING XIAOSONG ELECTRICAL TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-23.

Total-efficacy high-frequency rotary magnetic field hot water or/and water heating supply device

Номер патента: CN203231386U. Автор: 罗招全. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-09.

Device for charging ferromagnetic bodies into the chamber of rotary magnetic field apparatus

Номер патента: SU607587A1. Автор: Владимир Викторович Еременко,Анатолий Михайлович Григоренко. Владелец: Научно-Исследовательский И Конструкторско-Технологический Институт Эмалированного Химического Оборудования. Дата публикации: 1978-04-24.

Contactless current collector for rotary magnetic heads

Номер патента: SU1205213A1. Автор: Олег Викторович Фраткин. Владелец: Предприятие П/Я А-1705. Дата публикации: 1986-01-15.

Consider the big print rotary magnetic characteristic test system of vortes interference

Номер патента: CN208672788U. Автор: 李永建,岳帅超,张长庚,窦宇,李昂轩. Владелец: HEBEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2019-03-29.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6371903A. Автор: Keitaro Yamashita,山下　啓太郎. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-04-01.

Rotary magnetic head mechanism

Номер патента: JPH01128220A. Автор: Kenji Araki,獻次 荒木. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-05-19.

Rotary magnetic head device for dynamic tracking

Номер патента: JP2696796B2. Автор: 一夫 森. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-01-14.

Cross-coil rotary magnet measuring device

Номер патента: DE1118878B. Автор: Gerhard F Lindner. Владелец: Mannesmann VDO AG. Дата публикации: 1961-12-07.

Rotary magnetic sheet device

Номер патента: JPS62270059A. Автор: Naoki Takatori,高取　直樹. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-24.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS6361407A. Автор: Hisafumi Yanagihara,尚史 柳原. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-03-17.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPH01189001A. Автор: Hiroyuki Mase,浩之 間瀬. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-07-28.

Rotary magnetic data line

Номер патента: CN213366918U. Автор: 姜华锋. Владелец: Shenzhen Huabaolin Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-06-04.

Rotary magnetic head type reproducing device

Номер патента: JPS61172244A. Автор: Koji Takahashi,Masahiro Takei,Motoichi Kashida,Kenichi Nagasawa,宏爾 高橋,健一 長沢,武井　正弘,樫田　素一. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-02.

Precedent erasing device for rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPS62262205A. Автор: Toshio Kaneshiro,Katsuyuki Shiyudo,勝行 首藤,金城　寿雄. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 1987-11-14.

Single-phase-single-phase transformer with rotary magnetic field

Номер патента: RU2335028C1. Автор: Николай Иванович Богатырев,Олег Владимирович Григораш,Олег Викторович Вронский,Антон Евгеньевич Усков,Юрий Григорьевич Пугачев. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2008-09-27.

Rotary magnetic recording / reproducing device

Номер патента: JP3074119B2. Автор: 豊 野澤. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2000-08-07.

Rotary magnetic head device

Номер патента: JPS61265719A. Автор: Toshiaki Koga,敏明 古賀,Nobuyoshi Fujimori,信義 藤森. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-11-25.

Method of manufacturing flat inductance coils for source of rotary magnetic field

Номер патента: SU1203597A1. Автор: Владимир Васильевич Костин,Николай Николаевич Усов,Николай Леонидович Прохоров,Борис Дмитриевич Напольских,Юрий Дмитриевич Овечкин. Владелец: Институт Электронных Управляющих Машин. Дата публикации: 1986-01-07.

Rotary magnetic establishes pass and stall protection method by cable

Номер патента: CN103414454B. Автор: 施乐. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-01.

Rotary magnetic separation drum front vibrator

Номер патента: CN212120367U. Автор: 顾龙生. Владелец: Jiangsu Chenlong Resource Recycling Co ltd. Дата публикации: 2020-12-11.

Rotary magnetic recording medium

Номер патента: JPH01146176A. Автор: 和夫 森友,Toshihiko Akeboshi,Tetsuo Kanda,哲夫 神田,俊彦 明星,Kazuo Moritomo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-06-08.

