Vacuum reaction chamber with x-lamp heater

Реферат: Methods and apparatus for electron beam treatment of a substrate are provided. An electron beam apparatus that includes a vacuum chamber, at least one thermocouple assembly in communication with the vacuum chamber, a heating device in communication with the vacuum chamber, and combinations thereof are provided. In one embodiment, the vacuum chamber comprises an electron source wherein the electron source comprises a cathode connected to a high voltage source, an anode connected to a low voltage source, and a substrate support. In another embodiment, the vacuum chamber comprises a grid located between the anode and the substrate support. In one embodiment the heating device comprises a first parallel light array and a second light array positioned such that the first parallel light array and the second light array intersect. In one embodiment the thermocouple assembly comprises a temperature sensor made of aluminum nitride.

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Electrostatic chuck and reaction chamber

Номер патента: US11837491B2. Автор: Qiwei Huang,Quanyu SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Shielding mechanism and substrate-processing chamber with the same

Номер патента: US11476100B1. Автор: Jing-Cheng Lin,Chi-Hung Cheng,Ta-Hao Kuo,Yu-Te Shen. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-10-18.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: WO2020264464A8. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang Yuh Chen. Владелец: eJoule, Inc.. Дата публикации: 2022-02-03.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20240075451A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: eJoule Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Semiconductor reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230223280A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Temperature controlled reaction chamber

Номер патента: US12125684B2. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Reaction chamber and semi-conductor processing device

Номер патента: US09978570B2. Автор: Peng Chen,qing She,Yanzhao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Systems and methods for stabilizing reaction chamber pressure

Номер патента: US12098460B2. Автор: Eiichiro Shiba. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-24.

Method and apparatus for cleaning a reaction chamber

Номер патента: FI131079B1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi,Veli-Matti Rissa. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-09-09.

Method for texturing the surface of a crystalline silicon layer and associated reaction chamber

Номер патента: WO2020245419A1. Автор: Erik Johnson,Pere Roca I Cabarrocas,Wanghua Chen. Владелец: TOTAL SE. Дата публикации: 2020-12-10.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US11715632B2. Автор: Xingcun LI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-01.

Electrode structure for use in a reaction chamber

Номер патента: WO2013024313A1. Автор: Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2013-02-21.

Method of cleaning a reaction chamber with a substrate having a catalyst layer

Номер патента: KR20050078609A. Автор: 송민우,원석준,김원홍. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-08-05.

Method for cleaning reaction chamber using substrate on which catalyst layer is formed

Номер патента: KR100593441B1. Автор: 송민우,원석준,김원홍. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-06-28.

Reaction chamber

Номер патента: US11773505B2. Автор: Gang Xu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: US20240344197A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-17.

Photon induced cleaning of a reaction chamber

Номер патента: US20090173359A1. Автор: Dries Dictus. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2009-07-09.

Carrier device and semiconductor reaction chamber

Номер патента: US20230274917A1. Автор: Xingfei MAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: FI20215853A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-02-14.

Reaction chamber for deposition of a semiconductor layer on the plurality substrates in batches

Номер патента: EP2744925A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2014-06-25.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: EP4384649A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-06-19.

Reaction chamber for processing semiconductor substrates with gas flow control capability

Номер патента: US20230411176A1. Автор: Arun THOTTAPPAYIL,Dongrak Jeong. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber

Номер патента: US09790595B2. Автор: Sung-hoon Jung,Petri Raisanen,Eric Jen Cheng Liu,Mike Schmotzer. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-17.

An injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: EP4446463A2. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-16.

System and apparatus for a reaction chamber

Номер патента: US20240076778A1. Автор: Michael Schmotzer,Jessica Akemi Cimada da Silva. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Fixtures and methods for positioning process kit components within reaction chambers

Номер патента: US20220243324A1. Автор: Kihyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-04.

Reaction chamber, atomic layer deposition apparatus and method

Номер патента: FI20225272A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-10-01.

Reaction chamber, atomic layer deposition apparatus and a method

Номер патента: WO2023187257A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-10-05.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: US20240026536A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-01-25.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: FI20215378A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-05-13.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: WO2022207976A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-10-06.

Injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: US11891696B2. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G. M. de Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-06.

Lifting needle system, vacuum reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: TWI694534B. Автор: 茅興飛. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2020-05-21.

Reaction chamber component, preparation method, and reaction chamber

Номер патента: US20200406222A1. Автор: Yulin Peng,Yicheng Li,Yongyou CAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: EP4304772A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: AU2022234467A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: CA3212953A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2022-09-15.

Lower electrode mechanism and reaction chamber

Номер патента: US20200321198A1. Автор: Yahui Huang,Gang Wei,Yicheng Li,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Lower electrode mechanism and reaction chamber

Номер патента: US11410833B2. Автор: Yahui Huang,Gang Wei,Yicheng Li,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-09.

Semiconductor reaction chamber

Номер патента: US20230230803A1. Автор: Wei Wang,Guodong Chen,Gang Wei,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma reaction chamber liner comprising ruthenium

Номер патента: US7131391B2. Автор: Li Li,Max F. Hineman. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-11-07.

Reaction chamber lining

Номер патента: US20210398781A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Chengyi Wang,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu,Yonggang HOU,Zhaochao CHEN. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Reaction chamber lining

Номер патента: US12112923B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Chengyi Wang,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu,Yonggang HOU,Zhaochao CHEN. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Vapor chamber with support structure

Номер патента: US20230339053A1. Автор: Shih-Lin Huang,Ti-Jun WANG,Sien WU,Baoxun HE. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Vapor chamber with support structure and manufacturing method therefor

Номер патента: US11731220B2. Автор: Shih-Lin Huang,Ti-Jun WANG,Sien WU,Baoxun HE. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2023-08-22.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: KR20030063231A. Автор: 프라사드라비,만엘크리스,트상조셉더블유. Владелец: 휴렛-팩커드 컴퍼니(델라웨어주법인). Дата публикации: 2003-07-28.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: US20030138679A1. Автор: Joseph Tsang,Ravi Prased,L. Mann. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2003-07-24.

Method and device for preventing forming of polymer in exhaust pipe of cvd reaction chamber

Номер патента: CN101535525B. Автор: D·K·卡尔森. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-12-19.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: CA2416925A1. Автор: Ravi Prasad,L. Chris Mann,Joseph W. Tsang. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2003-07-22.

Prevention of flashback in a mixture flowing into a reaction chamber

Номер патента: GB0308448D0. Автор: . Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2003-05-21.

Imr-ms reaction chamber

Номер патента: EP3776629A1. Автор: Alfons Jordan. Владелец: Ionicon Analytik GmbH. Дата публикации: 2021-02-17.

Ionization chamber with built-in temperature sensor

Номер патента: US20140117835A1. Автор: Jeng-Hung Lee,Shi-Hwa Su,Tzeng-Te Huang,Bor-Jing Chang. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2014-05-01.

Ionization chamber with built-in temperature sensor

Номер патента: US8970099B2. Автор: Jeng-Hung Lee,Shi-Hwa Su,Tzeng-Te Huang,Bor-Jing Chang. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2015-03-03.

Method of cleaning and conditioning plasma reaction chamber

Номер патента: EP1252361A1. Автор: Duane Outka,Brett C. Richardson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-10-30.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US20160013024A1. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-01-14.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US20150024609A1. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2015-01-22.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US9412564B2. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-08-09.

Reaction chamber with at least one hf feedthrough

Номер патента: EP1273027A1. Автор: Gerd Strauch,Holger Jurgensen,Johannes Käppeler,Walter Franken. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2003-01-08.

PLASMA REACTION CHAMBER WITH CONDUCTING DIAMOND-COATED SURFACES

Номер патента: DE69024504D1. Автор: Douglas Downey,James Liporace. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-02-08.

Reaction chamber with at least one hf feedthrough

Номер патента: KR20020092394A. Автор: 케펠러요하네스,슈트라우흐게르트,프랑켄발터,위르겐젠홀거. Владелец: 아익스트론 아게. Дата публикации: 2002-12-11.

Faceplate for supplying gas to reaction chamber, and reaction chamber

Номер патента: JP4371442B2. Автор: アレックス スクレイバー,ジュン ゾオ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-25.

Conditioning of a reaction chamber

Номер патента: US20060202394A1. Автор: Steven Ott,Bill Crane,William Polinsky,John Gonzales. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-14.

Modular reaction chamber

Номер патента: US20230108280A1. Автор: Jianqiu HUANG,Ruchik Bhatt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Formation of oxynitride and polysilicon layers in a single reaction chamber

Номер патента: US5998270A. Автор: Mark I. Gardner,Mark C. Gilmer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-12-07.

Method of cleaning and conditioning plasma reaction chamber

Номер патента: TW487988B. Автор: Duane Outka,Brett C Richardson. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-05-21.

Heating system of batch type reaction chamber and method thereof

Номер патента: US20070166656A1. Автор: Young Ho Lee,Byoung Il Lee,Taek Yong Jang. Владелец: Terasemicon Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-19.

Device for adjusting wafer, reaction chamber, and method for adjusting wafer

Номер патента: US11892778B2. Автор: Xing Zhang,Congjun Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Physical vapor deposition chamber with rotating magnet assembly and centrally fed rf power

Номер патента: WO2011139439A3. Автор: Keith Miller,Alan Ritchie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

AUXILIARY DEVICE FOR PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PECVD) REACTION CHAMBER AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20180073145A1. Автор: CHANG Yu-Shun. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190074164A1. Автор: LI Xingcun. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-07.

