Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Sputtering target producing few particles, backing plate or sputtering apparatus and sputtering method producing few particles

Sputtering target producing few particles, backing plate or sputtering apparatus and sputtering method producing few particles

Номер патента: WO2002040733A1
Опубликовано: 23-05-2002
Автор(ы): Hirohito Miyashita, Takeo Okabe, Yasuhiro Yamakoshi
Принадлежит: Nikko Materials Company, Limited
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US11404255B2. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US20210082675A1. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Target/backing plate assemblies

Номер патента: EP1352104A2. Автор: Mathew S. Cooper,Ron D. Kohler. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-10-15.

Target/backing plate assemblies

Номер патента: WO2002061167A2. Автор: Mathew S. Cooper,Ron D. Kohler. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-08-08.

Sputtering target and semiconductor device manufactured using the same

Номер патента: US20100283154A1. Автор: Yu-Gyun Shin,Hee-sook Park,Su-kyoung Kim,Taek-Jung Kim,Sun-Ghil Lee,Jong-min Back. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-11.

Divided sputtering target and method for producing same

Номер патента: CN102712997B. Автор: 渡边广幸,久保田高史. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-19.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09812302B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2017-11-07.

Sputtering target

Номер патента: US09437486B2. Автор: Takashi Watanabe,Koichi Watanabe,Takashi Ishigami,Yukinobu Suzuki,Yasuo Kohsaka,Naomi Fujioka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Sputtering target and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20240084441A1. Автор: Hyuneok Shin,Joonyong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Method of fabricating sputtering target, sputtering target using the method, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the sputtering target

Номер патента: US09598764B2. Автор: Jin-woo Park,Dong-Jin Kim,Sun-young Jung,Il-sang Lee,Sang-Wook Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Sputtering target

Номер патента: US20120298506A1. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Ronald G. Jordan,Yongwen Yuan. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2012-11-29.

Sputtering target

Номер патента: US20210371970A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-12-02.

Planar sputtering target

Номер патента: EP3861566A2. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-08-11.

Planar sputtering target

Номер патента: WO2020070324A3. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2020-07-16.

Sputtering target

Номер патента: WO2020070324A2. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings bvba. Дата публикации: 2020-04-09.

Quick change sputter target assembly

Номер патента: US4820397A. Автор: Kenneth B. Fielder,Robert L. Belli,Conrad E. Fuchs. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1989-04-11.

Sputtering Target Including a Feature to Reduce Chalcogen Build Up and Arcing on a Backing Tube

Номер патента: US20130337602A1. Автор: Mark Campello,Robert Martinson,Heinrich Von Bunau,Johannes Vlcek,Ron Rulkens,Tom Heckel. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2013-12-19.

Sputtering target, method for manufacturing the same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09865696B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Piezoelectric ceramic sputtering target, lead-free piezoelectric thin film and piezoelectric thin film element using the same

Номер патента: US20170288128A1. Автор: Masahito Furukawa,Masaru Nanao,Kenta Ishii,Tomohisa Azuma,Tatsuji Sano. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Method of fabricating a sputtering target, sputtering target fabricated by using the method, and an organic light-emitting display apparatus fabricated using the sputtering target

Номер патента: US20150014652A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Su-Hyuk Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Electrode structure of rear electrode of semiconductor substrate, method of its obtaining and sputtered target for use in production of electrode structure

Номер патента: RU2718134C1. Автор: Тецуя КАТО,Йохей МИЗУНО,Тихару ИСИКУРА. Владелец: Танака Кикинзоку Когио К.К.. Дата публикации: 2020-03-30.

Method for using sputtering target and method for manufacturing oxide film

Номер патента: WO2014002916A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-01-03.

Cylindrical sputtering target material

Номер патента: US09748079B2. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Thin-film transistor and zinc oxide-based sputtering target for the same

Номер патента: US20140001469A1. Автор: Do-Hyun Kim,Jaewoo Park,Yoon Gyu Lee,Dongjo Kim,Yongjin Lee,Juok Park,Woo-Seok Jeon,Sangwon Yoon,Insung Sohn,Gunhyo Lee. Владелец: Samsung Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-02.

Thin-film transistor and zinc oxide-based sputtering target for the same

Номер патента: US9035297B2. Автор: Do-Hyun Kim,Jaewoo Park,Yoon Gyu Lee,Dongjo Kim,Yongjin Lee,Juok Park,Woo-Seok Jeon,Sangwon Yoon,Insung Sohn,Gunhyo Lee. Владелец: Samsung Corning Advanced Glass LLC. Дата публикации: 2015-05-19.

Highly purified titanium material and its named article, a sputtering target

Номер патента: US5204057A. Автор: Noriaki Yagi,Takashi Ishigami,Mituo Kawai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1993-04-20.

Cylindrical sputtering target material

Номер патента: US20160203959A1. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-07-14.

Magnetron sputtering device, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20180277344A1. Автор: LEI XIAO,Jianhua Du,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Sputtering target assembly to prevent overetch of backing plate and methods of using the same

Номер патента: US20220351953A1. Автор: Ming-Jie He,Wen-Cheng Cheng,Chen-Fang Chung,Po Wen Yang,Yan-Zi Lu,Cheng-Yi Teng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: EP4398283A2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: AU2018391532B2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Sputtering target, method of bonding target material and backing plate, and method of manufacturing sputtering target

Номер патента: US12051577B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US09779920B2. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4569745A. Автор: Setsuo Nagashima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-02-11.

Sputtering target product and method for producing recycled sputtering target product

Номер патента: US12054822B2. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Diffusion-bonded sputter target assembly and method of manufacturing

Номер патента: US09546418B2. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Robert S. Bailey,Jeff Hart,Erich Theado. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240258088A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Polycrystalline Silicon Sputtering Target

Номер патента: US20150001069A1. Автор: Ryo Suzuki,Hiroshi Takamura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Polycrystalline silicon sputtering target

Номер патента: US09982334B2. Автор: Ryo Suzuki,Hiroshi Takamura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09410236B2. Автор: Wen-Tsai Yen,Shih-Wei Chen,Chung-Hsien Wu,Ying-Hsin WU,Jui-Fu HSUEH,Kuan-Chu CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Sputtering target, sputtering target-backing plate assembly and deposition system

Номер патента: US09685307B2. Автор: Hirohito Miyashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Sputter target and sputtering methods

Номер патента: US09831072B2. Автор: Robert T. Rozbicki,Ronald M. Parker. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Copper or copper alloy target/copper alloy backing plate assembly

Номер патента: US09472383B2. Автор: Hirohito Miyashita,Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Large area elastomer bonded sputtering target and method for manufacturing

Номер патента: WO2006132916A8. Автор: Thomas r stevenson,Wayne R Simpson,Ryan A Scatena. Владелец: Thermal Conductive Bonding Inc. Дата публикации: 2008-03-27.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A2. Автор: LIN ZHU,Charles E. Wickersham, Jr.,John E. Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-01-21.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A4. Автор: LIN ZHU,Charles E Wickersham Jr,John E Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2008-04-09.

Sputtering apparatus including target mounting and control

Номер патента: US09738967B2. Автор: Jeffrey L Kokoschke,Dennis M Brabender. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210082674A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333745A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20180019108A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-18.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20200294778A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-17.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210351022A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210005438A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Sputtering Target Product And Method For Producing Recycled Sputtering Target Product

Номер патента: US20220098723A1. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2022-03-31.

Sputtering Target Product And Method For Producing Recycled Sputtering Target Product

Номер патента: US20230132362A9. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-04-27.

Diffusion-bonded sputtering target assembly and method of manufacturing

Номер патента: WO2012112376A1. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Robert S. Bailey,Jeff Hart,Erich Theado. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2012-08-23.

Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support

Номер патента: SG195563A1. Автор: Oliver Heimel,Lothar Lippert. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-12-30.

Niobium sputtering target

Номер патента: US12020916B2. Автор: Yuki Yamada,Kotaro Nagatsu. Владелец: Jx Metals Corpo Tion. Дата публикации: 2024-06-25.

Design for sputter targets to reduce defects in refractory metal films

Номер патента: US5271817A. Автор: Hunter B. Brugge,Kin-Sang Lam. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-12-21.

Sputtering target backing plate assembly and film deposition system

Номер патента: EP2236644A2. Автор: Hirohito Miyashita. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-06.

Warp correction method for sputtering target with backing plate

Номер патента: US20160211124A1. Автор: Masahiro Aono,Osamu Itoh,Takamichi Yamamoto,Takuya Nagashima. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-07-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20230035198A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US11978615B2. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Monolithic sputtering target assembly

Номер патента: WO2004009866A3. Автор: Christopher A Michaluk,Robert B Ford. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2004-03-25.

Monocrystalline silicon sputtering target

Номер патента: US20180226236A1. Автор: Hiroshi Takamura,Shuhei Murata,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-08-09.

High purity sulfur-doped copper sputtering target assembly and method for producing same

Номер патента: US20230260769A1. Автор: Eduardo Del-Rio Perez,Harrison Collin Whitt. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Planar or tubular sputtering target and method for the production thereof

Номер патента: US8974707B2. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Uwe Konietzka,Sabine Schneider-Betz,Lars Ebel,Ben Kahle. Владелец: Heraeus Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2015-03-10.

Sputtering target

Номер патента: US20240133022A1. Автор: Stephan Bolz,Werner Kölker,Oliver Lemmer,Jürgen Balzereit. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

Номер патента: EP4404238A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Magnetically attached sputter targets

Номер патента: US5286361A. Автор: Daniel M. Makowiecki,Mark A. McKernan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1994-02-15.

Sputtering apparatus with rotatable sputtering target

Номер патента: US20110174612A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Sputtering target

Номер патента: US20240229224A9. Автор: Stephan Bolz,Werner Kölker,Oliver Lemmer,Jürgen Balzereit. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2024-07-11.

Partial spray refurbishment of sputtering targets

Номер патента: US09976212B2. Автор: Steven A. Miller. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Tantalum sputtering target and production method therefor

Номер патента: US09859104B2. Автор: Shinichiro Senda,Kotaro Nagatsu. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Lithium containing composite metallic sputtering targets

Номер патента: US09765426B1. Автор: Lizhong Sun,Chong JIANG,Jan Isidorsson,Byung-Sung Leo Kwak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Conical-frustum sputtering target and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4747926A. Автор: Shigeru Kobayashi,Tamotsu Shimizu,Takeshi Oyamada,Hikaru Nishijima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-05-31.

ITO ceramic sputtering targets with reduced In2O3 contents and method of producing it

Номер патента: US09885109B2. Автор: Eugène MEDVEDOVSKI,Olga Yankov,Christopher Szepesi. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2018-02-06.

Zinc oxide sputtering target

Номер патента: US09824869B2. Автор: Tsutomu Nanataki,Jun Yoshikawa,Hirofumi Yamaguchi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US09824868B2. Автор: Eiji Kusano,Ken Okamoto,Tadahisa Arahori,Muneaki Sakamoto,Akishige Sato,Sachio Miyashita. Владелец: Ferrotec Ceramics Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Tungsten sintered compact sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09812301B2. Автор: Takeo Okabe,Kazumasa Ohashi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Magnetic material sputtering target and manufacturing method for same

Номер патента: US09761422B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Target assemblies, targets backing plates, and methods of target cooling

Номер патента: EP1877597A2. Автор: Stephane Ferrasse,Werner H. Hort,Frank Alford,Scott R. Sayles,Stuart D. Wright,Andrew N. A. Wragg,Vince Speziale,Harold A. Detlaff. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2008-01-16.

Sputtering target

Номер патента: US20180286646A1. Автор: Toshiaki Kuroda,Mikio Takigawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Sputtering target

Номер патента: US11862443B2. Автор: Toshiaki Kuroda,Mikio Takigawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Sputtering target

Номер патента: US20180144912A1. Автор: Yasuhiro Yamakoshi,Kotaro Nagatsu,Shuhei Murata. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4012746A9. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-08-10.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4012746A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-06-15.

Sputtering target

Номер патента: US20240337008A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Igzo sputtering target

Номер патента: US20240344193A1. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Indium sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US09758860B2. Автор: Yousuke Endo,Masaru Sakamoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

High-purity copper or high-purity copper alloy sputtering target, process for manufacturing the sputtering target, and high-purity copper or high-purity copper alloy sputtered film

Номер патента: US09441289B2. Автор: Atsushi Fukushima,Susumu Shimamoto,Yuichiro Shindo. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Cylindrical sputtering apparatus

Номер патента: WO2006091943A3. Автор: Xingwu Wang. Владелец: Nanoset LLC. Дата публикации: 2006-12-21.

Sputtering cathode, sputtering cathode assembly, and sputtering device

Номер патента: EP4246552A2. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Sputtering cathode, sputtering cathode assembly, and sputtering device

Номер патента: EP4246552A3. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Sputtering-target material, sputtering target, sputtering-target aluminum plate, and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200199739A1. Автор: Masahiro Fujita,Hiroki Takeda. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Sputtering target

Номер патента: EP4403668A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240263296A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Ferromagnetic material sputtering target containing chromium oxide

Номер патента: US09773653B2. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Methods of bonding targets to backing plate members using gallium based solder pastes and target/backing plate assemblies bonded thereby

Номер патента: US5653856A. Автор: Eugene Y. Ivanov,Tatyana F. Grigoriva,Vladimir V. Boldyrev. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

High utilization sputtering target for cathode assembly

Номер патента: US5490914A. Автор: Steven Hurwitt,Corey Weiss. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-02-13.

Method of diffusion-bond powder metallurgy sputtering target

Номер патента: EP2111478A2. Автор: Darryl Draper,Chi-Fung Lo. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2009-10-28.

Sputtering cathode, sputtering cathode assembly, and sputtering device

Номер патента: EP3786312A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Sputtering cathode assembly and sputtering device

Номер патента: EP4123049A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-25.

Segmented sputtering target and method/apparatus for using same

Номер патента: WO2004092438B1. Автор: Hong Wang,Thomas A Seder. Владелец: Thomas A Seder. Дата публикации: 2005-01-27.

Backing plate, sputtering target, and production methods therefor

Номер патента: US20220013342A1. Автор: Koji Nishioka,Naoya Satoh. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Sputtering target with a partially enclosed vault

Номер патента: US20030173215A1. Автор: Wei Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-09-18.

Complex oxide sintered body, sputtering target, transparent conductive oxide film, and method for producing same

Номер патента: US20140332735A1. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Kimiaki Tamano,Hitoshi Ilgusa. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2014-11-13.

Backing plate, sputtering target, and production methods therefor

Номер патента: US12057302B2. Автор: Koji Nishioka,Naoya Satoh. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Ring-type sputtering target

Номер патента: EP1402081A1. Автор: Daniel R. Marx,Rajan Mathew,Alfred Snowman,Charles R. Fisher. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-31.

Cathodic sputtering target including means for detecting target piercing

Номер патента: US4374722A. Автор: Bogdan Zega. Владелец: Battelle Development Corp. Дата публикации: 1983-02-22.

Sputtering Target And Method For Manufacturing A Sputtering Target

Номер патента: US20210301389A1. Автор: Jun Kajiyama. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Segmented sputtering target and method/apparatus for using same

Номер патента: WO2004092438A1. Автор: Hong Wang,Thomas A. Seder. Владелец: Guardian Industries Corp.. Дата публикации: 2004-10-28.

Sputtering target, magnetic film and method for producing magnetic film

Номер патента: US20210172055A1. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Akira Shimojyuku. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Manufacture and refill of sputtering targets

Номер патента: EP4182285A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Jeffrey Dieter Edel,Jai Shankar Subramanian,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2023-05-24.

Al-sc alloys and sputtering targets and processes for consolidating

Номер патента: WO2024220750A1. Автор: Qi Zeng,Jens Wagner,Katharine S. Gardinier,David Peter VANHEERDEN. Владелец: MATERION CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-24.

Process and apparatus for the manufacture of sputtering targets

Номер патента: CA2556786C. Автор: Maher I. Boulos,Jerzy W. Jurewicz. Владелец: Tekna Plasma Systems Inc. Дата публикации: 2012-07-24.

Sputter target design

Номер патента: US5009765A. Автор: Sohail S. Qamar,Harry W. Conard,Lowell E. Hamilton. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1991-04-23.

Conical sputtering target

Номер патента: WO2002040736B1. Автор: David A Glocker. Владелец: David A Glocker. Дата публикации: 2002-09-12.

Sputtering target and method for manufacturing a sputtering target

Номер патента: US11851748B2. Автор: Jun Kajiyama. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Conical sputtering target

Номер патента: EP1252357A1. Автор: David A. Glocker. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-30.

Extended life sputter targets

Номер патента: EP1087033A8. Автор: David Strauss,Jean Pierre Blanchet. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-27.

Highly homogeneous glass sputter targets with large aspect ratio and high relative density for physical vapor deposition

Номер патента: EP4363384A1. Автор: Yoshio Okano,William Preston,James Marro,Azatuhi AYRIKYAN. Владелец: Schott Japan Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Nisi sputtering target with improved grain structure

Номер патента: WO2020260094A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-12-30.

Nisi sputtering target with improved grain structure

Номер патента: EP3757248A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-12-30.

Low carbon defect copper-manganese sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US20230287559A1. Автор: Eduardo del Rio Perez,Erich Walter Theado,Lora Birkefeld Thrun. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Methods for surface preparation of sputtering target

Номер патента: US20160333461A1. Автор: Longzhou Ma,Xingbo Yang,Matthew J. KOMERTZ,Arthur V. TESTANERO,Dejan Stojakovic. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Titanium Sputtering Target, Production Method Therefor, And Method For Producing Titanium-Containing Thin Film

Номер патента: US20200240005A1. Автор: Shuhei Murata,Daiki Shono. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

Cylindrical sputtering target, cylindrical compact, manufacturing method of cylindrical sputtering target, and manufacturing method of cylindrical sintered compact

Номер патента: US09834839B2. Автор: Yohei Yamaguchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Method of enhancing the performance of a magnetron sputtering target

Номер патента: CA2089645C. Автор: Steven D. Hurwitt,Arnold J. Aronson,Charles Van Nutt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1998-05-05.

Sputtering target

Номер патента: US10480061B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-19.

Partial spray refurbishment of sputtering targets

Номер патента: US11739416B2. Автор: Steven A. Miller. Владелец: HC Starck Solutions Euclid LLC. Дата публикации: 2023-08-29.

Copper-based alloy sputtering target and method for making the same

Номер патента: US20230082145A1. Автор: Tsung-Hsien Hsieh,Shou-Hsien Lin,Yu-An YE. Владелец: Solar Applied Material Technology Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Sputtering target

Номер патента: US20180327896A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-15.

Thin film forming apparatus and method

Номер патента: US20240112897A1. Автор: Sun Il Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Oxide sintered body, method for producing same and sputtering target

Номер патента: US20190016638A1. Автор: Kenichi Itoh,Shinichi Hara,Hiroyuki Hara. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Diffusion bonded high purity copper sputtering target assemblies

Номер патента: US09761420B2. Автор: Paul Gilman,Jaydeep Sarkar. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Quick change sputter target assembly

Номер патента: US5147521A. Автор: Kenneth B. Fielder,Robert L. Belli,Conrad E. Fuchs,Martin L. Blazic,Rick O. Eller. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1992-09-15.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US5435965A. Автор: Jun Tamura,Munenori Mashima. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 1995-07-25.

Sputtering targets and associated sputtering methods for forming hermetic barrier layers

Номер патента: WO2013138434A1. Автор: Bruce G Aitken,Mark A Quesada,Shari E Koval. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2013-09-19.

Oxide sintered body, method for producing same and sputtering target

Номер патента: US10669208B2. Автор: Kenichi Itoh,Shinichi Hara,Hiroyuki Hara. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2020-06-02.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US12112929B2. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

(Ga) Zn Sn oxide sputtering target

Номер патента: US9758856B2. Автор: Wilmert De Bosscher,Jorg OBERSTE BERGHAUS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2017-09-12.