A kind of rotary magnetic platform grinding device

Номер патента: CN208409413U. Автор: 王杰. Владелец: Wuxi Liufang Fine Engineering Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Rotary magnetic far infrared physical therapeutic instrument

Номер патента: CN2772538Y. Автор: 沈英魁,韩玉芝,李素香. Владелец: TIANJIN QIRUI MEDICAL INSTRUMENTS CO Ltd. Дата публикации: 2006-04-19.

Rotary magnetic head device and its production

Номер патента: JPS5320918A. Автор: Koichi Ikata,Kenichi Fujimura,Tetsuo Hino. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-02-25.

Rotary magnetic recording and reproducing device

Номер патента: JPS6273469A. Автор: Tetsuya Mino,三野　哲也. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1987-04-04.

NON-ROTARY MAGNETIC INDUCTION MOTOR

Номер патента: BR9003094A. Автор: Joao Carlos Mauger. Владелец: Joao Carlos Mauger. Дата публикации: 1992-01-07.

Heat massaging rotary magnetic medicine-spraying therapeutic instrument

Номер патента: CN200980768Y. Автор: 钟山,钟理,钟祖荫,文明英,钟值. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-28.

Method for manufacturing a rotor having a flyeheel in an inner rotary magnetic generator

Номер патента: JPS53103507A. Автор: Norikazu Takeuchi. Владелец: NipponDenso Co Ltd. Дата публикации: 1978-09-08.

Rotary magnetic actuators

Номер патента: CA612894A. Автор: J. Buchtenkirch Arthur. Владелец: North Atlantic Industries Inc. Дата публикации: 1961-01-17.

Method for manufacturing lead used for LED lamp panel with combination of ink printing and magnetic sputtering

Номер патента: CN102281718A. Автор: 李华,李强,邓衔翔,花赟. Владелец: FORTUNE (JIANGSU) MULTIMEDIA Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-14.

Method for plating tin oxide film through magnetic sputtering

Номер патента: CN102061443A. Автор: 王海峰,卢长荣,陈永瑞. Владелец: CPTF Optronics Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-18.

Method for plating tin oxide film through magnetic sputtering

Номер патента: CN102061443B. Автор: 王海峰,卢长荣,陈永瑞. Владелец: CPTF Optronics Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-13.

Substrate fixing clamp of magnetic sputtering instrument

Номер патента: CN1955334A. Автор: 王鹏,尹志岗,陈诺夫,杨霏. Владелец: Institute of Semiconductors of CAS. Дата публикации: 2007-05-02.

Fe-Co Based Soft Magnetic Sputtering Target And Material

Номер патента: TWI557758B. Автор: 林致維,黃威智,羅尚賢. Владелец: 光洋應用材料科技股份有限公司. Дата публикации: 2016-11-11.

Magnetic sputtering target for ferro-cobalt alloy with high magnetic flux and producing method thereof

Номер патента: TW201037094A. Автор: Hui-Wen Cheng,Shang-Chieh Hou. Владелец: Solar Applied Mat Tech Corp. Дата публикации: 2010-10-16.

External inspection apparatus and sputtering apparatus for preventing influencing of coating

Номер патента: TW201043717A. Автор: Tai-Yuan Huang,Wei-Chen Lin,Ching-Hua Lai,Chung-Chiung Liu,Ming-Chan Tsai,mu-yuan Wei. Владелец: Uvat Technology Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-16.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and supply leads therefor

Номер патента: AU7414674A. Автор: William Jones David. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1976-04-15.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and supply leads therefor

Номер патента: AU487040B2. Автор: William Jones David. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1976-04-15.

Symmetrical sputtering apparatus

Номер патента: CA779275A. Автор: Kay Eric. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1968-02-27.

반도체소자의 제조용 스퍼터링장치 및 그의 작동방법(a sputtering apparatus for making a semiconductor device and a method of operating the same)

Номер патента: KR970030272A. Автор: 박영호,윤여철. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-06-26.