CHEMICAL DISPENSING APPARATUS AND METHODS FOR DISPENSING A CHEMICAL TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190096708A1. Автор: Sharma Varun. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

REACTION CHAMBER AND SEMI-CONDUCTOR PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20170154758A1. Автор: CHEN PENG,ZHANG Yanzhao,SHE Qing. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-01.

CLEANING APPARATUS FOR AN EXHAUST PATH OF A PROCESS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190180990A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su,CHU Min Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

MAGNETRON DRIVE MECHANISM, MAGNETRON ASSEMBLY AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200203135A1. Автор: Zhao Mengxin,HOU Jue,SHE Qing,WEI Jingfeng. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

CLEANING APPARATUS FOR AN EXHAUST PATH OF A PROCESS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20170221683A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su,CHU Min Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Method For Cleaning Reaction Chamber Using Pre-cleaning Process

Номер патента: US20140345644A1. Автор: Fukazawa Atsuki,Okabe Tatsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

SHIELD COOLING ASSEMBLY, REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210351016A1. Автор: Li Bing,CHANG Qing,BIAN Guodong. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-11.

SEMICONDUCTOR REACTION CHAMBER SHOWERHEAD

Номер патента: US20200279721A1. Автор: White Carl,Shero Eric,Dunn Todd,Fondurulia Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-03.

CHEMICAL DISPENSING APPARATUS AND METHODS FOR DISPENSING A CHEMICAL TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200279758A1. Автор: Sharma Varun. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-03.

Determining presence of conductive film on dielectric surface of reaction chamber

Номер патента: US20150364300A1. Автор: Federico Galli. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: US10714315B2. Автор: Eric Shero,Carl White,Todd Dunn,Kyle Fondurulia. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-07-14.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: US10643826B2. Автор: Hyeongeu Kim,Loren Jacobs,Peter Westrom. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-05-05.

Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber

Номер патента: US10658205B2. Автор: Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-05-19.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: KR102433657B1. Автор: 안셀모 킴,로렌 제이컵스,피터 웨스트롬. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2022-08-18.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: US10943771B2. Автор: Hyeongeu Kim,Loren Jacobs,Peter Westrom. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-03-09.

Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber

Номер патента: US11387120B2. Автор: Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-07-12.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: KR102045583B1. Автор: 에릭 쉬로,칼 화이트,토드 던,카일 폰두루리아. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2019-11-15.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105097401A. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-25.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: TWI685913B. Автор: 卡爾 懷特,泰德 杜恩,艾瑞克 席羅,凱勒 方杜魯利亞. Владелец: 荷蘭商Asm智慧財產控股公司. Дата публикации: 2020-02-21.

Determining presence of conductive film on dielectric surface of reaction chamber

Номер патента: TW201612955A. Автор: Federico Galli. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2016-04-01.

Apparatus and method for dispensing chemical substance into reaction chamber

Номер патента: JP2019063792A. Автор: Sharma Varun,ヴァルン・シャルマ. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-04-25.

A kind of reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105097401B. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Silicon parts having reduced metallic impurity concentration for plasma reaction chambers

Номер патента: US6846726B2. Автор: Daxing Ren,Jerome S. Hubacek,Nicholas E. Webb. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-25.

Reaction chamber and semi-conductor processing device

Номер патента: WO2015172549A1. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2015-11-19.

Vapor chamber with ring geometry

Номер патента: WO2018067309A1. Автор: James Cooper,William Riis Hamburgen,Joshua Norman Lilje. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2018-04-12.

Vapor chamber with ring geometry

Номер патента: US20180095507A1. Автор: James Cooper,William Riis Hamburgen,Joshua Norman Lilje. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2018-04-05.

Vapor chamber with structure for enhancing two-phase flow boiling

Номер патента: US11864349B2. Автор: Xingxing Zhang,Xiao-Xiang Zhou,Han-Min Liu,Chunlin Mao. Владелец: Asia Vital Components Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Closed chamber with fluid separation feature

Номер патента: US8485204B2. Автор: Rainer Obweger,Andreas GLEISSNER. Владелец: LAM RESEARCH AG. Дата публикации: 2013-07-16.

Reaction chamber arrangement and a method for forming a reaction chamber arrangement

Номер патента: US20130164566A1. Автор: Klaus Elian. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-06-27.

Reaction chamber for the decontamination of articles of clothing and equipment

Номер патента: CA2117839C. Автор: Norbert Klein,Paul Hellmuth,Michael Theis. Владелец: Dornier GmbH. Дата публикации: 2004-05-25.

Pre-lithiation reaction chamber apparatus

Номер патента: US11967699B2. Автор: Oh-Byong CHAE,Seung-Hae HWANG,Ye-Ri Kim. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Pre-lithiation reaction chamber apparatus

Номер патента: US20220085349A1. Автор: Oh-Byong CHAE,Seung-Hae HWANG,Ye-Ri Kim. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Discharge chamber with three electrodes and two spark gaps (versions)

Номер патента: RU2711002C1. Автор: Олег Иванович Громов. Владелец: Олег Иванович Громов. Дата публикации: 2020-01-14.

Anode chambers with variable volumes

Номер патента: US09954235B2. Автор: Antoine LATOUR,Jessica Thery,Vincent Faucheux,Bruno Valon,Gerard F McLean. Владелец: Intelligent Energy Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Vapor chamber with circuit unit

Номер патента: US20210015002A1. Автор: Cheng-Chen Cheng. Владелец: Forcecon Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Arc-blasting switch possessing a break chamber with low gas compression and reciprocating piston movement

Номер патента: US20010035396A1. Автор: Michel Perret,Joel Ozil. Владелец: Alstom SA. Дата публикации: 2001-11-01.

Plasma reaction chamber with a built-in magnetic core

Номер патента: KR100743840B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2007-07-30.

METHODS FOR THERMALLY CALIBRATING REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20180114680A1. Автор: Jacobs Loren,Westrom Peter,Kim Hyeongeu. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-26.

METHODS FOR THERMALLY CALIBRATING REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20200227243A1. Автор: Jacobs Loren,Westrom Peter,Kim Hyeongeu. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

Reaction chamber

Номер патента: CN111321463B. Автор: 徐刚. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-15.

Reaction chamber of semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: CN111446199B. Автор: 刘建. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-16.

Plasma reactor with reduced reaction chamber

Номер патента: WO2002033729A3. Автор: Steven T Fink. Владелец: Steven T Fink. Дата публикации: 2002-08-01.

Methods for providing a precursor mixture to a reaction chamber

Номер патента: US20240102156A1. Автор: Timothee Blanquart,René Henricus Jozef Vervuurt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Reaction chamber with semi-high temperature wall

Номер патента: KR100375396B1. Автор: 알. 린드스트롬 폴. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2003-05-09.

Reactor system with multi-directional reaction chamber

Номер патента: SG10202101234VA. Автор: Yukihiro Mori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-09-29.

A load device, a reaction chamber and a semiconductor processing device

Номер патента: TWI569363B. Автор: xue-wei Wu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-01.

An injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: EP4006960B1. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-09.

PLASMA REACTOR WITH CONDUCTIVE MEMBER IN REACTION CHAMBER FOR SHIELDING SUBSTRATE FROM UNDESIRABLE IRRADIATION

Номер патента: US20160020116A1. Автор: LEE Sang In,Lee Ilsong,Yang Hyo Seok. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

SENSOR ARRAY, APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20200066552A1. Автор: Susa Yoshio. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-27.

APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20190093221A1. Автор: Tsuji Naoto,Susa Yoshio,Jdira Lucian,Terhorst Herbert. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

APPARATUS, METHOD AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190127850A1. Автор: Maula Jarmo,Söderlund Mikko,Soininen Pekka. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-02.

SENSOR ARRAY, APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20220406625A1. Автор: Susa Yoshio. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-22.

Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods

Номер патента: US11430674B2. Автор: Yoshio SUSA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-30.

Tray apparatus, reaction chamber and mocvd device

Номер патента: KR101736427B1. Автор: 예 투. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma reaction chamber

Номер патента: KR100597627B1. Автор: 최윤호,박영욱,서정훈,김정태. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-07-07.

A kind of reaction chamber and MOCVD device

Номер патента: CN103820769B. Автор: 涂冶. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Chemical vapor deposition reaction chamber

Номер патента: JP4809562B2. Автор: フリジュランク、ペーター. Владелец: アイクストロン、アーゲー. Дата публикации: 2011-11-09.

Reaction chamber

Номер патента: EP2353176A4. Автор: Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Matthew G Goodman,Brad Halleck. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2013-08-28.

Tray, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN108004525B. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

ANTI-CORROSION METAL REACTION CHAMBER CVD OR RTP

Номер патента: FR2818292B1. Автор: Herve Guillon,Franck Laporte,Rene Pierre Ducret. Владелец: Joint Industrial Processors for Electronics. Дата публикации: 2003-03-21.

Reaction chamber for processing semiconducter wafers

Номер патента: EP1283544A2. Автор: Takayuki Yamagishi. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2003-02-12.

Reaction chamber

Номер патента: CN111364022A. Автор: 荣延栋,何中凯. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-03.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: WO2012101326A1. Автор: Jarmo Maula,Mikko SÖDERLUND,Pekka Soininen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2012-08-02.

