FORMING NANOSCALE PORES IN A SEMICONDUCTOR STRUCTURE UTILIZING NANOTUBES AS A SACRIFICIAL TEMPLATE
Номер патента: US20190353615A1
Опубликовано: 21-11-2019
Автор(ы): Bi Zhenxing, Cheng Kangguo, Li Juntao, Xu Peng
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-11-2019
Автор(ы): Bi Zhenxing, Cheng Kangguo, Li Juntao, Xu Peng
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Forming nanoscale pores in a semiconductor structure utilizing nanotubes as a sacrificial template
Номер патента: US20190353615A1. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,Juntao Li,Zhenxing Bi. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-11-21.