Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140374250A1
Опубликовано: 25-12-2014
Автор(ы): ISHIHARA Shigenori
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Sputtering apparatus

Номер патента: US09627187B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150262796A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,Konaga Kazuya,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2015-09-17.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150262797A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2015-09-17.

Sputtering apparatus for semiconductor device manufacture

Номер патента: KR960005377Y1. Автор: 조경수. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1996-06-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: WO2007122735A1. Автор: Toyoaki Hirata. Владелец: Thin-Film Process Inc.. Дата публикации: 2007-11-01.

Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates

Номер патента: US20240150886A1. Автор: Patrick A. Ward,John T. Bobbitt, Iii,Zachary Duca. Владелец: Battelle Savannah River Alliance LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: US09905401B2. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for manufacturing half-metallic magnetic oxide and plasma sputtering apparatus used in the same

Номер патента: US20030070914A1. Автор: Jin Hong,CHANG Lee,Sung Lee,Chae Kim,Kap Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Gas intake device of magnetron sputtering vacuum chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09899192B2. Автор: Wenbo Sun,Qiping ZHANG. Владелец: Hefei BOE Display Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US12112929B2. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240258088A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Gas-discharge sputtering apparatus based on planar magnetron with ion source

Номер патента: RU2752334C1. Автор: Александр Петрович Семенов,Ирина Александровна Семенова,Дмитрий Бадма-Доржиевич Цыренов,Эрдэм Олегович Николаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2021-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4569745A. Автор: Setsuo Nagashima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-02-11.

Radio Frequency Sputtering Apparatus

Номер патента: GB1169748A. Автор: Leslie Arthur Holland,Tony Ian Putner. Владелец: Edwards High Vacuum International Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09437404B2. Автор: Tetsuya Endo,Noel Abarra. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2016-09-06.

Magnetron sputtering device, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20180277344A1. Автор: LEI XIAO,Jianhua Du,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US12014911B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Tatsuo HIRASAWA,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130299348A1. Автор: Wei-Cheng Ling. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Sputtering apparatus and target changing device thereof

Номер патента: US20180209036A1. Автор: CAN Wang,Xiaolong He,Jianhua Du,Xuefei Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160042928A1. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Sputtering apparatus and method of preventing damage thereof

Номер патента: US20110013108A1. Автор: Jaehoon Choi,Junhyung Park,Sanghyo Park,Jaekwang Kim,Seunglyul Lee,Jinhee Yun,Munik Na,Kyoungshik Kim,Kagkyu Jung. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode, method of manufacturing the RMIM electrode, and sputtering apparatus including the RMIM electrode

Номер патента: US20030178299A1. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Ill Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-09-25.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09715997B2. Автор: Seung-Ho Choi,Dae-Sang Yoon,Young-Bun Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09558921B2. Автор: Jong Yun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Sputtering apparatus, target and shield

Номер патента: US09502223B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Sputtering apparatus with rotatable sputtering target

Номер патента: US20110174612A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9905404B2. Автор: Satoshi Yamada,Ryuji Higashisaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4422916A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1983-12-27.

Method of producing a thin film by sputtering and an opposed target type sputtering apparatus

Номер патента: CA1325792C. Автор: Sadao Kadokura,Akio Kusuhara,Kazuhiko Honjyo. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1994-01-04.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11705315B2. Автор: Hiroyuki Toshima,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB2346155A. Автор: Paul Rich,Keith Edward Buchanan,Stephen Robert Burgess. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2000-08-02.

Sputtering apparatus and method of controlling sputtering apparatus

Номер патента: US12002667B2. Автор: Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: US4356073A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1982-10-26.

Conical-frustum sputtering target and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4747926A. Автор: Shigeru Kobayashi,Tamotsu Shimizu,Takeshi Oyamada,Hikaru Nishijima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-05-31.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: CA1225364A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: US5006218A. Автор: Kunio Tanaka,Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1991-04-09.

Multi-rod type magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4879017A. Автор: Hee-Yong Lee. Владелец: Dae Ryung Vacuum Co Ltd. Дата публикации: 1989-11-07.

Cathodic sputtering apparatus

Номер патента: CA1230079A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1987-12-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP1176625A3. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2005-11-23.

Magnetron sputtering electrode, and sputtering apparatus proided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: US20100051454A1. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Junya Kiyota,Yasuhiko Akamatsu,Tatsunori Isobe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-04.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US8221594B2. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-07-17.

Reactive sputtering apparatus and cathode elements therefor

Номер патента: US3890217A. Автор: Kenneth Burrows,Robert Hiscutt. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1975-06-17.

Cathode sputtering apparatus

Номер патента: US3878085A. Автор: John F Corbani. Владелец: Sloan Technology Corp. Дата публикации: 1975-04-15.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA1193227A. Автор: Kovilvila Ramachandran,Enrico Giani. Владелец: Canadian Patents and Development Ltd. Дата публикации: 1985-09-10.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB1419496A. Автор: . Владелец: Lucas Industries Ltd. Дата публикации: 1975-12-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20230035198A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Facing target sputtering apparatus

Номер патента: US20150027883A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Sun-Jin Lee,Ou-Hyen Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: US11978615B2. Автор: Hyun-Woo Kim,Sangmok Nam,Jaeho Byeon,Jongho Hyun,Nam-Jin Hyung. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Sputtering apparatus with rotating target and target cooling

Номер патента: US5262032A. Автор: Klaus Hartig,Joachim Szczyrbowski,Anton Dietrich. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1993-11-16.

Ferromagnetic high speed sputtering apparatus

Номер патента: US4401546A. Автор: Kyuzo Nakamura,Yoshifumi Ohta,Taiki Yamada. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1983-08-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4411763A. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1983-10-25.

Rotary magnet sputtering apparatus

Номер патента: US20100126852A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2010-05-27.

Sputtering apparatus with magnetic module

Номер патента: US20110303536A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-15.

Method of depositing thin film of metal oxide by magnetron sputtering apparatus

Номер патента: AU1250400A. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2001-01-25.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US11239064B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-02-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9299544B2. Автор: Tetsuya Endo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20160005577A1. Автор: Keizo Tsukamoto. Владелец: Ayabo Corp. Дата публикации: 2016-01-07.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US09399817B2. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20010054551A1. Автор: Akira Okuda,Kiyoshi Saeki,Toshiyuki Fujioka,Shigeru Namiki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-27.

Improvements in or relating to Sputtering Apparatus

Номер патента: GB1169747A. Автор: Leslie Arthur Holland,Tony Ian Putner. Владелец: Edwards High Vacuum International Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

A power source device for a sputtering apparatus and a sputtering apparatus using the power source device

Номер патента: TW389966B. Автор: Noboru Kuriyama,Nobuaki Utsunomiya,Yutaka Yatsu,Yuji Yasumoto. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2000-05-11.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09574265B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Sputtering apparatus and sputtering film forming method

Номер патента: TWI426144B. Автор: Naoki Takahashi,Kuniaki Horie. Владелец: Ebara Udylite Kk. Дата публикации: 2014-02-11.

Pulsed sputtering apparatus and pulsed sputtering method

Номер патента: EP2963149B1. Автор: Keizo Tsukamoto. Владелец: Ayabo Corp. Дата публикации: 2020-01-08.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US5106474A. Автор: Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard,James J. Hoffmann. Владелец: Viratec Thin Films Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

A target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201142061A. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-12-01.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20130277205A1. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-24.

Target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20110186421A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Hanspeter Friedli. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2011-08-04.

Magnetic field generation apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: US09607813B2. Автор: Jun Sasaki,Atsuhiro Abe,Ryoichi Hiratsuka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Magnetron sputtering apparatus, magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: CN105803410A. Автор: 肖磊,杜建华,田忠朋,高雪伟. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-27.

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180277344A1. Автор: Xiao Lei,Du Jianhua,Tian Zhongpeng,Gao Xuewei. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333745A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Cathodic sputtering apparatus

Номер патента: US4443318A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1984-04-17.

Cylindrical sputtering apparatus

Номер патента: WO2006091943A3. Автор: Xingwu Wang. Владелец: Nanoset LLC. Дата публикации: 2006-12-21.

Comopsite sputtering cathode assembly and sputtering apparatus with such composite sputtering cathode assembly

Номер патента: TW424113B. Автор: Yasushi Higuchi,Takashi Komatsu,Hisaharu Obinata,Morohisa Tamura. Владелец: Ulvac Corp. Дата публикации: 2001-03-01.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN110872694B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-04.

A sputtering apparatus and a sputtering apparatus

Номер патента: TWI519662B. Автор: Akira Hamada,Tomotake Nashiki. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2016-02-01.

Sputtering apparatus and gas supply pipe for sputtering apparatus

Номер патента: KR102194915B1. Автор: 문연건,손상우,신상원,카츠시 키시모토,타카유키 후카사와. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-12-28.

Coating layer forming method of shield and sputtering apparatus utilizing the shield and thin layer forming method utilizing the sputtering apparatus

Номер патента: KR100267886B1. Автор: 이창근,이은희,윤능구. Владелец: 주식회사아이피에스. Дата публикации: 2000-10-16.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20230138552A1. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4111782A. Автор: Alan S. Penfold,John A. Thornton. Владелец: Telic Corp. Дата публикации: 1978-09-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201118191A. Автор: IVAN Maidanchuk,Jong-Won Hong,Seok-Rak Chang,Dong-Hyun Lee,Byoung-Keon Park,Ki-Yong Lee,Yun-Mo CHUNG,Jong-Ryuk Park,Kil-won Lee,Byung-Soo So,Jae-Wan Jung,Min-Jae Jeong,Tae-Hoon Yang,Won-Bong Baek,Heung-Yeol Na,Eu-Gene Kang,Bo-Kyung Choi,Jin-Woo Seo. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200643204A. Автор: Toyoaki Hirata,Masami Nakasone. Владелец: Thin Film Process Soft Inc. Дата публикации: 2006-12-16.

Sputtering apparatus and manufacturing method of electronic device

Номер патента: TW201241213A. Автор: Nobuo Yamaguchi,Yuichi Otani. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Triode sputtering apparatus

Номер патента: CA928249A. Автор: J. Vegh Bertalan,E. Coates Alfred. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1973-06-12.

A sputtering apparatus

Номер патента: JPS51126978A. Автор: Naokichi Hosokawa,Takashi Misumi,Shinya Homan,Shoichi Aoshima. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1976-11-05.

Cathode device and sputtering apparatus

Номер патента: US20200377992A1. Автор: Katsuaki Nakano,Yukihito Tashiro. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: GB9919361D0. Автор: . Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1999-10-20.

Sputtering apparatus for depositing a film

Номер патента: TW583329B. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Ill Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-04-11.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20160005577A1. Автор: Tsukamoto Keizo. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20150096881A1. Автор: TSUNEKAWA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

MAGNETRON, MAGNETRON SPUTTERING CHAMBER, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190244796A1. Автор: Yang Yujie,ZHANG Tongwen. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2076916B1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: IHI Hauzer Techno Coating BV. Дата публикации: 2014-12-10.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2009052874A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2009-04-30.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: KR20140045195A. Автор: 조현욱. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-04-16.

Controlling device of cathode sputter apparatus and cathode sputter magnetron and controlling method therefor

Номер патента: KR900004601B1. Автор: 엠.민츠 도날드. Владелец: 베리안 어소시에이츠, 인코포레이티드. Дата публикации: 1990-06-30.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: DE112005001299T5. Автор: Atsushi Ota,Makoto Arai,Isao Sugiura,Shinichiro Taguchi,Noriaki Tani,Junya Kiyota. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-05-03.

Pulse sputtering apparatus and pulse sputtering method

Номер патента: JP4931013B2. Автор: 浩 玉垣,忠雄 沖本. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-05-16.

Magnetron sputtering chamber and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104928635B. Автор: 杨玉杰,王厚工,邱国庆. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Magnet unit and sputtering apparatus for magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5386329B2. Автор: 辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真,善勝 佐藤,重光 佐藤,敬臣 倉田. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-01-15.

Discharge power supply, sputtering power supply and sputtering apparatus

Номер патента: JP4443404B2. Автор: 和彦 今川,昇 栗山. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2010-03-31.

Magnetron sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5461264B2. Автор: 雅夫 佐々木. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-04-02.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP5390796B2. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,聡 川上,孝明 松岡,関　　伸彰. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2014-01-15.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6432285B1. Автор: William P. Kastanis,M. Elizabeth Wescott. Владелец: Cierra Photonics Inc. Дата публикации: 2002-08-13.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

A sputtering apparatus with a side target and a method for sputtering a workpiece having non-planer surfaces

Номер патента: TW201114929A. Автор: Chao-Hsi Cheng,Wei-Yen Fu. Владелец: Suntek Prec Corp. Дата публикации: 2011-05-01.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: TW200946705A. Автор: Makoto Arai,Masaki Takei,Kyuzo Nakamura,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Motoshi Kobayashi,Tomiyuki Yukawa,Yuuichi Oishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-11-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201118192A. Автор: Jong-Won Hong,Seok-Rak Chang,Dong-Hyun Lee,Byoung-Keon Park,Jin-Wook Seo,Ki-Yong Lee,Yun-Mo CHUNG,Jong-Ryuk Park,Kil-won Lee,Byung-Soo So,Jae-Wan Jung,Min-Jae Jeong,Tae-Hoon Yang,Won-Bong Baek,Heung-Yeol Na,Eu-Gene Kang,Bo-Kyung Choi,Ivan Maidanchuyk. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09758862B2. Автор: Patrick Lawrence Morse. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20220148863A1. Автор: TOSHIMA Hiroyuki,ISHIBASHI Shota. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

Pulsed Sputtering Apparatus and Pulsed Sputtering Method

Номер патента: US20190096642A1. Автор: Tsukamoto Keizo. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20150235817A1. Автор: Goto Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

Sputter deposition source, sputtering apparatus and method of operating thereof

Номер патента: KR101950857B1. Автор: 안드레아스 로프. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2019-02-21.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: KR102160158B1. Автор: 조현욱. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-09-28.

Dual magnetron sputtering power supply and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2008049634A1. Автор: Roel Tietema,Frank Papa,Geert Sesink,René THOMASITA. Владелец: HAUZER TECHNO COATING BV. Дата публикации: 2008-05-02.

Magnetron sputtering method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: DE112005001299B4. Автор: Atsushi Ota,Makoto Arai,Isao Sugiura,Shinichiro Taguchi,Noriaki Tani,Junya Kiyota. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Sputtering apparatus for manufacturing semiconductor devices and sputtering method using the same

Номер патента: TW533478B. Автор: Gyu-Hwan Kwag,Jung-Suk Oh,Yoon-Sei Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-21.

Organic light emitting display apparatus using facing target sputtering apparatus and method of manufacturing the organic light emitting display apparatus

Номер патента: US20150028295A1. Автор: Su-Hyuk Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: WO2013026491A1. Автор: Evelyn Scheer,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-02-28.

SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180261440A1. Автор: Nakazawa Toshikazu,Nakamura Eiji,Toya Hiroyuki,Imai Shin,Yasumatsu Yasushi,ISHIHARA Shigenori,SUDA Shintaro,FUJIMOTO Yuu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2018-09-13.

Sputtering apparatus for coating at least one substrate and process for the regulation of the apparatus

Номер патента: EP1197580B1. Автор: Reimund Böwer,Jürgen Prof. Dr.-Ing. Bechtloff,Peter Hennes,Manfred Czybik. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2004-03-17.

Method and apparatus for controlling magnetron sputtering apparatus having separation limit magnetic field for separating target exposed to separation discharge

Номер патента: JPS6141767A. Автор: ドナルド・エム・ミンツ. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1986-02-28.

MAGNETIC FIELD GENERATION APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150014158A1. Автор: Sasaki Jun,ABE ATSUHIRO,Hiratsuka Ryoichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

Magnetic field generating apparatus, magnetic field generating method, sputtering apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US20090277779A1. Автор: Masao Sasaki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-11-12.

Magnetic field generating apparatus, magnetic field generating method, sputtering apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: JP2009299184A. Автор: Masao Sasaki,雅夫 佐々木. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-12-24.

Method and apparatus for regulating coated speed by computercontrol in sputtering apparatus

Номер патента: JPS54139892A. Автор: Toomasu Tanaa Furederitsuku. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1979-10-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20120160672A1. Автор: Tetsuya Endo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170018412A1. Автор: Ueki Yuhya,Wakamori Yasuhiro. Владелец: Sakai Display Products Corporation. Дата публикации: 2017-01-19.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160027624A1. Автор: SHIBAMOTO Masahiro,KARINO Susumu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2016-01-28.

FACING TARGET SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150027883A1. Автор: Kim Hun,Park Jin-Woo,Kim Ou-Hyen,Lee Sun-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20150041310A1. Автор: Choi Seung-Ho,Yoon Dae-Sang,Jeon Young-Bun. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-02-12.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160042928A1. Автор: Yamada Satoshi,HIGASHISAKA Ryuji. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2016-02-11.

