Substrate defect inspection apparatus, substrate defect inspection method, and storage medium
Номер патента: US10818004B2
Опубликовано: 27-10-2020
Автор(ы): Shuji Iwanaga
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-10-2020
Автор(ы): Shuji Iwanaga
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Optical inspection apparatus, processing device, optical inspection method, and non-transitory storage medium storing optical inspection program
Номер патента: US20230324309A1. Автор: Hiroshi Ohno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-10-12.