Positive-working photoresist composition for thick film formation
Номер патента: US09436084B2
Опубликовано: 06-09-2016
Автор(ы): Koichi Misumi, Toshiki Okui
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-09-2016
Автор(ы): Koichi Misumi, Toshiki Okui
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
POSITIVE WORKING PHOTORESISTIC COMPOSITION FOR THE PRODUCTION OF THICKNESS LAYERS
Номер патента: DE602006018433D1. Автор: Toshiki Okui,Koichi Misumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-05.