Semiconductor substrate and fabrication method thereof, and semiconductor apparatus using the same and fabrication method thereof
Номер патента: US20140299918A1
Опубликовано: 09-10-2014
Автор(ы): Jin Ku Lee, JONG CHUL LEE, Min Yong Lee
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-10-2014
Автор(ы): Jin Ku Lee, JONG CHUL LEE, Min Yong Lee
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Fabricating method of polycrystalline silicon thin film, polycrystalline silicon thin film fabricated using the same, and thin film transistor comprising the same
Номер патента: KR100946808B1. Автор: 노재상,홍원의. Владелец: 주식회사 엔씰텍. Дата публикации: 2010-03-11.