Cleaning method of etching reaction chamber

Номер патента: CN104867815A. Автор: 张旭升,许进,吕煜坤,任昱,胡伟玲. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-08-26.

Method of cleaning a cvd reaction chamber

Номер патента: EP1452625A3. Автор: Kiyoshi Satoh,Nelson Loke Chou San,Kenishi Kagami. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2008-08-06.

Reaction chamber

Номер патента: TWI490919B. Автор: Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Matthew G Goodman,Brad Halleck. Владелец: ASM Inc. Дата публикации: 2015-07-01.

The cleaning method of reaction chamber and substrate lithographic method

Номер патента: CN103861843B. Автор: 李成强. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

A kind of reaction chamber

Номер патента: CN107164738A. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-15.

Etching process inside a CVD reaction chamber

Номер патента: DE69706339T2. Автор: Takao Akiyama. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: US10590536B2. Автор: Jarmo Maula,Mikko SÖDERLUND,Pekka Soininen. Владелец: Beneq Group Oy. Дата публикации: 2020-03-17.

Reaction chamber and MOCVD equipment

Номер патента: CN103820769A. Автор: 涂冶. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-28.

Reaction chamber for processing semiconductor wafers

Номер патента: KR100855091B1. Автор: 다카유키 야마기시. Владелец: 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤. Дата публикации: 2008-08-29.

Reaction chamber

Номер патента: US20100116207A1. Автор: Matthew Goodman,Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Brad Halleck. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2010-05-13.

Microwave irradiation of a chamber with time-varying microwave frequency or multiple microwave frequencies

Номер патента: CA3003637C. Автор: Paul E. King. Владелец: ECOKAP TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2023-10-17.

Inkjet nozzle chamber with electrostatically attracted plates

Номер патента: US20050168532A1. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2005-08-04.

Process and apparatus for chemically treating articles in a contained chamber, with sealed-door access to the chamber

Номер патента: CA1276096C. Автор: James J. Ash. Владелец: Chemcut Corp. Дата публикации: 1990-11-13.

Injection device for the metered injection of two liquids into a reaction chamber

Номер патента: DE50105979D1. Автор: Josef Laumen. Владелец: FEV Motorentechnik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2005-05-25.

Device with chemical reaction chamber

Номер патента: US20200411398A1. Автор: David Frank Bolognia,Brian Hall. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Method for processing parts in semiconductor reaction chamber and semiconductor reaction chamber

Номер патента: CN114196998A. Автор: 郑旭东,吴凤丽,杨华龙. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-03-18.

DEVICE WITH CHEMICAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200411398A1. Автор: Bolognia David Frank,HALL Brian. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Sealing material for reaction chamber preparing semiconductor wafer and sealing material using the same

Номер патента: KR101504725B1. Автор: 황의식. Владелец: 주식회사 씰테크. Дата публикации: 2015-03-24.

Chamber intake structure and reaction chamber

Номер патента: JP7179972B2. Автор: ▲剛▼ 徐,波 ▲鄭▼,振国 ▲馬▼,▲軍▼ ▲張▼. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-29.

Chamber air intake structure and reaction chamber

Номер патента: TW202025351A. Автор: 鄭波,張軍,馬振國,徐剛. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2020-07-01.

Replaceable upper chamber section of plasma reaction chamber

Номер патента: TWM400087U. Автор: Singh Harmeet,J Sharpless Leonard,S Kang Michael. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-03-11.

REACTION CHAMBER AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170011938A1. Автор: Wei Gang,LI Xingcun,GUAN Changle,Li Dongsan,QIU Mingda,ZHAO Longchao,SONG Mingming. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-01-12.

LINER, REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT

Номер патента: US20210193434A1. Автор: CHANG Kai,ZHAO Jinrong. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

Temperature control device for reaction chamber

Номер патента: KR200157366Y1. Автор: 정우혁. Владелец: 엘지반도체주식회사. Дата публикации: 1999-09-15.

A kind of pedestal and reaction chamber

Номер патента: CN107180782A. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN109087841A. Автор: 李璐. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-25.

Lining and reaction chamber

Номер патента: CN111383896A. Автор: 刘辉,陈国动. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

Side gas injector for plasma reaction chamber

Номер патента: KR101095172B1. Автор: 김기현,김민식,박근주,이원묵,고성용,채환국. Владелец: 주식회사 디엠에스. Дата публикации: 2011-12-16.

Method of eliminating undesirable carbon product deposited on the inside of a reaction chamber

Номер патента: US4816113A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1989-03-28.

PLASMA CHAMBER WITH ANCILLARY REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220293400A1. Автор: LEONARD,III George Stephen,McClelland Stefan Andrew,Rehagen John Joseph,Koo Jae Mo. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-15.

Plasma Reaction Chamber with Adaptive Plasma Source

Номер патента: KR101063319B1. Автор: 김남헌. Владелец: 에이피티씨 주식회사. Дата публикации: 2011-09-07.

SYSTEM AND METHOD FOR PULSE MODULATION OF RADIO FREQUENCY POWER SUPPLY AND REACTION CHAMBER THEREOF

Номер патента: US20210066041A1. Автор: Wei Jing,Yang Jing,Wei Gang. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

TEMPERATURE CONTROLLED REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220301829A1. Автор: Yoshikawa Jun. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-22.

PLASMA ETCHING REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190244787A1. Автор: CHIU Hsin-Chih,Wang Chun-Fu,CHEN YI-HSIANG,Cheng Yao-Syuan,Huang Zhi Kai,Ho Mu-Chun,Chou Wei-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

LOWER ELECTRODE MECHANISM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200321198A1. Автор: Wei Gang,HUANG Yahui,LI Yicheng,MAO Xingfei. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-08.

REACTION CHAMBER, DRY ETCHING MACHINE AND ETCHING METHOD

Номер патента: US20200381220A1. Автор: HE HUAILIANG. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

Faraday shield and reaction chamber

Номер патента: CN107301943A. Автор: 刘建生,陈鹏,张璐,贾强,丁培军,宋巧丽,徐奎,王文章,常大磊,姜鑫先,苏振宁. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-27.

Shielding disc system, reaction chamber and semiconductor processing device

Номер патента: CN106571284A. Автор: 陈春伟. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-19.

Radio-frequency coil, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN110491761A. Автор: 牛晨. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-22.

Side gas injector for plasma reaction chamber

Номер патента: CN102034666A. Автор: 金起铉,朴根周,金珉植,高诚庸,蔡焕国,李元默. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-27.

Plasma reaction chamber assemblies

Номер патента: US20070113975A1. Автор: Li Li,Max Hineman. Владелец: Hineman Max F. Дата публикации: 2007-05-24.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: TWI727477B. Автор: 侯玨. Владелец: 北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2021-05-11.

Reaction chamber and capacitance coupling plasma equipment

Номер патента: CN107578977A. Автор: 陈鹏,丁培军,刘菲菲,王文章. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-12.

Chamber with low turbulence argon purging system

Номер патента: US09566659B2. Автор: Lee Patrick,David Brayshaw,Scott Wittkop,James Barrett,Ting-Kwo Lei. Владелец: PCC Structurals Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Quench chamber with integrated scrubber system

Номер патента: US09657242B2. Автор: Paromita Bhattacharya,Rajeshwar Sripada,Ajoy Patra,Atul Vij. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-05-23.

Droplet chemical reaction chamber

Номер патента: US5773238A. Автор: Ashok K. Shukla. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-06-30.

Biological reaction chamber apparatus

Номер патента: US3745091A. Автор: J Mccormick. Владелец: Miles Laboratories Inc. Дата публикации: 1973-07-10.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US20170065980A1. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2017-03-09.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: CA2843828C. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2019-02-26.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: CA2843828A1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Lefort, Guillaume. Дата публикации: 2013-02-07.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: US9028760B2. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2015-05-12.

Distributing light in a reaction chamber

Номер патента: WO2019056137A1. Автор: Fariborz Taghipour,Manoj Singh,Babak Adeli Koudehi,Alireza Jalali. Владелец: Acuva Technologies Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Alkylation reaction chamber

Номер патента: US3982903A. Автор: Robert F. Anderson. Владелец: Universal Oil Products Co. Дата публикации: 1976-09-28.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: EP4323542A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: CA3215070A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2022-10-20.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: AU2022258444A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Electrocoagulation reaction chamber and method

Номер патента: US20030070919A1. Автор: F. Gilmore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-17.

Reaction chamber for amino-terminal sequence analysis of proteins or peptides

Номер патента: US5135720A. Автор: Toyoaki Uchida. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 1992-08-04.

Dehydrogenation reactions in narrow reaction chambers and integrated reactors

Номер патента: US20040199039A1. Автор: Gary Roberts,Anna Tonkovich,Matthew Schmidt,G. Chadwell,John Brophy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-07.

Alkylation reaction chamber

Номер патента: CA1051809A. Автор: Robert F. Anderson. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1979-04-03.

Insulated chamber with phase change material

Номер патента: US09927169B2. Автор: Milton F Baker,Dale C Barnett,Robert W Dotterer,David N Figel,Stephen C Keiser. Владелец: CARON PRODUCTS AND SERVICES Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Electromagnetic Isolation Chamber With Unimpeded Hand Entry

Номер патента: US20110232956A1. Автор: John G. Ramsey. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-29.