SPUTTERING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND CONTROL DEVICE

Номер патента: US20160079045A1. Автор: TSUNEKAWA Koji,Konno Takeo,SUENAGA Masahiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

SPUTTERING APPARATUS AND MAGNET UNIT

Номер патента: US20150107992A1. Автор: SUZUKI Hidekazu. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-23.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170110299A1. Автор: LEE Dong Hee,SHIN Hyun Eok,SHIN Sang Won,JEONG Chang Oh,PARK Joon Yong,SOHN Sang Woo,KANG Hyun Ju. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND ITS VACUUM ATMOSPHERE EXCHANGE DEVICE

Номер патента: US20200123648A1. Автор: Huang Qiuping. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-23.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND CATHODE DEVICE THEREOF

Номер патента: US20210202221A1. Автор: WANG Zhengan. Владелец: Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-07-01.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150187549A1. Автор: GOMI Atsushi,Miyashita Tetsuya,NAKAMURA Kanto,KITADA Toru. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

SPUTTERING APPARATUS, TARGET AND SHIELD

Номер патента: US20140284210A1. Автор: ISHIHARA Shigenori. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20210222289A1. Автор: Sasaki Shunsuke,Kokaze Yutaka,IIWAHASHI Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160203961A1. Автор: KIM Jong Yun. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-14.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140291148A1. Автор: Toru Ishimura,Naoyuki Okamoto,Yasushi Yasumatsu. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

FILM FORMING UNIT FOR SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-07-04.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160225591A1. Автор: JR. William A.,MEREDITH,Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-04.

MAGNET UNIT AND MANETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150235751A1. Автор: ENDO Tetsuya,Abarra Einstein Noel. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

DEPOSITION PREVENTIVE PLATE, SPUTTERING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20190259587A1. Автор: MIURA Tatsuhiko. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2019-08-22.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20150303042A1. Автор: Ueda Keisuke,SHINADA Masato. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170345629A1. Автор: Suzuki Hidenori,HAMAYA Takashi,TSUGANE Hideaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102101720B1. Автор: 패트릭 로렌스 모스. Владелец: 뷔홀러 아게. Дата публикации: 2020-04-21.

Magnetron type sputtering apparatus

Номер патента: JPS5514853A. Автор: Toshiaki Ogata. Владелец: Suwa Seikosha KK. Дата публикации: 1980-02-01.

Cathode part of magnetron type sputtering apparatus

Номер патента: JPS575871A. Автор: Hidefumi Funaki. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1982-01-12.

Magnetic controlled tube sputtering apparatus

Номер патента: CN1067118C. Автор: 横山政秀,早田博. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-06-13.

Rotating magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101166396B1. Автор: 다다히로 오미,다카아키 마츠오카,데츠야 고토. Владелец: 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠. Дата публикации: 2012-07-23.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JPS5996268A. Автор: Kimio Kinoshita,Masato Sugiyama,木下　公夫,杉山　征人. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1984-06-02.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101002204B1. Автор: 황상수. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2010-12-20.

Configuration for Substrate Coating Using Sputtering Apparatus

Номер патента: KR970065763A. Автор: 츠찌르보우스키 요아힘,테슈너 괴츠,츠멜티 안톤,브루흐 위르겐,마르크바르트 디트마르. Владелец: 발쩌스 운트 레이볼트 도이치란드 홀딩 아크티엔게젤샤프트. Дата публикации: 1997-10-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101801794B1. Автор: 이기조,변상근. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2017-11-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101097329B1. Автор: 정석원,최승호,송현근,최영묵. Владелец: 삼성모바일디스플레이주식회사. Дата публикации: 2011-12-23.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR102245606B1. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2021-04-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9312108B2. Автор: William A. Meredith, Jr.,Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-04-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3137646A4. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-11-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9418823B2. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP2961857A4. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-08-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP2961857A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-01-06.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3686314A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: BUEHLER AG. Дата публикации: 2020-07-29.

Planar typed magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100345924B1. Автор: 남경훈,한전건,무실 진드리시. Владелец: 무실 진드리시. Дата публикации: 2002-07-27.

An end-block for a rotatable target sputtering apparatus

Номер патента: CN101044257A. Автор: W·德博斯谢尔,K·德拉尔特,J·德博埃韦尔,G·拉佩勒. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2007-09-26.

Sputtering apparatus and method for regenerating thereof

Номер патента: KR20010104524A. Автор: 최동욱,백금주,김승율,권형두. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20150126818A. Автор: 다니엘 테오도르 크로울리,패트릭 로렌스 모르스,존 로버트 게르만. Владелец: 스퍼터링 컴포넌츠 인코포레이티드. Дата публикации: 2015-11-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102182674B1. Автор: 정창오,강수형,신상원. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-11-26.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: WO2012066080A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Bekaert Advanced Coatings. Дата публикации: 2012-05-24.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20140118186A. Автор: 심재윤,최승호. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-10-08.

Cathode sputtering apparatus for depositing thin films on surfaces to be coated.

Номер патента: FR95311E. Автор: . Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1970-08-21.

Magnet control system of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101885123B1. Автор: 김정건,소병호,고무석,이구현,전명우. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-08-03.

Rotary magnet sputtering apparatus

Номер патента: US20110000783A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2011-01-06.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20040050690A1. Автор: Stephen Burgess,Gordon Green,Robert Trowell,Anthony Barrass,Robert Teagle,Ian Moncrieff. Владелец: Aviza Europe Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

High speed sputtering apparatus

Номер патента: JPS5323881A. Автор: Kazuyuki Tsuruoka. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 1978-03-04.

High uniformity facing target type sputtering apparatus

Номер патента: KR100822312B1. Автор: 배은현,김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 자이맥스. Дата публикации: 2008-04-15.

High Vacuum Sputter Apparatus

Номер патента: KR100740905B1. Автор: 서창환. Владелец: 엘지.필립스 엘시디 주식회사. Дата публикации: 2007-07-19.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2096735A1. Автор: James J. Hofmann,Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-05-22.

Facing-targets-type sputtering apparatus

Номер патента: US20030094365A1. Автор: Sadao Kadokura,Hisanao Anpuku. Владелец: FTS Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

A kind of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN208762572U. Автор: 刘洋,张伟,韩晓琳,邬英,汪振南,杨永雷,雷绍温,见东伟,刘福山. Владелец: Shanxi Miyazole Equipment Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-19.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP3137646A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2017-03-08.

Magnetron element and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW201820371A. Автор: 楊玉傑. Владелец: 北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2018-06-01.

Cathode sputtering apparatus

Номер патента: DE19653999C1. Автор: Stefan Kempf,Eggo Dipl Ing Sichmann,Michael Muecke. Владелец: Singulus Technologies AG. Дата публикации: 1998-01-22.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP2591491A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin Dubs. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-05-15.

Magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: KR101434033B1. Автор: 시게루 미즈노,다츠오 하타노,데츠야 미야시타,아츠시 고미,야스시 미즈사와,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0073643A1. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1983-03-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: TWI654327B. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN,William A. Meredith,丹尼爾 西奧多 科絡里,派翠克 羅倫斯 摩斯,約翰 羅勃 爵曼,威廉Ａ 梅爾迪斯. Владелец: 美商濺鍍零件公司. Дата публикации: 2019-03-21.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0634500B1. Автор: Peter A. Sieck,Milan R. Kirs,Terry A. Trumbly. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1998-05-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: DE19707269A1. Автор: TANAKA TAKESHI,Umehara Satoshi,Kamei Mitsuhiro,Setoyama Eiji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1997-11-06.

Device for supporting a rotatable target and sputtering apparatus

Номер патента: US8623184B2. Автор: Frank Schnappenberger,Jürgen MULTERER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-01-07.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0724025B1. Автор: Peter A. Sieck,James G. Rietzel,Norman E. Allen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 2002-04-10.

Magnetron cathode sputtering apparatus.

Номер патента: EP0070899A1. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1983-02-09.

Vacuum sputtering apparatus

Номер патента: EP0081331B1. Автор: David W. Hoffman. Владелец: Ford Motor Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-19.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP1953257A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-08-06.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0073643B1. Автор: Noribumi Kikuchi,Akio Nishiyama,Takayuki Shingyoji,Takeshi Itaba,Yuzo Ohsawa. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1988-05-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP1176625A2. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2002-01-30.

Target device and sputtering apparatus

Номер патента: WO2017221821A1. Автор: 雅紀 白井,悟 高澤,拓司 山本,石橋　暁. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2017-12-28.

Large capacity sputtering apparatus.

Номер патента: FR94900E. Автор: Georges Dubois,Ghislaine Goupil. Владелец: Lignes Telegraphiques et Telephoniques LTT SA. Дата публикации: 1970-01-16.

An end-block for a rotatable target sputtering apparatus

Номер патента: EP1803144A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Krist Dellaert,Joannes De Boever,Stijn Porteman. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2007-07-04.

Device for supporting a rotatable target and sputtering apparatus

Номер патента: CN102834896A. Автор: 法兰克·施纳朋伯格,于尔根·穆尔特尔. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-12-19.

Triode sputtering apparatus and method using synchronized pulsating current

Номер патента: US3464907A. Автор: John G Froemel,Meyer Sapoff. Владелец: Victory Engineering Corp. Дата публикации: 1969-09-02.

The method of magnetron unit, magnetron sputtering apparatus and manufacturing electron device

Номер патента: CN101595240A. Автор: 远藤彻哉,E·N·阿巴拉. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-12-02.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20100059368A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2010-03-11.

Sputtering apparatus and method using charged particle

Номер патента: KR0156144B1. Автор: 김병찬. Владелец: 문정환. Дата публикации: 1998-12-01.

Magnet unit and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US9911526B2. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Magnetron unit, magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP2204469A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-07.

Magnetron Plasma Sputtering Apparatus

Номер патента: US20110233058A1. Автор: Cheng-Tsung Liu. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2011-09-29.

Rotating magnet arrays for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US7585399B1. Автор: Kang Song,Kwok F. Lai,Douglas B. Hayden. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-09-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101213849B1. Автор: 이진석,유환규,황병억,윤혁상. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2012-12-18.

Sputtering apparatus capable of changing distance between substrate and deposition preventing plate used for film formation

Номер патента: CN1282763C. Автор: 水户清,二川正康. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2006-11-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: PL2880196T3. Автор: Patrick Lawrence Morse. Владелец: Buhler AG. Дата публикации: 2020-11-30.

Sputtering apparatus for forming a metal film using a magnetic field

Номер патента: DE10215369B4. Автор: Jai-Kwang Shin,Seong-Gu Kim,Young-Kyou Park,Hyeon-Iii Um. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-03-26.

Rotary cathode for RF power and sputter apparatus having the same

Номер патента: KR20230112498A. Автор: 정경훈. Владелец: 주식회사 케이씨엠씨. Дата публикации: 2023-07-27.

Cathode sputtering apparatus including precision temperature control of substrate

Номер патента: US3369989A. Автор: Kay Eric,Arthur P Poenisch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1968-02-20.

Sputtering apparatus comprising a coil having overlapping ends

Номер патента: JP4588212B2. Автор: ペイジュン ディン，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-11-24.

Magnet assembly capable of generating magnetic field having direction that is uniform and can be changed and sputtering apparatus using the same

Номер патента: US20090078571A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-03-26.

Magnetron sputtering apparatus with auxiliary magnetic pole

Номер патента: DE19939040A1. Автор: Toshimitsu Kohara,Koichiro Akari. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2000-03-02.

Magnetron element and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2018040408A1. Автор: 杨玉杰,王厚工,郭万国. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2018-03-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: WO2006097994A1. Автор: Toyoaki Hirata,Masami Nakasone. Владелец: Thin-Film Process Inc.. Дата публикации: 2006-09-21.

Magnetron and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN103882394B. Автор: 吴永泽,李宰承,西门瑄,刘云锺. Владелец: AP Cells Inc. Дата публикации: 2016-05-18.

Cooling system for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6641701B1. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-04.

Substrate holding device and sputtering apparatus having same

Номер патента: US20110253530A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-20.

Magnetron cathode and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100917463B1. Автор: 김태완,톨마체프유리,마동준,나발라세르기야고블레비키. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2009-09-14.

Magnetron sputtering apparatus and thin film depositing method

Номер патента: EP0444658A2. Автор: Hideaki Yoshida,Nobuyuki Takahashi,Yasuhiko Akao,Haruyuki Kouchi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1991-09-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB8328208D0. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-11-23.

Bias sputtering apparatus

Номер патента: EP2302092A4. Автор: Satoshi Sugawara,Kazuki Takahashi,Ichiro Shiono,Yousong Jiang,Yasuhiro Enami,Susumu Kumagawa,Yoshihiro Takasaka. Владелец: Shincron Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-14.

Bias sputtering apparatus

Номер патента: HK1153242A1. Автор: Satoshi Sugawara,Kazuki Takahashi,Ichiro Shiono,Yousong Jiang,Yasuhiro Enami,Susumu Kumagawa,Yoshihiro Takasaka. Владелец: Shincron Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-23.

Reactive sputtering apparatus and supply leads therefor

Номер патента: CA1030487A. Автор: David W. Jones. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1978-05-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: MY8700801A. Автор: Mitsuaki Horiuchi,Hideharu Kiyota. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-12-31.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US20150021166A1. Автор: Evelyn Scheer,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20180033595A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

MAGNET MODULE AND SPUTTERING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20220148779A1. Автор: LEE Nayoung,LEE KWANYONG,NAM SANGMOK. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING A TRANSMISSIVE CONDUCTIVE LAYER OF A LIGHT EMITTING DEVICE

Номер патента: US20140197026A1. Автор: KIM Gi Bum,SHIN Young Chul,HUR Won Goo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-07-17.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20210217586A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: US20150206714A1. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Magnet Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210249241A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-08-12.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING GAS DISTRIBUTION SYSTEM

Номер патента: US20160233056A1. Автор: Hartig Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-11.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200255935A1. Автор: Takei Junichi,SONE Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-13.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

CATHODE DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200377992A1. Автор: Nakano Katsuaki,Tashiro Yukihito. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatuses

Номер патента: KR20200066377A. Автор: 슈우지 사이토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2020-06-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5641375A. Автор: Fumio Hosomi,Masazumi Katase. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-04-18.

Both-side sputtering apparatus for forming magnetic film

Номер патента: JPS60106962A. Автор: Makoto Oishi,Masaaki Imamura,誠 大石,今村　昌明. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-06-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5585672A. Автор: Minoru Oosaki. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1980-06-27.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR100793569B1. Автор: 조수범. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2008-01-14.

Sputtering apparatus

Номер патента: WO2014134004A1. Автор: Patrick Lawrence Morse,Daniel Theodore CROWLEY,John Robert GERMAN. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR20160087986A. Автор: 김종윤. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2016-07-25.

Facing targets sputtering apparatus

Номер патента: KR102184777B1. Автор: 김경환,김상모. Владелец: 가천대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-11-30.

High speed sputtering apparatus for ferromagnetic body

Номер патента: JPS57160113A. Автор: Kyuzo Nakamura,Yoshifumi Oota,Hiroki Yamada. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1982-10-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101441386B1. Автор: 박재희,이봉금. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2014-09-17.

Electrode part structure of sputtering apparatus

Номер патента: JPS59197569A. Автор: Koji Okamoto,Mizuo Edamura,Kyoji Kajikawa,康治 岡本,枝村　瑞郎,梶川　享志. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1984-11-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6086272A. Автор: Naokichi Hosokawa,Shiro Fukushima,細川　直吉,福島　志郎. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1985-05-15.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2202801A1. Автор: Yoji Arita. Владелец: Mitsubishi Kasei Corporation. Дата публикации: 1990-07-30.

Sputtering apparatus and film manufacturing method

Номер патента: EP1187172A2. Автор: Naoki 2-7 Senpukugaoka 2-chome Morimoto,Tomoyasu 1888-33 Higashitanaka Kondo,Hideto 311 Haitsu-gotenba Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2002-03-13.

MAGNETRON CATHODE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: DE3476563D1. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: BOC Group Ltd. Дата публикации: 1989-03-09.

Magnetron cathode sputtering apparatus

Номер патента: AU550796B2. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1986-04-10.

Device for avoiding arcing in vacuum sputtering apparatuses

Номер патента: EP0591675B1. Автор: Johann Sturmer,Michael Dr. Lübbehusen,Gernot Dipl.-Ing. Thorn. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1996-07-24.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5538946A. Автор: Koichi Kobayashi,Tetsuya Ogawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-03-18.

Sputtering apparatus capable of changing distance between substrate and deposition preventing plate used for film formation

Номер патента: US6309525B2. Автор: Masayasu Futagawa,Kiyoshi Mito. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2001-10-30.

Electrode part structure of sputtering apparatus

Номер патента: JPS59197570A. Автор: Koji Okamoto,Mizuo Edamura,Kyoji Kajikawa,康治 岡本,枝村　瑞郎,梶川　享志. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1984-11-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100212087B1. Автор: 히토시 야마니시,사무 아오쿠라이,마사히데 요코야마,타카히로 타키사와. Владелец: 마츠시타덴키산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 1999-08-02.

Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same

Номер патента: US7520965B2. Автор: Ronghua Wei. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 2009-04-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR102147442B1. Автор: 다니엘 테오도르 크로울리,패트릭 로렌스 모르스,존 로버트 게르만. Владелец: 뷔홀러 아게. Дата публикации: 2020-08-25.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2009209386A. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Nobuyoshi Yamaoka,明彦 藤▲崎▼,伸嘉 山岡,篤史 古屋. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Sputtering apparatus capable of changing distance between substrate and deposition preventing plate used for film formation

Номер патента: CN1664163A. Автор: 水户清,二川正康. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-09-07.