Highly homogeneous glass sputter targets with large aspect ratio and high relative density for physical vapor deposition

Номер патента: US20240133023A1. Автор: Yoshio Okano,William Preston,James Marro,Azatuhi AYRIKYAN. Владелец: Schott Japan Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Magnesium oxide sputtering target

Номер патента: EP3839090A1. Автор: Yoshitaka Shibuya,Satoyasu Narita,Hiroki Kajita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-06-23.

Copper alloy sputtering target

Номер патента: US09518320B2. Автор: Toshio Sakamoto,Satoru Mori,Kiyoyuki Ookubo. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Method and apparatus for detecting sputtering target depletion

Номер патента: US4545882A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1985-10-08.

Advanced sputter targets for ion generation

Номер патента: US11542594B2. Автор: Klaus Becker,Graham Wright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-01-03.

Cobalt sputtering target

Номер патента: US11830711B2. Автор: Kunihiro Oda,Takayuki Asano. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Sputtering target, magnetic film and method for producing magnetic film

Номер патента: US11821076B2. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Akira Shimojyuku. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Sputtering target and method for making the same

Номер патента: US20160326633A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-10.

Sputtering target and method for making the same

Номер патента: US10077496B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

Nisi Sputtering Target With Improved Grain Structure

Номер патента: MY195195A. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: Materion Advanced Mat Germany Gmbh. Дата публикации: 2023-01-11.

NiW(X) Sputtering Target with Improved Structure

Номер патента: US20210156023A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Niw(x) sputtering target with improved structure

Номер патента: EP3825427A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2021-05-26.

Zirconium oxide based sputtering target

Номер патента: US20180155820A1. Автор: Markus Schultheis,Christoph Simons,Andreas HERZOG,Anna Schott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2018-06-07.

Zirconium oxide based sputtering target

Номер патента: WO2017108271A1. Автор: Markus Schultheis,Christoph Simons,Andreas HERZOG,Anna Schott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2017-06-29.

Modular sputtering target with precious metal insert and skirt

Номер патента: EP4359584A1. Автор: Chen Wang,Matthew Fisher,James GUERRERO. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Modular sputtering target with precious metal insert and skirt

Номер патента: WO2022272045A1. Автор: Chen Wang,Matthew Fisher,James GUERRERO. Владелец: MATERION CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-29.

Sputtering target

Номер патента: US11821077B2. Автор: Constantin Virgil SOLOMON,Christopher Yaw BANSAH,Tom Nelson Oder. Владелец: Youngstown State University. Дата публикации: 2023-11-21.

Method of making high purity copper sputtering targets

Номер патента: US5803342A. Автор: Janine K. Kardokus. Владелец: Johnson Matthey Electronics Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Sputtering target

Номер патента: US20160376696A1. Автор: Yukio Kawaguchi,Minoru Iino,Kenichi Kiuchi. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Sputtering apparatus, target and shield

Номер патента: US09502223B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

RF sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09960018B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09449800B2. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Sputtering apparatus and method of thin film formation

Номер патента: US20100078313A1. Автор: Katsuya Yoshioka,Toshinobu Chiba. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Film forming unit for sputtering apparatus

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Shuuji Saitou. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Sputtering apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09997339B2. Автор: Eiji Nakamura,Shin Imai,Yasushi Yasumatsu,Hiroyuki Toya,Shigenori Ishihara,Shintaro Suda,Yuu Fujimoto,Toshikazu Nakazawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US10840071B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-11-17.

Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates

Номер патента: US20240150886A1. Автор: Patrick A. Ward,John T. Bobbitt, Iii,Zachary Duca. Владелец: Battelle Savannah River Alliance LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Multi-rod type magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4879017A. Автор: Hee-Yong Lee. Владелец: Dae Ryung Vacuum Co Ltd. Дата публикации: 1989-11-07.

Sputtering apparatus and target changing device thereof

Номер патента: US20180209036A1. Автор: CAN Wang,Xiaolong He,Jianhua Du,Xuefei Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Sputtering apparatus and method of forming film

Номер патента: US11230760B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-01-25.

Sputtering apparatus and cvd mask coating method using the same

Номер патента: US20230220533A1. Автор: Sungmin Hur. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09715997B2. Автор: Seung-Ho Choi,Dae-Sang Yoon,Young-Bun Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for connecting magnetic substance target to backing plate, and magnetic substance target

Номер патента: US09653270B2. Автор: Yasuhiro Yamakoshi,Kenichi Mogaki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US09644260B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-09.

Sputtering apparatus and film formation method

Номер патента: EP4397782A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Joined Body of Target Material and Backing Plate, and Method for Producing Joined Body of Target Material and Backing Plate

Номер патента: US20210172057A1. Автор: Yuki Yamada,Kotaro Nagatsu. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Apparatus and method for making sputtered films with reduced stress asymmetry

Номер патента: US09567666B2. Автор: Alexey Krasnov,Willem den Boer,R. Glenn Stinson. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Sputtering apparatus and method of preventing damage thereof

Номер патента: US20110013108A1. Автор: Jaehoon Choi,Junhyung Park,Sanghyo Park,Jaekwang Kim,Seunglyul Lee,Jinhee Yun,Munik Na,Kyoungshik Kim,Kagkyu Jung. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Assemblies comprising molybdenum and aluminum; and methods of utilizing interlayers in forming target/backing plate assemblies

Номер патента: WO2002088417A1. Автор: Diana Morales,Josh W. Misner,Jeff A. Keller. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-11-07.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20090159429A1. Автор: Naoki Tsukamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-06-25.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US11901166B2. Автор: Yusuke Kikuchi,Tetsuya Miyashita,Kanto Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Method for manufacturing half-metallic magnetic oxide and plasma sputtering apparatus used in the same

Номер патента: US20030070914A1. Автор: Jin Hong,CHANG Lee,Sung Lee,Chae Kim,Kap Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Al-based alloy sputtering target and Cu-based alloy sputtering target

Номер патента: US09551065B2. Автор: Junichi Nakai,Toshiaki Takagi,Katsushi Matsumoto. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Copper alloy sputtering target and method for manufacturing the target

Номер патента: US09896745B2. Автор: Hirohito Miyashita,Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Zinc oxide based sputtering target, method for manufacturing zinc oxide based sputtering target, zinc oxide based transparent electrically conductive film, method for manufacturing zinc oxide based transparent electrically conductive film, and electronic apparatus

Номер патента: US20100123103A1. Автор: Takahiro Nagata,Toshitaka Kawashima,Shina Kirita,Yuichi Kamori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-05-20.

Copper alloy sputtering target, process for producing the same and semiconductor element wiring

Номер патента: US09765425B2. Автор: Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Ferromagnetic material sputtering target

Номер патента: MY161157A. Автор: Yuki Ikeda,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2017-04-14.

Thin film transistor having a barrier layer as a constituting layer and Cu-alloy sputtering target used for sputter film formation of the barrier layer

Номер патента: US8658009B2. Автор: Satoru Mori,Kenichi Yaguchi,Kazunari Maki,Yosuke Nakasato. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-02-25.

Aluminum sputtering target

Номер патента: US20180223416A1. Автор: Hiromi Matsumura. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Method of forming a sputtering target

Номер патента: US20200332411A1. Автор: Marina Zelner,Andrew Vladimir Claude Cervin. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Cu-Mn Alloy Sputtering Target and Semiconductor Wiring

Номер патента: US20100013096A1. Автор: Shuichi Irumata,Chisaka Miyata. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Methods for manufacturing zinc oxide base sputtering target and transparent electrically conductive film

Номер патента: US8182722B2. Автор: Takahiro Nagata,Toshitaka Kawashima,Shina Kirita,Yuichi Kamori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-05-22.

Highly pure lanthanum, sputtering target comprising highly pure lanthanum, and metal gate film mainly composed of highly pure lanthanum

Номер патента: AU2008344685B2. Автор: Masahiro Takahata,Yuichiro Shindo,Gaku Kanou. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-09-27.

Sputtering method using sputtering device

Номер патента: US09982337B2. Автор: Jai Chun Lee. Владелец: Hydis Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Sputtering sources for high-pressure sputtering with large targets and sputtering method

Номер патента: US09481928B2. Автор: Mikhail Faley,Ulrich Poppe. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH. Дата публикации: 2016-11-01.

Apparatus and method for pretreating and coating bodies

Номер патента: US09812299B2. Автор: Rainer Cremer,Walter May. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2017-11-07.

Oxide semiconductor sputtering target and method of fabricating thin-film transistor using same

Номер патента: US12119225B2. Автор: Shinhyuk Kang,Jeonghyun Moon,Kangmin Ok. Владелец: KV Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Apparatus and method for epitaxial sputter deposition of multi-compound magnetic epilayers with high deposition rate

Номер патента: EP1386019A1. Автор: Roman Chistyakov. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2004-02-04.

Sputter deposition apparatus and method

Номер патента: GB2599392A. Автор: Gauter Sven. Владелец: Dyson Technology Ltd. Дата публикации: 2022-04-06.

Sputtering target for insulating oxide film, method for forming insulating oxide film, and method for producing field-effect transistor

Номер патента: US20200176588A1. Автор: Shinji Matsumoto,Yuki Nakamura,Yuji Sone,Yukiko Abe,Naoyuki Ueda,Ryoichi SAOTOME,Minehide KUSAYANAGI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-06-04.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09574265B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Sputter deposition apparatus and method

Номер патента: GB2599391A. Автор: Michael Carley Sean. Владелец: Dyson Technology Ltd. Дата публикации: 2022-04-06.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US8221594B2. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-07-17.

Sputtering apparatus and magnet unit

Номер патента: US09761423B2. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09558921B2. Автор: Jong Yun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US11842883B2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A3. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11705315B2. Автор: Hiroyuki Toshima,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: US20140246313A1. Автор: Mark R. Erickson,Ady Hershcovitch,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09941415B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2018-04-10.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09732004B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-08-15.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09688580B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-06-27.

Sputtering target

Номер патента: US20200385853A1. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita,Hiroyuki Tsukada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-10.

Tungsten Sputtering Target And Method For Producing Same

Номер патента: US20170211176A1. Автор: Kunihiro Oda,Kazumasa Ohashi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Said Target

Номер патента: US20150303040A1. Автор: Kazumasa Ohashi,Kengo Kaminaga. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Passivation layer for forming semiconductor bonding structure, sputtering target making the same, semiconductor bonding structure and semiconductor bonding process

Номер патента: US20240145421A1. Автор: Kuan-Neng Chen,Chih-Han Chen,Hong-Yi Wu,Ying-Chan HUNG,Cheng-Yen Hsieh,Zhong-Jie HONG,Chih-I CHO,Ming-Wei WENG,Chiao-Yen WANG. Владелец: Solar Applied Material Technology Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Sputtering target material and oxide semiconductor

Номер патента: US20230307549A1. Автор: Shigeki Tokuchi,Kyosuke Teramura,Ryo SHIRANITA. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Sputtering target and method for forming sputtering target

Номер патента: US20240002998A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Yuichi Sato,Fumito Isaka,Toshikazu OHNO. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20240141477A1. Автор: Hiroyoshi Yamamoto,Atsushi Nara. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Tantalum sputtering target

Номер патента: US20070023281A1. Автор: Kunihiro Oda. Владелец: Nikko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Sputter targets for self-doped source and drain contacts

Номер патента: US20240186127A1. Автор: Gilbert Dewey,Jack T. Kavalieros,Matthew V. Metz,Aaron A. Budrevich,Ilya V. Karpov,Dan S. Lavric. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Method for forming sputtering target

Номер патента: US09885108B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US09543444B2. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Oxide sputtering target, thin film transistor using the same, and method for manufacturing thin film transistor

Номер патента: US09484200B2. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Takayuki Fukasawa. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Zinc oxide sintered compact, sputtering target, and zinc oxide thin film

Номер патента: US09396830B2. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Kenji Omi,Hitoshi Iigusa,Masami Mesuda. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Sputtering target

Номер патента: US09767998B2. Автор: Shigeo Matsuzaki,Shigekazu Tomai,Yuki Tsuruma,Kazuaki Ebata. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Sputtering target, oxide semiconductor, oxynitride semiconductor, and transistor

Номер патента: US20170352763A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering target, oxide semiconductor, oxynitride semiconductor, and transistor

Номер патента: US20200013894A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

High strength sputtering target for forming phosphor film in electroluminescence element

Номер патента: CA2607620C. Автор: Akifumi Mishima,Shoubin Zhang,Shozo Komiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2011-07-12.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US20170092773A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US20150255611A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-10.

Back plate

Номер патента: US20220285622A1. Автор: Fei Sun,Weili Li,Wenxing Li,Shuijun Wang,Xiaogang XIN,Dingcheng ZHANG,Botao FAN. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Few-particle-induced low-pressure teos process

Номер патента: US20020058398A1. Автор: Yi Chung,Ching-Cheng Hsieh,Pei-Feng Sun,Jen Chang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2002-05-16.

Discontinuous high-modulus fiber metal matrix composite for physical vapor deposition target backing plates and other thermal management applications

Номер патента: US20020096428A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140353150A1. Автор: Jae-Bum Park,Bo-Hwan Park,Eui-Jung Kang. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Backing plate-integrated metal sputtering target and method of producing same

Номер патента: US09711336B2. Автор: Shiro Tsukamoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Sputtering target, method for manufacturing sputtering target, and method for forming thin film

Номер патента: US20240254616A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Tetsunori Maruyama,Masahiro Watanabe,Hitomi Sato,Yuki Imoto,Kenichi Okazaki,Takashi Shimazu,Motoki Nakashima,Mitsuo Mashiyama. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Electronic device, manufacturing method of electronic device, and sputtering target

Номер патента: US09640668B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Magnetic material sputtering target and method for producing same

Номер патента: US20160237552A1. Автор: Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-08-18.

Large-grain tin sputtering target

Номер патента: US20210050194A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Marc D. Ruggiero,Patrick K. Underwood,Susan D. Strothers. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Sputtering Target and Manufacturing Method Therefor

Номер патента: US20230349035A1. Автор: Tomio Otsuki,Yasushi Moril. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Sputtering target for magnetic recording film, and process for producing same

Номер патента: US09567665B2. Автор: Atsushi Nara,Hideo Takami,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Cu-ga alloy sputtering target, and method for producing same

Номер патента: US20160208376A1. Автор: Satoru Mori,Yuuki Yoshida,Kouichi Ishiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-07-21.

Sputtering target, method of fabricating the same, and method of fabricating an organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09416439B2. Автор: Jin-woo Park,Dong-Jin Kim,Sun-young Jung,Sang-Wook Sin,Il-sang Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Methods of forming sputtering targets

Номер патента: US8197894B2. Автор: Stefan Zimmermann,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2012-06-12.

CoZrTa(X) Sputtering Target with Improved Magnetic Properties

Номер патента: US20240018645A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: WO2022122525A3. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-08-11.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4260358A2. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2023-10-18.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: WO2022122525A2. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-06-16.

Pump baffle design for integrated pump and sputter source

Номер патента: WO2011094060A3. Автор: Philip Arnold Greene,Daniel Joseph Zehm. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-09-29.

Gold sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US11795540B2. Автор: Tetsuya Kato,Masahiro Takahashi,Takashi Terui. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2023-10-24.

Electronic device, manufacturing method of electronic device, and sputtering target

Номер патента: US20150041808A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-12.

Fine grained, non banded, refractory metal sputtering targets with a uniformly random crystallographic orientation, method for making such film, and thin film based devices and products made therefrom

Номер патента: US09783882B2. Автор: Stefan Zimmermann,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Gold sputtering target

Номер патента: US11817299B2. Автор: Tetsuya Kato,Chiharu Ishikura,Yohei Mizuno. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2023-11-14.

SPUTTERING TARGETS AND DEVICES INCLUDING Mo, Nb, AND Ta, AND METHODS

Номер патента: WO2016115026A9. Автор: Qi Zhang,Shuwei Sun,Gary Alan Rozak,Barbara Cox,Yen-Te Lee. Владелец: H.C. Starck Inc.. Дата публикации: 2016-10-27.

SPUTTERING TARGETS AND DEVICES INCLUDING Mo, Nb, and Ta, AND METHODS

Номер патента: US20190066987A1. Автор: Qi Zhang,Shuwei Sun,Gary Alan Rozak,Barbara Cox,Yen-Te Lee. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2019-02-28.

Sputtering target and method for production thereof

Номер патента: US09922807B2. Автор: Yousuke Endo. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, Ag ALLOY FILM, AND METHOD OF FORMING Ag ALLOY FILM

Номер патента: US20170233863A1. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori,Hideharu Matsuzaki. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-17.

Sputtering target including carbon-doped gst and method for fabricating electronic device using the same

Номер патента: US20220190241A1. Автор: Jun Ku AHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Sputtering target material

Номер патента: US20210010105A1. Автор: Satoru Mori,Satoshi Kumagai,U Tani,Yuuji Sato. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

High purity refractory metal sputtering targets which have a uniform random texture manufactured by hot isostatic pressing high purity refractory metal powders

Номер патента: WO2015157421A9. Автор: Patrick Hogan,Helmut Haas,Marcel HAGYMASI,Paul Aimone,Joseph FLANIGAN. Владелец: H.C. Starck Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

High purity refractory metal powders and their use in sputtering targets which may have random texture

Номер патента: US20190032196A1. Автор: Patrick Hogan,Helmut Haas,Marcel HAGYMASI,Paul Aimone,Joseph FLANIGAN. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2019-01-31.

Sputtering target and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240035146A1. Автор: Choongnyun Paul Kim,Gi Su Ham,Yoo Kyung JUNG. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-02-01.

Sputtering target and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4249628A1. Автор: Choongnyun Paul Kim,Gi Su Ham,Yoo Kyung JUNG. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-09-27.

Method for producing high-purity lanthanum, high-purity lanthanum, sputtering target formed from high-purity lanthanum, and metal gate film having high-purity lanthanum as main component

Номер патента: CA2825301C. Автор: Masahiro Takahata,Kazuyuki Satoh,Satoyasu Narita,Takeshi Gohara. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Aluminum alloys and processes for making aluminum -scandium sputtering targets with high uniformity and elemental content

Номер патента: US20240194463A1. Автор: Katharine S. Gardinier,Vitaliy V. MYASNIKOV,David P. Van Heerden,Matthew J. KOMERTZ,Wieslaw Dylag,Arthur V. TESTANERO. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Back plate clamping device, alignment device and evaporation equipment

Номер патента: US09947868B2. Автор: Yang Liu. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Back plate for disc brake pad and disc brake pad using the back plate

Номер патента: US20140209422A1. Автор: Takeshi Takayama,Yoshihiro Tamai. Владелец: Nisshinbo Brake Inc. Дата публикации: 2014-07-31.

Sputtering target-backing plate assembly and production method thereof

Номер патента: US20180282859A1. Автор: Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Sputtering target-backing plate assembly

Номер патента: US20200258724A1. Автор: Yosuke Endo,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita,Naoki Ise. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

High-purity copper sputtering target

Номер патента: US09773651B2. Автор: Shigeru Watanabe,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Silicon sputtering target with special surface treatment and good particle performance and methods of making the same

Номер патента: US09566618B2. Автор: Yang Liu,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Yongwen Yuan,Phil Frausto. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Sputtering target and manufacturing method therefor

Номер патента: US09704695B2. Автор: Kenichi Nagata,Atsushi Fukushima,Nobuhito Makino,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Sputtering target-backing plate assembly, manufacturing method therefor, and recovery method for sputtering target

Номер патента: US20230360897A1. Автор: Hironobu Nakamura,Yu Suzuki,Tomohiro Maruko,Shohei OTOMO. Владелец: Furuya Metal Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for machining sputtering target, apparatus for machining sputtering target, sputtering target, and method for producing sputtering target product

Номер патента: US11766726B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for machining sputtering target, apparatus for machining sputtering target, sputtering target, and method for producing sputtering target product

Номер патента: US20190351491A1. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Method for processing sputtering target and method for manufacturing sputtering target product

Номер патента: US20190099814A1. Автор: Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

High-Purity Copper Sputtering Target

Номер патента: US20140367253A1. Автор: Shigeru Watanabe,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-12-18.