Dual resonator chamber with variable volume

Номер патента: US20140341385A1. Автор: Samir Mekid,Maaz Farooqui. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2014-11-20.

Flexible vapor chamber with shape memory material

Номер патента: US20220186716A1. Автор: Min Suet LIM,Jeff KU,Jianfang Zhu,Mark J. Gallina. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

IMR-MS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210057203A1. Автор: JORDAN Alfons. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

Mechanical arm and vacuum reaction device

Номер патента: CN104201142B. Автор: 李伟,张光明,张定涛,陈泽,吴成龙,张益存. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-08.

Thermal reaction chamber with susceptor drive and wafer displacement mechanism

Номер патента: JP3786976B2. Автор: パーロヴ イルヤ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

ELECTROSTATIC CHUCK AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220051923A1. Автор: SHI Quanyu,Huang Qiwei. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

STRUCTURE OF REACTION CHAMBER OF SEMICONDUCTOR SPUTTERING EQUIPMENT

Номер патента: US20140238851A1. Автор: HO WEN-CHIN,CHOU TSUNG-CHIH,CHERN SHYUE-JER. Владелец: SHIH HER TECHNOLOGIES INC.. Дата публикации: 2014-08-28.

METHOD OF DEPOSITING A CO-DOPED POLYSILICON FILM ON A SURFACE OF A SUBSTRATE WITHIN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190304780A1. Автор: Tolle John,Kohen David. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

Waffer pedestal with heating mechanism and reaction chamber including the same

Номер патента: US20190341280A1. Автор: Ren Zhou,Junichi Arami. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2019-11-07.

Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber

Номер патента: US10510536B2. Автор: John Tolle,David Kohen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-12-17.

A kind of wafer locating device and reaction chamber

Номер патента: CN107093569B. Автор: 聂淼. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-05.

Reaction chamber

Номер патента: KR100284745B1. Автор: 박영욱,원석준,형용우. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-03-15.

Leaking method of reaction chamber of semiconductor manufacture equipment

Номер патента: JPS59154025A. Автор: Shigekazu Kato,Toru Ueno,上野 透,加藤 重和. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-09-03.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN111081589A. Автор: 徐悦. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Wafer pedestal with heating mechanism and reaction chamber including the same

Номер патента: TW201947692A. Автор: 周仁,荒見淳一. Владелец: 大陸商瀋陽拓荊科技有限公司. Дата публикации: 2019-12-16.

Heating System for Batch Type Reaction Chamber

Номер патента: KR100848359B1. Автор: 이병일,이영호,장택용. Владелец: 주식회사 테라세미콘. Дата публикации: 2008-07-28.

Selective metal oxide removal performed in a reaction chamber in the absence of RF activation

Номер патента: US6818493B2. Автор: Philip J. Tobin,Christopher C. Hobbs. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2004-11-16.

Flow distribution device, air inlet system and reaction chamber

Номер патента: CN111276421A. Автор: 何漫丽. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-12.

Bogey, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN106684028B. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-31.

Carrier and reaction chamber

Номер патента: TWI600103B. Автор: Xin Wu. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

Nesting tool and reaction chamber

Номер патента: CN103839841A. Автор: 王阔,代勇. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2014-06-04.

Spraying structure and reaction chamber

Номер патента: CN111341690A. Автор: 刘效岩,惠世鹏,张凇铭,许璐. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-26.

Laser chamber with minimized acoustic and shock wave disturbances

Номер патента: EP1060542A1. Автор: Richard C. Ujazdowski,Tibor Juhasz,James H. Azzola,Herve A. Besaucele,Robert G. Ozarski. Владелец: Cymer Inc. Дата публикации: 2000-12-20.

Gas laser chamber with vertical vibration isolator

Номер патента: WO2002029308A1. Автор: Palash P. Das,William N. Partlo,I. Roger Oliver,Alex P. Ivaschenko. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2002-04-11.

Vacuum chamber with a one-piece metallic cover for self-centering

Номер патента: US09324520B2. Автор: Dietmar Gentsch. Владелец: ABB TECHNOLOGY AG. Дата публикации: 2016-04-26.

ELECTRIC INTERRUPTION SWITCH COMPRISING REACTIVE COATING IN THE REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210012986A1. Автор: LELL Peter. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

PRE-LITHIATION REACTION CHAMBER APPARATUS

Номер патента: US20220085349A1. Автор: CHAE Oh-Byong,KIM Ye-Ri,HWANG Seung-Hae. Владелец: LG ENERGY SOLUTION, LTD.. Дата публикации: 2022-03-17.

Chemical laser with a combustion or reaction chamber - has pipes separately supplying reagents diluent and a fluorine compound

Номер патента: FR2298204A1. Автор: . Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1976-08-13.

Emergency flotation device with chemical reaction chamber

Номер патента: WO2019106677A1. Автор: Moshe Shoham,Noam Hassidov,Oriya SHOHAM,Matityahu AZRIEL. Владелец: Sea-Ark Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Reaction chamber with covering system and epitaxial reactor

Номер патента: US20240271319A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Silvio PRETI,Francesco COREA,Stefano POLLI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-08-15.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Method for performing uniform processing in gas system-sharing multiple reaction chambers

Номер патента: US09447498B2. Автор: Eiichiro Shiba. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-09-20.

Reaction chamber for processing a substrate wafer, and method for operating the chamber

Номер патента: US20020092840A1. Автор: Alfred Kersch. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-07-18.

Method for stabilizing reaction chamber pressure

Номер патента: US09663857B2. Автор: Wataru Adachi,Ryu Nakano. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-05-30.

A fluidized bed reaction chamber comprising a tubular waterwall structure

Номер патента: MY194817A. Автор: Pentti Lankinen,John Q Murphy. Владелец: SUMITOMO SHI FW ENERGIA OY. Дата публикации: 2022-12-16.

Addressable micro-reaction chamber array

Номер патента: WO2020126985A1. Автор: Benjamin Jones,Peter Peumans,Nicolas Vergauwe,Ahmed TAHER. Владелец: IMEC VZW. Дата публикации: 2020-06-25.

Addressable micro-reaction chamber array

Номер патента: EP3897981A1. Автор: Benjamin Jones,Peter Peumans,Nicolas Vergauwe,Ahmed TAHER. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-10-27.

Optical element and reaction chamber

Номер патента: EP4359583A1. Автор: Wolfgang Braun. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2024-05-01.

Reaction chamber with covering system and epitaxial reactor

Номер патента: EP4352284A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Silvio PRETI,Francesco COREA,Stefano POLLI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-04-17.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191B2. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Stacked showerhead assembly for delivering gases and rf power to a reaction chamber

Номер патента: WO1999053116A1. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Arizona, Inc.. Дата публикации: 1999-10-21.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: CA3187109A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: EP4219789A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-02.

Differential pressure, countergravity casting with alloyant reaction chamber

Номер патента: US5161604A. Автор: George D. Chandley,Bryant W. Crocker. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 1992-11-10.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: EP2744924A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2014-06-25.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US20200391214A1. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Reaction chamber and reaction device

Номер патента: EP4417731A1. Автор: Xin Xu,Jiaming LIU,Guofang ZHONG,Yunzhang XIAO,Shuaishuai HUANG,Lianghui LIU,Bingan CHEN. Владелец: Shenzhen Naso Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Reaction chamber component, preparation method, and reaction chamber

Номер патента: US20240271310A1. Автор: Yulin Peng,Yicheng Li,Yongyou CAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US12103006B2. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: US9382642B2. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-07-05.

Apparatus and method for improved delivery of vaporized reactant gases to a reaction chamber

Номер патента: US5451258A. Автор: Joseph T. Hillman,W. Chuck Ramsey. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-09-19.

Mixed-phase distributor for fixed-bed catalytic reaction chambers

Номер патента: US4140625A. Автор: Robert H. Jensen. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1979-02-20.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: CA3211291A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2022-09-15.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: WO2022189409A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2022-09-15.

Gas injection system for reaction chambers in CVD systems

Номер патента: US5819684A. Автор: Mcdonald Robinson,Mark R. Hawkins. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 1998-10-13.

CVD reaction chamber

Номер патента: US4596208A. Автор: Robert G. Wolfson,Stanley M. Vernon. Владелец: Spire Corp. Дата публикации: 1986-06-24.

Gas injectors for reaction chambers in CVD systems

Номер патента: US5411590A. Автор: Mcdonald Robinson,Mark R. Hawkins. Владелец: Advanced Semiconductor Materials America Inc. Дата публикации: 1995-05-02.

Miniature reaction chamber and devices incorporating same

Номер патента: US6132580A. Автор: Richard A. Mathies,Adam T. Woolley. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2000-10-17.

Brake chamber with spring energy accumulator

Номер патента: RU2638882C2. Автор: Василий Михайлович Яковлев. Владелец: Василий Михайлович Яковлев. Дата публикации: 2017-12-18.

Brake chamber with spring brake

Номер патента: RU2642229C1. Автор: Василий Михайлович Яковлев. Владелец: Василий Михайлович Яковлев. Дата публикации: 2018-01-24.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: EP4305236A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2024-01-17.

Mixer-drying chamber with spherical case

Номер патента: RU2429058C2. Автор: Ханс ШТАЛЬДЕР. Владелец: Маваг Аг. Дата публикации: 2011-09-20.

Stormwater chamber with stackable reinforcing ribs

Номер патента: US09850648B1. Автор: Robert J. Ditullio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-12-26.

