Resist stripper composition and a method of stripping resist using the same
Номер патента: KR102213779B1
Опубликовано: 08-02-2021
Автор(ы): 고경준, 김성식, 백성호, 최한영
Принадлежит: 동우 화인켐 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-02-2021
Автор(ы): 고경준, 김성식, 백성호, 최한영
Принадлежит: 동우 화인켐 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of etching a wafer layer using multiple layers of the same photoresistant material and structure formed thereby
Номер патента: WO2001011666A8. Автор: Nan Zhang. Владелец: ADC Telecommunications Inc. Дата публикации: 2003-10-23.