Sputter target for forming a layer of a perpendicular recording medium by magnetron sputtering

Номер патента: US20170062194A1. Автор: Amarendra Kumar Singh,Kazunori Koyama,Ajeesh Mavolil SAHADEVAN. Владелец: SHOWA DENKO HD SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Silicon sputtering target with special surface treatment and good particle performance and methods of making the same

Номер патента: US20140311900A1. Автор: Yang Liu,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Yongwen Yuan,Phil Frausto. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09607812B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Sputtering target and method for producing sputtering target

Номер патента: EP4386108A1. Автор: Yusuke Sato,Shuhei Murata,Masaya Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Sputtering target and/or coil, and process for producing same

Номер патента: US09951412B2. Автор: Kenichi Nagata,Nobuhito Makino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Sputtering target and method of manufacturing the same, and memory device manufacturing method

Номер патента: US20220162742A1. Автор: Kazuhiro Ohba,Katsuhisa Aratani,Shuichiro Yasuda,Hiroaki Sei. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

Номер патента: US12106949B2. Автор: Yuki Furuya. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof

Номер патента: US11851747B2. Автор: Ryo Suzuki,Atsushi Nara,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof

Номер патента: US20240052478A1. Автор: Ryo Suzuki,Atsushi Nara,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Radio frequency identification in-metal installation and isolation for sputtering target

Номер патента: WO2015183554A1. Автор: Justin K. Reed,Erich Theado,Kenneth FIELDER,Gerald STEVENS,Ronald Alan DILLEY,John Hardy BURLEY. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2015-12-03.

Enhanced sputter target alloy compositions

Номер патента: EP1607940A3. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel,Michael Bartholomeusz,Yuanda R. Cheng. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2006-02-15.

Cylindrical sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20160056025A1. Автор: Shinji Kato,Shoubin Zhang,Shozo Komiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Sputtering target for forming protective film and laminated wiring film

Номер патента: US09543128B2. Автор: Satoru Mori,Souhei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Ti-Nb alloy sputtering target and production method thereof

Номер патента: US11837449B2. Автор: Kunihiro Oda,Takayuki Asano. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering target and process for production thereof

Номер патента: MY177222A. Автор: Shin Saito,Migaku Takahashi,Toshiya Yamamoto,Kim Kong THAM,Shintaro HINATA. Владелец: Univ Tohoku. Дата публикации: 2020-09-09.

Modified lithium cobalt oxide sputtering targets

Номер патента: WO2015130738A1. Автор: Chi-Fung Lo,Paul Gilman,Darryl P. DRAPER. Владелец: PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2015-09-03.

Multi-block sputtering target and associated methods and articles

Номер патента: US09922808B2. Автор: Mark E. Gaydos,Gary Alan Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Method of making a tantalum sputter target and sputter targets made thereby

Номер патента: WO2016164269A1. Автор: Matthew Fisher,Alex Kuhn,Eugene Y. Ivanov. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2016-10-13.

Sputtering Target and Method for Producing Sputtering Target

Номер патента: US20240026525A1. Автор: Yusuke Sato,Shuhei Murata,Masaya Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Sputtering target having rfid information

Номер патента: US20180211825A1. Автор: Matthew T. Willson,Richard J. Koba,Michael V. Pasquariello,Thomas P. St. Vincent. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Multi-block sputtering target and associated methods and articles

Номер патента: US09334562B2. Автор: Mark E. Gaydos,Gary Alan Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20200362451A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Mn-Nb-W-Cu-O-BASED SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20210358728A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Sputtering target material and method for manufacturing same

Номер патента: EP4105353A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Ferromagnetic material sputtering target containing chromium oxide

Номер патента: MY179240A. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-11-02.

Ferromagnetic Material Sputtering Target Containing Chromium Oxide

Номер патента: US20150014155A1. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Sputtering target and production method of the same

Номер патента: US20160079044A1. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Sputtering target

Номер патента: US20240043986A1. Автор: Hironobu Nakamura,Yu Suzuki,Tomohiro Maruko,Shohei OTOMO. Владелец: Furuya Metal Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Sputtering target for magnetic recording medium

Номер патента: US20220262608A1. Автор: Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushikibi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2022-08-18.

Sputtering target, granular film and perpendicular magnetic recording medium

Номер патента: US20210246543A1. Автор: Takashi Kosho,Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Sputtering target and production method of the same

Номер патента: US09934949B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20180265963A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-20.

Method for bonding components of a sputtering target, a bonded assembly of sputtering target components and the use thereof

Номер патента: EP2582857A1. Автор: Robert Linsbod. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2013-04-24.

Sputtering target for forming protective film, and laminated wiring film

Номер патента: US10538059B2. Автор: Satoru Mori,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-01-21.

Cylindrical sputtering target and method for producing same

Номер патента: US20190360090A1. Автор: Yoshitaka Tsuruta,Tomoya Negishi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

System and apparatus for real-time monitoring and control of sputter target erosion

Номер патента: US20070017800A1. Автор: Cetin Cetinkaya,Rajan Mathew,Bjoern Pigur. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2007-01-25.

Chalcogenide sputtering target and method of making the same

Номер патента: US11946132B2. Автор: Michael R. Pinter. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

High purity copper sputtering target material

Номер патента: US20180237901A1. Автор: Satoru Mori,Isao Arai,U Tani,Yuuji Sato,Fumitake Kikuchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus

Номер патента: CA2585636A1. Автор: Uwe Kriltz,Vijayen S. Veerasamy,Gerald Janicke,Jochen Butz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-26.

Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus

Номер патента: EP1817265A2. Автор: Uwe Kriltz,Vijayen S. Veerasamy,Gerald Janicke,Jochen Butz. Владелец: Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique CRVC SARL. Дата публикации: 2007-08-15.

Sputtering target

Номер патента: US20220195583A1. Автор: Masahiro Shoji,Yujiro Hayashi,Yuichi Kondo. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Reactive sputtering method

Номер патента: US20090200159A1. Автор: Yasuyuki Suzuki,Koji Teranishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Plasma reactor apparatus and method for treating a substrate

Номер патента: CA2008926C. Автор: Jes Asmussen,Donnie K. Reinhard. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 1994-03-29.

Fe-co alloy sputtering target material and method for producing same, and soft magnetic thin film layer and perpendicular magnetic recording medium using same

Номер патента: MY167435A. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-28.

Method for the manufacturing of sputtering targets using an inorganic polymer

Номер патента: EP2297374A1. Автор: Brigitte Pecquenard,Alain Levasseur. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2011-03-23.

High-purity ferromagnetic sputter targets and methods of manufacture

Номер патента: US20040031546A1. Автор: Thomas Hunt,David Dombrowski,Andrew Perry,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-02-19.

Sputtering target and method of producing sputtering target

Номер патента: US20210172056A1. Автор: Xiaoli Lu,Akira Nakamura,Junichi Nitta,Miho SATOU. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

Cu—Ga alloy sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09748080B2. Автор: Satoru Mori,Yuuki Yoshida,Kouichi Ishiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Sputtering target comprising oxide phase dispersed in co or co alloy phase, magnetic thin film made of co or co alloy phase and oxide phase, and magnetic recording medium using the said thin film

Номер патента: MY149640A. Автор: Nakamura Yuichiro,Ikeda Yuki,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2013-09-13.

Conductive barrier layer, especially an alloy of ruthenium and tantalum and sputter deposition thereof

Номер патента: WO2006121604A2. Автор: Hong Zhang,Praburam Gopalraja,Yoichiro Tanaka,Hua Chung,Jianming Fu,Jick Yu,Jenn Yue Wang,Wel D. Wang,Rongjium Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-11-16.

Sputtering target material and thin film manufactured using the material

Номер патента: MY156642A. Автор: Sawada Toshiyuki,Kishida Atsushi. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-15.

Fe-Al Based Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20140166481A1. Автор: Kentaro Harada. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Sputtering target of ferromagnetic material with low generation of particles

Номер патента: MY157156A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi,Arakawa Atsutoshi,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2016-05-13.

Sputtering target of perromagnetic material with low generation of particles

Номер патента: MY150826A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi,Arakawa Atsutoshi,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2014-02-28.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US9840769B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Liang-Qi Ouyang,Ru-Jun Sun. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Oxide sintered body and sputtering target, and manufacturing method for transparent conductive oxide film as electrode

Номер патента: US20040164281A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Go Ohara,Noriko Ishiyama. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2004-08-26.

Oxide sintered body and sputtering target, and manufacturing method for transparent conductive oxide film as electrode

Номер патента: US20070057239A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Go Ohara,Noriko Ishiyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-15.

Oxide sintered body and method for manufacturing the same, sputtering target, and semiconductor device

Номер патента: US09957604B2. Автор: Kenichi Watatani,Koichi Sogabe,Miki Miyanaga. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Method for manufacturing a molybdenum sputtering target for back electrode of CIGS solar cell

Номер патента: US09506141B2. Автор: Seung Min Lee,Ik Hyun Oh,Jun Mo Yang,Hyun Kuk Park. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2016-11-29.

Method for manufacturing a molybdenum sputtering target for back electrode of cigs solar cell

Номер патента: US20130336831A1. Автор: Seung Min Lee,Ik Hyun Oh,Jun Mo Yang,Hyun Kuk Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-19.

Sputtering target-backing plate assembly, and its production method

Номер патента: US20120228132A1. Автор: Yoshimasa Koido. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-09-13.

Fept-based sputtering target and process for producing the same

Номер патента: MY173713A. Автор: Goto Yasuyuki,MIYASHITA Takanobu,NISHIURA Masahiro,Yamamoto Takamichi,Kushibiki Ryousuke,Aono Masahiro. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2020-02-18.

Oxide sputtering target and protective film for optical recording medium

Номер патента: US9123360B2. Автор: Atsushi Saito,Rie Mori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-09-01.

Co—Cr—Pt-based sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09732414B2. Автор: Atsushi Sato,Yuki Ikeda,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Sputtering target, manufacturing method therefor, and manufacturing method for magnetic recording medium

Номер патента: US12091743B2. Автор: Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US20170009336A1. Автор: Nobuaki Nakashima,Tooru Komatsu. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-12.

Apparatus and methods for depositing durable optical coatings

Номер патента: EP3615704A1. Автор: Desmond Gibson,Shigeng SONG. Владелец: University of the West of Scotland. Дата публикации: 2020-03-04.

Method of manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US20200115790A1. Автор: Nobuaki Nakashima,Tooru Komatsu. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

FePt-C-BASED SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190292650A1. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2019-09-26.

Sputtering target for magnetic recording medium, and magnetic thin film

Номер патента: US20190040517A1. Автор: Takashi Kosho. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Apparatus and methods for depositing variable interference filters

Номер патента: US11891686B2. Автор: Desmond Gibson,Shigeng SONG,David Hutson. Владелец: University of the West of Scotland. Дата публикации: 2024-02-06.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20190309394A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Yumeki SHINMURA. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-10.

Fept-c-based sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20160013033A1. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-01-14.

Oxide sputtering target and protective film for optical recording medium

Номер патента: US20150010727A1. Автор: Atsushi Saito,Rie Mori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Rotary sputter target assembly

Номер патента: EP2718477A1. Автор: Paul S. Gilman,Severin Sephane Gerard TIERCE. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2014-04-16.

Sputtering Target, Manufacturing Method Therefor, And Manufacturing Method For Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20230272521A1. Автор: Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201903350PA. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Fept-based sputtering target

Номер патента: US20140318955A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Sputtering target for magnetic recording medium, and magnetic thin film

Номер патента: US11837450B2. Автор: Takashi Kosho. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: MY202419A. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2024-04-28.

Sputtering target for forming protective film, and laminated wiring film

Номер патента: US20140315043A1. Автор: Satoru Mori,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2014-10-23.

Fept-c-based sputtering target

Номер патента: MY192178A. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2022-08-04.

Fept-based sputtering target

Номер патента: US20140318954A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Process for producing fept-based sputtering target

Номер патента: US20140322062A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Process for producing fept-based sputtering target

Номер патента: US20140322063A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Sputtering target for magnetic recording film and process for production thereof

Номер патента: US09605339B2. Автор: Atsushi Nara,Hideo Takami,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Sputtering target material and sputtering target

Номер патента: EP4435141A1. Автор: Koji Nishioka,Kunihiko Nakata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Sputtering target

Номер патента: US20210087673A1. Автор: Masahiro Aono,Shin Saito,Takeshi Ishibashi,Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushibiki,Kim Kong THAM,Takeshi Numazaki. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-03-25.

Sputtering target for manufacturing piezoelectric thin films

Номер патента: EP3922749A1. Автор: Kenji Shibata,Kazutoshi Watanabe,Fumimasa Horikiri. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-15.

Tantalum sputtering target, method for manufacturing same, and barrier film for semiconductor wiring formed by using target

Номер патента: US09890452B2. Автор: Shinichiro Senda,Kotaro Nagatsu. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Sputtering target including carbon-doped GST and method for fabricating electronic device using the same

Номер патента: US11968912B2. Автор: Jun Ku AHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US9732415B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Leng Zhang,Yao-Wei Wei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US20170037505A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Leng Zhang,Yao-Wei Wei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Method for manufacturing sputtering target

Номер патента: US20170350002A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Yoshinori Yamada,Masashi Oota. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20210358729A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Motoki Nakashima,Haruyuki Baba. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: WO2018011645A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Motoki Nakashima,Haruyuki Baba. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2018-01-18.

Sintered oxide material, method for manufacturing same, sputtering target, oxide transparent electrically conductive film, method for manufacturing same, and solar cell

Номер патента: US09399815B2. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Keitaro Matsumaru,Kentaro Utsumi. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Sintered oxide material, method for manufacturing same, sputtering target, oxide transparent electrically conductive film, method for manufacturing same, and solar cell

Номер патента: MY162939A. Автор: Shibutami Tetsuo,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Keitaro Matsumaru,Kentaro Utsumi. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2017-07-31.

Method for manufacturing sputtering target, method for forming oxide film, and transistor

Номер патента: US11967505B2. Автор: Shunpei Yamazaki,Masashi Oota,Masashi TSUBUKU,Yoichi Kurosawa,Noritaka ISHIHARA. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Sputtering target for forming wiring film of flat panel display

Номер патента: US20150136595A1. Автор: Haruhiko Asao,Kenichi Yaguchi,Kazunari Maki,Yosuke Nakasato. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-05-21.

MEMS microphone with dual-back plate and method of manufacturing the same

Номер патента: US09656854B2. Автор: Chang-Hyeon Ji,Shin Hur,Young Do Jung,Young Hwa Lee,Jun Hyuk Kwak. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2017-05-23.

Lithium sputter targets

Номер патента: US09771646B2. Автор: Todd Martin,Trevor Frank,Robert T. Rozbicki,Dhairya Shrivastava,Anshu A. Pradhan,Disha Mehtani,Martin John Neumann,Que Anh Song NGUYEN. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Sputtering target for magnetic recording film

Номер патента: US09540724B2. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Sputtering target assembly and sputtering apparatus using the same

Номер патента: US20030165639A1. Автор: Jae Park. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-04.

Low deflection sputtering target assembly and methods of making same

Номер патента: US09831073B2. Автор: Eugene Y. Ivanov,Yongwen Yuan. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Nonmagnetic material-dispersed fe-pt based sputtering target

Номер патента: US20190185987A1. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Sputtering Target for Magnetic Recording Film

Номер патента: US20140346039A1. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Nonmagnetic material-dispersed fe-pt based sputtering target

Номер патента: MY187837A. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-10-26.

Thermography test method and apparatus for evaluating a bond interface of a sputtering target/backing plate assembly

Номер патента: WO2005026404A2. Автор: ZHIGUO Zhang,John White,Charles E. Wickersham,Larry Edwin Ellison,Mikhail Y. Kachalov. Владелец: CABOT CORPORATION. Дата публикации: 2005-03-24.

Magnetic material sputtering target and manufacturing method thereof

Номер патента: US09793099B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Thermography test method and apparatus for evaluating a bond interface of a sputtering target/backing plate assemby

Номер патента: EP1654702A2. Автор: ZHIGUO Zhang,John White,Charles E. Wickersham,Larry Edwin Ellison,Mikhail Y. Kachalov. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2006-05-10.

Mn—Zn—O sputtering target and production method therefor

Номер патента: US10811237B2. Автор: Junichi Sugawara,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2020-10-20.

Mn—Zn—W—O sputtering target and production method therefor

Номер патента: US10886112B2. Автор: Junichi Sugawara,Fusashige Tokutake,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-01-05.

NON-MAGNETIC MATERIAL-DISPERSED Fe-Pt SPUTTERING TARGET

Номер патента: SG11201900555XA. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Manufacturing method of cylindrical sputtering target material

Номер патента: US09982335B2. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Takashi Sonohata,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Fe-Co-based alloy sputtering target material, and method of producing same

Номер патента: US09773654B2. Автор: Kazuya Saito,Jun Fukuoka,Kouichi Sakamaki,Tomoyuki Hata. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Magnetron sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US09502224B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-11-22.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: MY165449A. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2018-03-22.

Mn-Ta-W-Cu-O-BASED SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20210269910A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Mn-Zn-W-O SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20180186699A1. Автор: Junichi Sugawara,Fusashige Tokutake,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201903752XA. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Mn-zn-o sputtering target and production method therefor

Номер патента: US20180019109A1. Автор: Junichi Sugawara,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

SINTERED BODY COMPRISING LiCoO2, SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD FOR SINTERED BODY COMPRISING LiCoO2

Номер патента: US20150376773A1. Автор: Moriyoshi Kanamaru,Yuichi Taketomi. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20140306144A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-16.

High efficiency rotatable sputter target

Номер патента: US11830712B2. Автор: Jeremy Young,Ian RAVARY. Владелец: SCI ENGINEERED MATERIALS Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Sputtering target for magnetic recording medium

Номер патента: US20210242000A1. Автор: Shin Saito,Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushibiki,Kim Kong THAM. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-08-05.

Sputtering Target, Method for Producing Laminated Film, Laminated Film and Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20200051589A1. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: MY199943A. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Sputtering target and magnetic film

Номер патента: US11894221B2. Автор: Takashi Kosho,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20130175166A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2013-07-11.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9928996B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2018-03-27.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9053910B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-06-09.

Fe-Pt-based sputtering target with dispersed C grains

Номер патента: US09945026B2. Автор: Atsushi Sato,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints

Номер патента: US09564299B2. Автор: Stefan Zimmermann,Steven Alfred Miller,Mark Gaydos,Scott Jeffrey VOLCHKO,William Loewenthal. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Sputtering target, transparent conductive film and transparent electrode

Номер патента: US20130101807A1. Автор: Koki Yano,Nobuo Tanaka,Kazuyoshi Inoue. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-25.

Sputtering target

Номер патента: US20200165719A1. Автор: Akira Sakawaki,Takaki Yasuda. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2020-05-28.

Optical film, sputtering target, and method of producing optical film

Номер патента: US20240166555A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Extended life sputter target

Номер патента: SG149008A1. Автор: Thomas J Hunt,Rene Perrot,Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-29.

Diffusion bonded tungsten containing target to copper alloy backing plate

Номер патента: WO2024147983A1. Автор: Susan D. Strothers,Wayne Meyer,Xiaodan Wu,Rashmi MOHANTY. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2024-07-11.

Diffusion bonded tungsten containing target to copper alloy backing plate

Номер патента: US20240229225A1. Автор: Susan D. Strothers,Wayne Meyer,Xiaodan Wu,Rashmi MOHANTY. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Extended life sputter target

Номер патента: WO2005026406A1. Автор: Thomas J. Hunt,Rene Perrot,Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair S. T. Technology, Inc.. Дата публикации: 2005-03-24.

Sputtering target material

Номер патента: US20040079635A9. Автор: Noriaki Hara,Ken Hagiwara,Somei Yarita,Ritsuya Matsuzaka. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2004-04-29.

Transparent conductive film, its production method and sputtering target used for its production

Номер патента: US20090130418A1. Автор: Akira Mitsui,Susumu Nakagama,Hidefumi Odaka. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Conductive silicon sputtering targets

Номер патента: US20240271270A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Yuping Lin,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Jiangyin Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method for making Ni-Si magnetron sputtering targets and targets made thereby

Номер патента: US20020144902A1. Автор: Eugene Ivanvov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Ta sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US8580053B2. Автор: Manabu Ito,Motonori Sato,Tadashi Masuda,Poong Kim. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-11-12.