Dual magnetrong sputtering apparatus utilizing control means for delivering balanced power

Номер патента: WO2005004314A2. Автор: Eric A. Seymour,Annabelle Pratt. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2005-01-13.

Magnetron unit, magnetron sputtering apparatus, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20090236219A1. Автор: Tetsuya Endo,Noel Einstein Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-09-24.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104364417A. Автор: 中村贯人,宫下哲也,五味淳,北田亨. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-02-18.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW574401B. Автор: Kazuhiko Saito,Noriaki Tani,Koukou Suu. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2004-02-01.

Sputtering apparatus, method for forming thin film, and method for manufacturing field effect transistor

Номер патента: TW201024443A. Автор: Kazuya Saito,Makoto Arai,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Target for a cathode sputtering apparatus for the production of thin films

Номер патента: EP0955667A1. Автор: Michael Jung,Rolf Adam,Jörg Dr. Krempel-Hesse. Владелец: Leybold Systems GmbH. Дата публикации: 1999-11-10.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2008934A1. Автор: Yoji Arita. Владелец: Mitsubishi Kasei Corporation. Дата публикации: 1990-07-30.

Sputtering apparatus and method for regenerating thereof

Номер патента: KR100715934B1. Автор: 최동욱,백금주,김승율,권형두. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-05-08.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JPS55100981A. Автор: Takeshi Nakamura,Koji Nishiyama,Suehiro Kato. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1980-08-01.

Magnetron cathode and magnetron sputtering apparatus comprising the same

Номер патента: US7052583B2. Автор: Tae-Wan Kim,Dong-joon Ma,Yuri Nikolaevich Tolmachev,Sergiy Yakovlevich Navala. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-05-30.

Focusing magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0127272A3. Автор: Steven D. Hurwitt,Walter H. Class,Robert G. Hieronymi. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1987-01-07.

Sputtering apparatus and method for manufacturing electronic device

Номер патента: WO2011067820A1. Автор: 南卓士. Владелец: キヤノンアネルバ株式会社. Дата публикации: 2011-06-09.

Sputtering apparatus

Номер патента: CN105463394A. Автор: D.T.克罗利,W.A.梅雷迪思. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2016-04-06.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200626739A. Автор: Israel Wagner. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2006-08-01.

Magnet target and magnetron sputtering apparatus having the same

Номер патента: US20100206726A1. Автор: XIN ZHAO,Wenyu ZHANG. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-19.

Facing-targets sputtering apparatus

Номер патента: TW200628622A. Автор: Sadao Kadokura,Hisanao Anpuku. Владелец: FTS Corp. Дата публикации: 2006-08-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201224185A. Автор: Koichi Nakajima,Takahiro Nanba. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-06-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: SG87987G. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-06-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: HK488A. Автор: Mitsuaki Horiuchi,Hideharu Kiyota. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-01-15.

Self-ionized sputtering apparatus

Номер патента: TW201040296A. Автор: Hiroaki Iwasawa,Yoshihiro Ikeda,Shinya Nakamura. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: US09812296B2. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-11-07.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: US20080317564A1. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-12-25.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: US20140246313A1. Автор: Mark R. Erickson,Ady Hershcovitch,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: EP3254296A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-12-13.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: EP1939321A1. Автор: Noriaki Tani,Satoru Ishibashi,Sadayuki Ukishima,Satoru Takasawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-07-02.

In-situ sputtering apparatus

Номер патента: EP2772932A1. Автор: Mark Erickson,Ady Hershcovitch,Henry Poole,Arthur Custer,Nader Jamshidi. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2014-09-03.

Sputtering apparatus and method of thin film formation

Номер патента: US20100078313A1. Автор: Katsuya Yoshioka,Toshinobu Chiba. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20200255935A1. Автор: Hiroshi Sone,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Sputtering apparatus and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20100155228A1. Автор: Hiroshi Takano,Hideki Ueno,Shoji Takiguchi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-06-24.

Circularly symmetric, large-area, high-deposition-rate sputtering apparatus for the coating of disk substrates

Номер патента: US5232569A. Автор: Richard D. Weir,Carl W. Nelson. Владелец: Tulip Memory Systems Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240194462A1. Автор: Shinichi Iwasaki,Akinori Ebe,Soichi Ogawa,Yusuke Kondo,Kazuo Satoh,Yoshiharu Kakehi,Shiro Ikuhara. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

System for supplying mixed gases, sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW201142056A. Автор: Hsin-Chin Hung. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-01.

스퍼터링 방법 및 스퍼터링 장치(sputtering method and sputtering apparatus)

Номер патента: KR19980019122A. Автор: 아키라 오쿠다,마사히데 요꼬야마,히로시 하야타. Владелец: 마쓰시타 덴키 산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 1998-06-05.

Sputter apparatus with a pipe cathode and method for operating this sputter apparatus

Номер патента: TW200724707A. Автор: Andreas Sauer,Juergen Henrich,Andreas Geiss,Felix Brinckmann. Владелец: Applied Films Gmbh & Co Kg. Дата публикации: 2007-07-01.

Sputter apparatus with a pipe cathode and method for operating this sputter apparatus

Номер патента: US20070144891A1. Автор: Andreas Sauer,Jürgen Henrich,Andreas Geiss,Felix Brinckmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-28.

Sputtering apparatus, method of driving the same,

Номер патента: TWI354709B. Автор: Hyuk Sang Yoon,Hwan Kyu Yoo,Byung Han Yun. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW412594B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2000-11-21.

GAS INTAKE DEVICE OF MAGNETRON SPUTTERING VACUUM CHAMBER AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160196956A1. Автор: Sun Wenbo,ZHANG Qiping. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

Sputtering Apparatus and Sputtering Method

Номер патента: US20210292886A1. Автор: Katsuaki Nakano. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Gas supply system and sputtering apparatus having same

Номер патента: US20110278163A1. Автор: Hsin-Chin Hung. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-17.

SAMPLE PREPARATION SYSTEM AND METHOD FOR ELECTRON MICROSCOPE OBSERVATION, PLASMA TREATMENT APPARATUS, SPUTTERING APPARATUS, AND TAPE FEEDING MECHANISM USED FOR SAMPLE PREPARATION

Номер патента: US20220068598A1. Автор: Goto Shuichi,Okano Hideyuki,SHIBATA Shinsuke,SHINDO Tomoko. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

Sputtering apparatus including gas distribution system

Номер патента: US20190080883A1. Автор: Klaus Hartig. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2019-03-14.

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20210104380A1. Автор: Futter Richard John,Davidson Ryan James,Leveneur Jerome,Kennedy John Vedamuthu. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180155821A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-06-07.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM

Номер патента: US20190153582A1. Автор: Todo Soya. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

AC POWER CONNECTOR, SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREFOR

Номер патента: US20160336151A1. Автор: KELLER Stefan,SCHNAPPENBERGER Frank,HELLMICH Anke,BENDER Marcus. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP0205917B1. Автор: Katsuhide C/O Toyoda Gosei Co. Ltd. Manabe,Masatoshi C/O Toyoda Gosei Co. Ltd. Tsutsui. Владелец: Toyoda Gosei Co Ltd. Дата публикации: 1990-10-31.

Method of forming a sputtering apparatus

Номер патента: US6267852B1. Автор: John H. Givens,Shane B. Leiphart. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-07-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: CN100378245C. Автор: 野田俊成. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-02.

Ion Milling and Sputtering Apparatus

Номер патента: KR20200134826A. Автор: 황윤석,허윤성,고정곤. Владелец: (주)화인솔루션. Дата публикации: 2020-12-02.

Techniques for depositing transparent conductive oxide coatings using dual C-MAG sputter apparatuses

Номер патента: US20100200395A1. Автор: Yiwei Lu,Anton Dietrich,Bryce Corsner. Владелец: Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique CRVC. Дата публикации: 2010-08-12.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US8808514B2. Автор: Zhenyu Xie. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-19.

Sputtering apparatus for forming a conductive film in a contact hole of a high aspect ratio

Номер патента: KR100255532B1. Автор: 아키라 호시노. Владелец: 닛본 덴기 가부시키가이샤. Дата публикации: 2000-05-01.

Sputtering apparatus and film-forming processes

Номер патента: US20080210547A1. Автор: Noriaki Tani,Satoru Ishibashi,Sadayuki Ukishima,Satoru Takasawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2008-09-04.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2011131137A1. Автор: 谢振宇. Владелец: 北京京东方光电科技有限公司. Дата публикации: 2011-10-27.

SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20220044920A1. Автор: Abarra Einstein Noel,IWASHITA Hiroyuki,TOSHIMA Hiroyuki,ISHIBASHI Shota,HIRASAWA Tatsuo,SHINADA Masato. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

Sputtering Apparatuses and Methods of Manufacturing a Magnetic Memory Device Using the Same

Номер патента: US20170110301A1. Автор: KIM WOOJIN,Lee Joonmyoung. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140353150A1. Автор: PARK Bo-Hwan,PARK Jae-Bum,KANG Eui-Jung. Владелец: Samsung SDI Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-12-04.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101006452B1. Автор: 이재경,김소영,정창오,김진혁,조범석,서영갑,백금주. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2011-01-06.

Ion Beam Sputtering Apparatus

Номер патента: KR102213033B1. Автор: 황윤석,허윤성,고정곤. Владелец: (주)화인솔루션. Дата публикации: 2021-02-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20050011757A1. Автор: Toshinari Noda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-01-20.

Reactive sputtering apparatus and process for forming thin film using same

Номер патента: KR100277321B1. Автор: 소네 가쯔호. Владелец: 미다라이 후지오. Дата публикации: 2001-01-15.

A sputtering apparatus and an ion source

Номер патента: EP0523695A1. Автор: Mitsuo Kato,Kenichi Yanagi,Toshio Taguchi,Tadashi Rokkaku,Ichiro Yamashita,Kazuya Tsurusaki,Kenji Atarashiya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1993-01-20.

Sputtering apparatus for forming a thin film

Номер патента: TW201016873A. Автор: Akinori Ebe,Yuichi Setsuhara,Jeong Han. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2010-05-01.

Cylindrical sputtering shield

Номер патента: US5527438A. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-06-18.

콜리메이터 코어를 구비한 박막 형성 장치

Номер патента: KR20000021407A. Автор: 류한돌. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2000-04-25.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US20210082675A1. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: US11404255B2. Автор: Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Kazunaga Ono,Yuuki Motomura,Yasuhiro OTAGIRI,Tomoyuki FUJIHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09449800B2. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: EP4398283A2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: AU2018391532B2. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

RF sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US09960018B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09812302B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2017-11-07.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US09644260B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-09.

Portable sputtering apparatus and method

Номер патента: US10840071B1. Автор: Oliver James Groves. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-11-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20140353150A1. Автор: Jae-Bum Park,Bo-Hwan Park,Eui-Jung Kang. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: US09410236B2. Автор: Wen-Tsai Yen,Shih-Wei Chen,Chung-Hsien Wu,Ying-Hsin WU,Jui-Fu HSUEH,Kuan-Chu CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US09748081B2. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Sputtering apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09997339B2. Автор: Eiji Nakamura,Shin Imai,Yasushi Yasumatsu,Hiroyuki Toya,Shigenori Ishihara,Shintaro Suda,Yuu Fujimoto,Toshikazu Nakazawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: US20230374652A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-11-23.

Sputtering apparatuses and methods of manufacturing a magnetic memory device using the same

Номер патента: US9934950B2. Автор: Woojin Kim,JoonMyoung LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-03.

Sputtering apparatus and film formation method

Номер патента: EP4397782A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Sputtering apparatus and cvd mask coating method using the same

Номер патента: US20230220533A1. Автор: Sungmin Hur. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Sputtering apparatus, film deposition method, and control device

Номер патента: US09991102B2. Автор: Koji Tsunekawa,Takeo Konno,Masahiro Suenaga. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Sputtering apparatus and magnet unit

Номер патента: US09761423B2. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20240063003A1. Автор: Tetsuro Toda,Susumu Karino,Tooru FUJIHARA. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Sputtering apparatus and method of forming film

Номер патента: US11230760B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-01-25.

Rf sputtering apparatus for controlling atomic layer of thin film

Номер патента: EP4230763A1. Автор: Se Young Jeong,Sang Eon Park,You Sil LEE,Su Jae Kim,Mi Yeon CHEON. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-08-23.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US11901166B2. Автор: Yusuke Kikuchi,Tetsuya Miyashita,Kanto Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Sputtering Apparatus and Method of Discriminating State Thereof

Номер патента: US20170283940A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-10-05.

Sputtering apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220235450A1. Автор: Hyun Cho,Ki Woong Kim,Hyeon Woo Seo,Hee Ju SHIN,Se Chung Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-07-28.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20090159429A1. Автор: Naoki Tsukamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-06-25.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US11742190B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Einstein Noel Abarra,Tatsuo HIRASAWA,Masato Shinada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20040216992A1. Автор: Kenji Ando,Hidehiro Kanazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-04.

Sputtering Apparatus and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same

Номер патента: US20140151216A1. Автор: Hyung-Jun Kim,Sang-Woo Sohn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Sputtering apparatus and method for thin film electrode deposition

Номер патента: US20230085216A1. Автор: Nam Wook Kang,Jeong Il LEE,Myung Soo Huh,Cheol Lae Roh,You Jong Lee,Doo Seon YU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20090166195A1. Автор: Toshiyuki Ota,Yukihiro Kobayashi,Koichi Yoshizuka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US9966241B2. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Sputtering apparatus, film formation method, and method for manufacturing product

Номер патента: US20230029343A1. Автор: Kazuya Demura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-01-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20210222289A1. Автор: Shunsuke Sasaki,Yutaka Kokaze,Teruaki IIWAHASHI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20240068087A1. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Film forming unit for sputtering apparatus

Номер патента: US20190206662A1. Автор: Shuuji Saitou. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20240162021A1. Автор: Yukitaka Yamaguchi. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Modular sputtering apparatus

Номер патента: AU3851289A. Автор: Christopher Case,Michael P. Lauro,Roland Beaulieu,Everett E. Chrissman,Joseph J. Loferski. Владелец: BROWN UNIVERSITY. Дата публикации: 1990-01-12.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US20210079517A1. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering apparatus and method of fabricating magnetic memory device using the same

Номер патента: US11834738B2. Автор: Jeong-Heon Park,Junho Jeong,JoonMyoung LEE,Eunsun Noh,Whankyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering apparatus, thin film formation apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: SG161156A1. Автор: Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

Sputtering apparatus including target mounting and control

Номер патента: US09738967B2. Автор: Jeffrey L Kokoschke,Dennis M Brabender. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210082674A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333745A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210351022A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210005438A1. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Keihin Ramtech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Sputtering target assembly and sputtering apparatus using the same

Номер патента: US20030165639A1. Автор: Jae Park. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-04.

Magnet structure body and cathode unit for magnetron sputtering apparatus and the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200724703A. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Takanobu Hori,Yasukuni Iwasaki. Владелец: Shinmaywa Ind Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

Sputtering target and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20240084441A1. Автор: Hyuneok Shin,Joonyong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR FILM WITH THE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170352540A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Watanabe Masahiro,OKAZAKI Kenichi,HANDA Takuya,HOSAKA Yasuharu. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20210151292A1. Автор: Yasunori Ando,Daisuke Matsuo,Yoshitaka Setoguchi,Shigeaki Kishida. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190333746A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Sputtering source, sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2004346388A. Автор: Akira Ishibashi,Hajime Nakamura,Atsushi Ota,Shigemitsu Sato,肇 中村,暁 石橋,淳 太田,淳也 清田,Junya Kiyota,弘樹 大空,重光 佐藤,Seisuke Sueshiro,政輔 末代,Hiroki Ozora. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2004-12-09.

Gas manifold for an off-axis sputter apparatus

Номер патента: WO1996025531A1. Автор: Kirsten Elizabeth Myers,Dean Willett Face. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 1996-08-22.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210005438A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210082674A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering target producing few particles, backing plate or sputtering apparatus and sputtering method producing few particles

Номер патента: WO2002040733A1. Автор: Hirohito Miyashita,Yasuhiro Yamakoshi,Takeo Okabe. Владелец: Nikko Materials Company, Limited. Дата публикации: 2002-05-23.

Sputtering Cathode, Sputtering Cathode Assembly, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20200243311A1. Автор: IWATA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD USING MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20180269043A1. Автор: Nagase Toshihiko,Ueda Koji,YAMAKAWA Koji,EEH Youngmin,SAWADA Kazuya. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2018-09-20.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236B1. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr. LÜMKEMANN. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR FILM USING SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20170365451A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

Magnetron sputtering apparatus with a movable magnetic field and method of operating the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP4195236C0. Автор: Mojmir Jilek,Radek Zemlicka,Andreas Dr Lümkemann. Владелец: Platit AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Sputtering apparatus, thin film forming method and method for manufacturing field effect transistor

Номер патента: TW201026871A. Автор: Kazuya Saito,Makoto Arai,Junya Kiyota,Satoru Ishibashi,Yasuhiko Akamatsu,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-16.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: TW503470B. Автор: Junichi Wada,Atsuko Sakata,Koichi Watanabe,Hideto Matsuyama,Tomio Katata. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-09-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: US09928998B2. Автор: Yohsuke Shibuya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20210082675A1. Автор: GOMI Atsushi,HATANO Tatsuo,ONO Kazunaga,MOTOMURA Yuuki,OTAGIRI Yasuhiro,FUJIHARA Tomoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

Box-shaped facing-targets sputtering apparatus and method for producing compound thin film

Номер патента: TWI247821B. Автор: Sadao Kadokura,Hisanao Anpuku. Владелец: FTS Corp. Дата публикации: 2006-01-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201202459A. Автор: Yukio Kikuchi,Kenichi Imakita. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-16.

