Photolithography method based on electronic beam
Номер патента: US20170357157A1
Опубликовано: 14-12-2017
Автор(ы): chun-hai Zhang, Duan-Liang Zhou, Kai-Li Jiang, Peng Liu, Shou-Shan Fan, Wei Zhao, xiao-yang Lin
Принадлежит: Hon Hai Precision Industry Co Ltd, TSINGHUA UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-12-2017
Автор(ы): chun-hai Zhang, Duan-Liang Zhou, Kai-Li Jiang, Peng Liu, Shou-Shan Fan, Wei Zhao, xiao-yang Lin
Принадлежит: Hon Hai Precision Industry Co Ltd, TSINGHUA UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Dummy insertion for improving throughput of electron beam lithography
Номер патента: US11899367B2. Автор: CHUN-HUNG Liu,Chien-Chih Chen,Chien-Cheng Chen,Hsin-Wei Wu,Shih-Ming Chang,Chia-Hua Chang,Wen Lo,Ta-Wei Ou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.