Method for preparing high purity ruthenium sputtering target

Номер патента: EP1026283B1. Автор: Yuichiro Isohara Fact/Nikko Mat.Co.Ltd SHINDO,Tsuneo Isohara Fact/Nikko Mat.Co.Ltd SUZUKI. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-03.

Sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09988710B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Solar Frontier KK. Дата публикации: 2018-06-05.

Method of making sputtering target and target produced

Номер патента: WO2008018967A2. Автор: Michael G. Launsbach,Tyrus W. Hansen. Владелец: Howmet Corporation. Дата публикации: 2008-02-14.

Method of making sputtering target and target produced

Номер патента: EP2043800A2. Автор: Michael G. Launsbach,Tyrus W. Hansen. Владелец: Howmet Corp. Дата публикации: 2009-04-08.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1735476A1. Автор: Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2006-12-27.

Process for Production of Ge-Cr Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20070297932A1. Автор: Hideo Takami,Hirohisa Ajima. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-27.

Ge-Cr Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20110036710A1. Автор: Hideo Takami,Hirohisa Ajima. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2011-02-17.

Ytterbium Sputtering Target and Method of Producing said Target

Номер патента: US20100044223A1. Автор: Shiro Tsukamoto. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: US20040250924A1. Автор: Paul Gilman,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-16.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1735476A4. Автор: Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-28.

Methods for making sputtering targets

Номер патента: WO2008060917A2. Автор: Janine Kardokus,Susan D. Strothers,Michael D. Payton,Kevin T. Hubert,Hort Werner,Christie J. Hausman,Diane Morales. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2008-05-22.

Ruthenium-alloy sputtering target

Номер патента: US09732413B2. Автор: Kunihiro Oda. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for producing Cu-Ga alloy powder, Cu-Ga alloy powder, method for producing Cu-Ga alloy sputtering target, and Cu-Ga alloy sputtering target

Номер патента: US09435023B2. Автор: Tetsufumi Komukai,Tatsuya Takahashi,Isao Ando,Eriko Sato,Toshio Morimoto,Masanori Takagi,Hirotaka Minami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2016-09-06.

Igzo sputtering target

Номер патента: EP4424867A1. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Sputtering target and process for producing the same

Номер патента: WO2024217556A1. Автор: Scherer Thomas,Yi Sun,Yongyue CAI,Schmidt HENNRIK. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Methods of forming copper-containing sputtering targets

Номер патента: US20020112791A1. Автор: Janine Kardokus,Chi Wu,Christopher Parfeniuk,Jane Buehler. Владелец: Buehler Jane E.. Дата публикации: 2002-08-22.

Method of bonding a sputter target-backing plate assembly assemblies produced thereby

Номер патента: US5230459A. Автор: John J. Mueller,David E. Stellrecht. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1993-07-27.

Textured-metastable aluminum alloy sputter targets and method of manufacture

Номер патента: US20030089430A1. Автор: Andrew Perry,Paul Gilman,Jaak Van den Sype. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2003-05-15.

Sputtering target and method of producing sputtering target

Номер патента: US12012650B2. Автор: Masaru Wada,Kouichi Matsumoto,Motohide Nishimura,Kentarou Takesue,Yuu Kawagoe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Ag alloy sputtering target, and ag alloy film

Номер патента: EP3922748A1. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-12-15.

Sputter-Target aus einer Legierung auf Ag-Bi-Basis und Verfahren zur Herstellung desselben

Номер патента: DE102004024114A1. Автор: Toshiki Kobe Sato,Junichi Kobe Nakai,Katsutoshi Kobe Takagi,Yuuki Kobe Tauchi,Hitoshi Takasago Matsuzaki,Hideo Takasago Fujii. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Zinc oxide sputtering target

Номер патента: US09919931B2. Автор: Koichi Kondo,Jun Yoshikawa,Katsuhiro Imai,Koki Kanno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Gallium oxide/zinc oxide sputtering target, method of forming transparent electro-conductive film and transparent electro-conductive film

Номер патента: RU2389824C2. Автор: Кодзо ОСАДА. Владелец: Ниппон Майнинг Энд Металз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2010-05-20.

Sputtering target, method for producing same, and method for producing sputtering film using sputtering target

Номер патента: EP4400627A1. Автор: Kenichi Itoh,Koichi Hanawa,Masami Mesuda,Daiki Shono,Taiga KONDO. Владелец: Tosoh Speciality Materials Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Sputtering target

Номер патента: US20210180180A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Sputter target of a silver alloy, its use and glass substrate with thermal insulation layer

Номер патента: US20070259191A1. Автор: Martin Weigert,Christoph Simons. Владелец: WC Heraus GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-11-08.

Refurbishing copper and indium containing alloy sputter targets and use of such targets in making copper and indium-based films

Номер патента: US09399816B2. Автор: Robert Nilsson,Jennifer Gerbi. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2016-07-26.

Magnetic material sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: SG11201903240PA. Автор: Yuki Furuya. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Stably dischargeable sputtering target

Номер патента: MY187017A. Автор: Shin-Ichi Ogino,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG129345A1. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-02-26.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG170754A1. Автор: Ziani Abdelouahab,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2011-05-30.

Sputtering target of multi-component single body and method for preparation thereof, and method for producing multi-component alloy-based nanostructured thin films using same

Номер патента: US20160068943A1. Автор: JU Hyun Sun,Chang Hun Lee,Seung Yong Shin,Jung Chan Bae,Kyoung Il Moon. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2016-03-10.

Aluminum or aluminum alloy sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20010004856A1. Автор: Kazuo Yoshikawa,Takashi Onishi,Seiji Nishi,Masao Mizuno,Toshihisa Suemitsu,Teruyuki Takahara,Tatsuhiko Kusamichi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2001-06-28.

Ultra-high purity nipt alloys and sputtering targets comprising same

Номер патента: SG149742A1. Автор: Shinhwa Li,David Long,Bernd Kunkel,Jun Hui,Carl Derrington. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2009-02-27.

Sputtering target protection device

Номер патента: US5846389A. Автор: Paul S. Gilman,Howard H. Levine,Neil J. Sullivan. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1998-12-08.

Inorganic-particle-dispersed sputtering target

Номер патента: MY148731A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2013-05-31.

Method to Manufacture Ruthenium Rotary Sputtering Target

Номер патента: US20240043987A1. Автор: Yusheng Wu,Ruoyu ZHANG,Shuangming Zheng,Yanbin Xia,Xiangyu Bai,Kok Tong Phang. Владелец: Singapore Advanced Thin Film Material Private Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Conductive silicon sputtering targets

Номер патента: EP4370724A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Yuping Lin,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Jiangyin Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Novel manufacturing design and processing methods and apparatus for sputtering targets

Номер патента: US20090045044A1. Автор: Chi Tse Wu,Jared Akins. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2009-02-19.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG136143A1. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-10-29.

Sputtering target and method for producing sputtering target

Номер патента: US20180312961A1. Автор: Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO,Yuya Mutsuda. Владелец: Solar Frontier KK. Дата публикации: 2018-11-01.

Ai-based alloy sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20080223718A1. Автор: Toshihiro Kugimiya,Yoichiro Yoneda,Hiroshi Gotou,Katsutoshi Takagi,Masaya Ehira. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2008-09-18.

Method for manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US11731230B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Sputtering target

Номер патента: MY174738A. Автор: Atsushi Sato. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-05-12.

A method to manufacture an oxide sputter target comprising a first and second phase

Номер патента: EP2294241A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Hilde Delrue,Johnny Van Holsbeke,Nuno Jorge Marcolino Carvalho. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2011-03-16.

A method to manufacture an oxide sputter target comprising a first and second phase

Номер патента: EP2294241B1. Автор: Wilmert De Bosscher,Hilde Delrue,Johnny Van Holsbeke,Nuno Jorge Marcolino Carvalho. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2012-02-22.

Method for producing cu-ga alloy powder, cu-ga alloy powder, method for producing cu-ga alloy sputtering target, and cu-ga alloy sputtering target

Номер патента: US20130192986A1. Автор: Tetsufumi Komukai,Tatsuya Takahashi,Isao Ando,Eriko Sato,Toshio Morimoto,Masanori Takagi,Hirotaka Minami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2013-08-01.

Method for reducing the oxygen and oxide content in cobalt to produce cobalt sputtering targets

Номер патента: US20040011442A1. Автор: HAO Zhang. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Indium oxide/cerium oxide sputtering target, transparent conductive film and process for producing transparent conductive film

Номер патента: EP1731629A1. Автор: Kazuyoshi Central Research Laboratories INOUE,Masato Central Research Laboratories MATSUBARA,Shigekazu Central Research Laboratories TOMAI. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-13.

Few surface defects sputtering target and surface processing method thereof

Номер патента: MY153650A. Автор: Yuichiro Nakamura,Akira Hisano. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2015-03-13.

Single phase tungsten-titanium sputter targets and method of producing same

Номер патента: US5896553A. Автор: Chi-Fung Lo. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1999-04-20.

Praseodymium doped indium zinc oxide sputtering target and preparation method therefor

Номер патента: LU504172B1. Автор: Yang Liu,Jie Chen,Zhijun Wang,Miao Liu,Jilin He,Benshuang SUN,Xueyun ZENG,Chengduo WANG,Bingxue Han. Владелец: Univ Zhengzhou. Дата публикации: 2023-11-10.

Sputtering Target, Method For Manufacturing Sputtering Target, Amorphous Film, Method For Manufacturing Amorphous Film, Crystalline Film And Method For Manufacturing Crystalline Film

Номер патента: US20200325572A1. Автор: Takashi Kakeno,Toshihiro Kuge. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-10-15.

Fept-c-based sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20140301887A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-09.

Method of manufacturing a rotatable sputter target

Номер патента: US20090205955A1. Автор: Hugo Lievens,Anneleen De Smet. Владелец: Bekaert NV SA. Дата публикации: 2009-08-20.

AL-Ni-RARE EARTH ELEMENT ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20110048936A1. Автор: Toshihiro Kugimiya,Yoichiro Yoneda,Hitoshi Matsuzaki,Katsutoshi Takagi,Kotaro Kitashita. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2011-03-03.

Gallium oxide-zinc oxide sputtering target, method of forming transparent conductive film, and transparent conductive film

Номер патента: US7686985B2. Автор: Kozo Osada. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-30.

High purity cobalt sputter target and process of manufacturing the same

Номер патента: AU9121498A. Автор: Stephen P. Turner,Michael McCarty,Yinshi Liu,Robert S. Cole,Mathew S. Cooper,Rodney L. Scagline. Владелец: Alta Group Inc. Дата публикации: 1999-03-16.

Ferromagnetic sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: MY156201A. Автор: Ikeda Yuki,Takami Hideo. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2016-01-29.

Tungsten sputtering target and method of making same

Номер патента: AT522305B1. Автор: Dasai Takafumi,Sogawa Shinji,Nakasumi Seiji. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2022-10-15.

Automated Sputtering Target Production and Sub Systems Thereof

Номер патента: US20080110011A1. Автор: John P. Matera,Charles E. Wickersham,Wiley Zane Reed,Bobby R. Cosper,Kenneth G. Schmidt,Neil D. Bultz. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2008-05-15.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1427865A4. Автор: Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2005-09-14.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1427865A1. Автор: Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-16.

Sputtering target for forming magnetic recording film and method for producing same

Номер патента: MY191633A. Автор: Shin-Ichi Ogino. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2022-07-04.

Sputtering target for forming magnetic recording film and method for producing same

Номер патента: MY177997A. Автор: Shin-Ichi Ogino. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-09-29.

Cylindrical titanium oxide sputtering target and process for manufacturing the same

Номер патента: US20200002235A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Christoph Simons. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-01-02.

Cylindrical titanium oxide sputtering target and process for manufacturing the same

Номер патента: WO2018166831A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Christoph Simons. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2018-09-20.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: US20030089429A1. Автор: Paul Gilman,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2003-05-15.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: IL160890A. Автор: . Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-08.

Preparation of chalcogenide glass sputtering targets

Номер патента: US3850604A. Автор: R Klein. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1974-11-26.

Molybdenum-niobium alloys, sputtering targets containing such alloys, methods of making such targets, thin films prepared therefrom and uses thereof

Номер патента: EP2277191A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun,Mark Gaydos,Gary Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2011-01-26.

Sputtering target for magnetic recording medium and method of producing the same

Номер патента: US5334267A. Автор: Hideo Murata,Akira Kawakami,Shigeru Taniguchi. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 1994-08-02.

Magneto-optical alloy sputter targets

Номер патента: CA2174433C. Автор: Daniel R. Marx. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 2004-07-20.

Sputtering target and method of manufacturing the same

Номер патента: US5508000A. Автор: Michio Satou,Noriaki Yagi,Hiromi Shizu,Mituo Kawai,Takasi Yamanobe,Tooru Komatu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1996-04-16.

Sputtering target material

Номер патента: US20110139615A1. Автор: Noriyuki Tatsumi,Kouichi Isaka,Masami Odakura,Tatsuya Tonogi,Katsutoshi Honya. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 2011-06-16.

Fept-c-based sputtering target and process for producing same

Номер патента: SG193948A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2013-11-29.

Sputtering target

Номер патента: US11827971B2. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Refurbishing copper and indium containing alloy sputter targets and use of such targets in making copper and indium-based films

Номер патента: US20130248351A1. Автор: Robert Nilsson,Jennifer Gerbi. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2013-09-26.

Method of producing a sputter target material

Номер патента: US20090238712A1. Автор: Keisuke Inoue,Shigeru Taniguchi,Tsuyoshi Fukui,Katsunori Iwasaki,Norio Uemura,Kazuya Saitoh. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2009-09-24.

Method for producing sputtering target with lowered oxygen content

Номер патента: US20030000068A1. Автор: Hiroyuki Sakai,Satoru Kobayashi,Masato Imamura,Yoshihiro Sera,Norioki Ikeda,Shuji Shihara. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-02.

Sputter Target With High-Melting Phase

Номер патента: US20070240981A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: WC Heraus GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-10-18.

Sputtering target on basis of galim oxide-zinc oxide method of formation of treansparent conductive film and treansparent conductive film

Номер патента: RU2380455C2. Автор: Кодзо ОСАДА. Владелец: Ниппон Майнинг Энд Металз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2010-01-27.

Platinum-based sputtering target, and method for producing the same

Номер патента: US20230407459A1. Автор: Kunihiro Tanaka,Shoji Ikeda,Takao Asada,Shuichi Kubota,Tetsuo Endoh,Akihito FUJINO. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-21.

IGZO sputtering target

Номер патента: US11827972B2. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai,Jun Kajiyama,Yuhei Kuwana. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Alloy for seed layers of magnetic recording media, sputtering target material and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201808739XA. Автор: Noriaki Matsubara,Miyuki Imoto. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Alloy for seed layers of magnetic recording media, sputtering target material and magnetic recording medium

Номер патента: MY190813A. Автор: Matsubara Noriaki,Imoto Miyuki. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: MY142962A. Автор: Ziani Abdelouahab,Kunkel Bernd. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2011-01-31.

Sputtering targets and method of making same

Номер патента: WO2001044536A3. Автор: Stephane Ferrasse,Vladimir Segal,William B Willett. Владелец: Honeywell Inc. Дата публикации: 2002-01-03.

Photovoltaic sputtering targets fabricated from reclaimed materials

Номер патента: US09994951B2. Автор: Jasbinder S. Sanghera,Vinh Q. Nguyen,Michael Cyrus,Jesse A. Frantz,Jason D. Myers,Robel Y. Bekele,Sergey V. Frolov,Allan J. Bruce. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2018-06-12.

Aluminum-scandium composite, aluminum-scandium composite sputtering target and methods of making

Номер патента: EP4162088A1. Автор: Robert S. Bailey,David Peter Van Heerden,Katharine S. Gardinier. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2023-04-12.

Sputtering targets and method for the preparation thereof

Номер патента: US20040069623A1. Автор: Johan Vanderstraeten. Владелец: Rotar Inc. Дата публикации: 2004-04-15.

Non-continuous bonding of sputtering target to backing material

Номер патента: EP2572013A1. Автор: Jong-Won Shin,Nikolaus Margadant,Klaus Leitner. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2013-03-27.

Vent groove modified sputter target assembly

Номер патента: EP2002028A2. Автор: Jean-Pierre Blanchet,Robert Shih,Junghoon Hur. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Vent groove modified sputter target assembly

Номер патента: WO2007114899A3. Автор: Jean-Pierre Blanchet,Robert Shih,Junghoon Hur. Владелец: Junghoon Hur. Дата публикации: 2007-11-22.

Sputtering Target Manufacturing Method

Номер патента: KR19980071845A. Автор: 료지 요시무라,야스후미 쓰바끼하라,겐따로 우쯔미. Владелец: 도소 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-10-26.

Tin oxide-based sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: US20080099731A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2008-05-01.

Sputtering target

Номер патента: US20240002997A1. Автор: Katsuhiro Imai,Yoshinori Isoda,Kentaro Nonaka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Tungsten sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US11939661B2. Автор: Takafumi Dasai,Shinji Sogawa,Seiji Nakasumi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

In-Ga-Zn Type Oxide Sputtering Target

Номер патента: US20120093712A1. Автор: Koki Yano,Masayuki Itose,Mami Nishimura. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Method of forming copper alloy sputtering targets with refined shape and microstructure

Номер патента: US20190233935A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Ira G. Nolander,Patrick Underwood,Erik L. TURNER. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Soft Magnetic Alloy for Magnetic Recording Medium, Sputtering Target Material, and Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20130224067A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Soft magnetic alloy for magnetic recording medium, sputtering target material, and magnetic recording medium

Номер патента: SG188252A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-30.

Soft magnetic alloy for magnetic recording medium, sputtering target material, and magnetic recording medium

Номер патента: US9208812B2. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-08.

Method of forming copper alloy sputtering targets with refined shape and microstructure

Номер патента: EP3746579A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Ira G. Nolander,Patrick Underwood,Erik L. TURNER. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2020-12-09.

Method of making an electrically conductive cadmium sulfide sputtering target for photovoltaic manufacturing

Номер патента: WO2011034812A2. Автор: Stephen Barry. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2011-03-24.

Nickel-titanium sputter target alloy

Номер патента: EP1390552A1. Автор: Thomas J. Hunt,Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-02-25.

Sintered body for reducing raw material, sputtering target comprising the same, and the preparation thereof

Номер патента: KR20160133263A. Автор: 양승호,강민호,강동한,윤원규. Владелец: 희성금속 주식회사. Дата публикации: 2016-11-22.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20110114473A1. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

A production method combining cathode arc method and magnetron sputtering method to form an antibacterial film on the surface of an object

Номер патента: CA2784264C. Автор: Ming-Hsien Chao. Владелец: Ever Brite Tech Products Inc. Дата публикации: 2016-03-29.

Ferromagnetic Material Sputtering Target

Номер патента: US20200216945A1. Автор: Atsushi Sato. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Film-forming apparatus and film-forming method

Номер патента: EP1681367A4. Автор: Yasuhiro Koizumi,Koichi Sasagawa,Koichi Nose,Shiro Takigawa,Takeshi Furutsuka. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2008-08-27.

Sputtering apparatus and manufacturing apparatus for liquid crystal device

Номер патента: US20100000859A1. Автор: Shinichi Fukada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-01-07.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US09748081B2. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Connecting to back-plate contacts or diode junctions through a RMG electrode and resulting devices

Номер патента: US09548318B1. Автор: Min-Hwa Chi,Xusheng Wu. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Sputtering apparatus and method for forming coating film by sputtering

Номер патента: US20090162618A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-25.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20090127109A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Sputtering target for forming phase-change film and method for manufacturing the same

Номер патента: US20100108499A1. Автор: Kei Kinoshita,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2010-05-06.

Molybdenum sputtering targets

Номер патента: CA2577162A1. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerone O'grady,Davd G. Schwarz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-06.

Chromium sintered body, method for producing chromium sintered body, sputtering target, and method for producing substrate with chromium film

Номер патента: EP4241901A1. Автор: Kenichi Itoh,Koichi Hanawa,Masami Mesuda,Daiki Shono. Владелец: Tosoh Speciality Materials Corp. Дата публикации: 2023-09-13.