Sputtering apparatus, method of driving the same,

Номер патента: TWI354710B. Автор: Tae Hyun Lim,Hwan Kyu Yoo,Byung Han Yun. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-21.

High rate sputtering apparatus and method

Номер патента: TW200914641A. Автор: Dennis Hollars. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2009-04-01.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: US20170342547A1. Автор: Seungho Choi,Kanghee Lee,Haeyoung YOO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-30.

Sputtering apparatus for emi shielding of semiconductor packages and in-line sputtering deposition system having the same

Номер патента: TWI532865B. Автор: 尹哲,金昌壽,金鍾云,李民鎭,金鳳石. Владелец: 核心整合科技股份有限公司. Дата публикации: 2016-05-11.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JP3419899B2. Автор: 靖浩 堀池,孝之 深沢. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-06-23.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US11094515B2. Автор: Akira Okuda,Masaaki Tanabe,Daisuke Suetsugu,Yosimasa Takii. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-17.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: CN102171379B. Автор: 渡边直树,北田亨,长井基将,末永真宽,金野武郎. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-04-23.

Film forming method by sputtering and sputtering apparatus thereof

Номер патента: US8043483B2. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-10-25.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP4246547B2. Автор: 肇 中村,暁 石橋,淳 太田,淳也 清田,弘樹 大空,重光 佐藤,政輔 末代. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-04-02.

Sputtering apparatus, sputtering method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20110209986A1. Автор: Naoki Watanabe,Motonobu Nagai,Toru Kitada. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-09-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US20110247928A1. Автор: Junichi Hamaguchi,Naoki Morimnoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-13.

Magnetron sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US20130186743A1. Автор: Shigeru Mizuno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-07-25.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TWI599670B. Автор: Kazuto Ozaki,Hideki Terai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180174808A1. Автор: Suetsugu Daisuke,OKUDA Akira,Tanabe Masaaki,TAKII YOSIMASA. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

Rf sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: US20170213706A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-07-27.

Sputtering Apparatus for EMI shielding of Semiconductor Packages and In-line Sputtering Deposition System Having the Same

Номер патента: KR101479251B1. Автор: 김봉석,김창수,윤철,이민진,김종운. Владелец: (주) 씨앤아이테크놀로지. Дата публикации: 2015-01-05.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR101290706B1. Автор: 나오키 와타나베,도루 기타다,모토노부 나가이,마사히로 스에나가,다케오 곤노. Владелец: 캐논 아네르바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-07-31.

Sputtering cathode, sputtering apparatus and manufacturing method of film forming element

Номер патента: KR20180121798A. Автор: 히로시 이와타,토시유키 네즈,유타 타카쿠와,나오야 오카다,잇페이 사토,나오노리 시바타,케이이치 하시모토. Владелец: 케이힌 람테크 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-11-08.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR101332274B1. Автор: 나오키 와타나베,도루 기타다,모토노부 나가이,마사히로 스에나가,다케오 곤노. Владелец: 캐논 아네르바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-11-22.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JPWO2009157439A1. Автор: 森本　　直樹,直樹 森本,久三 中村,近藤　智保,智保 近藤,恒吉 鎌田,中村　久三. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Magnet transportation system, sputtering apparatus including the same and sputtering method

Номер патента: US8512527B2. Автор: Youn-Goo Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-20.

Plasma generator, plasma sputtering apparatus, and plasma sputtering method

Номер патента: JPWO2018143164A1. Автор: 和貴 高橋,保正 佐々木,潤 福島,晃 安藤. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2019-11-21.

Sputtering apparatus with angle adjustable sputter gun

Номер патента: KR102552536B1. Автор: 최정욱,김찬홍,정수성. Владелец: (주)선익시스템. Дата публикации: 2023-07-06.

Film forming method by sputtering and sputtering apparatus thereof

Номер патента: US20100133090A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-06-03.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW201213574A. Автор: Masahiko Ishida,Naoki Morimoto. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-04-01.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: EP4324015A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-02-21.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: US20240136156A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-04-25.

SPUTTERING APPARATUS AND PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170140907A1. Автор: SHIMOKAWA Hidetoshi,Ichikawa Atsuyuki,HIROMI Taichi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2017-05-18.

Substrate cooling apparatus, sputtering apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5462272B2. Автор: 徹哉 遠藤,アインシタイン ノエル アバラ. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-04-02.

Method and apparatus for depositing aluminum oxide film and sputtering apparatus

Номер патента: KR101871899B1. Автор: 요시히로 이케다,코우코우 수우,신야 나카무라,유우스케 미야구치. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2018-06-27.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20210010127A1. Автор: KIM Ki Woong,Cho Hyun,Seo Hyeon Woo,Shin Hee Ju,Oh Se Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-01-14.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160027623A1. Автор: Shigenori Ishihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-01-28.

Method of Depositing Aluminum Oxide Film, Method of Forming the Same, and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180057929A1. Автор: Suu Koukou,IKEDA Yoshihiro,Nakamura Shinya,Miyaguchi Yuusuke. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-03-01.

Method of manufacturing semiconductor device and sputtering apparatus

Номер патента: US20160086779A1. Автор: Hidenori Suzuki,Hideaki Tsugane,Takashi HAMAYA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20220145445A1. Автор: Suzuki Koji,Tashiro Yukihito,Nagashima Hideto. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2022-05-12.

Ion Source Device, Sputtering Apparatus and Method

Номер патента: US20190122873A1. Автор: Xue Tao,ZHANG Yan Fang,CHUNG Hei Ping,CHONG Sing Kai. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Sputtering apparatus and method of manufacturing magnetic memory device using the same

Номер патента: US20190136368A1. Автор: Woojin Kim,Sang Hwan Park,Ki Woong Kim,Heeju Shin,Se Chung Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-09.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THE SAME

Номер патента: US20190144992A1. Автор: KIM Dong-Il,KIM Seung-Hyuk,RA Ki-Hwan. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

Sputtering apparatus and method thereof

Номер патента: US20150184285A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Takayuki Fukasawa,Yeon-Keon MOON,Sang-Woo Sohn,Sang-won Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160247667A1. Автор: Yohsuke Shibuya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Sputtering apparatus, film deposition method, and control device

Номер патента: US20180254172A1. Автор: Koji Tsunekawa,Takeo Konno,Masahiro Suenaga. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-09-06.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20150376774A1. Автор: Kim Kyu Sik,RYUICHI Satoh. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.

Semiconductor device manufacturing method and sputtering apparatus

Номер патента: JP4573913B1. Автор: 学 池本,述夫 山口,公子 真下,和昭 松尾. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-11-04.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR102450392B1. Автор: 강현주,정창오,손상우. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2022-10-04.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: CN110177898B. Автор: 中村真也,田代征仁. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-01-01.

Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control

Номер патента: US20080011599A1. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoshke. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2008-01-17.

Sputtering apparatus for film forming

Номер патента: CN101542013B. Автор: 佐佐木雅夫. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-05-04.

Sputtering apparatus including target mounting and/or control

Номер патента: CA2658075A1. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoschke. Владелец: Jeffrey L. Kokoschke. Дата публикации: 2008-01-17.

Sputtering apparatus of circle magnetron

Номер патента: KR100559246B1. Автор: 정윤모,한전건. Владелец: 학교법인 성균관대학. Дата публикации: 2006-03-15.

Ac power connector, method for providing ac power, and sputtering apparatus

Номер патента: EP3084803B1. Автор: Frank Schnappenberger,Stefan Keller,Marcus Bender,Anke Hellmich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-15.

Sputtering apparatus and method for producing thin film

Номер патента: WO2020241010A1. Автор: 哲宏 大野,弘敏 阪上. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2020-12-03.

Triode sputtering apparatus for depositing uniform coatings

Номер патента: US3305473A. Автор: Roger M Moseson. Владелец: Consolidated Vacuum Corp. Дата публикации: 1967-02-21.

Sputtering apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US20090211897A1. Автор: Koji Tsunekawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-08-27.

Substrate support for sputtering apparatus

Номер патента: CN110325663B. Автор: 欧阳煦,潘业光. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-08-02.

Sputtering apparatus, transparent conductive film manufacturing method

Номер патента: JP5026087B2. Автор: 悟 高澤,暁 石橋,禎之 浮島,日出夫 竹井. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-09-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9911338D0. Автор: . Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-07-14.

Ionization sputtering apparatus

Номер патента: JPH10259480A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林,Hajime Sahase,▲肇▼ 佐長谷. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1998-09-29.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20050093230A. Автор: 김성은,박정권. Владелец: 엘지.필립스 엘시디 주식회사. Дата публикации: 2005-09-23.

Reactive sputtering apparatus and method for forming composite metal compound or mixed film using same

Номер патента: CN110637103B. Автор: 税所慎一郎. Владелец: Shincron Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-08.

sputtering apparatus

Номер патента: KR101174146B1. Автор: 김성은,유환규,이천수,윤병한. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2012-08-14.

Ion beam sputtering apparatus

Номер патента: WO2002048424A1. Автор: Mervyn Howard Davis. Владелец: Nordiko Limited. Дата публикации: 2002-06-20.

Sputtering apparatus, thin film forming method and method for manufacturing field effect transistor

Номер патента: CN102187007A. Автор: 清田淳也,仓田敬臣,赤松泰彦,石桥晓,斋藤一也,新井真. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

Reactive sputter apparatus with expanded plasma region

Номер патента: KR20190080122A. Автор: 최정욱,김찬홍,정수성. Владелец: 주식회사 선익시스템. Дата публикации: 2019-07-08.

Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control

Номер патента: EP2059625A2. Автор: Dennis M. Brabender,Jeffrey L. Kokoschke. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2009-05-20.

Sputtering apparatus and method of forming layer using the same

Номер патента: KR102470195B1. Автор: 김기웅,김우진,이준명. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-11-23.

Sputtering apparatus and method thereof

Номер патента: US10184171B2. Автор: Satoh Ryuichi,Kyu Sik Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-01-22.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: CN103849841B. Автор: 陈世伟,严文材,吴忠宪,吴英信,薛瑞福,陈冠竹. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-12.

Magnet structure, magent unit and sputtering apparatus having the same

Номер патента: KR101924143B1. Автор: 김선영,조성기,김정건,소병호,우창원. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-11-30.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: CN111886360A. Автор: R·J·富特,R·J·戴维森,J·莱韦纳尔,约翰·V·肯尼迪. Владелец: R JFute. Дата публикации: 2020-11-03.

Magnesium oxide sputtering apparatus

Номер патента: EP0970261A1. Автор: John S. Chapin,Stephen M. Elliott,Patrick L. O'keefe. Владелец: Applied Films Corp. Дата публикации: 2000-01-12.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: TW202300679A. Автор: 史蒂芬 佛塞. Владелец: 瑞士商艾維太克股份有限公司. Дата публикации: 2023-01-01.

Magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing thin film

Номер патента: US8663430B2. Автор: Seishi Horiguchi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Rotating magnetron sputtering apparatus

Номер патента: WO2010131521A1. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,孝明 松岡. Владелец: 国立大学法人東北大学. Дата публикации: 2010-11-18.

Sputtering apparatus

Номер патента: EP2808420A1. Автор: Jae-Bum Park,Bo-Hwan Park,Eui-Jung Kang. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-03.

Hollow cathode sputtering apparatus and related method

Номер патента: US20050029088A1. Автор: Alan Delahoy,Sheyu Guo. Владелец: Energy Photovoltaics Inc. Дата публикации: 2005-02-10.

Sputtering apparatus and method for manufacturing transparent conducting film

Номер патента: WO2007010798A1. Автор: Hideo Takei,Satoru Ishibashi,Sadayuki Ukishima,Satoru Takasawa. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2007-01-25.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20160247667A1. Автор: Yohsuke Shibuya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Magnet module and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US11646140B2. Автор: Nayoung Lee,Sangmok Nam,Kwanyong LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-09.

Ion beam sputtering apparatus and method

Номер патента: EP3728685B1. Автор: Richard John Futter,John Vedamuthu Kennedy,Jerome LEVENEUR,Ryan James DAVIDSON. Владелец: Institute Of Geological And Nuclear Sciences Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Sputtering apparatus and method for forming in metal oxide film

Номер патента: TW201231702A. Автор: Atsushi Saito,Sadayuki Ukishima,Shyuhei Ichikawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200902742A. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto,Takaaki Matsuoka. Владелец: Univ Tohoku Nat Univ Corp. Дата публикации: 2009-01-16.

Design supporting method, system, and program of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20080185285A1. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Tetsuyuki Kubota. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-08-07.

Design supporting method, system, and program of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TWI369411B. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Tetsuyuki Kubota. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-08-01.

Substrate cooling device, sputtering apparatus and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20120193216A1. Автор: Tetsuya Endo,Einstein Noel Abarra. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-08-02.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20180057928A1. Автор: Yamamoto Hiroki,Morimoto Naoki,Kohari Shinji,Nanba Takahiro,Kamii Masanobu,Kondo Tomoyasu. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-03-01.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246312A1. Автор: JR. William A.,MEREDITH,Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

MANUFACTURING METHOD OF OXIDE FILM AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160247902A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-25.

Sputtering apparatus and manufacturing method of magnetoresistive element

Номер патента: US20150259788A1. Автор: Kazuya Sawada,Toshihiko Nagase,Youngmin EEH,Koji Ueda,Daisuke Watanabe,Makoto Nagamine,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-09-17.

METHOD OF MANUFACTURING TUNNEL MAGNETORESISTIVE EFFECT ELEMENT AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160276583A1. Автор: Seino Takuya,OTANI Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100270460B1. Автор: 마사히코 고바야시. Владелец: 아넬바 가부시키가이샤. Дата публикации: 2000-12-01.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101356918B1. Автор: 시게루 미즈노,히로유키 도시마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-01-28.

Ac power connector, sputtering apparatus and method therefor

Номер патента: KR102114019B1. Автор: 슈테판 켈러,프랑크 슈나펜베르거,안케 헬미히,마르쿠스 벤데르. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate stage, sputtering apparatus provided with substrate stage, and film forming method

Номер патента: KR20100102150A. Автор: 유키오 기쿠치,궈화 션. Владелец: 가부시키가이샤 아루박. Дата публикации: 2010-09-20.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: CN114182220A. Автор: 松本行生. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2022-03-15.

Magnet arrangement body, magnet unit and the magnetic controlled tube sputtering apparatus including this

Номер патента: CN110073464A. Автор: 金正健,苏秉镐,金宣映,禹昌远,赵成基. Владелец: Ulvac Korea Ltd. Дата публикации: 2019-07-30.

Sputtering apparatus and monitoring method thereof

Номер патента: KR101464315B1. Автор: 이형근,이재승,유운종,김흥곤. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2014-11-21.

A cathode unit and a sputtering apparatus having the cathode unit

Номер патента: TWI465598B. Автор: Daisuke Mori,Naoki Morimoto,Kyuzo Nakamura,Tomoyasu Kondo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-12-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR100341653B1. Автор: 아베겐이찌로. Владелец: 닛뽕덴끼 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-06-22.

Alternating current power supply for sputtering apparatus

Номер патента: CN102334273A. Автор: 柳谷好男. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-25.

AC power connector, sputtering apparatus and method therefor

Номер патента: CN105830194A. Автор: S·凯勒,A·赫尔米希,M·本德,F·施纳朋伯格. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-03.

Magnet structure, magent unit and sputtering apparatus having the same

Номер патента: TWI741165B. Автор: 金正健,金宣映,蘇秉鎬,禹昌遠,趙成基. Владелец: 南韓商Ulvac 韓國股份有限公司. Дата публикации: 2021-10-01.

Sputtering Apparatus and Method for Depositing Film

Номер патента: KR20220036341A. Автор: 유키오 마츠모토. Владелец: 캐논 톡키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-03-22.

Sputtering apparatus for coating of 3d-objects

Номер патента: WO2022218592A1. Автор: Stephan Voser. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2022-10-20.

Sputtering apparatus and method of operating the same

Номер патента: CN109852940B. Автор: 金承赫,金东一,罗基桓. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-08-26.

Cathodic Sputtering Apparatus

Номер патента: KR100656734B1. Автор: 푸흐스프랭크,반게르트스테판,리덴에르그랄프,닥터헬무트그림,스톨라이토비아스,쉴러우베. Владелец: 어플라이드 필름즈 게엠베하 ＆ 코. 케이쥐. Дата публикации: 2006-12-12.

Cathode sputtering apparatus with plasma confining means

Номер патента: US3393142A. Автор: Roger M Moseson. Владелец: Consolidated Vacuum Corp. Дата публикации: 1968-07-16.

