Semiconductor device including fin having condensed channel region
Номер патента: US20170033219A1
Опубликовано: 02-02-2017
Автор(ы): Effendi Leobandung, Gen Tsutsui, Hong He, Tenko Yamashita
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-02-2017
Автор(ы): Effendi Leobandung, Gen Tsutsui, Hong He, Tenko Yamashita
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing semiconductor devices
Номер патента: US20240312792A1. Автор: Ding-I Liu,Yuh-Ta FAN,Hui-An Han,Kai-Shiung Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.