Molybdenum tubular sputtering targets with uniform grain size and texture

Номер патента: EP1784518A2. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerone O'grady,Davd G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2007-05-16.

Methods of depositing thin films using molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20150136584A1. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-05-21.

Methods of depositing thin films using molybdenum sputtering targets

Номер патента: US9309591B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2016-04-12.

Thin film formation use sputtering target material, thin film formed using same, and optical recording medium

Номер патента: US20050129900A1. Автор: Takashi Ueno,Katsuhisa Aratani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-16.

Sputtering target material

Номер патента: US20120070332A1. Автор: Koichi Hasegawa,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-22.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US09926623B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma cleaning apparatus and method

Номер патента: US09552968B2. Автор: Mei Chang,David T. Or,Nan Lu,Martin Deehan,Matt Cheng-Hsiung Tsai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Method of producing a silicom/aluminum sputtering target

Номер патента: WO2000038862A1. Автор: Joseph C. Runkle. Владелец: Ultraclad Corporation. Дата публикации: 2000-07-06.

Sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: CA2623404A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Gerhard Woetting. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-12.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20160186311A1. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-30.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20130224059A1. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2013-08-29.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20120189483A1. Автор: Peter R. Jepson,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-07-26.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US9017600B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US8425833B2. Автор: Peter R. Jepson,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2013-04-23.

Sputtering target material

Номер патента: US20040055882A1. Автор: Koichi Hasegawa,Nobuo Ishii,Tomoyoshi Asaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-25.

Sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: WO2007041081A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Gerhard Woetting. Владелец: H. C. Starck Ceramics Gmbh & Co., Kg. Дата публикации: 2007-04-12.

Electrostatic puck assembly with metal bonded backing plate

Номер патента: US11742225B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Molecular-beam epitaxy system comprising an infrared radiation emitting heater and a thermally conductive backing plate including an infrared-absorbing coating thereon

Номер патента: US11926925B2. Автор: David B. Shrekenhamer,Michael C. Brupbacher,Adrian A. Podpirka. Владелец: JOHNS HOPKINS UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-12.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Tamayo Hiroki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

A sputtering apparatus having enhanced adhesivity of particles and a manufacturing method thereof

Номер патента: WO2004034450A1. Автор: Joo Sik Yoon. Владелец: TM TECH CO., LTD.. Дата публикации: 2004-04-22.

Sputtering target for magnetic recording film

Номер патента: US09683284B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Method to recover spent components of a sputter target

Номер патента: EP1549779A2. Автор: Robert B. Ford,Christopher A. Michaluk. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2005-07-06.

Sputtering Target for Magnetic Recording Medium, and Process for Producing Same

Номер патента: US20180163294A1. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Sputtering target for magnetic recording medium, and process for producing same

Номер патента: US09970099B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Sputtering target and powder for producing sputtering target

Номер патента: MY197929A. Автор: Atsushi Sato,Masayoshi Shimizu,Yasuyuki Iwabuchi,Akira SHIMOJUKU. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2023-07-25.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG178737A1. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2012-03-29.

Sputtering Target for Magnetic Recording Medium, and Process for Producing Same

Номер патента: US20150027882A1. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Sputtering target for forming magnetic thin film

Номер патента: MY184033A. Автор: Yuto MORISHITA. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Sputtering target and method for forming cesium tungsten oxide film

Номер патента: EP4350029A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-04-10.

Sputtering target and method for forming cesium tungsten oxide film

Номер патента: US20240117485A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG144792A1. Автор: ZHANG Wenjun. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2008-08-28.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG178742A1. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2012-03-29.

Sputtering target materials for forming alloys for soft-magnetic film layers in perpendicular magnetic recording media, and method for producing the same

Номер патента: MY159546A. Автор: HASEGAWA,Toshiyuki Sawada,Akihiko Yanagitani,Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-13.

Sb—Te-based alloy sintered compact sputtering target

Номер патента: US11846015B2. Автор: Hideyuki Takahashi,Yoshimasa Koido. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Fabrication of b/c/n/o/si doped sputtering targets

Номер патента: MY134322A. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-12-31.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: EP1942205A3. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2009-09-09.

Ag ALLOY REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND Ag ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING Ag ALLOY REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20070141296A1. Автор: Junichi Nakai,Tetsuhiro Sakamoto,Jun Nakano,Yuki Tauchi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2007-06-21.

Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target

Номер патента: SG136847A1. Автор: Anirban Das,Steven Roger Kennedy,Michael Gene Racine. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-11-29.

Sputtering target and method of fabrication

Номер патента: EP1848552A2. Автор: Charles E. Wickersham, Jr.,P. Todd Alexander,Vladimir I. Levit. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2007-10-31.

Sputtering Target And Method Of Fabrication

Номер патента: US20110297536A1. Автор: Charles E. Wickersham, Jr.,P. Todd Alexander,Vladimir Levit. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2011-12-08.

Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target

Номер патента: US20120177863A1. Автор: Yuki Tauchi,Yasuhiro Sone,Yoko Shida. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-07-12.

Method for coating, with metallic material, bodies made of spheroidal cast iron; back plate for dies for aluminium die casting made with said method

Номер патента: EP3019297A1. Автор: Luca GIAMBERINI. Владелец: D G WELD Srl. Дата публикации: 2016-05-18.

Backing plate and diffuser plate assembly

Номер патента: US20240344198A1. Автор: Guangwei Sun,Lai ZHAO,Jeffrey A. Kho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Backing plate and diffuser plate assembly

Номер патента: WO2024215913A1. Автор: Guangwei Sun,Lai ZHAO,Jeffrey A. Kho. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Manufacture method of AMOLED back plate and structure thereof

Номер патента: US09590020B2. Автор: Yuanjun Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Apparatus and method for cleaning semiconductor wafer

Номер патента: US5966766A. Автор: Peter A. Burke,Kevin D. Shipley. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-10-19.

Back plate and method for fluid-assisted assembly of micro-leds thereon

Номер патента: US20210359153A1. Автор: Shiue-Lung Chen,Cheng-Kuo Feng. Владелец: Advanced Optoelectronic Technology Inc. Дата публикации: 2021-11-18.

Back plate and method for fluid-assisted assembly of micro-leds thereon

Номер патента: US20220077345A1. Автор: Shiue-Lung Chen,Cheng-Kuo Feng. Владелец: Advanced Optoelectronic Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-10.

Manufacture method of AMOLED back plate and structure thereof

Номер патента: US09947736B2. Автор: Yuanjun Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Complementary thin film transistor driving back plate and preparing method thereof, and display device

Номер патента: US09647014B2. Автор: Gang Wang,Xiaodi LIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Plating or coating method for producing metal-ceramic coating on a substrate

Номер патента: US09562302B2. Автор: Wei Gao,Weiwei Chen. Владелец: Auckland Uniservices Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Vented mems apparatus and method of manufacture

Номер патента: EP2758335A1. Автор: Sung Bok Lee. Владелец: Knowles Electronics LLC. Дата публикации: 2014-07-30.

Assembly having a back plate with inserts

Номер патента: US6292374B1. Автор: Michael Gunnar Johnson,Janusz B. Sosnowski. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2001-09-18.

Solar cell module recycling apparatus and recycling method therefor

Номер патента: EP4288222A1. Автор: Chia-Tsung Hung,Yao-Hsien Fu,Cheng-Chen Liu,Hsueh-Pin TAI,Chun-Chih HU,How-Wei KE. Владелец: TAINAN, National University of. Дата публикации: 2023-12-13.

Solar cell module recycling apparatus and recycling method therefor

Номер патента: US20240123479A1. Автор: Chia-Tsung Hung,Yao-Hsien Fu,Cheng-Chen Liu,Hsueh-Pin TAI,Chun-Chih HU,How-Wei KE. Владелец: TAINAN, National University of. Дата публикации: 2024-04-18.

Backing plate assembly with jack screw for bare die device heat sink applications to ensure uniform loading

Номер патента: US12096601B2. Автор: Maxwell Thomas McKerlie. Владелец: Ciena Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Solar back plate capable of increasing light absorption rate

Номер патента: LU100305B1. Автор: Guangchuan Lu. Владелец: Guangzhou Chunyuan Tech Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-25.

Composite back plate and method of manufacturing the same

Номер патента: WO2016018624A1. Автор: Brandon Harrington. Владелец: Knowles Electronics, LLC. Дата публикации: 2016-02-04.

Heat sink securing means with back plate

Номер патента: US20030137820A1. Автор: WEN Chen,Hao-Yun Ma,Hsiang-Ping Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Heat sink securing means with back plate

Номер патента: US20030106708A1. Автор: Hao-Yun Ma. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-12.

Apparatus and method for bga coplanarity and warpage control

Номер патента: US20230395559A1. Автор: Dongji Xie,Ernesto A. Opiniano,Zhongming Wu,Joe Hai. Владелец: Nvidia Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Printed circuit board assembly having retention module and back plate

Номер патента: US20030161119A1. Автор: Ming-Lun Szu,Sen-Jong Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-28.

Display Back Plate and Display Device

Номер патента: US20240347543A1. Автор: Qi Yao,Yang Yue,Shi Shu,Xiang Li,Yong Yu,Chuanxiang XU,Wenqu Liu,Shipei Li,Shaohui LI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and methods for via connection with reduced via currents

Номер патента: US09888574B1. Автор: Atsushi MORISHIMA. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Backing Plate Assembly with Jack Screw for Bare Die Device Heat Sink Applications to Ensure Uniform Loading

Номер патента: US20230371208A1. Автор: Maxwell Thomas McKerlie. Владелец: Ciena Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Back plate assembly

Номер патента: US20100008049A1. Автор: Hong-Bo Xu. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-14.

Back plate assembly

Номер патента: US7639512B1. Автор: Hong-Bo Xu. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-29.

Back plate assembly and electronic device

Номер патента: US11894285B2. Автор: Wei Zhao,Zhiqiang Li,Biaobing Lv,Guoxiao Shen,Jinqiang Wang,Jiefeng ZHANG. Владелец: Tyco Electronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Display module, display apparatus and method for manufacturing same

Номер патента: US20230387144A1. Автор: Youngki Jung,Chulgyu Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Combined backing plate and housing for use in bump bonded chip assembly

Номер патента: US11804442B2. Автор: John Michael Cotte,Shawn Anthony Hall,David Abraham. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Combined backing plate and housing for use in bump bonded chip assembly

Номер патента: WO2022038062A3. Автор: John Cotte,David Abraham,Shawn Hall. Владелец: IBM Deutschland GmbH. Дата публикации: 2022-04-14.

Combined backing plate and housing for use in bump bonded chip assembly

Номер патента: WO2022038062A2. Автор: John Cotte,David Abraham,Shawn Hall. Владелец: IBM Deutschland GmbH. Дата публикации: 2022-02-24.

Combined backing plate and housing for use in bump bonded chip assembly

Номер патента: EP4200906A2. Автор: John Cotte,David Abraham,Shawn Hall. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Combined backing plate and housing for use in bump bonded chip assembly

Номер патента: US20230230927A1. Автор: John Michael Cotte,Shawn Anthony Hall,David Abraham. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Display panel, display apparatus, and spliced display apparatus

Номер патента: EP4350675A1. Автор: Chao Liu,Qi Qi,Jing Wang,Lili Wang,Huan WANG,Ming Zhai,Sha Feng,Chuhang Wang,Mingming Jia. Владелец: BOE Jingxin Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Heat dissipating device with back plate for electronic assembly

Номер патента: US7254028B2. Автор: YU HUANG,Chun-Chi Chen,Hsieh-Kun Lee,Shin-Hsuu Wung. Владелец: Fuzhun Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-07.

Metal back plate and manufacturing process thereof, backlight module and electronic device

Номер патента: US11966074B2. Автор: Zheng Wang. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Display back plate and method for manufacturing same, display panel and display device

Номер патента: US20220310568A1. Автор: Hao Chen,Li Xiao,LIANG Chen,MINGHUA XUAN,Haoliang ZHENG,Dongni LIU,Seungwoo HAN,Jiao Zhao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Metal back plate and manufacturing process thereof, backlight module and electronic device

Номер патента: US20220099881A1. Автор: Zheng Wang. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20010054551A1. Автор: Akira Okuda,Kiyoshi Saeki,Toshiyuki Fujioka,Shigeru Namiki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-27.

Target backing plate for sputtering system

Номер патента: US20060231393A1. Автор: Dean Smith,Ravi Mullapudi,Srikanth Dasaradhi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-19.

Sputter target feed system

Номер патента: WO2012027123A1. Автор: Craig R. Chaney. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-03-01.

Sputtering targets having life alarm function

Номер патента: US5487823A. Автор: Hiroki Nakamura,Susumu Sawada,Junichi Anan,Yoshihiro Sakaya. Владелец: Japan Energy Corp. Дата публикации: 1996-01-30.

Assembly and method to extend useful life of sputtering targets

Номер патента: CA1118715A. Автор: Lawrence E. O'connell,G. Frederick Nichols. Владелец: Delbar Products Inc. Дата публикации: 1982-02-23.

Semiconductor manufacturing apparatus and earth shield

Номер патента: US11887826B2. Автор: Takashi Izumi,Akitsugu Hatazaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Back plate of plasma display panel

Номер патента: WO2010067962A2. Автор: Jun Seok Park. Владелец: Orion Pdp Co., Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

AC drive type plasma display panel having display electrodes on front and back plates, and image display apparatus using the same

Номер патента: US20020171361A1. Автор: Yutaka Akiba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-21.

Method and apparatus for forming barrier ribs for use in flat panel displays, and back plates manufactured by this method

Номер патента: US20030117072A1. Автор: Manabu Yabe. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

X-ray analysis apparatus and x-ray generation unit

Номер патента: US20210389262A1. Автор: Tomoki Aoyama. Владелец: Horiba Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Apparatus and method for atomic force probing/SEM nano-probing/scanning probe microscopy and collimated ion milling

Номер патента: US09470712B1. Автор: Terence L. Kane,Jochonia N. Nxumalo,Matthew F. Stanton,Robert P. Marsin. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Fluorescent pattern, process for preparing the same, organic alkali developing solution for forming the same, emulsion developing solution for forming the same and back plate for plasma display using the same

Номер патента: US20010002302A1. Автор: Toranosuke Ashizawa,Takeshi Nojiri,Hiroyuki Tanaka,Naoki Kimura,Seiji Tai,Eiji Fujita,Yoshiyuki Horibe,Seikichi Tanno,Kazuya Satou,Mariko Shimamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-31.

Fluorescent pattern, process for preparing the same, organic alkali developing solution for forming the same, emulsion developing solution for forming the same and back plate for plasma display using the same

Номер патента: US20020037478A1. Автор: Toranosuke Ashizawa,Takeshi Nojiri,Hiroyuki Tanaka,Naoki Kimura,Seiji Tai,Eiji Fujita,Yoshiyuki Horibe,Seikichi Tanno,Kazuya Satou,Mariko Shimamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-28.

Gas intake device of magnetron sputtering vacuum chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09899192B2. Автор: Wenbo Sun,Qiping ZHANG. Владелец: Hefei BOE Display Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Ni-Fe alloy sputtering target for forming magnetic thin films, magnetic thin film, and method of manufacturing the Ni-Fe alloy sputtering target

Номер патента: US20010032686A1. Автор: Tsuneo Suzuki,Yuichiro Shindo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-25.

Sputtering target, optical information recording medium and method for producing same

Номер патента: EP1757712A4. Автор: H Takami,M Yahagi. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-17.

Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium optical information recordi medium and sputtering target

Номер патента: SG118417A1. Автор: Nakai Junichi,TAUCHI Yuuki,Takagi Katsutoshi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2006-01-27.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US8227067B2. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-24.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: EP2109543A1. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-21.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: WO2008099692A1. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2008-08-21.

Acoustic user interface apparatus and method for recognizing touch and rubbing

Номер патента: US09836157B2. Автор: Sung Min Park,Hui Sung Lee,Kwang Myung Oh,Sung Jin Sah. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-12-05.

Antenna apparatus and communication device

Номер патента: EP4376218A1. Автор: Chao Ren,Guoqing Xie,Weihong Xiao,Dingjiu DAOJIAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Backing plate for mounting and sealing an electrical connector to an intermediate surface

Номер патента: US11870178B2. Автор: Nicholas A. Durse,Adam Wolfgang. Владелец: Aptiv Technologies Ag. Дата публикации: 2024-01-09.

Electrical connector assembly including a back plate having a curved inner region and a flat outer region

Номер патента: US11831094B2. Автор: Chih-Kai Yang,Shan-Yong Cheng. Владелец: Foxconn Interconnect Technology Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Backing plate for mounting and sealing an electrical connector to an intermediate surface

Номер патента: US20220037829A1. Автор: Nicholas A. Durse,Adam Wolfgang. Владелец: Aptiv Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Header Backing Plate

Номер патента: US20230299546A1. Автор: David James Rhein,Adam Price Tyler,Thomas Robert Dewitte,Lindsey Gatesman,Zoran Krnetic,Praveen Kumar HM. Владелец: TE Connectivity Solutions GMBH. Дата публикации: 2023-09-21.

Back Plate and Electronic Device

Номер патента: US20220174836A1. Автор: Brian Patrick Costello,Guoxiao (Neo) Shen,Zhiqiang (Simon) Li,Jiefeng (Lear) Zhang,Jinqiang (Jeff) Wang. Владелец: Tyco Electronics AMP Qingdao Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Sputtering Target of Sintered Ti-Nb Based Oxide, Thin Film of Ti-Nb Based Oxide, and Method of Producing The Thin Film

Номер патента: US20140023868A1. Автор: Masataka Yahagi,Hideo Takami. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Method of producing a sputtering target

Номер патента: US20040058542A1. Автор: Michiaki Shinotsuka,Yukio Ide,Hiroko Iwasaki,Yoshiyuki Kageyama,Makoto Harigaya,Katsuyuki Yamada,Hiroshi Deguchi,Yujiro Kaneko. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-25.

Method for Producing Sputtering Target Material for Ni-W Based Interlayer

Номер патента: US20090022614A1. Автор: Toshiyuki Sawada,Akihiko Yanagitani. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-22.

Hydrogen separation membrane, sputtering target for forming said hydrogen separation membrane, and manufacturing method thereof

Номер патента: CA2585187C. Автор: Atsushi Nakamura,Akihisa Inoue,Hisamichi Kimura,Masataka Yahagi,Shin-Ichi Yamaura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2011-03-15.

Ag ALLOY FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR MANUFACTURING Ag ALLOY FILM

Номер патента: KR20040014362A. Автор: 다카기가츠토시,나카이주니치,다우치유우키,사토도시키. Владелец: 가부시키가이샤 고베 세이코쇼. Дата публикации: 2004-02-14.

Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target

Номер патента: US20120176883A1. Автор: Takeshi Miki,Yuki Tauchi,Yasuhiro Sone,Yoko Shida. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-07-12.

Flow cell apparatus and method of analysing biofilm development

Номер патента: EP3274439A1. Автор: Yehuda Cohen,Yee Cheong Lam,Chun Ping LIM,Quoc Mai Phuong NGUYEN. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2018-01-31.

Capacitive MEMS microphone with insulating support between diaphragm and back plate

Номер патента: US09820058B2. Автор: Zhengmin Benjamin Pan,Zhenkui Meng. Владелец: AAC Acoustic Technologies Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

System, apparatus and method for mounting a device

Номер патента: US20160334055A1. Автор: Steven Henry,Nicholas David Nagrodsky,William David Shields,James Strecker. Владелец: Alstom Transport Technologies SAS. Дата публикации: 2016-11-17.

Screwless and/or seamless cover plate and cover plate assemblies that comprise one or more retention members that selectively engage and substantially conform to the outer surface and edges of an electrical device, to releasably secure the cover plate to the electrical device with a backing plate therebetween

Номер патента: US09979172B2. Автор: Joseph TROJANOWSKI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-22.

Apparatus and method to prevent downward flow of liquid during a gas only washing cycle

Номер патента: US12059637B2. Автор: Matthew Roberts. Владелец: Roberts Marketing DE Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Folding metal back plate

Номер патента: US20220369485A1. Автор: Ching-Wen TAO. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2022-11-17.

