Film Forming Method and Film Forming Apparatus
Номер патента: US20160322218A1
Опубликовано: 03-11-2016
Автор(ы): EBIHARA Ryosuke, FUKIAGE Noriaki, Igeta Masanobu, Iwasaki Masahide, Kamada Toyohiro
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-11-2016
Автор(ы): EBIHARA Ryosuke, FUKIAGE Noriaki, Igeta Masanobu, Iwasaki Masahide, Kamada Toyohiro
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
SILICON NITRIDE FILM FORMING METHOD AND SILICON NITRIDE FILM FORMING APPARATUS
Номер патента: US20180037992A1. Автор: Ogawa Jun,OYAMA Takeshi,FUKIAGE Noriaki. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.