Slurry for planarizing photoresist
Номер патента: WO2013112587A1
Опубликовано: 01-08-2013
Автор(ы): Lakshmanan Karuppiah, Wen-Chiang Tu, You Wang, Yufei Chen
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2013
Автор(ы): Lakshmanan Karuppiah, Wen-Chiang Tu, You Wang, Yufei Chen
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Slurry for planarizing photoresist
Номер патента: TW201339257A. Автор: You Wang,Yufei Chen,Wen-Chiang Tu,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-10-01.