Folding metal back plate

Номер патента: US11825621B2. Автор: Ching-Wen TAO. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Back plate of curved display device and curved display device using same

Номер патента: US09888593B2. Автор: Chi-Chen Huang,Ren-Mei Tseng. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2018-02-06.

Apparatus and method for condensation prevention for 2-phase cooling of test array

Номер патента: US20240361357A1. Автор: Peter Weixiang ZHENG. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Metal back plate, display apparatus, and pre-coating method of metal back plate

Номер патента: US20220121252A1. Автор: Bing Li,Liqiang Liu,Zuo Chai. Владелец: Shenzhen TCL Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Back plate apparatus with multiple layers having non-uniform openings

Номер патента: WO2013185013A2. Автор: Peter V. Loeppert,Eric J. Lautenschlager. Владелец: Knowles Electronics, LLC. Дата публикации: 2013-12-12.

Back plate component applicable to display device and display device

Номер патента: US09944040B2. Автор: Minhua Li,Youcai Chen. Владелец: Hisense USA Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Millimeter-wave communication chip, and display apparatus and method

Номер патента: EP4318958A1. Автор: Cheng Li,Wenxue Jin. Владелец: Deco Integration Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Display apparatus and method for manufacturing the same

Номер патента: US11958275B2. Автор: Chanhyeok PARK. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Back plate and mems microphone having the same

Номер патента: US20200280808A1. Автор: Han Choon Lee,Jong Won Sun,Kum Jae Shin. Владелец: DB HiTek Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-03.

Open top back plate optical microphone

Номер патента: WO2016007272A1. Автор: Jae H. Lee,Janhavi S. Agashe. Владелец: Apple Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Back plate and MEMS microphone having the same

Номер патента: US11418889B2. Автор: Han Choon Lee,Jong Won Sun,Kum Jae Shin. Владелец: DB HiTek Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-16.

Open top back plate optical microphone

Номер патента: US09510110B2. Автор: Jae H. Lee,Janhavi S. Agashe. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

First support assembly, support assembly system, display apparatus and double-sided display apparatus

Номер патента: US20230332737A1. Автор: Lei Cao,Yan Ren,Wenbin Wang,Yunpeng WU,Junmin Sun,Zifeng Wang,Jinggang Wei,Liping LEI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Apparatus and method for in-line monitoring of a bioprocess fluid

Номер патента: EP4263786A1. Автор: Andreu Fontova SOSA,Karim Jaber,Nicolas Petitfourg. Владелец: Global Life Sciences Solutions USA LLC. Дата публикации: 2023-10-25.

Apparatus and method for in-line monitoring of a bioprocess fluid

Номер патента: US20240209305A1. Автор: Andreu Fontova SOSA,Karim Jaber,Nicolas Petitfourg. Владелец: Global Life Sciences Solutions USA LLC. Дата публикации: 2024-06-27.

Modular drinking water filtration system with keyed attachment of filter head to mounting bracket and modular back plates

Номер патента: WO2009117552A3. Автор: Michael J. Kurth,Thomas E. Gaffney,Paul W. Eserkaln,Terry P. Zerger,Deborah K. Steffen. Владелец: Pentair Filtration, Inc.. Дата публикации: 2009-12-10.

Flat back plate

Номер патента: US20120225259A1. Автор: Pirmin Hermann Otto Rombach,Dennis Mortensen. Владелец: EPCOS AG. Дата публикации: 2012-09-06.

Apparatus and method for reducing crosstalk within a microphone

Номер патента: DK201170237A. Автор: Wade F Conklin,John G Christopher. Владелец: Knowles Electronics LLC. Дата публикации: 2011-05-13.

Combined back plate and assembly method thereof and backlight module using the same

Номер патента: US9239154B2. Автор: Dawei Zeng. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-19.

Back plate with a tunable curvature, backlight module and curved display device having the same

Номер патента: US20170150624A1. Автор: Jiyang Shao,Yuxin BI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-25.

Modular display apparatus and method for controlling thereof

Номер патента: US20220283768A1. Автор: Youngkook Kim,Sangwon Kim,Jeongryeol Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Modular display apparatus and method for controlling thereof

Номер патента: US20210373838A1. Автор: Youngkook Kim,Sangwon Kim,Jeongryeol Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-02.

Display device and back plate thereof

Номер патента: US11737217B2. Автор: Zhitao ZHU. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

MMC disc brake back plate and a method of manufacture by extrusion

Номер патента: GB2351504A. Автор: Takashi Kato,Yasuhiro Nakao,Hiroto Shoji,Kunitoshi Sugaya,Takaharu Echigo. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-03.

Processor back-plate devices

Номер патента: US20240081014A1. Автор: Fu-Yi Chen,Jui-Ming Chien. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-03-07.

Modular drinking water filtration system with keyed attachment of filter head to mounting bracket and modular back plates

Номер патента: WO2009117552A2. Автор: Michael J. Kurth,Thomas E. Gaffney,Paul W. Eserkaln,Terry P. Zerger,Deborah K. Steffen. Владелец: Pentair Filtration, Inc.. Дата публикации: 2009-09-24.

Novel cathode conductive roller device for sheet-type plating or sheet-type cleaning machine

Номер патента: US20240360583A1. Автор: Wenzhong CHEN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-31.

Abrasion resistant steel plate or steel sheet excellent in resistance to stress corrosion cracking and method for manufacturing the same

Номер патента: US09938599B2. Автор: Nobuyuki Ishikawa,Keiji Ueda. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Apparatus and method of generating electricity from wind energy

Номер патента: US4146800A. Автор: Alma K. Schurig,Stephen E. Gregory. Владелец: Gregory Stephen E. Дата публикации: 1979-03-27.

Procedure for production of high purity tungsten for sputtering target

Номер патента: RU2434960C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Bonding of targets to backing plate members

Номер патента: WO1996014956A1. Автор: Eugene Y. Ivanov,Tatyana F. Grigoriva,Vladimir V. Boldyrev. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 1996-05-23.

Alloy and sputtering target material for seed layer in ni-cu-based magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: MY186853A. Автор: Hasegawa Hiroyuki,Shinmura Yumeki. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Determination of actual defect size in cathode sputter targets subjected to ultrasonic inspection.

Номер патента: GB2358249A. Автор: Paul S Gilman,Alfred Snowman,Andre Desert. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2001-07-18.

Procedure for production of high purity molybdenum for sputtering target

Номер патента: RU2434959C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Mechanism for fastening in a swivelling manner a plate carrier to a telescopic mast of a plate-lifting apparatus, and plate-lifting apparatus equipped with this mechanism

Номер патента: US09909325B2. Автор: Lionel Marcon. Владелец: Pierre Grehal et Cie SA. Дата публикации: 2018-03-06.

Decorative linen storage apparatus and methods of use

Номер патента: US20200405049A1. Автор: Jay Scott SHORE,Jacqueline Denise SHORE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Set for heating water distribution to and from a two-plate or single-plate radiator

Номер патента: WO2023083395A1. Автор: Tomás HRDLICKA,Tomáš Paukert,Jiří Pirkl. Владелец: Korado, A.S.. Дата публикации: 2023-05-19.

Adjustable back plate for mechanical compression device

Номер патента: US20220133587A1. Автор: Anders Nilsson,Thomas Falk,Jonas Lagerstrom,Anders Jeppsson,Marcus Ehrstedt,Fredrik Arnwald,Sara Lindroth,Eric SANDRUP,Tyson Taylor,David LINVILLE. Владелец: Physio Control Inc. Дата публикации: 2022-05-05.

Apparatus and method for sealing a pipe including internal and external gripping means

Номер патента: US09664326B2. Автор: Glenn Carson,Guy Berube. Владелец: Car Ber Investments Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Display apparatus and panel fixing device thereof

Номер патента: US09835791B2. Автор: Li-Hui Chen,Wei-Chung Lu,Yong-Wei Zhao. Владелец: Radiant Opto Electronics Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Cone dispensing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240300754A1. Автор: Chris Martin. Владелец: Interbake Foods LLC. Дата публикации: 2024-09-12.

Apparatus and methods for transmutation of elements

Номер патента: US09576690B2. Автор: William Vaden Dent, Jr.. Владелец: Dent International Research Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Apparatus and method for making seamless soft stamps

Номер патента: WO2022031404A1. Автор: Manivannan Thothadri,Arvinder CHADHA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-02-10.

Capacitance sensing apparatus and method for detecting gas-liquid transitions

Номер патента: WO2019084573A1. Автор: Akshat Sharma,Peter Charles Cornwell,Ruihua XIE. Владелец: FLOWSERVE MANAGEMENT COMPANY. Дата публикации: 2019-05-02.

Simulation apparatus for optimizing sputtering apparatus and simulation method therefor

Номер патента: US5850356A. Автор: Hiroaki Yamada,Toshiyuki Ohta,Toshiki Shinmura. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-12-15.

Improvements relating to clamping or back plates for use in attaching pronged members to textile fabric or like flexible material

Номер патента: GB799496A. Автор: Herbert Howard Wood. Владелец: Thomas Walker Ltd. Дата публикации: 1958-08-06.

Systems, apparatus and methods for testing and predicting the performance of concrete mixtures

Номер патента: CA2975337C. Автор: Farrokh F. Radjy. Владелец: Quipip LLC. Дата публикации: 2023-08-29.

Systems, apparatus and methods for testing and predicting the performance of concrete mixtures

Номер патента: US09766221B2. Автор: Farrokh F. Radjy. Владелец: Quipip LLC. Дата публикации: 2017-09-19.

Composite disc brake backing plate

Номер патента: RU2648551C2. Автор: Рэй АРБЕСМАН,Нгхи ПХАМ,Винстон МАККЕЛВИ. Владелец: Р.А. Инвестмент Менеджмент С.А.Р.Л.. Дата публикации: 2018-03-26.

Disc brake piston retraction tool with backing plate expansion structure

Номер патента: US20230167863A1. Автор: Tian Shoei Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-01.

Back-plate composition, back plate, brake pad, and caliper device

Номер патента: US20150275990A1. Автор: Hideaki Inokuchi,Hidemi Yazawa. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-01.

Positioning device for the work-piece backing plate of a table sawing machine

Номер патента: US20070095184A1. Автор: Bor-Yann Chuang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-03.

Back plate for a breathing apparatus

Номер патента: WO2019211627A1. Автор: Timothy McKay,Evan HANNARD. Владелец: DRAEGER SAFETY UK LIMITED. Дата публикации: 2019-11-07.

Spiral ore concentrating pad apparatus and method

Номер патента: WO1982001830A1. Автор: Keith Cleland. Владелец: Keith Cleland. Дата публикации: 1982-06-10.

Confinement of a rope seal about a passage using a backing plate

Номер патента: US20210246804A1. Автор: Amy M. SUNNARBORG,Brendan J. Dugan. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Back plate assembly and backlight module

Номер патента: US09989695B2. Автор: Teng-Yi Huang,Chien-Hung Chen,Min-Jui KAO,Yung-Chieh CHAO. Владелец: Radiant Opto Electronics Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Back-plate composition, back plate, brake pad, and caliper device

Номер патента: US09618065B2. Автор: Hideaki Inokuchi,Hidemi Yazawa. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Fixture for assembling light strip and back plate

Номер патента: US09575242B2. Автор: Yongda Ma. Владелец: Beijing BOE Chatani Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Backing plate for small arms

Номер патента: RU2710120C1. Автор: Олег Владимирович Печурин. Владелец: Олег Владимирович Печурин. Дата публикации: 2019-12-24.

Apparatus and methods for resizing electronic displays

Номер патента: US8235761B2. Автор: Lawrence E. Tannas, Jr.. Владелец: Tannas Jr Lawrence E. Дата публикации: 2012-08-07.

Ink fountain apparatus and method of adjusting ink flow for a flexographic printing apparatus

Номер патента: US20140261034A1. Автор: Ronald K. Westby. Владелец: Probity Engineering LLC. Дата публикации: 2014-09-18.

Ink fountain apparatus and method of adjusting ink flow for a flexographic printing apparatus

Номер патента: EP2969568A2. Автор: Ronald K. Westby. Владелец: Probity Engineering LLC. Дата публикации: 2016-01-20.

Apparatus and method for removal of back-plated developer

Номер патента: WO1999041645A1. Автор: James A. Baker,Troy D. Schubert. Владелец: Imation Corp.. Дата публикации: 1999-08-19.

Fan apparatus and methods of use

Номер патента: GB2602987A. Автор: Jamieson Riddoch Henry,David Try Phillip. Владелец: Cool T Ltd. Дата публикации: 2022-07-27.

Back plate, frame structure, backlight module and display apparatus

Номер патента: US20240219623A1. Автор: Junjie Guo,Jiantao Liu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for securing a distributor plate to a backing plate of a chromatography column and a chromatography column

Номер патента: US20130240426A1. Автор: Shashikanth Agnihotry,Manoj Kumar Ramakrishna. Владелец: GE Healthcare Bio Sciences AB. Дата публикации: 2013-09-19.

LCD Device and Its Backlight Module and Back Plate Assembly

Номер патента: US20140028946A1. Автор: Dehua Li,Yi-Cheng Kuo,Chengwen Que,Yu-Chun Hsiao,Pangling Zhang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-30.

A back plate for a breathing apparatus

Номер патента: WO2019243804A1. Автор: Gordon Wrigley,Jason Edward Allan. Владелец: DRAEGER SAFETY UK LIMITED. Дата публикации: 2019-12-26.

Apparatus and method for extracting and conveying printing plates

Номер патента: US20020152910A1. Автор: Tsukasa Ono. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-24.

Die assembly and method of use for manufacturing backing plates of friction assemblies

Номер патента: CA3089410A1. Автор: Raj Thalappath. Владелец: Util Canada Ltd. Дата публикации: 2022-02-07.

Method and apparatus for the adhesive bonding of a sensor assembly backing plate to a vehicle window

Номер патента: US20010052568A1. Автор: Martin Krug,Karl-Heinz Krieg. Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2001-12-20.

Back plate unit and backlight module of display device

Номер патента: US20230077713A1. Автор: Chien-Lung Huang,Hung-Chi Cheng,Chia-Chang Tsai,Chih-Yuan SUNG. Владелец: Top Victory Investments Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Back plate for a breathing apparatus

Номер патента: US20240238626A1. Автор: Gordon Wrigley,Jason Allan. Владелец: Draeger Safety UK Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Back plate for a breathing apparatus

Номер патента: US12023532B2. Автор: Gordon Wrigley,Jason Edward Allan. Владелец: Draeger Safety UK Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Drip catcher apparatus and method

Номер патента: US09926184B2. Автор: Keith L. Davis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-27.

Torque converter lockup clutch backing plate

Номер патента: US09897149B2. Автор: Michael Rietdorf,Jezrah Horen,Thinh Nguyen. Владелец: Allison Transmission Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Multiple aperture probe internal apparatus and cable assemblies

Номер патента: US09788813B2. Автор: David M. Smith,Kenneth D. Brewer,Donald F. Specht,Sharon L. Adam. Владелец: Maui Imaging Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Display and dispensing apparatus and method

Номер патента: US09782017B1. Автор: Michael D. Luberto,Michael D. Desena,Getachew Kassa,Gary Forman. Владелец: Henschel Steinau Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Apparatus and method for multi-beam direct engraving of elastomeric printing plates and sleeves

Номер патента: US09744619B2. Автор: Wolfgang Sievers. Владелец: Esko Graphics Imaging GmbH. Дата публикации: 2017-08-29.

Fixation of device to back plate

Номер патента: US09539173B2. Автор: Anders Torbjörn Jeppsson. Владелец: Physio Control Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Drip catcher apparatus and method

Номер патента: US09469518B2. Автор: Keith L. Davis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-18.

Protective headgear and shoulder pad apparatus and methods

Номер патента: US09462841B1. Автор: William POPEJOY. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-11.

Back plate, backlight module using the back plate and display device using the same

Номер патента: US09341892B2. Автор: Feng-Chang Chang,Chia-Hsin Chang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

A method of, and apparatus and carrier sheet for, composing for reproduction

Номер патента: GB1038102A. Автор: Cecil Edward Carrington Wood. Владелец: QUIKLISTA Ltd. Дата публикации: 1966-08-03.

Apparatus and method for re-shaping brake cores

Номер патента: CA2379629C. Автор: Lawrence E. Bostic. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2006-08-01.

Centrifugal fan, air conditioning apparatus, and refrigeration cycle apparatus

Номер патента: US11976824B2. Автор: Hiroyasu Hayashi,Hiroshi Tsutsumi,Ryo Horie,Takuya Teramoto,Takahiro Yamatani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Double overlap backing plate attachment

Номер патента: US20090152067A1. Автор: Ryan Cmich. Владелец: LuK Lamellen und Kupplungsbau Beteiligungs KG. Дата публикации: 2009-06-18.

Steel backing plate wiredrawing equipment and method

Номер патента: US11787004B2. Автор: Xingping FENG,Kaixu Yuan,Po DU. Владелец: Yantai Xingchuang Automobile Parts Co ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Door operator system with adaptor and back plate

Номер патента: WO2020214597A1. Автор: Lee Griswold,Tommy Mcnally. Владелец: ASSA ABLOY Accessories and Door Controls Group, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Steel backing plate wiredrawing equipment and method

Номер патента: US20230294229A1. Автор: Xingping FENG,Kaixu Yuan,Po DU. Владелец: Yantai Xingchuang Automobile Parts Co ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Back plate and manufacturing method thereof, backlight module and display apparatus

Номер патента: US20240219775A1. Автор: LUO Zhang,Xiaoping Zhang,Fangyi Liu,Quanzhou LIU,Jian Ren,Yaodong Wang,Yangli ZHENG. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Color measuring system, backing plate, and color measuring apparatus

Номер патента: US20230194340A1. Автор: Katsumi Yamada,So YOKOTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

A back plate for a breathing apparatus

Номер патента: EP3810290A1. Автор: Gordon Wrigley,Jason Edward Allan. Владелец: Draeger Safety UK Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Back plate unit and backlight module of display device

Номер патента: US11656401B2. Автор: Chien-Lung Huang,Hung-Chi Cheng,Chia-Chang Tsai,Chih-Yuan SUNG. Владелец: Top Victory Investments Ltd. Дата публикации: 2023-05-23.

Back plate for a brake pad of a disc brake assembly and manufacturing method thereof

Номер патента: US09995356B2. Автор: Francesco Rangoni,Raffaele Gabriele VIRONDA,Rodolfo PIZZIO. Владелец: Util Industries SpA. Дата публикации: 2018-06-12.

Backing plate

Номер патента: US09863439B2. Автор: David A. Dorman,Craig M. Beers,Seth E. Rosen. Владелец: Hamilton Sundstrand Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Back plate and method for manufacturing the same and backlight module

Номер патента: US09651733B2. Автор: Tsung-Hsin Liu,Qing-Song LI,Chih-Ming CHAN. Владелец: Radiant Opto Electronics Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Back plate, backlight module and display device

Номер патента: US10935827B1. Автор: Xiaoli Xia. Владелец: K Tronics Suzhou Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-02.

Back plate, backlight module and display device

Номер патента: US20210063805A1. Автор: Xiaoli Xia. Владелец: K Tronics Suzhou Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Array type automobile seat profile adaptive-adjusting apparatus and method

Номер патента: US20190135150A1. Автор: Fei Gao,Zhenhai Gao,Chuanliang Shen,Binyu Zhou,Tairong Sun. Владелец: Jilin University. Дата публикации: 2019-05-09.

Display apparatus and display method

Номер патента: US20230408756A1. Автор: LI Wu,Baohong KANG. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Backing plate retainer

Номер патента: CA2032718A1. Автор: Hideo Nonaka. Владелец: Yoshida Kogyo KK. Дата публикации: 1991-06-27.

