Quaternary Alkylammonium Hypochlorite Solution, Method for Manufacturing Same, and Method for Cleaning Semiconductor Wafer
Номер патента: US20210309942A1
Опубликовано: 07-10-2021
Автор(ы): Kikkawa Yuki, NEGISHI TAKAYUKI, SHIMODA Takafumi, Tono Seiji
Принадлежит: TOKUYAMA CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-10-2021
Автор(ы): Kikkawa Yuki, NEGISHI TAKAYUKI, SHIMODA Takafumi, Tono Seiji
Принадлежит: TOKUYAMA CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Process and system for cleaning surfaces of semiconductor wafers
Номер патента: WO2005019490A2. Автор: Walter H. Whitlock. Владелец: The Boc Group Inc.. Дата публикации: 2005-03-03.