Compound roller mechanism of sputtering apparatus

Номер патента: TW201226619A. Автор: Zhi-Nan Xie,Ji-Hua Yang,Yu-Jia Gao,Dao-Liang Zhuang,Zheng-Yan Wu. Владелец: Metal Ind Res & Dev Ct. Дата публикации: 2012-07-01.

Sputtering apparatus and carrier thereof

Номер патента: TW200600603A. Автор: Chun-Cheng Huang,Yaw-Wen Lin,Chao-Sheng Yang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-01-01.

Hot spring sputtering apparatus capable of producing anions

Номер патента: TWM306496U. Автор: Guan-Yun Chen. Владелец: Chunghwa Global Biotechnology. Дата публикации: 2007-02-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201033384A. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9004999D0. Автор: . Владелец: D G TEER COATING SERVICES LIMI. Дата публикации: 1990-05-02.

A holding stage used in a sputtering apparatus

Номер патента: TW200848532A. Автор: Shih-Che Chien. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-16.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and cathode elements therefor

Номер патента: AU482170B2. Автор: Burrows Kenneth. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1975-10-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: CA857316A. Автор: Hayakawa Shigeru,Wasa Kiyotaka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1970-12-01.

Ac-excited sputtering apparatus

Номер патента: CA892732A. Автор: Y. Kumagai Henry. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1972-02-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9612737D0. Автор: . Владелец: Teer Coatings Ltd. Дата публикации: 1996-08-21.

Collimator for sputtering apparatus

Номер патента: TWM267462U. Автор: David Tu,Ting-Chang Peng,Yao-Hui Tseng,Li-Ying Kuo. Владелец: Dura Tek Inc. Дата публикации: 2005-06-11.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: GB202409728D0. Автор: . Владелец: BAE SYSTEMS plc. Дата публикации: 2024-08-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9512360D0. Автор: . Владелец: Teer Coatings Ltd. Дата публикации: 1995-08-16.

Magnetron sputtering apparatus and process.

Номер патента: MY103984A. Автор: Russel Austin R,W Seeser James,Ian Seddon Richard,M Lefebvre Paul,W Manley Barry,A Scobey Michael. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1993-10-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB8712108D0. Автор: . Владелец: Teer Coating Services Ltd D G. Дата публикации: 1987-06-24.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: TWM327077U. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-11.

Sputtering apparatus for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask blank for display apparatus, and method for manufacturing mask for display apparatus

Номер патента: JP5975653B2. Автор: 禎一郎 梅澤,石山　雅史,雅史 石山. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120247952A1. Автор: ENDO Tetsuya,Hosoya Hiroyuki. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-10-04.

Method for preventing particle generation in sputtering apparatus, sputtering method, sputtering apparatus, and covering member

Номер патента: JP4099328B2. Автор: 信行 高橋,暁夫 小西. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2008-06-11.

Sputtering apparatus, sputtering method, organic EL light emitting device manufacturing apparatus, and organic EL light emitting device manufacturing method

Номер патента: JP4423589B2. Автор: 浩 木村. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2010-03-03.

Magnetron sputtering apparatus cathode unit and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2023049164A. Автор: 悟 高澤,幸太 河原,Kota Kawahara,利哉 青柳,Toshiya Aoyagi,Satoru Takazawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-04-10.

Target module of sputtering apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: JP2012057247A. Автор: Katsuhide Manabe,勝英 真部. Владелец: IC INOVA JAPAN Inc. Дата публикации: 2012-03-22.

High-power pulse magnetron sputtering apparatus and surface treatment apparatus

Номер патента: TWI381063B. Автор: Der Jun Jan,jin yu Wu,Wen Lung Liung,Ming Jui Tsai,Cheng Chang Hsieh,Shin Wu Wei,Chia Cheng Lee,Chi Fong Ai. Владелец: Iner Aec Executive Yuan. Дата публикации: 2013-01-01.