Steel backing plate wiredrawing equipment and method

Номер патента: GB2616927A. Автор: Feng Xingping,Bi Dezhong,Feng Dongping. Владелец: Yantai Xingchuang Automobile Parts Co ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Steel backing plate wiredrawing equipment and method

Номер патента: GB2616927A8. Автор: Feng Xingping,Bi Dezhong,Feng Dongping. Владелец: Yantai Xingchuang Automobile Parts Co ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Liquid discharge head, liquid discharge apparatus, and method for manufacturing liquid discharge head

Номер патента: US20240316933A1. Автор: Jun Zhang,Yasunori Sugimoto,Toshihiro Kanematsu,Sho Kawakami,Kiyoshi Amari. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Exoskeleton with a back plate

Номер патента: US20240315864A1. Автор: Lennart Wenzel,Peer Gross,Torben Söker. Владелец: Draeger Safety AG and Co KGaA. Дата публикации: 2024-09-26.

Pad conditioner with polymer backing plate

Номер патента: EP4408615A1. Автор: Ajoy Zutshi,Doruk Yener,Joseph Sousa,Laundy OEUR,Elango BALU. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-07.

Back plate of waist support

Номер патента: US09801751B2. Автор: meng-chun Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-31.

Turbo charger compressor with integrated back plate and bearing housing

Номер патента: US09470106B2. Автор: Louis P. Begin,Brian J. Edwards. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2016-10-18.

Place of rail attachment and backing plate

Номер патента: RU2706157C2. Автор: Мартин ГНАЧИНСКИЙ,Тим ОЛБРИХ,Дитмар БЕКЕР. Владелец: ФОССЛО-ВЕРКЕ ГМБХ. Дата публикации: 2019-11-14.

Combination carburetor backing plate and crankcase breather

Номер патента: US5937816A. Автор: John Garfield Wincewicz,David George Skagen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-17.

Torque tube and conical back plate for aircraft brake systems

Номер патента: CA2413973C. Автор: John G. Evrard. Владелец: Aircraft Braking Systems Corp. Дата публикации: 2009-12-08.

Railway brake shoe backing plate with improved mounting alignment feature

Номер патента: CA2234813C. Автор: Joseph C. Kahr. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 2002-06-18.

Display device with sliding back plates having an array of light passages

Номер патента: CA1071880A. Автор: Gerald W. Michel,Roger A. Slack. Владелец: Everbrite Electric Signs Inc. Дата публикации: 1980-02-19.

Link element including a casing formed of a plate and a back plate

Номер патента: CA2552424C. Автор: Philippe Loetscher. Владелец: Swatch Group Management Services AG. Дата публикации: 2013-12-24.

Adapted back plate apparatus and method for improved die-cutting

Номер патента: US20090100970A1. Автор: Michael Noon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-04-23.

Back Plate for Use with a Backlight Module, A Backlight Module Using the Same, and the Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20130258642A1. Автор: Hung-Chih Chen,Chih-Shun Fan,Chiao-Kun Yu. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2013-10-03.

Adapted back plate apparatus and method for improved die-cutting

Номер патента: WO2009051630A8. Автор: Michael Noon. Владелец: Michael Noon. Дата публикации: 2009-06-04.

Brake pad unit, composite backing plate and method of manufacturing a backing plate

Номер патента: GB2622873A. Автор: Savage Luke,Erland Samuel. Владелец: University of Exeter. Дата публикации: 2024-04-03.

Apparatus and method for installing deck mounted faucets

Номер патента: US20240060280A1. Автор: Michael Camozzi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-22.

Back plate for a harness

Номер патента: EP2155015A1. Автор: Daniel Carlsson. Владелец: HUSQVARNA AB. Дата публикации: 2010-02-24.

Brake pad unit, composite backing plate and method of manufacturing a backing plate

Номер патента: WO2024069135A1. Автор: Luke SAVAGE,Samuel ERLAND. Владелец: University of Exeter. Дата публикации: 2024-04-04.

Back plate assembly and backlight module

Номер патента: US20180246272A1. Автор: Teng-Yi Huang,Chien-Hung Chen,Min-Jui KAO,Yung-Chieh CHAO. Владелец: Radiant Opto Electronics Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Back plate of liquid crystal display module and splice structure thereof

Номер патента: US20130119216A1. Автор: Jiahe Cheng,Quan Li,Yicheng Kuo,Chong Huang,Chengwen Que,Yu-Chun Hsiao,Liu-Yang Yang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-16.

Customized Wheelchair Having Back Plate and Seat Plate Formed to Fit Body Shape and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20080157417A1. Автор: Sung Lae Kim. Владелец: Eugene Medicare Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-03.

Method of manufacturing a back plate and a seat plate and a wheelchair having the same

Номер патента: US7906050B2. Автор: Sung Lae Kim. Владелец: Eugene Medicare Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-15.

Customized wheelchair having back plate and seat plate formed to fit body shape and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1989033A1. Автор: Sung Lae Kim. Владелец: Eugene Medicare Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-12.

Adapted back plate apparatus and method for improved die-cutting

Номер патента: WO2009051630A1. Автор: Michael Noon. Владелец: Michael Noon. Дата публикации: 2009-04-23.

Multiple-Piece Backing Plate Having Parts Made Of Different Materials

Номер патента: US20180031050A1. Автор: Gregory W. Deneszczuk,Manuel Martinez Sanchez. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2018-02-01.

Light-based aligner seating apparatus and methods

Номер патента: US20230263597A1. Автор: Richard Johnson,Nicholas Puro. Владелец: Periotech LLC. Дата публикации: 2023-08-24.

Light-based aligner seating apparatus and methods

Номер патента: AU2023224953A1. Автор: Richard Johnson,Nicholas Puro. Владелец: Periotech LLC. Дата публикации: 2024-08-29.

Injection molding apparatus and method of external induction heating with alternating insert plates

Номер патента: US12083725B2. Автор: Minh Son Pham. Владелец: Hcmc University Of Technology And Education. Дата публикации: 2024-09-10.

Backlight unit, liquid-crystal display apparatus, and stacked structure

Номер патента: US09869809B2. Автор: Hiroshi Yamamoto,Takashi Kuroda,Keiji Kashima,Yasuki Suzuura. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-01-16.

Integrated fiber reinforced ceramic matrix composite brake pad and back plate

Номер патента: US5984055A. Автор: Steven Donald Atmur,Thomas Edward Strasser. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 1999-11-16.

Integrated fiber reinforced ceramic matrix composite brake pad and back plate

Номер патента: US6062351A. Автор: Steven Donald Atmur,Thomas Edward Strasser. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Device for clamp-up of flow module plates, reactor plates or heat-exchanger plates

Номер патента: RU2447385C2. Автор: Каспер ХЕГЛУНД,Томми НОРЕН,Магнус ЛИНГВАЛЛЬ. Владелец: Альфа Лаваль Корпорейт Аб. Дата публикации: 2012-04-10.

Apparatus and method for forming an antipollution device housing

Номер патента: CA2769348C. Автор: Richard Sojak,James E. Kys. Владелец: GWS Tube Forming Solutions Inc. Дата публикации: 2018-08-21.

Backing plate for a clutch disc

Номер патента: US5158165A. Автор: Richard A. Flotow. Владелец: Dana Inc. Дата публикации: 1992-10-27.

Backing plate means for a servomotor

Номер патента: CA1042488A. Автор: Harold H. Welsh (Jr.). Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1978-11-14.

Apparatus and methods for transmutation of elements

Номер патента: AU2013274040B2. Автор: William Vaden Dent Jr.. Владелец: Dent International Research Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Improvements in back plates for artificial teeth

Номер патента: GB160009A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1921-03-17.

Disc brake pad and method of making a backing plate therefor

Номер патента: CA1082114A. Автор: Roman Arbesman,Simon Arbesman,Albert Bachli. Владелец: Royal Industries Inc. Дата публикации: 1980-07-22.

Carbon fiber reinforced carbon matrix composite for brake pad back plate

Номер патента: EP2324263A2. Автор: Lawrence Frank Gilboy,Richard A. Wolf,Aaron M. Morey. Владелец: Hawk Corp. Дата публикации: 2011-05-25.

Backing plate means for a servomotor

Номер патента: US4005639A. Автор: Harold H. Welsh, Jr.. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1977-02-01.

Moulding apparatus and to a method of moulding

Номер патента: GB1427907A. Автор: . Владелец: Koehring Co. Дата публикации: 1976-03-10.

Back plate for a brake pad of a disc brake assembly and manufacturing method thereof

Номер патента: MY177956A. Автор: Francesco Rangoni,Raffaele Gabriele VIRONDA,Rodolfo PIZZIO. Владелец: Util Ind S P A. Дата публикации: 2020-09-28.

Reduced profile brake backing plate

Номер патента: WO2024036415A1. Автор: Roman Arbesman. Владелец: NUCAP INDUSTRIES INC.. Дата публикации: 2024-02-22.

Light emitting unit and back plate thereof

Номер патента: US20080074877A1. Автор: Hsin-Po Hsieh. Владелец: Gio Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2008-03-27.

Method and arrangement for securing a distributor plate to a backing plate of a chromatography column

Номер патента: US20130248431A1. Автор: Stefan K. Eriksson. Владелец: GE Healthcare Bio Sciences AB. Дата публикации: 2013-09-26.

Display Device, Back Plate Element and Splicing Parts of Backlight Module and Manufacturing Mold for Splicing Parts Thereof

Номер патента: US20140043792A1. Автор: Dehua Li,Yi-Cheng Kuo,Chengwen Que,Yu-Chun Hsiao,Pangling Zhang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Spring clip for mounting a sensor on a disk-brake brakeshoe backing plate

Номер патента: US8069960B2. Автор: Günter Jäger,Manuel Wille. Владелец: Hirschmann Automotive GmbH. Дата публикации: 2011-12-06.

Magnetic field enhancing backing plate for mram wafer testing

Номер патента: EP3341942A1. Автор: Seung Hyuk KANG,Chando Park,Matthias Georg GOTTWALD,Jimmy Kan. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-07-04.

Magnetic field enhancing backing plate for mram wafer testing

Номер патента: WO2017034755A1. Автор: Seung Hyuk KANG,Chando Park,Matthias Georg GOTTWALD,Jimmy Kan. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2017-03-02.

Metal backing plate structure for a liquid crystal display module

Номер патента: US20030133056A1. Автор: Ching-Kun Lai. Владелец: Hannstar Display Corp. Дата публикации: 2003-07-17.

Torque converter lockup clutch backing plate

Номер патента: EP3259503A1. Автор: Michael Rietdorf,Jezrah Horen,Thinh Nguyen. Владелец: Allison Transmission Inc. Дата публикации: 2017-12-27.

Apparatus and process for cylindrically grinding workpieces

Номер патента: US20070161336A1. Автор: Shih-Chieh Yen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-12.

Apparatuses and Methods for Fabricating a Composite Structure and Reacting to a Placement Force

Номер патента: US20200016849A1. Автор: Keith D. Humfeld,Adam B. Lubchansky. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2020-01-16.

Method and arrangement for securing a distributor plate to a backing plate of a chromatography column

Номер патента: EP2646816A1. Автор: Stefan K. Eriksson. Владелец: GE Healthcare Bio Sciences AB. Дата публикации: 2013-10-09.

Back plates for mechanical cpr compression

Номер патента: US20170348190A1. Автор: Anders Jeppsson,Marcus Ehrstedt,Lars Anders Nilsson. Владелец: JOLIFE AB. Дата публикации: 2017-12-07.

Backing plate for a disc brake of a motor vehicle and method for manufacturing said backing plate

Номер патента: CA3171039A1. Автор: Dirk Schneider,Frank Berghaus. Владелец: TMD Friction Services GmbH. Дата публикации: 2021-09-16.

Method for securing a distributor plate to a backing plate of a chromatography column and a chromatography column.

Номер патента: WO2012074464A1. Автор: Shashikanth Agnihotry,Manoj Kumar Ramakrishna. Владелец: GE HEALTHCARE BIO-SCIENCES AB. Дата публикации: 2012-06-07.

Method for securing a distributor plate to a backing plate of a chromatography column and a chromatography column.

Номер патента: EP2646817A1. Автор: Shashikanth Agnihotry,Manoj Kumar Ramakrishna. Владелец: GE Healthcare Bio Sciences AB. Дата публикации: 2013-10-09.

Roller, sprag or ratchet one-way clutch with two backing plates

Номер патента: EP2044344A1. Автор: James R. Papania,Craig S. Larson,Douglas J. Slager. Владелец: BorgWarner Inc. Дата публикации: 2009-04-08.

Mechanism for securing a vehicle protection system and a backing plate of a brake assembly to an axle of a vehicle

Номер патента: US20240270322A1. Автор: Gregory Adam Bowen,Todd Ryan Smith,Zackary Donald Patterson. Владелец: Rv De Fender LLC. Дата публикации: 2024-08-15.

Exoskeleton with a back plate

Номер патента: GB2628715A. Автор: Gross Peer,Wenzel Lennart,Söker Torben. Владелец: Draeger Safety AG and Co KGaA. Дата публикации: 2024-10-02.

Back plate assemblies for home hardware

Номер патента: US09869424B1. Автор: Earl David Forrest,James Leroy Daniels,Neil Thomas Edwards. Владелец: Liberty Hardware Manufacturing Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Backing plate for adhesive flap wheels

Номер патента: US09849564B2. Автор: Josef Brandstetter,Armando Rios Hernández. Владелец: Industrias Tenazit SA de CV. Дата публикации: 2017-12-26.

Method, apparatus and system for providing a uniform laminate structure

Номер патента: US09789675B1. Автор: Hongqin Shi. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2017-10-17.

Back plates for mechanical CPR compression

Номер патента: US09629776B2. Автор: Anders Nilsson,Anders Torbjörn Jeppsson. Владелец: Physio Control Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Vehicle exterior rearview mirror system having an indicator at a back plate of an exterior rearview mirror assembly

Номер патента: US9302624B2. Автор: Niall R. Lynam. Владелец: Donnelly Corp. Дата публикации: 2016-04-05.

Composite disc brake backing plate

Номер патента: CA2798303C. Автор: Ray Arbesman,Nghi Pham,Winston Mackelvie. Владелец: Nugripmetal SARL. Дата публикации: 2019-01-08.

Friction wedge liner with backing plate

Номер патента: US6701850B2. Автор: Bruce W. Shute,Thomas W. Mccabe,Joseph F. Formolo. Владелец: Westinghouse Air Brake Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-09.

Corner joint clip with self-backing plate

Номер патента: US11131140B2. Автор: Ion-Horatiu Barbulescu,Greg B. McKenna. Владелец: Arconic Technologies LLC. Дата публикации: 2021-09-28.

Concentration apparatus and method

Номер патента: US3098818A. Автор: Arthur C Daman,Jr Thomas S Bailey. Владелец: Denver Equipment Co. Дата публикации: 1963-07-23.

Backing plates for abrasive disks

Номер патента: CA2238718C. Автор: Anthony Alfred Van Osenbruggen. Владелец: Norton Co. Дата публикации: 2001-11-20.

Method of securing a shim to a backing plate and subassembly formed thereby

Номер патента: CA2585103C. Автор: Robert R. Bosco, Jr.. Владелец: Anstro Manufacturing Inc. Дата публикации: 2011-07-05.

Stake puller with stake supporting back plate

Номер патента: US5597151A. Автор: Charles W. Duncan. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-01-28.

Brake shoe with insert bonded to backing plate

Номер патента: CA2313727C. Автор: Bruce W. Shute,Joseph C. Kahr. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 2004-04-06.

Means for reducing the gap between rotor-backing plate interface during brake depressurization

Номер патента: US4117912A. Автор: Joseph P. Ruppe, Jr.. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1978-10-03.

Pad conditioner with polymer backing plate

Номер патента: WO2023055663A1. Автор: Ajoy Zutshi,Doruk Yener,Joseph Sousa,Laundy OEUR,Elango BALU. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-06.

Door operator system with adaptor and back plate

Номер патента: US20230279714A1. Автор: Lee Griswold,Tommy Mcnally. Владелец: Assa Abloy Accessories and Door Controls Group Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Brake systems having back plates with thermal management features

Номер патента: US20230279915A1. Автор: A. Gary Bowden,James Wesley Sugg,Matthew P. Jarusinski. Владелец: Transportation IP Holdings LLC. Дата публикации: 2023-09-07.

Back plate and method for manufacturing the same and backlight module

Номер патента: US20160223738A1. Автор: Tsung-Hsin Liu,Qing-Song LI,Chih-Ming CHAN. Владелец: Radiant Opto Electronics Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Liquid Crystal Display Device, Backlight Module and Back Plate Component

Номер патента: US20140043557A1. Автор: Dehua Li,Yi-Cheng Kuo,Chengwen Que,Yu-Chun Hsiao,Pangling Zhang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Spring clip for mounting a sensor on a disk-brake brakeshoe backing plate

Номер патента: US20100000826A1. Автор: Günter Jäger,Manuel Wille. Владелец: Hirschmann Automotive GmbH. Дата публикации: 2010-01-07.

Backing plate for a buffing pad

Номер патента: EP2429763A1. Автор: Aaron C. Krause,Aleksandrs Titovs. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2012-03-21.

Apparatus for securing sheet metal panels for butt-welding with integral copper backing plate

Номер патента: US9862062B1. Автор: Edward Gerald Palmer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-09.

Backlight unit comprising bent curve-shaped back plate, and curved display device using the same

Номер патента: US20180004039A1. Автор: Hwan Jin Kim,Gi Yun EOM. Владелец: Tovis Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Height adjustable two-part hanger with back plate

Номер патента: WO2022031421A1. Автор: Timothy F. Gillis,Logan CARLSON,Jonathan W. DEZIELLE. Владелец: OMG, Inc.. Дата публикации: 2022-02-10.

Height Adjustable Two-Part Hanger With Back Plate

Номер патента: US20230265647A1. Автор: Timothy F. Gillis,Logan CARLSON,Jonathan W. DEZIELLE. Владелец: OMG Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Multilayer plate or panel

Номер патента: WO2024150166A1. Автор: Andrea Strignano,Simone Collino. Владелец: Renolit Gor S.P.A.. Дата публикации: 2024-07-18.

Clamping device for flow module plates, reactor plates or heat exchanger plates

Номер патента: US09528775B2. Автор: Tommy Noren,Kasper Hoglund,Magnus Lingvall. Владелец: ALFA LAVAL CORPORATE AB. Дата публикации: 2016-12-27.

System for fixation of rails to rigid foundation with help of elastic element made of steel plate or strip material

Номер патента: RU2383679C2. Автор: Владимир Владимирович Кобелев. Владелец: Владимир Владимирович Кобелев. Дата публикации: 2010-03-10.

Systems, apparatus and methods for testing and predicting the performance of concrete mixtures

Номер патента: CA2975337A1. Автор: Farrokh F. Radjy. Владелец: Quipip LLC. Дата публикации: 2016-08-04.

Apparatus and method for changing images during operation of a printing press

Номер патента: US5904093A. Автор: David Clarke Pollock. Владелец: Heidelberg Web Press Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Modular nozzle assembly and fluidic plate apparatus and method for selectively creating 2-d or 3-d spray patterns

Номер патента: EP3122466A1. Автор: Russell D. Hester,Steven Crockett. Владелец: DlhBowles Inc. Дата публикации: 2017-02-01.

Apparatus and method of attaching radiating plate to holders of modular unit for radiant floor and wall hydronic heating systems

Номер патента: CA2236560C. Автор: Robert Lagace,Joachim Fiedrich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-17.

Foaming device, apparatus and method therefor

Номер патента: GB2575870A. Автор: Standaar Koen,Johan Dees Hendrik. Владелец: Koninklijke Douwe Egberts Bv. Дата публикации: 2020-01-29.

Capacitance sensing apparatus and method for detecting gas-liquid transitions

Номер патента: CA3079752A1. Автор: Akshat Sharma,Peter Charles Cornwell,Ruihua XIE. Владелец: Flowserve Management Co. Дата публикации: 2019-05-02.

Apparatus and methods for manipulating plates

Номер патента: NL2028683B1. Автор: Marc Luc Wattyn Bart. Владелец: Xeikon Prepress NV. Дата публикации: 2023-01-16.

Capacitance sensing apparatus and method for detecting gas-liquid transitions

Номер патента: US20190120679A1. Автор: Akshat Sharma,Peter Charles Cornwell,Ruihua XIE. Владелец: Flowserve Management Co. Дата публикации: 2019-04-25.