Stormwater chamber with stackable reinforcing ribs

Номер патента: US09765509B1. Автор: Robert J. Ditullio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-19.

Glove chamber with illuminated sealed guard

Номер патента: RU2444431C2. Автор: Серж ЛЕКУТР,Кристоф КУДЬЕР. Владелец: Арева Нс. Дата публикации: 2012-03-10.

Vortex evaporative drying chamber with inert crown

Номер патента: RU2669221C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-10-09.

Closed circuit aerosol and vapor chamber with counter flow configuration

Номер патента: US20080213136A1. Автор: Simon Caron,Hami Monsarrat-Chanon. Владелец: SCL Medtech Inc. Дата публикации: 2008-09-04.

Apparatus for guiding cable through a radiation chamber with reduced leakage therefrom

Номер патента: CA1219973A. Автор: Robert G. Burgess. Владелец: Radiation Dynamics Inc. Дата публикации: 1987-03-31.

Yoke shaped separation chamber with feed and flow control means

Номер патента: CA1085776A. Автор: William C. Smith. Владелец: Rader Companies Inc. Дата публикации: 1980-09-16.

Method of manufacturing a fluid-filled chamber with a tensile element

Номер патента: US9339080B2. Автор: Danielle L. Taylor,James C. Meschter. Владелец: Nike Inc. Дата публикации: 2016-05-17.

Electrode and reaction chamber for use in generation of non-thermal plasma

Номер патента: AU4534299A. Автор: Torfinn Johnsen. Владелец: Applied Plasma Physics AS. Дата публикации: 2000-01-24.

Bioreactor having at least two reaction chambers

Номер патента: AU2002314140A1. Автор: Udo Holker. Владелец: Hofer Bioreact GmbH. Дата публикации: 2002-12-23.

Chemical vapour deposition epitaxial reactor having two reaction chambers alternatively actuated and actuating method thereof

Номер патента: US20020112661A1. Автор: Franco Preti. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Method for improving the reactant gas flow in a reaction chamber

Номер патента: US5096534A. Автор: Albert E. Ozias. Владелец: Epsilon Technology Inc. Дата публикации: 1992-03-17.

Reaction chamber and method for preparing preforms for optical fibers

Номер патента: US20060016224A1. Автор: Gilles Fonteneau,Catherine Boussard-Pledel,David Le Coq. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2006-01-26.

Microbial cultivation chamber with segmented measuring structure

Номер патента: LU505841B1. Автор: Yajun Zhang,Donglin Yang,Jiuhong Huang. Владелец: Univ Chongqing Arts & Sciences. Дата публикации: 2024-06-19.

Sealed chamber with heating lamps provided within transparent tubes

Номер патента: US5636320A. Автор: Chienfan Yu,David E. Kotecki,Wesley C. Natzle. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1997-06-03.

REACTION CHAMBER AND ASSEMBLY METHOD

Номер патента: US20210071085A1. Автор: MOZZARDI Fabrizio,TOSTO Luca. Владелец: WALTER TOSTO SPA. Дата публикации: 2021-03-11.

A kind of adaptive matching method and system of microwave power source and reaction chamber

Номер патента: CN110311646A. Автор: 刘丹,傅历建,吕超飞. Владелец: GOSPELL DIGITAL TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-08.

Ionization chamber with electron source

Номер патента: CA2313729C. Автор: Hans-Rudiger Doring. Владелец: Bruker Saxonia Analytik GmbH. Дата публикации: 2009-09-15.

Method and apparatus for continuously taking a hot gas sample to be analyzed from a reaction chamber

Номер патента: US4779466A. Автор: Wolfgang Ramsner,Karl Ruemer,Kurt Holzl. Владелец: Voestalpine AG. Дата публикации: 1988-10-25.

Exhaust reaction chamber system of engine

Номер патента: CA1042351A. Автор: Shuichi Yamazaki,Ikuo Kajitani. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-11-14.

Exhaust reaction chamber for internal combustion engine

Номер патента: US4109463A. Автор: Satoru Ohata,Masao Watanabe,Kiyoyuki Itakura,Yohji Ishii. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-08-29.

Micro-reaction chamber microelectrodes especially for neural and biointerfaces

Номер патента: US09592378B2. Автор: Bruce J. Gluckman,Balaji Shanmugasundaram. Владелец: PENN STATE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-03-14.

Ironing head with inner chamber with steam removal channels

Номер патента: RU2771360C2. Автор: Максим ЖАВИ,Валентин ЖАВЕЛЬ. Владелец: СЕБ С.А.. Дата публикации: 2022-05-04.

Dual expansion chamber with internal connecting tube for use with an oxygen concentrator

Номер патента: US09943661B2. Автор: Matthew Sims. Владелец: Chart Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Portable hyperbaric chamber with a vertical mounting system

Номер патента: US09622931B2. Автор: Bruce Elgin McKeeman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-18.

Mower cutting chamber with adjustable discharge geometry

Номер патента: WO2015006707A3. Автор: Thomas James GAEDDERT,Derek Jordan CHRISTOPHEL. Владелец: EXCEL INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2015-11-05.

Acoustic chamber with low frequency transparency

Номер патента: US09799317B2. Автор: Douglas WINKER. Владелец: ETS Lindgren Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Mower cutting chamber with adjustable discharge geometry

Номер патента: US09629307B2. Автор: Thomas James GAEDDERT,Derek Jordan CHRISTOPHEL. Владелец: Excel Industries Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Tubular combustion chamber with impact cooling

Номер патента: RU2450211C2. Автор: Эрик Рой НОРСТЕР. Владелец: Опра Текнолоджиз Би. Ви.. Дата публикации: 2012-05-10.

Bottom of combustion chamber with ventilation

Номер патента: RU2415341C2. Автор: Дени САНДЕЛИ,Клод ГОТЬЕ,Ромэн БЬЕБЕЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-03-27.

Turbo machine combustion chamber with spiral air circulation

Номер патента: RU2484377C2. Автор: Мишель Пьер КАЗАЛЕН,Ромэн Николя ЛЮНЕЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2013-06-10.

Vortical evaporation-drying chamber with inertial nozzle

Номер патента: RU2610632C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2017-02-14.

Aircraft gas turbine combustion chamber with different-shape bores

Номер патента: RU2539949C2. Автор: Тома НОЭЛЬ,Патрис КОММАРЕ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2015-01-27.

Combustion chamber with two-stage combustion

Номер патента: US5687571A. Автор: Rolf Althaus,Jakob J. Keller. Владелец: ABB Asea Brown Boveri Ltd. Дата публикации: 1997-11-18.

Combustion chamber with two-stage combustion

Номер патента: US5829967A. Автор: Yau-Pin Chyou. Владелец: ABB Asea Brown Boveri Ltd. Дата публикации: 1998-11-03.

Drip chamber with backflow ball valve

Номер патента: CA1130161A. Автор: Herbert Mittleman. Владелец: Baxter Travenol Laboratories Inc. Дата публикации: 1982-08-24.

Dual resonator chamber with variable volume

Номер патента: US20140338770A1. Автор: Samir Mekid. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2014-11-20.

Spoolless film takeup chamber with improved spooling spring

Номер патента: US6016984A. Автор: R. Winfield Trafton,John F. Miller. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2000-01-25.

Combustion chamber with premixing burners

Номер патента: US5655903A. Автор: Melchior Fischer. Владелец: ABB Asea Brown Boveri Ltd. Дата публикации: 1997-08-12.

Fluid sampling chamber with pneumatically operated valves

Номер патента: CA1062500A. Автор: Robert R. Austin,Art Moen M.D.. Владелец: ITT Industries Inc. Дата публикации: 1979-09-18.

Carbonation chamber with sparger for beverage carbonation

Номер патента: CA1210685A. Автор: Dennis J. Colwell,Peter A. Basile,Clara A. Annese. Владелец: General Foods Corp. Дата публикации: 1986-09-02.

Auto feed humidification chamber with improved structure

Номер патента: US20200338300A1. Автор: Tao-Tsun Hsiung,Xu-Xiang Wang,I-Chen TSAI. Владелец: Besmed Health Business Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

Film chamber with measuring volume for large leak detection

Номер патента: RU2699927C2. Автор: Зильвио ДЕККЕР,Рольфф НОРБЕРТ. Владелец: Инфикон Гмбх. Дата публикации: 2019-09-11.

Burner for operating a combustion chamber with a liquid and/or gaseous fuel

Номер патента: US5921770A. Автор: Thomas Sattelmayer. Владелец: ABB Research Ltd Switzerland. Дата публикации: 1999-07-13.

Catalyst chamber with a catalyst bed embedded therein for a monopropellant thruster of a rocket engine

Номер патента: US11248563B2. Автор: Ulrich Gotzig. Владелец: Arianegroup Gmbh. Дата публикации: 2022-02-15.

Electrochemical sensing intelligent chamber with integrated environmental parameters

Номер патента: US20240068975A1. Автор: DONG Ming,Shuang Li,Ziyue Qin. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-02-29.

Inflatable hyperbaric chamber with a multilayer structure

Номер патента: EP3920866A1. Автор: Peter KOKALJ,Tina KOKALJ. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-15.

Inflatable hyperbaric chamber with a multilayer structure

Номер патента: WO2020162839A1. Автор: Peter KOKALJ,Tina KOKALJ. Владелец: KOKALJ Tina. Дата публикации: 2020-08-13.