Reduce the method and magnetron sputtering apparatus of magnetron sputtering apparatus deposition rate

Номер патента: CN105734511B. Автор: 赵可可,边国栋,宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-06.

Alignment substrate, method for manufacturing alignment film substrate, sputtering apparatus and multi-chamber apparatus

Номер патента: JP6201128B2. Автор: 健 木島,祐二 本多,本多　祐二,智幸 荒木,荒木　智幸. Владелец: Youtec Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-27.

SPUTTERING APPARATUS, METHOD OF OPERATING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE USING THE SAME

Номер патента: US20120006266A1. Автор: Lim Tae Hyun,YOO Hwan Kyu,YUN Byung Han. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-12.

MAGNET TRANSPORTATION SYSTEM, SPUTTERING APPARATUS INCLUDING THE SAME AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20120037492A1. Автор: Lee Youn-Goo. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-02-16.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120073960A1. Автор: Ikeda Masayoshi,SHIBUYA Yohsuke,Sago Yasumi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

SPUTTERING APPARATUS HAVING SHIELDING DEVICE

Номер патента: US20120073963A1. Автор: . Владелец: HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-03-29.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120090991A1. Автор: Xie Zhenyu. Владелец: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-04-19.

DOUBLE-LAYER SHUTTER SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120097533A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-04-26.

METHOD OF COATING AN RF DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS USED IN THE SAME

Номер патента: US20120103794A1. Автор: Oh Se-Young,JUNG Myoung-Joon,KIM Myoung-Ho,JUNG Hyun-Yeong. Владелец: ACE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-03.

MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120111724A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-05-10.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120118733A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-17.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120152736A1. Автор: Yamaguchi Nobuo,Matsuo Kazuaki,Akiyama Susumu,Uchino Satoshi,Shimane Yoshimitsu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-21.

MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120160673A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120164354A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120175251A1. Автор: . Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2012-07-12.

DEVICE FOR SUPPORTING A ROTATABLE TARGET AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120193218A1. Автор: SCHNAPPENBERGER Frank,MULTERER Jürgen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-02.

SPUTTERING APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120228122A1. Автор: Minami Takashi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-09-13.

SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120234672A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-09-20.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120325651A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-27.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20130001075A1. Автор: Morimoto Naoki,ISHIDA Masahiko. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130037406A1. Автор: Huh Myung-Soo. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-14.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20130081938A1. Автор: MIZUNO Shigeru,GOMI Atsushi,TOSHIMA Hiroyuki,HATANO Tatsuo,MIZUSAWA Yasushi,Miyashita Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-04.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130105309A1. Автор: MIZUNO Shigeru,TOSHIMA Hiroyuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

IN-LINE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130140172A1. Автор: CHANG CHING-CHOU. Владелец: HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-06.

Rotation Plus Vibration Magnet for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20130213797A1. Автор: Chou You-Hua,Lin Bo-Hung,Tsai Ming-Chih,Kao Chung-En. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-08-22.

Method for preventing particle generation and sputtering apparatus

Номер патента: JPH11269644A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-10-05.

Can monitor in real time chip temperature lifting needle system and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104746035B. Автор: 耿波,张同文,常大磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JPH11302842A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

fabrication method of multi-component thin layer and sputtering apparatus adopting the same

Номер патента: KR101235906B1. Автор: 박성진,유연상,윤능구. Владелец: 주식회사 소로나. Дата публикации: 2013-02-21.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP3585519B2. Автор: 智 池田,孝 小松,久三 中村,淳 太田,賀文 太田,日出明 羽賀. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2004-11-04.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: JP4471767B2. Автор: 市郎 松本. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-06-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5364681A. Автор: Hiroshi Morita. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-06-09.

Manufacturing method of electrochromic dimmer and sputtering apparatus

Номер патента: JP3427430B2. Автор: 順一 永井,哲也 清家. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-14.

Copper thin film manufacturing method and sputtering apparatus used in the method

Номер патента: JP4855455B2. Автор: 靖 樋口,中村　　聡,孝 小松,康宏 田熊,俊光 上東. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-18.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP3269834B2. Автор: 潤一 清水,巧一 鈴木,啓安 小島,すすむ 鈴木. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-02.