Capacitance sensing apparatus and method for detecting gas-liquid transitions

Номер патента: EP3701254A1. Автор: Akshat Sharma,Peter Charles Cornwell,Ruihua XIE. Владелец: Flowserve Management Co. Дата публикации: 2020-09-02.

Energy absorbing and dispensing spacer, system and method for use with body armor plate or panel

Номер патента: WO2023224739A3. Автор: Michael E. Cole,Kathryn CAREY. Владелец: Firstspear Technology Group, Llc. Дата публикации: 2024-02-22.

Elevator for hot plates or grates of barbecue grills

Номер патента: WO2006047844A1. Автор: Joao Urbano Amaral. Владелец: Amaral Joao Urbano. Дата публикации: 2006-05-11.

Energy absorbing and dispensing spacer, system and method for use with body armor plate or panel

Номер патента: AU2023273576A1. Автор: Michael E. Cole,Kathryn CAREY. Владелец: Firstspear Technology Group LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Segmented and laminated core steel plate for single and/or double sided wet clutch friction plates or separator plates

Номер патента: US09951826B2. Автор: Michael Wagner,Richard Vögele,Martin P. Keating. Владелец: BorgWarner Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD OF MAKING SAME

Номер патента: US20120000594A1. Автор: Ivanov Eugene Y.,Theado Erich. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SPUTTERING TARGETS INCLUDING EXCESS CADMIUM FOR FORMING A CADMIUM STANNATE LAYER

Номер патента: US20120000776A1. Автор: Feldman-Peabody Scott Daniel. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Deposition Apparatus And Methods To Reduce Deposition Asymmetry

Номер патента: US20120000772A1. Автор: Cox Michael S.,RITCHIE ALAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing method of sputtering targets from cast disilicide of refractory metal and facility for its implementation

Номер патента: RU2356964C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2009-05-27.

Method for obtaining high-purity nickel for sputtering targets

Номер патента: RU2446219C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Method for obtaining sputtering target from aluminium-based alloy

Номер патента: RU2446228C1. Автор: Владимир Иванович Ищенко,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Жаннета Юрьевна Чашечкина,Петр Яковлевич Бывшев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Procedure for production of high purity cobalt for sputtering target

Номер патента: RU2434955C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров,Андрей Вячеславович Пальниченко. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Nickel-based alloy sputtering target and nickel-based alloy layer

Номер патента: MY182002A. Автор: Chih-Wei Lin,Chih-Wen Tang,Shang-Hsien Rou. Владелец: Solar Applied Materials Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-18.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: MY190417A. Автор: Koichi Sakamaki,Hiroaki SOGAME,Hidetaka Yakabe,Jun Fukuoka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Procedure for production of titanium of high purity for sputtering target

Номер патента: RU2418874C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-05-20.

Method for obtaining sputtering target from aluminium-based alloy

Номер патента: RU2446229C1. Автор: Владимир Иванович Ищенко,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Жаннета Юрьевна Чашечкина,Петр Яковлевич Бывшев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Co-fe-nb-based sputtering target

Номер патента: MY183961A. Автор: LIN Hung-Cheng,Huang Wei-Chih,CHENG Hui-Wen,Liu I-Lung. Владелец: Solar Applied Materials Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Method of production of high purity titanium for sputtered targets

Номер патента: RU2370559C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2009-10-20.

INTEGRATED CROSSFLOW BLOWER MOTOR APPARATUS AND SYSTEM

Номер патента: US20120002368A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Harness Saddle-tree Gullet and Back Plates.

Номер патента: GB190413230A. Автор: John Beebee. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-04-13.

APPARATUSES AND METHODS FOR CUTTING POROUS SUBSTRATES

Номер патента: US20120000330A1. Автор: Griffin Weston Blaine. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND DIGITAL METHODOLOGY FOR PREPARATION OF A DENTAL IMPLANT SURGICAL SITE FOR THE PROMOTION OF A DESIRED EMERGENT SULCUS

Номер патента: US20120003610A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and Method for Refinishing a Surface In-Situ

Номер патента: US20120003900A1. Автор: Hudson David A.,Wallace Craig Karl,McLaughlin Michael,Umina John A.,Andrews John D.,Regan Richard D.. Владелец: ARTISAN INDUSTRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Lettered Advertisements or Sign Plates or Tablets.

Номер патента: GB189902435A. Автор: Thomas Eaton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-06-17.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Cooking and Heating with Gas Oil or other Combustible Matter, and by Apparatus and Means employed in connection therewith.

Номер патента: GB190111256A. Автор: Richard Nicholls. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-05-31.

Improved Apparatus and Process for Infusing and Extracting Hops.

Номер патента: GB190321580A. Автор: Austin Eikin Hewer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-05-05.

Improvements in the Construction of Back Plates of Wall and like Brackets, particularly Gas Brackets

Номер патента: GB190603610A. Автор: Harry James Southerton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-06-21.

Improved Means of Attachment between Cap or Back Plates and Sheet Metal Lock and Latch Cases.

Номер патента: GB189920447A. Автор: David Beards. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-08-11.

Improved Means for Indicating Broken Strands in Travelling Cables of Cable Railways, Elevators, Hoisting Apparatus and the like.

Номер патента: GB190223520A. Автор: Mortimer Norden. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-04-16.

A backing plate and wiring housing unit

Номер патента: NZ707907B2. Автор: John Michael Collier,Timothy Leonard Joseph Vos. Владелец: Ltj Innovations Pty Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Improvements in and in the Manufacture of the Back Plates of Sleeve Links and other like Articles.

Номер патента: GB190419881A. Автор: Thomas Walter Jones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-07-13.

Backing plate with single-flight sheet metal thread for abrasive flap wheels

Номер патента: CA135439S. Автор: . Владелец: JOBRA METALL GMBH. Дата публикации: 2011-05-17.

Cellular phone back plate

Номер патента: CA145545S. Автор: . Владелец: BRADLEY HOLLINGSHEAD. Дата публикации: 2013-10-02.

Method of striking target producing coherent interference with missiles fitted with active radar seekers

Номер патента: RU2586819C1. Автор: Владимир Григорьевич Богацкий,Игорь Геннадьевич Мордвинов,Алексей Сергеевич Мугин,Анатолий Васильевич Пожарский,Александр Евгеньевич Серафимов. Владелец: Открытое акционерное общество "Государственное машиностроительное конструкторское бюро "Вымпел" имени И.И. Торопова". Дата публикации: 2016-06-10.

Method to determine electroconductivity and thickness of semiconductor plates or nanometer semiconductor layers in structures "semiconductor layer - semiconductor substrate"

Номер патента: RU2517200C2. Автор: Сергей Аполлонович Никитов,Дмитрий Александрович Усанов,Александр Владимирович Скрипаль,Денис Викторович Пономарев. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Саратовский Государственный Университет Имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2014-05-27.

Backing plate composition for brake shoes

Номер патента: CA1183999A. Автор: Walter B. Peters. Владелец: Manville Service Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

A backing plate and wiring housing unit

Номер патента: NZ707907A. Автор: John Michael Collier,Timothy Leonard Joseph Vos. Владелец: Ltj Innovations Pty Ltd. Дата публикации: 2017-04-28.

Improvements in Machinery for Drilling, Cutting, or Indenting Stencil or other Plates or Surfaces according to Patterns.

Номер патента: GB189725352A. Автор: Michael Barker Nairn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-10-22.

Improvements in the Construction of Furnaces for Heating Iron, Steel, Copper, and other Metal Plates or Sheets.

Номер патента: GB190323673A. Автор: . Владелец: Old Castle Iron & Tinplate Com. Дата публикации: 1904-09-01.

Improvements relating to Glass Plates or Tiles and to Means for Attaching the same to Walls and the like.

Номер патента: GB190014219A. Автор: Frederic Beer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-06-15.

Improvements in or relating to Transparent Vessels for Developing or otherwise Treating Photographic Plates or Films without the Employment of a Dark Room.

Номер патента: GB190318872A. Автор: Paul Hunaeus. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-10-08.

BODY CONDITION EVALUATION APPARATUS, CONDITION ESTIMATION APPARATUS, STRIDE ESTIMATION APPARATUS, AND HEALTH MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20120000300A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120000422A1. Автор: Zheng Bo,Ai Hua,YU SANG HO,UMOTOY Salvador P.,Lam Hyman,Jackson Michael,Yuan Xiaoxiong (John),Wang Hou Gong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR AUTOMATICALLY GENERATING SUGGESTED INFORMATION LAYERS IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001939A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD FOR MAINTAINING HEAD

Номер патента: US20120001976A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR RECORDING AND PLAYING A MEDIA FILE, AND A RECORDING MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002947A1. Автор: RHYU Sung-Ryeul,HWANG Seo-Young,SONG Jae-Yeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of striking target producing coherent interference with missiles fitted with active radar seekers

Номер патента: RU2468381C1. Автор: Татьяна Васильевна Данилова,Владимир Григорьевич Богацкий,Игорь Геннадьевич Мордвинов. Владелец: Открытое акционерное общество "Государственное машиностроительное конструкторское бюро "Вымпел" им. И.И. Торопова". Дата публикации: 2012-11-27.

New or Improved Manufacture of Cellular Plates or Cylinders for Separating or Sorting Apparatus.

Номер патента: GB190604408A. Автор: Reginald Eaton Ellis. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-09-20.

A New or Improved Sensitive Plate or Film, and a Method of Producing, Developing, Fixing, and Toning the same.

Номер патента: GB189712922A. Автор: Thomas Cunningham Porter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1897-07-17.

An Improved Method and Apparatus for the Exposure of Light Sensitive Films Plates or the like.

Номер патента: GB190526191A. Автор: . Владелец: Optische Anstalt CP Goerz AG. Дата публикации: 1906-06-21.

Improvements in or relating to Photographic Camera-apparatus for Taking a Series of Miniature Impressions on One Plate or Film

Номер патента: GB190619383A. Автор: Herbert Bettesworth Page. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-05-23.

Improvements in and relating to Means for Carrying and Exposing Dry Sensitive Photographic Plates or Films in the Camera.

Номер патента: GB190604992A. Автор: George Wishart. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-12-13.

Improvements in Stamping Machines for Stamping Regular Polygonal Figures out of Plates or Slabs of Material.

Номер патента: GB190424566A. Автор: Gottfried Karl Philip Hoffmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-12-22.

An Improved Wiper for Wiping Printing Dies, Engraved Plates or Photogravure Plates.

Номер патента: GB190305555A. Автор: Henry Raeburn Macbeth-Raeburn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-02-04.

Improvements in the Manufacture of Tin and Terne Plates and other like Metal Coated Plates or Sheets, and in Apparatus employed in the said Manufacture.

Номер патента: GB189715345A. Автор: Hubert Spence Thomas,Richard Beaumont Thomas. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-06-25.

Improvements in Packages for Photographic Plates or Films, and in Means for the Successive Exposure of said Plates or Films.

Номер патента: GB190813999A. Автор: . Владелец: Optische Anstalt CP Goerz AG. Дата публикации: 1909-07-01.

Improvements in the Treatment of Armour Plates or the like.

Номер патента: GB190908835A. Автор: Samuel Sigourney Wales. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-10-28.

Improvements in Apparatus Employed in the Face Hardening of Armour Plates or other Articles of Steel or of Steel Alloyed with other Matels.

Номер патента: GB189714007A. Автор: Benton Knott Jamison. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-05-07.

Improvements in Holders for Photographic Plates or Films.

Номер патента: GB189810512A. Автор: . Владелец: Eastman Photographic Materials Co Ltd. Дата публикации: 1899-05-06.

A New or Improved Combined Portable Apparatus for Changing Photographic Plates or Films and for Developing the same.

Номер патента: GB190307942A. Автор: William Thomas. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-10-22.

ADVERTISING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000102A1. Автор: Bruce Shad E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

SINGLE CRYSTAL COOLING APPARATUS AND SINGLE CRYSTAL GROWER INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000416A1. Автор: Wang Hak-Eui,Na Gwang-Ha. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NEBULIZER APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000461A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR ADMINISTRATION OF POSITIVE AIRWAY PRESSURE THERAPIES

Номер патента: US20120000463A1. Автор: Bordewick Steven S.,Bowman Bruce,Baser Joseph A.. Владелец: SOMNETICS GLOBAL PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

WET BENCH APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000494A1. Автор: PAULMAN Jason,Smith Bruce Kenneth,Sohn Raymond. Владелец: ATS AUTOMATION TOOLING SYSTEM INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Laser Beam Irradiation Apparatus and Substrate Sealing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20120000611A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PAPER MACHINE BELT CONDITIONING SYSTEM, APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000622A1. Автор: WEINSTEIN David I.,Perry Peter E.,Rivard James P.,Cirocki Pawel. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus And Methods For Producing Oil and Plugging Blowouts

Номер патента: US20120000656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WEIGHING APPARATUS AND METHOD FOR WEIGHING VEHICLES

Номер патента: US20120000715A1. Автор: Saigh Fathi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FEEDING APPARATUS AND METHOD FOR A PYROLYTIC REACTOR

Номер патента: US20120000761A1. Автор: Bronshtein Alexander P.,Skop Menachem L.,Weiss Moshe,Jakobowitch David Shalom. Владелец: T.D.E. RECOVERY TECHNOLOGIES LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA-ARC-THROUGH APPARATUS AND PROCESS FOR SUBMERGED ELECTRIC ARCS

Номер патента: US20120000787A1. Автор: . Владелец: MAGNEGAS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DISINFECTING WATER

Номер патента: US20120000862A1. Автор: Belluati Mario,Colombi Giorgio,Danesi Enrico,Donnini Nicola,Petrucci Giuseppe,Rosellini Massimiliano,Giuseppina Peri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE CONFIGURATION SHELVING APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120000873A1. Автор: . Владелец: Edsal Manufacturing Co., Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PLASMA TREATMENT METHOD

Номер патента: US20120000887A1. Автор: Saito Makoto,SUZUKI Keiji,ETO Hideo,Nishiyama Nobuyasu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

CODE READING APPARATUS AND CODE READING METHOD

Номер патента: US20120000980A1. Автор: . Владелец: TOSHIBA TEC KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

CANISTER FOR DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION APPARATUS USING SAME

Номер патента: US20120000986A1. Автор: LEE Dong-Hyun,CHUNG Yun-Mo,PARK Jong-Ryuk,SEO Jin-Wook,Lee Kil-Won,Chang Seok-Rak,PARK Byoung-Keon,YANG Tae-Hoon,Na Heung-Yeol,LEE Ki-Yong,CHOI Bo-Kyung,JEONG Min-Jae,Hong Jong-Won,Kang Eu-Gene,Soo Byung-Soo,Baek Won-Bong,Maidanchuk Ivan,Jung Jae-Wan. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

EQUIPMENT MOUNTING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001033A1. Автор: Foster John,Wilde Gary P.,Billingsley Bryan,Sovic Matthew,Bond Dean,Desmond Aaron,Wilde Joshua. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING APPARATUS AND IMAGING APPARATUS

Номер патента: US20120001057A1. Автор: Yamagata Yuuki,Koseki Ken,Kikuchi Masaru,Inada Yoshiaki,Inutsuka Junichi,Tajima Akari. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR USE IN FLASH DETECTION

Номер патента: US20120001071A1. Автор: SNIDER Robin Terry,MCGEE Jeffrey Dykes,PERRY Michael Dale. Владелец: General Atomics. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RADIOLOGICAL IMAGING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF TESTING SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120001081A1. Автор: . Владелец: HAMAMATSU PHOTONICS K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OR ADDITION OF SUBSTANCES FROM OR TO A BODY OF LIQUID

Номер патента: US20120001112A1. Автор: Alkemade Patrick William,Shellcot Brent. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET CONVEYING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001384A1. Автор: Koyanagi Noriaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET STACKING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001385A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SPARK PLUGS

Номер патента: US20120001532A1. Автор: Kyuno Jiro,Kure Keisuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING OPERATION THEREOF

Номер патента: US20120001551A1. Автор: Abe Hirohisa,Hong Cheng. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOTOR CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS AND MOTOR CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001579A1. Автор: Mori Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR AC ELECTRIC MOTOR

Номер патента: US20120001581A1. Автор: Maeda Daisuke,Tobari Kazuaki,NOTOHARA Yasuo,SUMITA Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD OF CONTROLLING IMAGE CONTRAST

Номер патента: US20120001632A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD

Номер патента: US20120001635A1. Автор: Ookawa Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GAS SENSOR CONTROL APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001641A1. Автор: . Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS TO REDUCE POWER CONSUMPTION IN DIGITAL CIRCUITS

Номер патента: US20120001682A1. Автор: VENKATA HARISH N.. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING APPARATUS AND AUTO GAIN CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001687A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING RADIATION

Номер патента: US20120001761A1. Автор: Voutilainen Martti,Pasanen Pirjo. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS COMMUNICATION APPARATUS AND PLANAR ANTENNA THEREOF

Номер патента: US20120001820A1. Автор: . Владелец: ARCADYAN TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MEDICAL IMAGE DISPLAY APPARATUS AND MEDICAL IMAGE MANAGEMENT APPARATUS

Номер патента: US20120001853A1. Автор: TANAKA Sho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING 3D AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001901A1. Автор: PARK Sun-Hyung. Владелец: Pantech Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and method for bidirectionally inpainting occlusion area based on predicted volume

Номер патента: US20120001902A1. Автор: Lim Hwa Sup,Lee Kee Chang,Lee Seung Kyu,Kim Do Kyoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR PROVIDING A CONSTANT LEVEL OF INFORMATION IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001938A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RGBW DISPLAY APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001947A1. Автор: Cheng Sheng-Wen,CHU-KE Hui. Владелец: AU OPTRONICS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS AND PRINTING POSITION ADJUSTING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001972A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MIST COLLECTING APPARATUS, LIQUID EJECTING APPARATUS, AND METHOD OF CONTROLLING MIST COLLECTING APPARATUS

Номер патента: US20120001985A1. Автор: . Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001994A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001997A1. Автор: TAKADA Kazumasa. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120002024A1. Автор: Sung Jaewon,Jeon Byeongmoon,KIM Dongseok,HWANG Junghwan,CHOI Tacksung,YOON Sungyong,LEE HYUNKOOK. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MONITORING CAMERA SYSTEM, VIDEO RECORDING APPARATUS AND VIDEO RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002054A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ACTIVELY TRACKING MULTIPLE MOVING OBJECTS USING A MONITORING CAMERA

Номер патента: US20120002056A1. Автор: HONG Sang-Jin,NAM Yun-Young,CHO Shung-Han,KIM Yang-Weon,CHO We-Duke,HWANG Yong-Hyeon. Владелец: Ajou University Industry-Academic Corporation Foundation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE RECORDING APPARATUS AND IMAGE RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002078A1. Автор: NAKAMURA Satoshi,Watanabe Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS FOR DIGITAL IMAGE CAPTURE WITH VARIABLE DENSITY DISPLAY AND HIGH RESOLUTION ELECTRONIC ZOOM

Номер патента: US20120002084A1. Автор: . Владелец: TRUE VISION SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

OPHTHALMOLOGIC APPARATUS AND OPHTHALMOLOGIC SYSTEM

Номер патента: US20120002166A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT SOURCE APPARATUS AND PROJECTION DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002172A1. Автор: . Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL TOMOGRAPHIC IMAGING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120002214A1. Автор: Utsunomiya Norihiko,Miyata Kazuhide. Владелец: CANON LABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS, IMAGE READING APPARATUS, AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002235A1. Автор: Hinaga Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF ALLOCATING IP ADDRESS OF IMAGE FORMING APPARATUS USING DHCP, IMAGE FORMING APPARATUS AND SYSTEM OF ALLOCATING IP ADDRESS USING DHCP

Номер патента: US20120002240A1. Автор: MIN Ju-won. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SCANNING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF DOCUMENT SIZE DETECTION LIGHT SOURCE

Номер патента: US20120002247A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND LIGHT AMOUNT ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120002253A1. Автор: KOSEKI Naoya,HATANO Mitsuru,UENO Sueo,SHIRAISHI Hiroyuki,HASHIZUME Yusuke,NAGAMOCHI Katsuya,Shimokawa Koji. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.