Method of eliminating undesirable carbon product deposited on inside of reaction chamber for cvd

Номер патента: CN1016972B. Автор: 山崎舜平. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1992-06-10.

Microreactor with vent channels for removing air from a reaction chamber

Номер патента: US09616423B2. Автор: Michele Palmieri,Gaetano Panvini. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-04-11.

Microreactor with vent channels for removing air from a reaction chamber

Номер патента: US09561504B2. Автор: Michele Palmieri,Gaetano Panvini. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-02-07.

Reaction chamber for exothermic material

Номер патента: US09533816B2. Автор: Fabrice Mazaudier. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2017-01-03.

Reaction chamber heated device for oxygen generation

Номер патента: US3719456A. Автор: J Bode. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1973-03-06.

Feed system for closed reaction chambers with moveable sample racks

Номер патента: WO2000025925A1. Автор: Werner DÖBELIN. Владелец: Hettlab Ag. Дата публикации: 2000-05-11.

Centrifugation chamber with deflectors

Номер патента: US09586213B2. Автор: Stefan Miltenyi,Ralf-Peter Peters,Eiad Kabaha,Juliane Stuth. Владелец: Miltenyi Biotec GmbH. Дата публикации: 2017-03-07.

MICROFLUIDIC REACTION CHAMBER FOR AMPLIFICATION OF NUCLEIC ACIDS

Номер патента: US20220048026A1. Автор: Choy Si-lam,Ely Hilary,Lahmann John. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2022-02-17.

SELF-METERING OF FLUID INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20170065980A1. Автор: Nelson William M.,de Vazeille Aymeric Randanne,Armantrout Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-09.

MICROREACTOR WITH VENT CHANNELS FOR REMOVING AIR FROM A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160114321A1. Автор: PALMIERI Michele,Panvini Gaetano. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

METHOD AND DEVICE FOR INTRODUCING REACTIVE GASSES INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160145099A1. Автор: Tautz Hanno. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-26.

Reaction chamber for supercritical water oxidation reactor

Номер патента: US20210278080A1. Автор: John Troy KRACZEK,Gordon Ray WHIPPLE,Paul James FREEMAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-09.

METHOD AND APPARATUS FOR INJECTING SOLIDS INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: DE2257669A1. Автор: William Lamont Calvert,Richard Herman Handwerk. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1973-06-14.

REACTION CHAMBER DEVICE FOR BIOLOGICAL EXAMINATIONS

Номер патента: DE2157150B2. Автор: James Benjamin Hinsdale IU. McCormick (V.StA.). Владелец: Miles Laboratories Inc. Дата публикации: 1973-01-25.

Reaction chamber for carbon nano tube with rupture disc

Номер патента: KR101115342B1. Автор: 김성수. Владелец: 금호석유화학 주식회사. Дата публикации: 2012-03-06.

Water effluent treatment plant reaction chambers subdivided into series of zones

Номер патента: DE4423051A1. Автор: Genannt Menningmann Jud Schulz. Владелец: ENVICON KLAERTECH VERWALT. Дата публикации: 1996-01-11.

Reaction chamber, and apparatus and system of collecting carbon nano tube having the same

Номер патента: KR100824301B1. Автор: 김성수,전종관. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2008-04-22.

DEVICE WITH MULTIPLE REACTION CHAMBERS FOR THE IMPLEMENTATION OF FLUIDIZED BED OXYDO-REDUCTION LIQUID / SOLID REACTIONS

Номер патента: FR2978680B1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Franck Lancon. Дата публикации: 2014-02-28.

Reaction chamber for carbon nano tube with ground member

Номер патента: KR100998071B1. Автор: 심재원,김성수. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2010-12-03.

DEVICE WITH MULTIPLE REACTION CHAMBERS FOR THE IMPLEMENTATION OF FLUIDIZED BED OXYDO-REDUCTION LIQUID / SOLID REACTIONS

Номер патента: FR2978680A1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Franck Lancon. Дата публикации: 2013-02-08.

CATALYST FOR CHEMICAL PROCESSES 1 The invention relates to catalysts for chemical processes, for example for the oxidation of ethylene, containing the active phase in the carrier. Catalysts for chemical processes containing the active phase deposited on the carrier are known. chemical process to the formation of overheated catalyst zones or "GQp points". ' Due to local overheating of the catalyst, it is impossible to precisely maintain the desired temperature that is optimal for this process. Temperature fluctuations during the chemical process can lead not only to a decrease in the yield of the target product, but also to the appearance of undesirable products resulting from the development of side reactions. The presence of “hot spots” also increases the amount of carbonaceous deposits on the catalyst surface, thereby reducing its service life. Local overheating of the catalyst causes sintering of the surface, which disrupts its structure. To improve the heat transfer properties of the catalysts, a catalyst is proposed consisting of an active phase in the form of solid particles pressed into the metal strip of lesser hardness than the active phase, which is then given the desired geometric configuration providing a good catalyst conductivity with reagent-5 and low resistance to the flow through the reactor. The active phase is deposited on one or both sides of the metalogical strip. . Catalytic particles are pre-screened through standard 10-100 mesh sieves and then applied to the metal sheet by rolling. The basis for the active phase can be any metal, less solid than the active phase, inert with respect to the reactants and products obtained in the chemical process being carried out, as well as with high thermal conductivity. The metal strip with the active phase applied to it is attached to the geometric 20 configuration, e.g., star-shaped, spiral-shaped, etc., providing good contact and heat transfer when this configuration is set as a liner in the reactor. In the drawings, variations of configurations25 of metal liners for a catalyst supported on a metal catalyst are given. FIG. 1 is given a section of a metal sheet with a supported catalyst; in fig. 2 shows a reaction chamber for carrying out a chemical process, a top view; in fig. 3—

Номер патента: SU434641A3. Автор: Иностранцы изобретени,Бруно Феррарио Паоло Монталенти Тициано Паоло Делла Порта. Владелец: Сайерс Джеттерс С.п А.. Дата публикации: 1974-06-30.

Reaction chamber used in carbon nano tube producing system

Номер патента: KR20070074278A. Автор: 김성수,김형석,황호수,황진태. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2007-07-12.

GAS INJECTOR FOR THE REACTION CHAMBER OF A FLUIDIZING OVEN.

Номер патента: NL167608C. Автор: Hermann Jakob Flamm. Владелец: Euratom. Дата публикации: 1982-01-18.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20210402365A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: Ejoule International Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Reaction chamber

Номер патента: AU3306071A. Автор: Horst Dr Biallas. Владелец: Kloeckner Humboldt Deutz AG. Дата публикации: 1973-03-08.

Method and device for introducing reactive gasses into a reaction chamber

Номер патента: CN105627312A. Автор: H·陶茨. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2016-06-01.

Method for monitoring changes and conditions in reaction chambers

Номер патента: DE10346451B4. Автор: Ralf Dr. Ehret,Heiko Holst,Elke Thedinga,Axel Kob. Владелец: BIONAS GmbH. Дата публикации: 2007-08-02.

Reaction chamber for exothermic material

Номер патента: EP2583283B1. Автор: Fabrice Mazaudier. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2014-10-01.

Apparatus for evacuation and degassing of granuled fluid material from reaction chamber

Номер патента: YU43573B. Автор: G Nineuil. Владелец: Rhone Poulenc SA. Дата публикации: 1989-08-31.

Heating lamp brackets for reaction chambers of evaporation coating machines

Номер патента: US20020084391A1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Hung-Lin Ke,Muh-Lang Jang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2002-07-04.

Reaction chamber roll pump

Номер патента: US6746649B2. Автор: John F. McEntee. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2004-06-08.

It is used to prepare BiGaO3The vacuum reaction chamber of film

Номер патента: CN107475688B. Автор: 宋长青,王志亮,尹海宏. Владелец: Nantong University. Дата публикации: 2019-05-03.

Vacuum reaction apparatus

Номер патента: JPS5534158A. Автор: Akira Kojima,Hisayoshi Yamoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1980-03-10.

Reaction chamber with removable liner

Номер патента: US20160002781A1. Автор: Jill S. Becker,Roger R. Coutu,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2016-01-07.

APPARATUS AND METHOD RELATED TO REACTION CHAMBER WITH SHUTTER SYSTEM

Номер патента: US20160340780A1. Автор: Wang Wentao,Sullivan Timothy J.,Swan Paul,Sarin Michael C.. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-24.

Reaction chamber with removable liner

Номер патента: US20100247763A1. Автор: Jill S. Becker,Roger R. Coutu,Douwe J. Monsma. Владелец: Cambridge NanoTech Inc. Дата публикации: 2010-09-30.

Reaction chamber with protector

Номер патента: CN111349909A. Автор: 南建辉,王祎,丁建,庞云玲. Владелец: Shenzhen Yongshenglong Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-30.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: WO2010119430A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: Lpe S.P.A.. Дата публикации: 2010-10-21.

Plasma reaction chamber having multi arrayed vacuum chamber

Номер патента: KR100576093B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2006-05-03.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor using the chamber

Номер патента: EP2419552B1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-07-06.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: EP2419552A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-02-22.

Lining device for epitaxial reaction chamber and epitaxial reaction chamber

Номер патента: CN111850515B. Автор: 李晓军,袁福顺. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-16.