Low pressure discharge sputtering apparatus and sputtering control method

Номер патента: JP3934709B2. Автор: 和男 平田. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-06-20.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW201441397A. Автор: Min-Ching Hsu,Pei-Ming Chu. Владелец: Everdisplay Optronics Shanghai Ltd. Дата публикации: 2014-11-01.

magnetron sputtering apparatus and magnetron control method

Номер патента: CN103422065B. Автор: 陈春伟,夏威,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Ecr sputtering apparatus

Номер патента: JPS62167878A. Автор: Eisuke Ueda,上田　映介. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 1987-07-24.

Ion beam sputtering apparatus, ion beam sputtering method, and ion gun

Номер патента: JP4414975B2. Автор: 圭司 西本. Владелец: Japan Aviation Electronics Industry Ltd. Дата публикации: 2010-02-17.

Opposing target type sputtering method and opposing target type sputtering apparatus

Номер патента: JP3106456B2. Автор: 正彦 杉山. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 2000-11-06.

Bias sputtering apparatus

Номер патента: JPS62107064A. Автор: Naokichi Hosokawa,Youichi Hirukawa,Toshio Yokogawa,細川　直吉,肥留川　洋一,横川　敏雄. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1987-05-18.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5503905B2. Автор: 森本　　直樹,弘輝 山本,慎二 小梁. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-05-28.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5069255B2. Автор: 直樹 渡辺,ウィクラマナヤカ スニル. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-11-07.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPH10219442A. Автор: Koji Koizumi,浩治 小泉. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1998-08-18.

Sputtering target and sputtering apparatus, thin film, and electronic component using the same

Номер патента: JP4709358B2. Автор: 隆 中村,高志 渡辺,光一 渡邊,幸伸 鈴木,直美 藤岡,隆 石上,泰郎 高阪,洋一郎 矢部,透 小松. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: JP2013001943A. Автор: Makoto Arai,Shigemitsu Sato,淳也 清田,Junya Kiyota,新井　　真,哲宏 大野,重光 佐藤,敬臣 倉田,Tetsuhiro Ono,Isamu Yokozawa,勇 與五沢,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-01-07.

Side magnet frame and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN105779949B. Автор: 宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-18.

Magnetron sputtering apparatus and process

Номер патента: CN103173730B. Автор: 陈春伟,夏威,王厚工,宗令蓓,窦润江. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Sputtering apparatus, film forming method

Номер патента: JP4789535B2. Автор: 悟 高澤,暁 石橋,禎之 浮島,日出夫 竹井. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-10-12.

Dual magnetron sputtering apparatus and thin film body manufacturing method

Номер патента: JP4873681B2. Автор: 雅之 亀井. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2012-02-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: CA870763A. Автор: M. Moseson Roger. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1971-05-11.

Sputter deposition method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP4161642B2. Автор: 栄治 志堂寺,安彦 赤尾,淳一 陰山. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-08.

Magnetron sputtering method, magnetron sputtering apparatus and magnet unit used therefor

Номер патента: JP3834111B2. Автор: 政秀 横山,賢治 丸山. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-10-18.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: JP5180796B2. Автор: 克尚 加茂. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2013-04-10.

Sputtering apparatus and state determination method thereof

Номер патента: JP6035002B1. Автор: 佳詞 藤井,真也 中村,藤井　佳詞,中村　真也. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2016-11-30.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: JP6569900B2. Автор: 嗣紀 佐藤,謙治 圓山,勝 園部,健志 高井,園部　　勝. Владелец: Nachi Fujikoshi Corp. Дата публикации: 2019-09-04.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2746695B2. Автор: 謙一 久保. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1998-05-06.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200831689A. Автор: Shih-Chieh Yen. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-01.

Ion beam vacuum sputtering apparatus and method

Номер патента: GB9922110D0. Автор: . Владелец: Nordiko Ltd. Дата публикации: 1999-11-17.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.