Sputtering apparatus, method of operating the same, and method of manufacturing substrate using the same

Номер патента: CN101092687A. Автор: 刘桓圭,尹炳汉,林泰贤. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Wafer chuck of sputter apparatus

Номер патента: KR950009251Y1. Автор: 김학남. Владелец: 엘지일렉트론 주식회사. Дата публикации: 1995-10-23.

Film forming method and sputtering apparatus

Номер патента: JP6641472B2. Автор: 佳詞 藤井,真也 中村,藤井　佳詞,中村　真也,充則 逸見. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2020-02-05.

Sputtering apparatus and method for determining state thereof

Номер патента: WO2017029771A1. Автор: 藤井　佳詞,中村　真也. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2017-02-23.

Magnetron sputtering apparatus for single substrate processing

Номер патента: TW520403B. Автор: Jiro Ikeda,Kyoji Kinokiri. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2003-02-11.

Sputtering apparatus including cathode with rotatable targets, and related method

Номер патента: EP2280407B1. Автор: Marcel Schloremberg,Guy Comans,Philippe Uselding. Владелец: Guardian Europe SARL. Дата публикации: 2018-11-07.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A4. Автор: LIN ZHU,Charles E Wickersham Jr,John E Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2008-04-09.

Dynamic uniformity control for magnetron sputtering processes

Номер патента: WO2024188564A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ivan Van De Putte. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2024-09-19.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A2. Автор: LIN ZHU,Charles E. Wickersham, Jr.,John E. Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-01-21.

Method and apparatus for sputter coating employing machine readable indicia carried by target assembly

Номер патента: WO1993010276A1. Автор: Steven D. Hurwitt,Frank M. Shinneman. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1993-05-27.

Magnetron sputtering device

Номер патента: RU2747487C2. Автор: Дмитрий Николаевич Карпов,Максим Петрович Коверзнев,Иван Алексеевич Азаров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АкадемВак". Дата публикации: 2021-05-05.

Apparatus and method for making sputtered films with reduced stress asymmetry

Номер патента: US09567666B2. Автор: Alexey Krasnov,Willem den Boer,R. Glenn Stinson. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Sputtering shield

Номер патента: US09865440B1. Автор: Lim Boon Leong,Wei Xu,Thomas Larson Greenberg,Antonio Javier Zambano,Stan Kassela,Liu Hao Jun,Chun Wai Tong,Weilu H. Xu,Robin Andrew Davies. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2018-01-09.

Target utilization improvement for rotatable magnetrons

Номер патента: EP2553138A2. Автор: Dennis R. Hollars. Владелец: NuvoSun Inc. Дата публикации: 2013-02-06.

Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure

Номер патента: US09809876B2. Автор: Marcel Schloremberg,Guy Comans,Gilbert GALAN,Jean-Philippe USELDING. Владелец: Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique CRVC SARL. Дата публикации: 2017-11-07.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US4824540A. Автор: Robley V. Stuart. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-04-25.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: EP1273028A2. Автор: Konstantin K. Tzatzov,Alexander S. Gorodetsky. Владелец: Surface Engineered Products Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

Method and apparatus for sputtering of a liquid

Номер патента: US5211824A. Автор: Karl E. Knapp. Владелец: Siemens Solar Industries LP. Дата публикации: 1993-05-18.

Номер патента: GB1226004A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1971-03-24.

Thin film deposition by sputtering

Номер патента: CA1209953A. Автор: Henry T. Hidler,Lawrence L. Hope,Ernest A. Davey. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1986-08-19.

RF plasma processing apparatus

Номер патента: US4802968A. Автор: Howard A. Hendrix,Howard W. Schmidt, Jr.,Ernest S. Ward. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-02-07.

Magnetron sputtering equipment and cathode device thereof

Номер патента: EP3712297A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Method and system for adjustable coating using magnetron sputtering systems

Номер патента: US12062531B2. Автор: Dominik Wagner. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungsgesellschaft Mbh. Дата публикации: 2024-08-13.

Target arrangement with a circular plate, magnetron for mounting the target arrangement, and process for coating a series of circular disc-shaped workpieces by means of said magnetron source

Номер патента: US6068742A. Автор: Eduard Kugler,Walter Haag,Helmut Daxinger. Владелец: Balzers AG. Дата публикации: 2000-05-30.

Magnetron cathode sputtering

Номер патента: AU2515684A. Автор: Harold E Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1984-09-27.

System and method for differential etching

Номер патента: US09966237B2. Автор: Cherngye Hwang,Robert G. Biskeborn,Calvin S. Lo,Andrew C. Ting. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Online adjustable magnet bar

Номер патента: EP2626887A1. Автор: Ivan Van De Putte,Guy Gobin,Wim Quinteyn. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2013-08-14.

Method and apparatus for improving the uniformity ion bombardment in a magnetron sputtering system

Номер патента: US4871433A. Автор: Israel Wagner,Steven D. Hurwitt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1989-10-03.

Patent GB1257342A

Номер патента: GB1257342A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1971-12-15.

Magnetron with controller for monitoring and control

Номер патента: US20210391158A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ivan Van De Putte,Niek Dewilde. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-12-16.

Magnetron with controller for monitoring and control

Номер патента: EP3871246A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ivan Van De Putte,Niek Dewilde. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-09-01.

Method for magnetron sputtering

Номер патента: EP1070767B1. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2007-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20030150720A1. Автор: Gordon Green. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-14.

Target cooling system with trough

Номер патента: US5421978A. Автор: Manfred Schuhmacher,Gerhard Joos,Helmut Schilling. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1995-06-06.

Method of manufacturing tunnel magnetoresistive effect element and sputtering apparatus

Номер патента: US20160276583A1. Автор: Yuichi Otani,Takuya Seino. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Semiconductor device, method of fabricating the same, and sputtering apparatus

Номер патента: US5903023A. Автор: Shinichi Hoshi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1999-05-11.

Sputtering apparatus for forming ohmic contacts for semiconductor devices

Номер патента: US3844924A. Автор: C Orr,J Cunningham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-10-29.

METHOD FOR FORMING OLED ORGANIC THIN FILM LAYERS FOR USING RF SPUTTERING APPARATUS, RF SPUTTERING APPARATUS, AND APPARATUS FOR FORMING TARGET TO BE USED IN RF SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20200259084A1. Автор: SO Moon Sook. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-13.

FACING TARGETS SPUTTERING APPARATUS, ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS MANUFACTURED USING THE FACING TARGETS SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20150028297A1. Автор: Kim Hun,Park Jin-Woo,CHOI Su-Hyuk. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-01-29.

Manufacturing method of flat panel display using sputtering apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: KR100932934B1. Автор: 남경원. Владелец: 삼성모바일디스플레이주식회사. Дата публикации: 2009-12-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201213584A. Автор: Tae-Sung Lee,Hyung-Seok Yoon,Sung-Tae Namgoong,Byoung-Woo Park. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2012-04-01.

Semiconductor package sputtering method using liquid adhesive for electromagnetic interference shielding and sputtering apparatus therefor

Номер патента: CN105378919A. Автор: 金钟云,金昌寿,李民镇. Владелец: Cni Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-02.

Holding apparatus, assembly system, sputtering apparatus, machining method and machining apparatus

Номер патента: WO2007023941A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2007-03-01.

A method for manufacturing a semiconductor device and a plating apparatus and a sputtering apparatus therefor

Номер патента: KR100352569B1. Автор: 우에노가즈요시. Владелец: 닛본 덴기 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-09-12.

Sputtering Apparatus and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same

Номер патента: US20140151216A1. Автор: KIM Hyung-Jun,SOHN Sang-Woo. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-06-05.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20150102371A1. Автор: DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-16.

Magnet structure and sputtering apparatus having the same

Номер патента: KR101888173B1. Автор: 김정건,소병호,고무석,천민호,주광복. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-08-13.

Reactive sputtering apparatus

Номер патента: KR101604977B1. Автор: 오지영,황재군,윤병한. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2016-03-22.

Laser sputtering apparatus and a method for the production of dielectric thin films using the same

Номер патента: KR930004070B1. Автор: 유끼오 니시가와,요시가즈 요시다,구니오 다나카,유스께 타까다. Владелец: 마쓰시다 덴끼 가부시기가이샤. Дата публикации: 1993-05-20.

Triode sputtering apparatus using an electron emitter

Номер патента: US3515663A. Автор: George E Bodway. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1970-06-02.

Magnetron Sputtering Apparatus for Thick Layer

Номер патента: KR101100366B1. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 코리아 인스트루먼트. Дата публикации: 2011-12-30.

Magnetron sputtering apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP4762187B2. Автор: 修 山崎,繁樹 松中. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Manufacturing method of absorb layer for perovskite solar cell and sputtering apparatus for perovskite thin film

Номер патента: KR20190053452A. Автор: 정재원,이영일,정용철,유태혁,현예섭. Владелец: 주식회사 조인솔루션. Дата публикации: 2019-05-20.

Sputtering apparatus and method for producing electrode film

Номер патента: TW201835364A. Автор: 青沼大介,阿部大和,竹見崇,熊木智洋. Владелец: 日商佳能特機股份有限公司. Дата публикации: 2018-10-01.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: US7156961B2. Автор: Satoshi Yamada,Yoshiro Hasegawa,Kenji Okatani. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-01-02.

Film forming method, fabrication process of semiconductor device, computer-readable recording medium and sputtering apparatus

Номер патента: US20070254477A1. Автор: Kazunori Kobayashi,Tatsuo MURAOKA. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-11-01.

Sputtering apparatus, and film forming method

Номер патента: WO2023058507A1. Автор: 伸明 高橋,仁嗣 三浦,竜二 片山,智之 谷川. Владелец: 国立大学法人大阪大学. Дата публикации: 2023-04-13.

Sputter apparatus

Номер патента: KR20160115783A. Автор: 문대규,하미영. Владелец: 순천향대학교 산학협력단. Дата публикации: 2016-10-06.

Drive assy for etch table of semiconductor sputtering apparatus

Номер патента: KR950005445B1. Автор: 우영구. Владелец: 금성일렉트론주식회사. Дата публикации: 1995-05-24.

Sputtering Apparatus for Nano Thin-Film

Номер патента: KR20180134549A. Автор: 김현범,최경현. Владелец: 제주대학교 산학협력단. Дата публикации: 2018-12-19.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20130277206A1. Автор: ISHIBASHI Keiji,DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF FABRICATING MAGNETIC MEMORY DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20210079517A1. Автор: Kim Whankyun,Jeong Junho,Park Jeong-Heon,Lee Joonmyoung,Noh Eunsun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-18.

FILM-FORMING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20190078196A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya,HENMI Mitsunori. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-03-14.

EPITAXIAL FILM FORMING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND ILLUMINATION DEVICE

Номер патента: US20170309480A1. Автор: ISHIBASHI Keiji,DAIGO Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-26.

Magnetron sputtering apparatus for thick layer

Номер патента: KR20100117236A. Автор: 김갑석,김용모. Владелец: 주식회사 케이아이자이맥스. Дата публикации: 2010-11-03.

Sputtering apparatus using unifrom plasma

Номер патента: KR100708831B1. Автор: 손상호,백금주,김승율. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-04-17.

Sputtering apparatus using unifrom plasma

Номер патента: KR20010107142A. Автор: 손상호,백금주,김승율. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-12-07.

Sputtering apparatus for semiconductor device

Номер патента: KR0127233Y1. Автор: 오재섭. Владелец: 문정환. Дата публикации: 1998-12-01.

Non-magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101323204B1. Автор: 허윤성,고정곤,윤훈만. Владелец: (주)이루자. Дата публикации: 2013-10-30.

Sputtering apparatus and method for forming thin film using the same

Номер патента: KR102177209B1. Автор: 최승호,윤대상,전영분. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-11-11.

Shield manufacturing method for semiconductor sputtering apparatus

Номер патента: KR960014958B1. Автор: 장정수. Владелец: 장정수. Дата публикации: 1996-10-23.

Sputtering device

Номер патента: EP4333564A1. Автор: Shinichi Iwasaki,Akinori Ebe,Soichi Ogawa,Yusuke Kondo,Kazuo Satoh,Yoshiharu Kakehi,Shiro Ikuhara. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2024-03-06.

Target apparatus for sputtering, and sputtering apparatus therewith, sputtering method, manufacturing method of organic light emitting device, and manufacturing method of organic TFT thereby

Номер патента: KR100659085B1. Автор: 정경훈,허명수,이규성,김한기,정석헌. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2006-12-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201923129A. Автор: 吉田大介,清水豪,高橋誠,湯山明,佐藤雄亮. Владелец: 日商愛發科股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-16.

Method for producing organic thin-film device by use of facing-targets-type sputtering apparatus

Номер патента: TW593721B. Автор: Junji Kido,Sadao Kadokura,Akira Yokoi. Владелец: Int Mfg & Eng Services Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-21.

Sputtering apparatus, and filming method

Номер патента: KR101706192B1. Автор: 유키오 기쿠치. Владелец: 가부시키가이샤 아루박. Дата публикации: 2017-02-13.

Sputtering apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: WO2023277163A1. Автор: 達哉 岩崎. Владелец: キヤノントッキ株式会社. Дата публикации: 2023-01-05.

Sputtering apparatus and method for forming coating film by sputtering

Номер патента: US20090162618A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-25.

Sputtering apparatus and manufacturing apparatus for liquid crystal device

Номер патента: US20100000859A1. Автор: Shinichi Fukada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-01-07.

Simulation apparatus for optimizing sputtering apparatus and simulation method therefor

Номер патента: US5850356A. Автор: Hiroaki Yamada,Toshiyuki Ohta,Toshiki Shinmura. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-12-15.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20090127109A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

A sputtering apparatus having enhanced adhesivity of particles and a manufacturing method thereof

Номер патента: WO2004034450A1. Автор: Joo Sik Yoon. Владелец: TM TECH CO., LTD.. Дата публикации: 2004-04-22.

Supported plasma sputtering apparatus for high deposition rate over large area

Номер патента: US4038171A. Автор: Ronald W. Moss,Edwin D. McClanahan, Jr.,Nils Laegreid. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 1977-07-26.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170137932A1. Автор: Guangcai Yuan. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Black matrix laminated film and reactive sputtering apparatus

Номер патента: US5922181A. Автор: Hiroshi Iwata. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-07-13.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20110114473A1. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Multitarget sequential sputtering apparatus

Номер патента: US3864239A. Автор: James C Administrator Fletcher,Rindge Shima. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1975-02-04.

Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Tamayo Hiroki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: US4290876A. Автор: Takeshi Nakamura,Hiroshi Nishiyama,Kenji Ando,Suehiro Kato. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1981-09-22.

Magnetic head manufacturing method using sputtering apparatus

Номер патента: US5718812A. Автор: Satoshi Takaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-02-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20110266146A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Sample preparation system and method for electron microscope observation, and tape feeding mechanism used for sample preparation

Номер патента: US11990314B2. Автор: Shuichi Goto,Shinsuke Shibata,Hideyuki Okano,Tomoko Shindo. Владелец: Sanyu Electron Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Sputtering bracket and sputtering apparatus having same

Номер патента: US20110247931A1. Автор: Hou-Yao Lin,Tai-Sheng Tsai. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-13.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130037406A1. Автор: Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Method of handling a substrate after sputtering and sputtering apparatus

Номер патента: TW332307B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi. Владелец: ANERUBA KK. Дата публикации: 1998-05-21.

Sputtering apparatus for coating cylinders

Номер патента: GB2041984A. Автор: . Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1980-09-17.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW200920868A. Автор: Takashi Komatsu,Makoto Arai,Yasuhiko Akamatsu,Takaomi Kurata,Tatsunori Isobe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2009-05-16.

Stacked-film-forming system, sputtering apparatus, and method for forming stacked film

Номер патента: US20080233301A1. Автор: Katsunori Takahashi,Kazuya Takahashi,Yoichi Sato. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Method and apparatus for cleaning a target of a sputtering apparatus

Номер патента: US20070023276A1. Автор: Jeffrey Reiter. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2007-02-01.

Sputtering apparatus having automatic mount apparatus

Номер патента: JPS57120670A. Автор: Haijitsuhi Ururitsuhi,Kotsushiyu Uorufugangu,Uetsukento Jiigufuriito,Teshiyuneru Getsutsu. Владелец: BEBU. Дата публикации: 1982-07-27.

Magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus using magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP4990521B2. Автор: 典明 谷,肇 中村,孝 小松,淳也 清田,新井　　真,尚浩 李. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Control apparatus and a film forming method of a sputtering apparatus, a sputtering apparatus

Номер патента: TWI500792B. Автор: Yoshinori Nagamine,Hiroshi Tsunematsu. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-09-21.

SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20130306464A1. Автор: HAYATA HIROSHI. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2013-11-21.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN112553583B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-28.

SPUTTER APPARATUS, CONTROL DEVICE FOR SPUTTER APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD

Номер патента: US20130161182A1. Автор: NAGAMINE Yoshinori,TSUNEMATSU Hiroshi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-27.

PLASMA CVD APPARATUS, PLASMA CVD METHOD, REACTIVE SPUTTERING APPARATUS, AND REACTIVE SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20140023796A1. Автор: Ueda Masanori,Ejiri Hiroe,Nomura Fumiyasu,Sakamoto Keitaro. Владелец: Toray Industries, Inc.. Дата публикации: 2014-01-23.

FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140097079A1. Автор: ENDO Tetsuya,Hosoya Hiroyuki. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-04-10.

Target module of a facing sputtering apparatus, facing sputtering apparatus, and method of depositing a thin film using the same

Номер патента: KR102194765B1. Автор: 김훈,김우현,유승규,이웅수,강석우. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2020-12-24.

Sputtering apparatus and sputtering apparatus control method

Номер патента: CN111188019B. Автор: 朴瑨哲. Владелец: Avaco Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-12.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW329019B. Автор: Nobuyuki Takahashi,Masahiko Kobayashi,Masahito Ishiwara. Владелец: ANERUBA KK. Дата публикации: 1998-04-01.

High frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS5494444A. Автор: Oorufuon Biyaruko Jiyosefu,Esu Rekaton Jiyon. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-07-26.

MAGNETRON SOURCE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20130277205A1. Автор: LIU XU,Geng Bo,Wu Xuewei,QIU Guoqing,Li Yangchao. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-10-24.

Sputtering apparatus and sputtering processing system using the same

Номер патента: KR100189675B1. Автор: 지로 이께다. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 1999-06-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200407447A. Автор: Joo-Sik Yoon. Владелец: TM Tech CO Ltd. Дата публикации: 2004-05-16.

Sputtering Method and Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210079514A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya,Hashimoto Kazuyoshi,Noro Mitsunori. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-03-18.

Sputtering Apparatus and Method, and Sputtering Control Program

Номер патента: US20080023318A1. Автор: Shunji Kuroiwa. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2008-01-31.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: CN101784693A. Автор: 大空弘树,佐藤重光,小松孝,矶部辰德,谷口英男,川口昌男. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-07-21.

Method of forming film by sputtering, optical member, and sputtering apparatus

Номер патента: US20050016834A1. Автор: Mitsuharu Sawamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-01-27.

Sputtering apparatus and sputtering processing system using the same

Номер патента: WO1991004352A1. Автор: Jiro Ikeda. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 1991-04-04.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JPWO2009025258A1. Автор: 小松　孝,孝 小松,辰徳 磯部,弘樹 大空,重光 佐藤,英男 谷口,昌男 川口. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-11-25.

Sputtering apparatus having an on board service module

Номер патента: WO1996017971A1. Автор: Steven Hurwitt. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1996-06-13.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: TW201000663A. Автор: Masaaki Iwasaki,Yoshifumi Oda,Takehiro Sato. Владелец: Sony Disc & Digital Solutions Inc. Дата публикации: 2010-01-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS53144475A. Автор: Keiichi Nagasaki,Kensuke Nakada,Yukio Murakawa,Takao Nagasaki. Владелец: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1978-12-15.

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND REACTIVE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140158524A1. Автор: Nakagawa Takashi,OTANI Yuichi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-12.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS AND REACTIVE SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20180265961A1. Автор: Hiroki Tamayo. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-20.

Method of fabricating epitaxial thin-film using metal oxide sputtering target and sputtering apparatus

Номер патента: KR102243631B1. Автор: 김상모,박정웅. Владелец: 가천대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-04-22.

Sputtering method for semiconductor device and sputtering apparatus for this method

Номер патента: KR0161390B1. Автор: 이기홍,이덕형,주석호,백충열. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-02-01.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: KR102180440B1. Автор: 박찬석,백신혜,강형식. Владелец: (주)이노시아. Дата публикации: 2020-11-18.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: WO2007083608A1. Автор: Takashi Kagechika,Tomonobu Hata,Nobumasa Nambu,Nagayasu Nakamura,Hideki Sasanuma,Hisami Nishio. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2007-07-26.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TWI401334B. Автор: Hajime Nakamura,Takashi Komatsu,Makoto Arai,Noriaki Tani,Junya Kiyota,Motoshi Kobayashi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

Ag alloy cylindrical sputtering target, sputtering apparatus, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: JP7225170B2. Автор: 達哉 岩崎,行生 松本,大介 青沼,孝博 小林,洋紀 菅原,敏治 内田,幸健 仲野. Владелец: Matsuda Sangyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-20.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: KR20170005347A. Автор: 박준용,강현주,정창오,손상우,신상원. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2017-01-12.

Compact sputtering apparatus, and sputtering assembly comprising such a device

Номер патента: DE202018001633U1. Автор: . Владелец: Areco Finances et Technologie ARFITEC SAS. Дата публикации: 2018-07-02.

Sputtering apparatus and vacuum processing apparatus

Номер патента: JP5497572B2. Автор: 伸彦 植野,信人 宮内,秀紀 若林. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-05-21.

Magnetic field providing apparatus, magnetron sputtering apparatus and the method using the equipment

Номер патента: CN107012440A. Автор: 王鑫,杜建华. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-04.

SPUTTERING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND CONTROL DEVICE

Номер патента: US20130105298A1. Автор: TSUNEKAWA Koji,Konno Takeo,SUENAGA Masahiro. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-02.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130180850A1. Автор: Rohrmann Hartmut,Dubs Martin. Владелец: OC OERLIKON BALZERS AG. Дата публикации: 2013-07-18.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD

Номер патента: US20130186743A1. Автор: MIZUNO Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-07-25.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130277213A1. Автор: SHIBUYA Yohsuke. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130299348A1. Автор: LING WEI-CHENG. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-14.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140027278A1. Автор: Ohmi Tadahiro,Goto Tetsuya,Matsuoka Takaaki. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-30.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140061029A1. Автор: Morse Patrick Lawrence. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-03-06.

Rotary Cathode Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180030591A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-02-01.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD FOR COMPOSITE METAL COMPOUND FILM OR MIXTURE FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200040440A1. Автор: SAISHO Shinichiro. Владелец: SHINCRON CO., LTD.. Дата публикации: 2020-02-06.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20140144769A1. Автор: YEN Wen-Tsai,CHEN Shih-Wei,WU Chung-Hsien,WU Ying-Hsin,HSUEH Jui-Fu,CHEN Kuan-Chu. Владелец: TSMC SOLAR LTD.. Дата публикации: 2014-05-29.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140158531A1. Автор: Choi Jai-Hyuk. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-06-12.

Sputtering Apparatus and Method of Forming Film

Номер патента: US20200080192A1. Автор: Nakamura Shinya,Tashiro Yukihito. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2020-03-12.

SPUTTERING APPARATUS AND RECORDING MEDIUM FOR RECORDING CONTROL PROGRAM THEREOF

Номер патента: US20150101927A1. Автор: Yamaguchi Nobuo,Watanabe Naoki,TSUNEKAWA Koji,KOSUDA Motomu. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-16.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20140183035A1. Автор: Morohashi Shinichi. Владелец: YAMAGUCHI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-07-03.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140238848A1. Автор: SEO Jin-Weon. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-28.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246310A1. Автор: Crowley Daniel Theodore,Morse Patrick Lawrence,German John Robert. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

IN-SITU SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246313A1. Автор: III Arthur W.,Erickson Mark R.,Poole Henry J.,Custer,Hershcovitch Ady. Владелец: POOLE VENTURA, INC.. Дата публикации: 2014-09-04.

SPUTTERING APPARATUS FOR REDUCING SUBSTRATE DAMAGE AND METHOD FOR APPLYING THE SAME

Номер патента: US20140261169A1. Автор: Chu PeiMing. Владелец: EverDisplay Optronics (Shanghai) Limited. Дата публикации: 2014-09-18.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140291146A1. Автор: Choi Seung-Ho,Sim Jae-Yun. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-10-02.

Cathode Unit for Sputtering Apparatus

Номер патента: US20190194798A1. Автор: Nakamura Shinya,Tashiro Yukihito. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2019-06-27.

SHIELD MASK MOUNTING FITTING FOR A SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20160214136A1. Автор: KIM Jong Yun. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

SPUTTERING APPARATUS AND TARGET CHANGING DEVICE THEREOF

Номер патента: US20180209036A1. Автор: He Xiaolong,Wang Can,Du Jianhua,SUN Xuefei. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-07-26.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF FORMING A LAYER USING THE SAME

Номер патента: US20170327941A1. Автор: Kim Ki-Woong,LEE Joon-myoung,KIM WOO-JIN. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5399081A. Автор: Mitsumasa Umezaki,Hiroshi Sugawara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1978-08-30.

Phase control type high frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS59205477A. Автор: Yoshiaki Shimizu,Kibatsu Shinohara,Toshiaki Fujioka,己抜 篠原,藤岡　俊昭,清水　美章. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1984-11-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101352379B1. Автор: 유성진,안병철,정종범. Владелец: (주)다스. Дата публикации: 2014-01-20.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6326357A. Автор: Kenichi Kubo,久保　謙一. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1988-02-03.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6115966A. Автор: Nobuo Kawakami,Eisuke Ueda,川上　伸男,上田　映介. Владелец: Shimazu Seisakusho KK. Дата публикации: 1986-01-24.

Sputtering apparatus for making barrier film for integrated circuit

Номер патента: KR19980070035A. Автор: 고바야시마사히코. Владелец: 아네루바가부시키가이샤. Дата публикации: 1998-10-26.

Laser sputtering apparatus

Номер патента: KR930009990B1. Автор: 유끼오 니시가와,요시가즈 요시다,쿠니오 타나카. Владелец: 다니이 아끼오. Дата публикации: 1993-10-13.

Opposed target type sputtering apparatus

Номер патента: JPS6046369A. Автор: Yoshihiko Ueda,Masahiko Naoe,Yoichi Hoshi,Hironobu Muroi,陽一 星,直江　正彦,植田　吉彦,室井　尋伸. Владелец: OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK. Дата публикации: 1985-03-13.

Ion beam sputtering apparatus and film deposition method for a multilayer for a reflective-type mask blank for EUV lithography

Номер патента: US20070087578A1. Автор: Takashi Sugiyama,Toshiyuki Uno,Satoru Takaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-19.

High frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS5399082A. Автор: Mitsumasa Umezaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1978-08-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5881970A. Автор: Yasuhiko Sato,保彦 佐藤. Владелец: Clarion Co Ltd. Дата публикации: 1983-05-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101374664B1. Автор: 김영민,이춘수,장명수,김기찬,강승익,은희관. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2014-03-18.

Sputtering apparatus with gas injection nozzle assemblly

Номер патента: KR101083110B1. Автор: 김성은. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2011-11-11.

Magnetron sputtering apparatus and control method thereof

Номер патента: CN113755809A. Автор: 张�浩,王国峰,杨忠武. Владелец: Beihai Huike Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-07.

Method and arrangement for regulating the discharge process in a cathode sputtering apparatus

Номер патента: GB2021294A. Автор: . Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1979-11-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101372359B1. Автор: 남기덕,노동민,신기조. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2014-03-13.

A kind of magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN105525269B. Автор: 陈龙,刘飞,张卓然,井杨坤,颜毓雷. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-02.

Inline sputtering apparatus

Номер патента: KR101430653B1. Автор: 한경록,최봉환. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2014-08-18.

Magnetron sputtering apparatus and manufacture of compound single crystal film

Номер патента: JPS6114194A. Автор: Tatsuo Fukami,Hidetoshi Tsuchiya,龍夫 深海,英俊 土屋. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-01-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5379776A. Автор: Kazuyuki Tsuruoka. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 1978-07-14.

High frequency sputtering apparatus

Номер патента: JPS5729576A. Автор: Tadayoshi Kinoshita. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-02-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20040039554A. Автор: 김진영. Владелец: 엘지.필립스 엘시디 주식회사. Дата публикации: 2004-05-12.

sputtering apparatus

Номер патента: KR101174154B1. Автор: 김성은,임태현,안병철,유환규,문양식,유광종. Владелец: 주식회사 아바코. Дата публикации: 2012-08-14.

Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0428358A3. Автор: Thomas H. Allen,Paul M. LeFebvre,Bryant P. Hichwa,Richard I. Seddon,Michael A. Scobey,Michael D. Temple,David L. Soberanis,James W. Seeser,Erik R. Dickey,Rolf F. Illsley,Robert F. Klinger,Craig C. Van Horn,Patrick R. Wentworth. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1991-07-24.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR101134162B1. Автор: 김종윤. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2012-04-09.

Reel to reel vacuum sputtering apparatus

Номер патента: EP1849888A1. Автор: Nobuhiro Hayashi,Isao Tada,Atsushi Nakatsuka,Shin Yokoi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS53100979A. Автор: Shuji Ueda,Tadashi Karaki,Juichi Abe. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1978-09-02.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR20170082185A. Автор: 이동희,신상원. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2017-07-14.

TARGET DEVICE, SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING A TARGET DEVICE

Номер патента: US20130186752A1. Автор: SATO Masaru,Takahashi Kazutoshi,KADOWAKI Yutaka,LIN Chengfu. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2013-07-25.

SPUTTERING APPARATUS INCLUDING TARGET MOUNTING AND CONTROL

Номер патента: US20130220795A1. Автор: Brabender Dennis M.,Kokoschke Jeffrey L.. Владелец: CARDINAL CG COMPANY. Дата публикации: 2013-08-29.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130299345A1. Автор: ENDO Tetsuya,Abarra Noel. Владелец: iZA CORPORATION. Дата публикации: 2013-11-14.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140102890A1. Автор: Yi Hun Jung,SONG Eun-Ju,JUNG Youngjae. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-17.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140166479A1. Автор: Kim Dong-Jin,JUNG Sun-Young,Park Jin-Woo,Sin Sang-Wook,Lee Il-Sang. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-19.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210140033A1. Автор: Nakano Katsuaki,Yaginuma Kanji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-05-13.

Sputtering Apparatus

Номер патента: US20170137932A1. Автор: YUAN Guangcai. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

IN-SITU SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20140246311A1. Автор: III Arthur W.,Erickson Mark R.,Poole Henry J.,Jamshidi Nader,Custer,Hershcovitch Ady. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-04.

Sputtering Apparatus and Method of Forming Film

Номер патента: US20210214841A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-07-15.

Sputtering Apparatus and Method of Discriminating State Thereof

Номер патента: US20170283940A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2017-10-05.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6013068A. Автор: Toshiaki Ikeda,Yukio Yoshino,幸夫 吉野,利昭 池田. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1985-01-23.

Magnetron sputtering apparatus

Номер патента: KR101341433B1. Автор: 이상철,오기용. Владелец: 주식회사 에스에프에이. Дата публикации: 2013-12-13.

Sputter apparatus

Номер патента: KR101344220B1. Автор: 김재용,신호식,염정훈. Владелец: 주식회사 케이시엠시. Дата публикации: 2013-12-23.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR960011245B1. Автор: 츠카사 고바야시,나오키치 호소가와. Владелец: 아네루바 가부시기가이샤. Дата публикации: 1996-08-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: KR101293129B1. Автор: 김강석,안유경. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2013-08-12.

Plasma sputtering apparatus for forming a coating layer inside a cylinder and method for forming coating layer using the same

Номер патента: KR980008349A. Автор: 허명수. Владелец: 주식회사 고진공산업. Дата публикации: 1998-04-30.

Roll­to­roll sputtering apparatus

Номер патента: KR102274884B1. Автор: 박성완,안우영. Владелец: 주식회사 테토스. Дата публикации: 2021-07-08.

Sputtering apparatus of fibrous structure

Номер патента: KR20150049482A. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2015-05-08.

Magnetron sputtering apparatus and thin film deposition method using the same

Номер патента: KR102171871B1. Автор: 정대호,이호선,소현섭. Владелец: 경희대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-10-30.

Intracavity magnetron sputtering apparatus and method

Номер патента: CN110205595A. Автор: 韩成明,薛道荣,李峰,褚敬堂,刘子毓. Владелец: Hebei Daorong New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-06.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR100962494B1. Автор: 김진영. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2010-06-14.

Target for high profitable sputtering apparatus

Номер патента: JPS53114787A. Автор: Chikara Hayashi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 1978-10-06.

Cobalt based alloy target for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0659901B1. Автор: Martin Dr. Weigert,Martin Dr. Schlott,Bruce Dr. Gehman,Kwei Teng. Владелец: Leybold Materials GmbH. Дата публикации: 1998-04-15.

Semiconductor wafer sputtering apparatus

Номер патента: KR100258868B1. Автор: 선정민. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2000-06-15.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US8110078B2. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-07.

Sputter apparatus

Номер патента: TWI454587B. Автор: Young Min Kim,Jeong Hee Kim,Eun Ho Song,Hong Gi Jeong,Wun Jong Yoo. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2014-10-01.

Sputtering Apparatus

Номер патента: KR101134161B1. Автор: 유준영,은종찬. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2012-04-09.

Ceramic metallic coatings

Номер патента: US20180245197A1. Автор: Thomas Nolan,Shivi SINGH,Rosangela LOIUDICE. Владелец: Valeo North America Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Apparatus for sputtering and operation method thereof

Номер патента: WO2017071046A1. Автор: Yujie Yang. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-05-04.