Chamber assembly and reaction chamber

Номер патента: WO2019218765A1. Автор: 陈鹏,李春雷,丁安邦,师帅涛,史小平,兰云峰. Владелец: 北京北方华创微电子装备有限公司. Дата публикации: 2019-11-21.

Foamed plastics mass mixing gun - has preliminary and main foaming chambers followed by reaction chamber fitted with spray nozzle

Номер патента: FR2407750A1. Автор: . Владелец: Weber Adolphe. Дата публикации: 1979-06-01.

Rotary/linear actuator for closed chamber, and reaction chamber utilizing same

Номер патента: WO1992008068A1. Автор: James Mcdiarmid. Владелец: Rapro Technology, Inc.. Дата публикации: 1992-05-14.

Reaction chamber, processing system and processsing method

Номер патента: GB202103185D0. Автор: . Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2021-04-21.

Device for sequentially dispensing liquid reagents to a reaction chamber

Номер патента: US20130109082A1. Автор: Simon Webster,Edward John Quinn,David Alistair Smith,Robert Harrand. Владелец: Avacta Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Fluid manipulation in a microfabricated reaction chamber system

Номер патента: AU2002356341A8. Автор: Frank Karlsen,Olaf SÖRENSEN,Klaus Drese. Владелец: NORCHIP AS. Дата публикации: 2003-07-30.

Catalytic reaction chamber for grafity flowing catalyst particles

Номер патента: GB2013518B. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1983-01-12.

Separation, sedimentation and segregation chamber with dual pore-size filter

Номер патента: WO2012114335A1. Автор: Etai BOGEN. Владелец: Etai BOGEN. Дата публикации: 2012-08-30.

Separation, sedimentation and segregation chamber with dual pore-size filter

Номер патента: US09486726B2. Автор: Etai BOGEN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-08.

Chamber with shape memory for tire pressure adjustment

Номер патента: US20240246374A1. Автор: Frantisek Hrabal. Владелец: CODA INNOVATIONS SRO. Дата публикации: 2024-07-25.

Fluid-filled chamber with stitched tensile member

Номер патента: US09427043B2. Автор: Jay A. Kodad. Владелец: Nike Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Reaction Chamber for Exothermic Material

Номер патента: US20130101470A1. Автор: Mazaudier Fabrice. Владелец: Commissariat A L'Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives. Дата публикации: 2013-04-25.

System and Method for Renewable Fuel Using Sealed Reaction Chambers

Номер патента: US20130205650A1. Автор: Strimling Jon. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-15.

APPARATUS, METHOD AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130269608A1. Автор: Maula Jarmo,Söderlund Mikko,Soininen Pekka. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2013-10-17.

METHOD AND SYSTEM TO REDUCE OUTGASSING IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150017319A1. Автор: Jung Sung-Hoon,Raisanen Petri,Liu Eric Jen Cheng,Schmotzer Mike. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

REACTION CHAMBER FOR VAPOR DEPOSITION APPARATUS

Номер патента: US20200017964A1. Автор: Huang Tsan-Hua,LIANG Yu-Sheng,CHIU Chien-Chin,TAKAHIRO Oishi,NOBORU Suda,JUNJI Komeno. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-16.

ADDRESSABLE MICRO-REACTION CHAMBER ARRAY

Номер патента: US20220062850A1. Автор: Peumans Peter,Jones Benjamin,Taher Ahmed,VERGAUWE Nicolas. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

INJECTOR CONFIGURED FOR ARRANGEMENT WITHIN A REACTION CHAMBER OF A SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220170156A1. Автор: de Ridder Chris G. M.,Jdira Lucian C.. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-02.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: US20160115592A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2016-04-28.

REACTION CHAMBER FOR A CHEMICAL REACTOR, AND CHEMICAL REACTOR CONSTRUCTED THEREFROM

Номер патента: US20190111406A1. Автор: Mleczko Leslaw,Buchholz Sigurd,Boos Karl-Robert,FALSS Sebastian. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

REACTION CHAMBER FOR DEPOSITION OF A SEMICONDUTOR LAYER ON THE PLURALITY SUBSTRATES IN BATCHES

Номер патента: US20150122178A1. Автор: Vadadi Zsolt,Strausz Tamas,Nemeth Peter. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2015-05-07.

Apparatus and Method for Delivering a Gaseous Precursor to a Reaction Chamber

Номер патента: US20170121814A1. Автор: Caymax Matty. Владелец: IMEC VZW. Дата публикации: 2017-05-04.

METHOD AND SYSTEM TO REDUCE OUTGASSING IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150140210A1. Автор: Jung Sung-Hoon,Raisanen Petri,Liu Eric Jen Cheng,Schmotzer Mike. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-21.

DEVICE WITH SEVERAL REACTION CHAMBERS FOR IMPLEMENTING LIQUID/SOLID OXIDATION-REDUCTION REACTIONS IN A FLUIDIZED BED

Номер патента: US20140219877A1. Автор: Lançon Franck. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-07.

REACTION CHAMBER FOR A CHEMICAL REACTOR, AND CHEMICAL REACTOR CONSTRUCTED THEREFROM

Номер патента: US20170136440A1. Автор: Mleczko Leslaw,Buchholz Sigurd,Boos Karl-Robert,FALSS Sebastian. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

PRINTING OF INK DROPLETS COMBINED IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200156370A1. Автор: JEUTÉ Piotr. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

DEVICE FOR THE ENERGY-OPTIMISED PRODUCTION OF FLUID EDDIES IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190193046A1. Автор: LEHMANN Jörg,LINDEN Olaf. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-27.

SYSTEMS AND METHODS FOR STABILIZING REACTION CHAMBER PRESSURE

Номер патента: US20210230746A1. Автор: Shiba Eiichiro. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

CONDUCTIVITY-BASED REACTION CHAMBER CONTROL

Номер патента: US20210239634A1. Автор: GOVYADINOV Alexander,Shkolnikov Viktor. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2021-08-05.

REACTOR SYSTEM WITH MULTI-DIRECTIONAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210246556A1. Автор: Mori Yukihiro. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-12.

Reaction Chamber For Chemical Vapor Apparatus

Номер патента: US20170233869A1. Автор: Byun Chul Soo,Han Man Cheol. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology. Дата публикации: 2017-08-17.

Method for Performing Uniform Processing in Gas System-Sharing Multiple Reaction Chambers

Номер патента: US20150267297A1. Автор: Shiba Eiichiro. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2015-09-24.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150283542A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

TRAY DEVICE, REACTION CHAMBER AND MOCVD APPARATUS

Номер патента: US20150284846A1. Автор: Tu Ye. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-10-08.

Method for Stabilizing Reaction Chamber Pressure

Номер патента: US20150284848A1. Автор: Nakano Ryu,Adachi Wataru. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2015-10-08.

SELF-METERING OF FLUID INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200391214A1. Автор: Nelson William M.,de Vazeille Aymeric Randanne,Armantrout Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-17.

EMERGENCY FLOTATION DEVICE WITH CHEMICAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200407031A1. Автор: SHOHAM Moshe,Hassidov Noam,SHOHAM Oriya,AZRIEL Matityahu. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

APPARATUS FOR PROVIDING A GAS MIXTURE TO A REACTION CHAMBER AND METHOD OF USING SAME

Номер патента: US20220403513A1. Автор: Winkler Jereld Lee,Shero Eric James,Ma Paul. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-22.

Pumping facility connected to the multi-reaction chamber and method thereof

Номер патента: KR0183912B1. Автор: 김영선,박준식,김중기. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-05-01.

For being distributed the system of gas phase and/or liquid phase in the reaction chamber

Номер патента: CN109894054A. Автор: E·尼德尔科恩,J·德尔特尔,D-J·维内尔. Владелец: Axens SA. Дата публикации: 2019-06-18.

Apparatus and method for delivering a gaseous precursor to a reaction chamber

Номер патента: EP3162914A1. Автор: Matty Caymax. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-05-03.

A kind of chemical industry reaction chamber

Номер патента: CN110433756A. Автор: 王晖. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-12.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: EP3154674B1. Автор: Sigurd Buchholz,Leslaw Mleczko,Karl-Robert Boos,Sebastian FALSS. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2018-07-18.

Variable rate distribution gas flow reaction chamber

Номер патента: US5269847A. Автор: Wayne Johnson,Roger N. Anderson,Paul R. Lindstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1993-12-14.

Reaction chamber

Номер патента: JP4974239B2. Автор: カーン,ピーター・エイ,アンダーソン,クリフォード・エル. Владелец: Amersham Bioscience AB. Дата публикации: 2012-07-11.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: CN103018081B. Автор: 藤牧俊幸,德大路伸二,冈部惠壮,水泽义忠,X·S·布伊,A·L·哈特曼. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2017-11-03.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: CN106687208A. Автор: S.布希霍尔茨,L.姆莱齐科,K-R.博斯,S.法尔斯. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2017-05-17.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN107345293B. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-05.

Cleaning system, method, equipment and storage medium for reaction chamber of epitaxial furnace

Номер патента: CN114082729B. Автор: 刘欣,王鑫,王慧勇,毛朝斌,唐卓睿,孔倩茵. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-01.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR AND REACTOR THAT USES IT

Номер патента: IT1393695B1. Автор: Franco Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-05-08.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR AND REACTOR THAT USES IT

Номер патента: ITMI20090629A1. Автор: Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2010-10-18.

Reaction chamber of an epitaxial reactor

Номер патента: EP2367964B1. Автор: Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2014-04-30.

