Electrostatic holding element with anti-reflection coating, measuring method and use of the holding element
Номер патента: DE102008022792A1
Опубликовано: 26-11-2009
Автор(ы): Gerhard Dr. Kalkowski, Olaf Dr. Stenzel, Wieland Dipl.-Ing. Stöckl
Принадлежит: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-11-2009
Автор(ы): Gerhard Dr. Kalkowski, Olaf Dr. Stenzel, Wieland Dipl.-Ing. Stöckl
Принадлежит: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photolithography process using multiple anti-reflective coatings
Номер патента: US20020039820A1. Автор: Gurtej Sandhu,Philip Ireland,Thomas Glass. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-04.