PHOTORESIST COMPOSITION, COMPOUND AND PROCESS OF PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
Номер патента: US20150248052A1
Опубликовано: 03-09-2015
Автор(ы): FUJITA Shingo, ICHIKAWA Koji, MASUYAMA Tatsuro
Принадлежит: Sumitomo Chemical Company, Limited
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-09-2015
Автор(ы): FUJITA Shingo, ICHIKAWA Koji, MASUYAMA Tatsuro
Принадлежит: Sumitomo Chemical Company, Limited
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Fluoroalcohol containing molecular photoresist materials and processes of use
Номер патента: EP2651865A1. Автор: Ratnam Sooriyakumaran,Ekmini Anuja De Silva,Gregory Breyta,Linda Karin Sundberg,William Hinsberg,Luisa Dominica Bozano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-23.