Sputtering target for magnetic recording film

Номер патента: US09540724B2. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Sputtering target assembly to prevent overetch of backing plate and methods of using the same

Номер патента: US20220351953A1. Автор: Ming-Jie He,Wen-Cheng Cheng,Chen-Fang Chung,Po Wen Yang,Yan-Zi Lu,Cheng-Yi Teng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Apparatus for sputtering and operation method thereof

Номер патента: US20170114446A1. Автор: Yujie Yang. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Methods for producing piezoelectric bulk and crystalline seed layers of different c-axis orientation distributions

Номер патента: US20170111023A1. Автор: John BELSICK,Kevin MCCARRON. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2017-04-20.

Deposition Apparatus

Номер патента: US20210005439A1. Автор: Steve Burgess,Rhonda Hyndman. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Reactive sputtering method

Номер патента: US20090200159A1. Автор: Yasuyuki Suzuki,Koji Teranishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Deposition system for growth of inclined c-axis piezoelectric material structures

Номер патента: US09922809B2. Автор: John BELSICK,Kevin MCCARRON. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Patent GB1258192A

Номер патента: GB1258192A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1971-12-22.

Sputtering Target for Magnetic Recording Film

Номер патента: US20140346039A1. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

MIIIN based materials and methods and apparatus for producing same

Номер патента: US6784085B2. Автор: Jerome J. Cuomo,N. Mark Williams,Andrew David Hanser,Eric Porter Carlson,Darin Taze Thomas. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2004-08-31.

Coating film and method and apparatus for producing the same

Номер патента: CA1232228A. Автор: Masao Hayashi,Akio Hiraki,Tatsuro Miyasato. Владелец: Meidensha Corp. Дата публикации: 1988-02-02.

Magnetron sputtering device

Номер патента: EP4269649A1. Автор: LU Zhang,Bingliang Guo,Wenxue Xu,Yaxin CUI,Shubo WU,Yinggong MA,Shuaitao SHI,Ziyang ZHEN,Hongtao ZHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Improvements in and relating to thin films

Номер патента: GB1104487A. Автор: Frederick Vratny,Newton Schwartz. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1968-02-28.

Deposition apparatus

Номер патента: EP3761342A1. Автор: Stephen Burgess,Rhonda Hyndman. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-01-06.

Multi-stage deposition system for growth of inclined c-axis piezoelectric material structures

Номер патента: US20170111022A1. Автор: John BELSICK,Kevin MCCARRON. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2017-04-20.

Cylindrical target production method and cylindrical target

Номер патента: US20190041183A1. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita,Mizuki SHIRAISHI,Takuto SUGAWARA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-07.

Target assembly

Номер патента: US09972479B2. Автор: Yoshihiro Ikeda,Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Yuusuke Miyaguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Interchangeable magnet pack

Номер патента: WO2013086466A1. Автор: Thomas P. Nolan,Toon Hai Foo,Walter Stanley Kassela. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2013-06-13.

Substrate bearing assembly and magnetron sputtering device

Номер патента: US10968511B2. Автор: Biao TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-06.

Substrate bearing assembly and magnetron sputtering device

Номер патента: US20180312963A1. Автор: Biao TIAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Magnetic orienting device for thin film deposition and method of use

Номер патента: US5630916A. Автор: Kevin S. Gerrish,Dorian Heimanson,Paul H. Ballentine,II Alan T. Stephens. Владелец: CVC Products Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Pallet-loading system

Номер патента: WO1987004416A1. Автор: Atef Eltoukhy. Владелец: Xidex Data Disc. Дата публикации: 1987-07-30.

Method of manufacturing a thin film transistor using multiple sputtering chambers

Номер патента: US6177302B1. Автор: Shunpei Yamazaki,Takeshi Fukada,Takashi Inushima,Hongyong Zhang. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-23.

Transport system for thin film sputtering system

Номер патента: US5660114A. Автор: Thomas A. Gruber. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 1997-08-26.

Method for improving reduction-resistant property of ceramic ptc thermosensitive element

Номер патента: EP4350028A1. Автор: Qiuyun Fu,Dongxiang Zhou,Zhengan HE,Yongfeng SHI. Владелец: Jiangsu New Linzhi Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Method for improving resistance of ceramic ptc thermal element to reduction

Номер патента: US20240068088A1. Автор: Qiuyun Fu,Dongxiang Zhou,Zhengan HE,Yongfeng SHI. Владелец: Jiangsu New Linzhi Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Ferromagnetic material sputtering target

Номер патента: MY161157A. Автор: Yuki Ikeda,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2017-04-14.

Etching technique for semiconductor device manufacture

Номер патента: GB1073599A. Автор: . Владелец: TRW Semiconductors Inc. Дата публикации: 1967-06-28.

Nitrogen-doped beta tantalum

Номер патента: GB1412998A. Автор: . Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1975-11-05.

Номер патента: GB1258260A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1971-12-30.

다층기판홀더 구조의 로드 락 챔버를 이용한 박막증착장치

Номер патента: KR20090035184A. Автор: 이창희,조상진,김학노. Владелец: 한국원자력연구원. Дата публикации: 2009-04-09.

Negative electrode active material for electric device

Номер патента: US09843040B2. Автор: Manabu Watanabe,Masao Yoshida,Osamu Tanaka. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Phase shift mask and manufacturing method thereof and exposure method using phase shift mask comprising a semitransparent region

Номер патента: US5629114A. Автор: Nobuyuki Yoshioka,Junji Miyazaki,Ryoichi Kobayashi,Yaichiro Watakabe,Akihiko Isao. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 1997-05-13.

Coated metallic conductor

Номер патента: GB2183079A. Автор: Richard John Penneck,James Martin O'brien,Stephen John Duckworth. Владелец: Raychem Ltd. Дата публикации: 1987-05-28.

Phase shift mask and manufacturing method thereof and exposure method using phase shift mask

Номер патента: US5691090A. Автор: Nobuyuki Yoshioka,Junji Miyazaki,Ryoichi Kobayashi,Yaichiro Watakabe,Akihiko Isao. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 1997-11-25.

Method for manufacturing aluminum-containing nitride intermediate layer, method for manufacturing nitride layer, and method for manufacturing nitride semiconductor element

Номер патента: US20110062016A1. Автор: Masahiko Sakata,Masahiro Araki,Takaaki Utsumi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Thin film capacitor

Номер патента: GB1262319A. Автор: . Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1972-02-02.

Metallic thin film and method of manufacturing the same, and surface acoustic wave device using the metallic thin film and the method thereof

Номер патента: CA2195486C. Автор: Masato Kobayashi,Atsushi Sakurai,Yukio Yoshino,Hidefumi Nakanishi. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2000-10-31.

Method of making magnetic head

Номер патента: US4646429A. Автор: Keiji Mori. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-03-03.

Semiconductor laser manufacturing method

Номер патента: US7192851B2. Автор: Keiji Yamane,Isao Kidoguchi,Tetsuo Ueda,Toshiya Kawata. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-20.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120302058A1. Автор: Katsuhiko Tanaka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2012-11-29.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20140001030A1. Автор: Katsuhiko Tanaka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2014-01-02.

Semiconductor laser manufacturing method

Номер патента: US20070298528A1. Автор: Keiji Yamane,Isao Kidoguchi,Tetsuo Ueda,Toshiya Kawata. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-27.

Negative electrode active material for electric device, negative electrode for electric device and electric device

Номер патента: MY160823A. Автор: Manabu Watanabe,Masao Yoshida. Владелец: Nissan Motor. Дата публикации: 2017-03-31.

Deposition method of a metallic layer on a substrate of a resonator device

Номер патента: US12043891B2. Автор: Adrian Thomas,Steve Burgess,Scott HAYMORE. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for controlling film forming apparatus, film forming method, film forming apparatus, organic el electronic device, and storage medium having program for controlling film forming apparatus stored therein

Номер патента: US20100207515A1. Автор: Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-08-19.

Sputtering process for sputtering a target of carbon

Номер патента: US20140027269A1. Автор: Ulf Helmersson,Nils Brenning,Asim AIJAZ. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2014-01-30.

Method and apparatus for forming coating layer with nano multi-layer

Номер патента: US09422618B2. Автор: Hyuk Kang,Sang Jin Park,In Woong Lyo,Woong Pyo Hong,Kwang Hoon Choi,Yoon Suk Oh. Владелец: Hyundai Steel Co. Дата публикации: 2016-08-23.

Target structure and target holding apparatus

Номер патента: US20090078564A1. Автор: Keiji Ishibashi,Yoshiaki Daigo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-03-26.

Coated metal substrate

Номер патента: RU2764256C2. Автор: Кристиан АЛЛЕЛИ,Даниель ШАЛЕ,Эрик СИЛЬБЕРБЕРГ,Сержио ПАС,Люси ГАУЯ. Владелец: Арселормиттал. Дата публикации: 2022-01-14.

Sublayers for magnetically soft underlayer

Номер патента: US09653105B2. Автор: Rajiv Y Ranjan,Thomas P Nolan,Jeffrey S Reiter. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2017-05-16.

Magnetic recording head for perpendicular recording with enhanced covering power of protective film, fabrication process, and magnetic disk storage apparatus mounting the magnetic recording head

Номер патента: US20060090329A1. Автор: Tomohiro Okada,Isao Nunokawa,Atsushi Kato,Ichiro Oodake. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2006-05-04.

Method of fabricating a magnetic recording head for perpendicular recording with enhanced covering power

Номер патента: US7882617B2. Автор: Tomohiro Okada,Isao Nunokawa,Atsushi Kato,Ichiro Oodake. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2011-02-08.

Improvements in or relating to apparatus for depositing thin films

Номер патента: GB1131189A. Автор: . Владелец: Consolidated Vacuum Corp. Дата публикации: 1968-10-23.

Sputtering process for sputtering a target of carbon

Номер патента: EP2694696A1. Автор: Ulf Helmersson,Nils Brenning,Asim AIJAZ. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2014-02-12.

Improvements in r.f. cathodic sputtering systems

Номер патента: GB1147318A. Автор: Peter Alan Birrell Toombs. Владелец: Standard Telephone and Cables PLC. Дата публикации: 1969-04-02.

Method and apparatus for forming coating layer with nano multi-layer

Номер патента: US20170009331A1. Автор: Hyuk Kang,Sang Jin Park,In Woong Lyo,Woong Pyo Hong,Kwang Hoon Choi,Yoon Suk Oh. Владелец: Hyundai Steel Co. Дата публикации: 2017-01-12.

Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films

Номер патента: CA2589087C. Автор: Klaus Hartig,James Brownlee,Annette Krisko,Kari Myli,Gary Pfaff,John German. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2014-09-09.

Reflection type mask blank and production method therefor, and reflective layer-including substrate for said mask blank

Номер патента: US20240053671A1. Автор: Takahiro Kikuchi,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Номер патента: GB1289978A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1972-09-20.

Method for manufacturing an optical filter having laminate film

Номер патента: US20020121434A1. Автор: Yoshihiro Someno. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2002-09-05.

Stably dischargeable sputtering target

Номер патента: MY187017A. Автор: Shin-Ichi Ogino,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Apparatus for applying ion-plasma coatings on blisk blades

Номер патента: RU2693229C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Юрий Михайлович Дыбленко,Василий Андреевич Гонтюрев,Марина Константиновна Смыслова,Александр Витальевич Гумеров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология". Дата публикации: 2019-07-01.

Endless conveyor belt for use in a high temperature environment

Номер патента: CA2062511C. Автор: Alex Boozenny,Marc Langlois. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Seamless, endless sleeve with a sputtered inorganic photoconductive material for electrostatic imaging

Номер патента: CA1147197A. Автор: Manfred R. Kuehnle. Владелец: Coulter Systems Corp. Дата публикации: 1983-05-31.

Improvements in or relating to the protection of silver and like surfaces

Номер патента: GB735513A. Автор: . Владелец: WC Heraus GmbH and Co KG. Дата публикации: 1955-08-24.

진공플라즈마 스퍼터링장치

Номер патента: KR20060002587A. Автор: 김영진,이창희,조상진,강희영. Владелец: 한국원자력연구소. Дата публикации: 2006-01-09.

Surface treatment method

Номер патента: US4880515A. Автор: Toshio Honda,Masato Yoshikawa,Yukihiro Kusano,Kazuo Naito,Tomonobu Hata. Владелец: Bridgestone Corp. Дата публикации: 1989-11-14.

다층기판홀더를 이용한 양산형 박막증착장치

Номер патента: KR20090035185A. Автор: 이창희,조상진,김학노. Владелец: 한국원자력연구원. Дата публикации: 2009-04-09.

Heat transfer printing sheet for producing images having metallic luster

Номер патента: US5643659A. Автор: Shuji Kobayashi,Keiichi Ogawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1997-07-01.

Magnetron sputtering apparatus and process.

Номер патента: MY103984A. Автор: Russel Austin R,W Seeser James,Ian Seddon Richard,M Lefebvre Paul,W Manley Barry,A Scobey Michael. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1993-10-30.

Focusing magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA1195287A. Автор: Steven D. Hurwitt,Arnold J. Aronson,Walter H. Class,Michael L. Hill. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1985-10-15.

Method for preventing particle generation in sputtering apparatus, sputtering method, sputtering apparatus, and covering member

Номер патента: JP4099328B2. Автор: 信行 高橋,暁夫 小西. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2008-06-11.

External inspection apparatus and sputtering apparatus for preventing influencing of coating

Номер патента: TW201043717A. Автор: Tai-Yuan Huang,Wei-Chen Lin,Ching-Hua Lai,Chung-Chiung Liu,Ming-Chan Tsai,mu-yuan Wei. Владелец: Uvat Technology Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-16.

Magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus provided with magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5049561B2. Автор: 泰彦 赤松,孝 小松,辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-10-17.

FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120247952A1. Автор: ENDO Tetsuya,Hosoya Hiroyuki. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-10-04.

Sputtering apparatus, sputtering method, organic EL light emitting device manufacturing apparatus, and organic EL light emitting device manufacturing method

Номер патента: JP4423589B2. Автор: 浩 木村. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2010-03-03.

Magnetron sputtering apparatus cathode unit and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2023049164A. Автор: 悟 高澤,幸太 河原,Kota Kawahara,利哉 青柳,Toshiya Aoyagi,Satoru Takazawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-04-10.

Reduce the method and magnetron sputtering apparatus of magnetron sputtering apparatus deposition rate

Номер патента: CN105734511B. Автор: 赵可可,边国栋,宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-06.

Target module of sputtering apparatus and sputtering apparatus

Номер патента: JP2012057247A. Автор: Katsuhide Manabe,勝英 真部. Владелец: IC INOVA JAPAN Inc. Дата публикации: 2012-03-22.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW201033384A. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-16.

A holding stage used in a sputtering apparatus

Номер патента: TW200848532A. Автор: Shih-Che Chien. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-16.

Ac-excited sputtering apparatus

Номер патента: CA892732A. Автор: Y. Kumagai Henry. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1972-02-08.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: GB202409728D0. Автор: . Владелец: BAE SYSTEMS plc. Дата публикации: 2024-08-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9512360D0. Автор: . Владелец: Teer Coatings Ltd. Дата публикации: 1995-08-16.

Wafer supporting device of a sputtering apparatus

Номер патента: TWM327077U. Автор: Chi-Piao Cheng,Yu-Jen Huang,Li-Chun Liang,Been Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-11.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JPH11302842A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and supply leads therefor

Номер патента: AU7414674A. Автор: William Jones David. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1976-04-15.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and supply leads therefor

Номер патента: AU487040B2. Автор: William Jones David. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1976-04-15.

반도체소자의 제조용 스퍼터링장치 및 그의 작동방법(a sputtering apparatus for making a semiconductor device and a method of operating the same)

Номер патента: KR970030272A. Автор: 박영호,윤여철. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-06-26.

Compound roller mechanism of sputtering apparatus

Номер патента: TW201226619A. Автор: Zhi-Nan Xie,Ji-Hua Yang,Yu-Jia Gao,Dao-Liang Zhuang,Zheng-Yan Wu. Владелец: Metal Ind Res & Dev Ct. Дата публикации: 2012-07-01.

Hot spring sputtering apparatus capable of producing anions

Номер патента: TWM306496U. Автор: Guan-Yun Chen. Владелец: Chunghwa Global Biotechnology. Дата публикации: 2007-02-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9004999D0. Автор: . Владелец: D G TEER COATING SERVICES LIMI. Дата публикации: 1990-05-02.

Improvements relating to reactive sputtering apparatus and cathode elements therefor

Номер патента: AU482170B2. Автор: Burrows Kenneth. Владелец: Triplex Safety Glass Co. Дата публикации: 1975-10-16.

Sputtering apparatus

Номер патента: CA857316A. Автор: Hayakawa Shigeru,Wasa Kiyotaka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1970-12-01.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB9612737D0. Автор: . Владелец: Teer Coatings Ltd. Дата публикации: 1996-08-21.

Collimator for sputtering apparatus

Номер патента: TWM267462U. Автор: David Tu,Ting-Chang Peng,Yao-Hui Tseng,Li-Ying Kuo. Владелец: Dura Tek Inc. Дата публикации: 2005-06-11.

Sputtering apparatus

Номер патента: GB8712108D0. Автор: . Владелец: Teer Coating Services Ltd D G. Дата публикации: 1987-06-24.

MAGNET TRANSPORTATION SYSTEM, SPUTTERING APPARATUS INCLUDING THE SAME AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20120037492A1. Автор: Lee Youn-Goo. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-02-16.

SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120234672A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-09-20.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP3585519B2. Автор: 智 池田,孝 小松,久三 中村,淳 太田,賀文 太田,日出明 羽賀. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2004-11-04.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5503905B2. Автор: 森本　　直樹,弘輝 山本,慎二 小梁. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-05-28.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5069255B2. Автор: 直樹 渡辺,ウィクラマナヤカ スニル. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-11-07.

Sputtering target and sputtering apparatus, thin film, and electronic component using the same

Номер патента: JP4709358B2. Автор: 隆 中村,高志 渡辺,光一 渡邊,幸伸 鈴木,直美 藤岡,隆 石上,泰郎 高阪,洋一郎 矢部,透 小松. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Sputter deposition method and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP4161642B2. Автор: 栄治 志堂寺,安彦 赤尾,淳一 陰山. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-08.

Magnetron sputtering method, magnetron sputtering apparatus and magnet unit used therefor

Номер патента: JP3834111B2. Автор: 政秀 横山,賢治 丸山. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-10-18.

Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: JP5180796B2. Автор: 克尚 加茂. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2013-04-10.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2014009400A. Автор: Koji Tsukada,Hiroshi Taguchi,幸治 塚田,寛 田口. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-01-20.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP5687045B2. Автор: 直記 佐々木. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-03-18.

Magnetron sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2023069659A. Автор: Masaki Hasegawa,正樹 長谷川,辰徳 磯部,淳介 松崎,Junsuke Matsuzaki,祐輔 氏原,Yusuke Ujihara,Tatsunori Isobe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-18.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2020180339A. Автор: Atsushi Osawa,Kazuto Ozaki,一人 尾▲崎▼,篤史 大澤. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-05.

Sputtering method and sputtering apparatus

Номер патента: JP2976382B2. Автор: 啓次 石橋. Владелец: ANERUBA KK. Дата публикации: 1999-11-10.

Sputtering apparatus having an on board service module

Номер патента: WO1996017971B1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1996-08-08.

Symmetrical sputtering apparatus

Номер патента: CA779275A. Автор: Kay Eric. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1968-02-27.

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD

Номер патента: US20130001075A1. Автор: Morimoto Naoki,ISHIDA Masahiko. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

Sputtering apparatus and sputtering method using the same

Номер патента: JP4471767B2. Автор: 市郎 松本. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-06-02.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP3269834B2. Автор: 潤一 清水,巧一 鈴木,啓安 小島,すすむ 鈴木. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-02.

Low pressure discharge sputtering apparatus and sputtering control method

Номер патента: JP3934709B2. Автор: 和男 平田. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-06-20.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: TW201441397A. Автор: Min-Ching Hsu,Pei-Ming Chu. Владелец: Everdisplay Optronics Shanghai Ltd. Дата публикации: 2014-11-01.

Ion beam sputtering apparatus, ion beam sputtering method, and ion gun

Номер патента: JP4414975B2. Автор: 圭司 西本. Владелец: Japan Aviation Electronics Industry Ltd. Дата публикации: 2010-02-17.

Opposing target type sputtering method and opposing target type sputtering apparatus

Номер патента: JP3106456B2. Автор: 正彦 杉山. Владелец: Victor Company of Japan Ltd. Дата публикации: 2000-11-06.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2746695B2. Автор: 謙一 久保. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1998-05-06.

Magnetron sputtering apparatus, backing plate, target assembly and magnetron sputtering method

Номер патента: JP2016023329A. Автор: Kazuhiro Fukushima,誠樹 森,Masaaki Kawasugi,Seiki Mori,正晃 河杉,福島　和宏,和宏 福島. Владелец: PROMATIC KK. Дата публикации: 2016-02-08.

Seat for magnetron sputtering target and magnetron sputtering apparatus using same

Номер патента: TW201102452A. Автор: Tai-Sheng Tsai. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-16.

Sputtering cathode and sputtering apparatus using the same

Номер патента: JP2009256698A. Автор: Hiroshi Iwata,寛 岩田. Владелец: Kuramoto Seisakusho Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-05.

Sputtering electrode and the sputtering apparatus equipped the electrode

Номер патента: TW200710250A. Автор: Hajime Nakamura,Takashi Komatsu,Makoto Arai,Noriaki Tani,Junya Kiyota,Yuuichi Ooishi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2007-03-16.

Sputtering apparatus and sputtering method

Номер патента: JP2013237913A. Автор: Akira Ishibashi,Isao Sugiura,功 杉浦,雅紀 白井,悟 高澤,暁 石橋,Akira Taki,Masanori Shirai,旭 瀧,Satoru Takazawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-11-28.

Sputtering apparatus and carrier thereof

Номер патента: TW200600603A. Автор: Chun-Cheng Huang,Yaw-Wen Lin,Chao-Sheng Yang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-01-01.

Sputtering apparatus for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask blank for display apparatus, and method for manufacturing mask for display apparatus

Номер патента: JP5975653B2. Автор: 禎一郎 梅澤,石山　雅史,雅史 石山. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

High-power pulse magnetron sputtering apparatus and surface treatment apparatus

Номер патента: TWI381063B. Автор: Der Jun Jan,jin yu Wu,Wen Lung Liung,Ming Jui Tsai,Cheng Chang Hsieh,Shin Wu Wei,Chia Cheng Lee,Chi Fong Ai. Владелец: Iner Aec Executive Yuan. Дата публикации: 2013-01-01.

Alignment substrate, method for manufacturing alignment film substrate, sputtering apparatus and multi-chamber apparatus

Номер патента: JP6201128B2. Автор: 健 木島,祐二 本多,本多　祐二,智幸 荒木,荒木　智幸. Владелец: Youtec Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-27.

SPUTTERING APPARATUS, METHOD OF OPERATING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE USING THE SAME

Номер патента: US20120006266A1. Автор: Lim Tae Hyun,YOO Hwan Kyu,YUN Byung Han. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-12.

SPUTTERING APPARATUS HAVING SHIELDING DEVICE

Номер патента: US20120073963A1. Автор: . Владелец: HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-03-29.

DOUBLE-LAYER SHUTTER SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120097533A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-04-26.

METHOD OF COATING AN RF DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS USED IN THE SAME

Номер патента: US20120103794A1. Автор: Oh Se-Young,JUNG Myoung-Joon,KIM Myoung-Ho,JUNG Hyun-Yeong. Владелец: ACE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-03.

MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120160673A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120164354A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120175251A1. Автор: . Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2012-07-12.

DEVICE FOR SUPPORTING A ROTATABLE TARGET AND SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120193218A1. Автор: SCHNAPPENBERGER Frank,MULTERER Jürgen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-02.

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120325651A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-27.

Sputtering apparatus

Номер патента: US20130037406A1. Автор: Huh Myung-Soo. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-14.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20130081938A1. Автор: MIZUNO Shigeru,GOMI Atsushi,TOSHIMA Hiroyuki,HATANO Tatsuo,MIZUSAWA Yasushi,Miyashita Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-04.

Rotation Plus Vibration Magnet for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20130213797A1. Автор: Chou You-Hua,Lin Bo-Hung,Tsai Ming-Chih,Kao Chung-En. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-08-22.

Method for preventing particle generation and sputtering apparatus

Номер патента: JPH11269644A. Автор: Nobuyuki Takahashi,信行 高橋,Masahiko Kobayashi,正彦 小林. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-10-05.

Can monitor in real time chip temperature lifting needle system and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN104746035B. Автор: 耿波,张同文,常大磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

fabrication method of multi-component thin layer and sputtering apparatus adopting the same

Номер патента: KR101235906B1. Автор: 박성진,유연상,윤능구. Владелец: 주식회사 소로나. Дата публикации: 2013-02-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5364681A. Автор: Hiroshi Morita. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-06-09.

Manufacturing method of electrochromic dimmer and sputtering apparatus

Номер патента: JP3427430B2. Автор: 順一 永井,哲也 清家. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-14.

Copper thin film manufacturing method and sputtering apparatus used in the method

Номер патента: JP4855455B2. Автор: 靖 樋口,中村　　聡,孝 小松,康宏 田熊,俊光 上東. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-01-18.

magnetron sputtering apparatus and magnetron control method

Номер патента: CN103422065B. Автор: 陈春伟,夏威,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPH10219442A. Автор: Koji Koizumi,浩治 小泉. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1998-08-18.

Sputtering apparatus

Номер патента: JP2013001943A. Автор: Makoto Arai,Shigemitsu Sato,淳也 清田,Junya Kiyota,新井　　真,哲宏 大野,重光 佐藤,敬臣 倉田,Tetsuhiro Ono,Isamu Yokozawa,勇 與五沢,Takaomi Kurata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-01-07.

Side magnet frame and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN105779949B. Автор: 宿晓敖. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-18.

Sputtering apparatus, film forming method

Номер патента: JP4789535B2. Автор: 悟 高澤,暁 石橋,禎之 浮島,日出夫 竹井. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-10-12.

Dual magnetron sputtering apparatus and thin film body manufacturing method

Номер патента: JP4873681B2. Автор: 雅之 亀井. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2012-02-08.

Sputtering apparatus

Номер патента: CA870763A. Автор: M. Moseson Roger. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1971-05-11.

Sputtering apparatus and state determination method thereof

Номер патента: JP6035002B1. Автор: 佳詞 藤井,真也 中村,藤井　佳詞,中村　真也. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2016-11-30.

Sputtering apparatus

Номер патента: TW200831689A. Автор: Shih-Chieh Yen. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-01.

Magnetron assembly and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN103972016B. Автор: 吕峰,王厚工,耿波,边国栋,李杨超. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Sputtering apparatus and its power supply

Номер патента: JP2630189B2. Автор: 弘人 糸井. Владелец: Shimazu Seisakusho KK. Дата публикации: 1997-07-16.

Magnetron sputtering apparatus and method for producing transparent conductive film

Номер патента: JP5447240B2. Автор: 英治 横塚,徳行 中山. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2014-03-19.

Magnetron sputtering apparatus and film forming method using the same

Номер патента: JP4957992B2. Автор: 隆之 井関. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2012-06-20.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: JP5185678B2. Автор: 寿 西垣,倫太郎 大塚. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2013-04-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS5855564A. Автор: Katsuhiro Kageyama,影山　賀都鴻. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-04-01.

Arc ion source reinforced magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CN201169620Y. Автор: 黎明,杨兵,付德君,余益飞. Владелец: WUHAN XINGE COATING EQUIPMENT CO Ltd. Дата публикации: 2008-12-24.

Magnetron cathode, and sputtering apparatus using the same

Номер патента: JP2003226969A. Автор: Naoki Watanabe,直樹 渡辺,Tetsuya Endo,徹哉 遠藤. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2003-08-15.

Sputtering apparatus and film deposition method of metal compound film

Номер патента: JP2022014978A. Автор: Hiroto Sasaki,徹志 藤長,Tetsushi Fujinaga,慶一郎 浅川,Yukinobu Numata,Keiichiro Asakawa,幸展 沼田,啓登 佐々木,イェン ジィアン,Yen Jian. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-01-21.

Sputtering apparatus

Номер патента: CA1014519A. Автор: John S. Chapin. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1977-07-26.

Rapid continuous sputter apparatus

Номер патента: TW200701310A. Автор: Hsing-Hsin Huang. Владелец: Univ Minghsin Sci & Tech. Дата публикации: 2007-01-01.

Cathode of a magnetron-type sputtering apparatus

Номер патента: PL295313A2. Автор: Krzysztof Miernik. Владелец: Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks. Дата публикации: 1993-05-04.

Rapid continuous sputter apparatus

Номер патента: TWI285914B. Автор: Hsing-Hsin Huang. Владелец: Ming Hsin University Of Scienc. Дата публикации: 2007-08-21.

Anode plate and sputtering apparatus including the same

Номер патента: TW200724708A. Автор: Bor-Yuan Hsiao. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

Sputtering apparatus and carrier thereof

Номер патента: TWI240010B. Автор: Chun-Cheng Huang,Yaw-Wen Lin,Chao-Sheng Yang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2005-09-21.

Sputtering apparatus of thin-film solar cell

Номер патента: TWM322057U. Автор: Hua-Ching Shiu. Владелец: Solartech Energy Corp. Дата публикации: 2007-11-11.

Non-contact rotation device of in-line vacuum sputtering apparatus

Номер патента: TW200945411A. Автор: Geng-Zhen Xu,Duan-Ren Yu. Владелец: Uvat Technology Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-01.

ROTARY MAGNET SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120064259A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120073960A1. Автор: Ikeda Masayoshi,SHIBUYA Yohsuke,Sago Yasumi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120090991A1. Автор: Xie Zhenyu. Владелец: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-04-19.

MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120111724A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-05-10.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120118733A1. Автор: . Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-17.

REACTIVE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20120152736A1. Автор: Yamaguchi Nobuo,Matsuo Kazuaki,Akiyama Susumu,Uchino Satoshi,Shimane Yoshimitsu. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-21.

SPUTTERING APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120228122A1. Автор: Minami Takashi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2012-09-13.

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130105309A1. Автор: MIZUNO Shigeru,TOSHIMA Hiroyuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

IN-LINE SPUTTERING APPARATUS

Номер патента: US20130140172A1. Автор: CHANG CHING-CHOU. Владелец: HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-06.

Ecr sputtering apparatus

Номер патента: JPS62167878A. Автор: Eisuke Ueda,上田　映介. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 1987-07-24.

Bias sputtering apparatus

Номер патента: JPS62107064A. Автор: Naokichi Hosokawa,Youichi Hirukawa,Toshio Yokogawa,細川　直吉,肥留川　洋一,横川　敏雄. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1987-05-18.

Magnetron sputtering apparatus and process

Номер патента: CN103173730B. Автор: 陈春伟,夏威,王厚工,宗令蓓,窦润江. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Sputtering apparatus and film forming method

Номер патента: JP6569900B2. Автор: 嗣紀 佐藤,謙治 圓山,勝 園部,健志 高井,園部　　勝. Владелец: Nachi Fujikoshi Corp. Дата публикации: 2019-09-04.

Ion beam vacuum sputtering apparatus and method

Номер патента: GB9922110D0. Автор: . Владелец: Nordiko Ltd. Дата публикации: 1999-11-17.

Sputtering apparatus

Номер патента: JPS6326358A. Автор: Yoichi Tamai,洋一 玉井. Владелец: Tokuda Seisakusho Co Ltd. Дата публикации: 1988-02-03.

Sputtering apparatus and metal layer/metal compound layer making process therewith

Номер патента: CN1266306C. Автор: 刘玉城. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2006-07-26.

Sputtering apparatus

Номер патента: JP2013082961A. Автор: Yukio Kikuchi,幸男 菊地. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-05-09.

Sputtering apparatus and method

Номер патента: JP4781105B2. Автор: 圭哉 徳永,隆泰 山城. Владелец: 株式会社昭和真空. Дата публикации: 2011-09-28.

Sputtering apparatus

Номер патента: CN102277559B. Автор: 王仲培. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-30.

Sputtering apparatus and insulating film forming method

Номер патента: JP5891040B2. Автор: 佐々木　俊介,俊介 佐々木,弘綱 鄒,武人 神保,慶一郎 浅川,神保　武人,光隆 廣瀬,哲平 橋本. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2016-03-22.

Sputtering apparatus and manufacturing method of metal layer/metal compound layer by using thereof

Номер патента: TW200425255A. Автор: Yu-Cheng Liu. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2004-11-16.

COOLED DARK SPACE SHIELD FOR MULTI-CATHODE DESIGN

Номер патента: US20120000424A1. Автор: Inagawa Makoto. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING SCANDIUM ALUMINUM NITRIDE FILM

Номер патента: US20120000766A1. Автор: Kano Kazuhiko,Nishikubo Keiko,TESHIGAHARA Akihiko,AKIYAMA Morito,Tabaru Tatsuo. Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002090A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Controllable Sodium Delivery for Thin Film Photovoltaic Materials

Номер патента: US20120003785A1. Автор: Mackie Neil M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001881A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001954A1. Автор: Yamazaki Shunpei,KOYAMA Jun,Miyake Hiroyuki,Toyotaka Kouhei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001955A1. Автор: Yamazaki Shunpei,KOYAMA Jun,Miyake Hiroyuki,Toyotaka Kouhei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003795A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Driving Method of Input/Output Device

Номер патента: US20120001847A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INPUT/OUTPUT DEVICE AND DRIVING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001874A1. Автор: KUROKAWA Yoshiyuki,IKEDA Takayuki. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for applying titanium nitride-based coatings

Номер патента: RU2566246C2. Автор: Максим Владимирович Ненашев,Андрей Юрьевич Мурзин,Ильдар Дугласович Ибатуллин,Илья Владимирович Нечаев,Сергей Юрьевич Ганигин,Александр Анатольевич Чеботаев,Павел Константинович Кондратенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-10-20.

ORGANIC EL DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001186A1. Автор: ONO Shinya,KONDOH Tetsuro. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films

Номер патента: CA2608079C. Автор: James Brownlee,Annette Krisko,Kari Myli,Gary Pfaff,John German. Владелец: Cardinal CG Co. Дата публикации: 2014-04-01.

Method of producing small bodies of medical preparations adapted to be used as implantates

Номер патента: GB602073A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1948-05-19.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.