Controlling porosity of an interference lithography process by fine tuning exposure time
Номер патента: US20230045339A1
Опубликовано: 09-02-2023
Автор(ы): Danny J. LOHAN, Gaurav Singhal, Kai-Wei Lan, Paul VanNest Braun, Shailesh N. Joshi
Принадлежит: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc, University of Illinois
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-02-2023
Автор(ы): Danny J. LOHAN, Gaurav Singhal, Kai-Wei Lan, Paul VanNest Braun, Shailesh N. Joshi
Принадлежит: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc, University of Illinois
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Controlling photo acid diffusion in lithography processes
Номер патента: US20160011518A1. Автор: Peng XIE,Ludovic Godet,Christopher Bencher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.