The reaction chamber of chemical reactor, and the chemical reactor thus constructed

Номер патента: CN106687208B. Автор: S.布希霍尔茨,L.姆莱齐科,K-R.博斯,S.法尔斯. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2018-12-21.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR

Номер патента: IT1392068B1. Автор: Franco Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-02-09.

Reaction chamber for atomic layer deposition

Номер патента: KR100408519B1. Автор: 조영진,김대식,이정현,민요셉. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2003-12-06.

Reactors, systems with reaction chambers, and methods for depositing materials onto micro-device workpieces

Номер патента: US20040173150A1. Автор: Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Reaction chamber of waste-gas dust eliminating equipment.

Номер патента: KR20000018918U. Автор: 원영식. Владелец: 원영식. Дата публикации: 2000-10-25.

Flow reaction chamber for sensor chips

Номер патента: DE10152690A1. Автор: Martin Mueller,Patric Zeltz,Dieter Pfeifer. Владелец: GENESCAN EUROP AG. Дата публикации: 2003-05-08.

Device for purging a reaction chamber containing a corrosive gas

Номер патента: FR2652146A1. Автор: Pata Martial,Gossin Alain. Владелец: Plastic Omnium SE. Дата публикации: 1991-03-22.

STEERING DEVICE HAVING LOW DIMENSIONAL AND EASY TO ASSEMBLE REACTION CHAMBERS

Номер патента: FR2459750A1. Автор: Yoichi Sato,Masao Nishikawa,Takashi Aoki. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1981-01-16.

Air intake assembly and reaction chamber

Номер патента: CN106702350B. Автор: 李兴存,韦刚,成晓阳. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-31.

Conductivity-based reaction chamber control

Номер патента: WO2020032958A1. Автор: Alexander Govyadinov,Viktor Shkolnikov. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2020-02-13.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: IL249301A0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2017-02-28.

Reaction chamber especially for Atomic Laver deposition

Номер патента: DE102013020106A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-11.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN107345293A. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: CA2952110A1. Автор: Sigurd Buchholz,Leslaw Mleczko,Karl-Robert Boos,Sebastian FALSS. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2015-12-23.

Processing method of quartz window of etching machine reaction chamber

Номер патента: CN114536158A. Автор: 秦一川,许存娥,胡龙辉,卢旭彬. Владелец: Ningbo Yunde Semiconductor Materials Co ltd. Дата публикации: 2022-05-27.

Reaction chamber

Номер патента: US20060113486A1. Автор: James Paul,Edgar Dally. Владелец: Valence Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

Reaction chamber for vapor deposition process

Номер патента: WO2014036886A1. Автор: 孙仁君,左然,何晓崐,谭华强,叶芷飞,田益西. Владелец: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司. Дата публикации: 2014-03-13.

A kind of shielding construction for reaction chamber

Номер патента: CN104593735B. Автор: 佘清,吕铀. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-13.

Chemical vapor deposition apparatus capable of controlling discharging fluid flow path in reaction chamber

Номер патента: TW201114943A. Автор: Myung-Woo Han. Владелец: LIG ADP CO Ltd. Дата публикации: 2011-05-01.

Agglutinographic reaction chamber

Номер патента: GB2168808A. Автор: Hugh V Cottingham. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-06-25.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR

Номер патента: ITMI20082092A1. Автор: Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2010-05-25.

Agglutinographic reaction chamber

Номер патента: FR2589239A1. Автор: . Владелец: Cottingham Hugh. Дата публикации: 1987-04-30.

Improvements to the reaction chambers fed with granulated materials

Номер патента: FR1119179A. Автор: . Владелец: ACTIVIT. Дата публикации: 1956-06-15.

A kind of reaction chamber guiding device

Номер патента: CN107385417A. Автор: 黄维,陈志宽,郭鸿晨. Владелец: NANJING TECH UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-11-24.

Reaction chamber for bringing solid particles into contact with gases

Номер патента: FR1048102A. Автор: . Владелец: Standard Oil Development Co. Дата публикации: 1953-12-21.

Even gas structure of reaction chamber

Номер патента: CN114134486A. Автор: 郑亚新. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-03-04.

Reaction chamber system for processing samples

Номер патента: WO2004062806A1. Автор: Klaus-Günter EBERLE. Владелец: Hettlab Ag. Дата публикации: 2004-07-29.

Conductivity-based reaction chamber control

Номер патента: EP3775832A1. Автор: Alexander Govyadinov,Viktor Shkolnikov. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2021-02-17.

Flexible nozzle system for gas distribution plate of plasma reaction chamber

Номер патента: US20020084352A1. Автор: Chien-Wei Chen. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-04.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN112553594B. Автор: 何中凯. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-21.

Reaction chamber

Номер патента: EP4116467A1. Автор: Gang Xu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

A reaction chamber

Номер патента: CA2588844A1. Автор: James C. Paul,Edgar B. Dally. Владелец: Valence Corporation. Дата публикации: 2006-06-01.

Tilting Reaction-chamber for Superphosphate.

Номер патента: GB191422645A. Автор: Herbert William Hall. Владелец: Individual. Дата публикации: 1915-03-11.

Multistage hydrogeneration operation reaction chamber with intemediate flash section

Номер патента: CN100489067C. Автор: A.J.戴尔博格,J.F.梅尔. Владелец: Chevron USA Inc. Дата публикации: 2009-05-20.

Reaction chamber with auto experimental equipment of pollutant for evaluating indoor air pollutant

Номер патента: KR101255192B1. Автор: 정호철,김영섭,천영민,최항,문경환. Владелец: 천영민. Дата публикации: 2013-04-22.

Method for cell lysis and pcr within the same reaction chamber

Номер патента: US20130203120A1. Автор: Ingrid Hoffmann. Владелец: Roche Diagnostics Operations Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Bio-growth chamber with rotary motion and heating system and related methods

Номер патента: US12084644B1. Автор: Md Azizul Haque. Владелец: King Faisal University SA. Дата публикации: 2024-09-10.

METHOD FOR CELL LYSIS AND PCR WITHIN THE SAME REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130203120A1. Автор: Hoffmann Ingrid. Владелец: ROCHE DIAGNOSTICS OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2013-08-08.

Method of Using A Reaction Chamber for Beneficiation

Номер патента: US20170145331A1. Автор: Tait Carleton Drew,Scalzo Philip James. Владелец: BIOMASS ENERGY ENHANCEMENTS LLC. Дата публикации: 2017-05-25.

System and Method for Renewable Fuel Using Sealed Reaction Chambers

Номер патента: US20160160124A1. Автор: Strimling Jon. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

DISTRIBUTING LIGHT IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210187149A1. Автор: TAGHIPOUR Fariborz,Jalali Alireza,ADELI KOUDEHI Babak,SINGH Manoj. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

Plurality of Reaction Chambers in a Test Cartridge

Номер патента: US20150284771A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150284772A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150284773A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

Reaction chamber

Номер патента: US8999636B2. Автор: Rudolf Gilmanshin,Emilia Mollova,Vishal Patil. Владелец: Toxic Report LLC. Дата публикации: 2015-04-07.

HYDROCARBON CRACKING PROCESS AND DEVICE IMPLEMENTING TWO SUCCESSIVE REACTIONAL CHAMBERS

Номер патента: FR2811327B1. Автор: Marcelin Espeillac,Pierre Crespin. Владелец: Total Raffinage Distribution SA. Дата публикации: 2002-10-25.

Box with several reaction chambers and electrodes

Номер патента: ES2630010T3. Автор: Andreas WIRTH,Ludger Altrogge,Andreas Heinze,Timo Gleissner,Herbert Müller-Hartmann. Владелец: LONZA COLOGNE GMBH. Дата публикации: 2017-08-17.

Reaction chamber

Номер патента: WO2008085991A3. Автор: Rudolf Gilmanshin,Emilia Mollova,Vishal Patil. Владелец: Vishal Patil. Дата публикации: 2008-10-16.

REACTION CHAMBER AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION.

Номер патента: DE3851627D1. Автор: Albert E Ovias. Владелец: Advanced Semiconductor Materials America Inc. Дата публикации: 1994-10-27.

Fluid bed reactor with particle separator and reaction chamber

Номер патента: EP2284245A1. Автор: Peder Christian Stoholm. Владелец: Dong Energy Power AS. Дата публикации: 2011-02-16.

Reaction chamber for an epitaxial reactor

Номер патента: US7314526B1. Автор: Franco Preti,Vincenzo Ogliari,Giuseppe Tarenzi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2008-01-01.

Electron beam reaction chamber

Номер патента: GB2157140A. Автор: Warren J Ramler,Richard G Daigle. Владелец: RPC Industries. Дата публикации: 1985-10-16.

PREPARATION OF REACTION CHAMBERS WITH DRIED PROTEINS

Номер патента: US20140212985A1. Автор: Jacobs Antonius Johannes Josephus Maria. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2014-07-31.

Preparation of reaction chambers with dried proteins

Номер патента: EP2726874A1. Автор: Antonius Johannes Josephus Maria JACOBS. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2014-05-07.

Leaching chamber with locking swivel latch

Номер патента: US20230407619A1. Автор: Adam Miller. Владелец: Advanced Drainage Systems Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Engine exhaust reaction chamber

Номер патента: AU1683376A. Автор: S. Kajitani I. and Rosati Y Yamasaki. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-02-16.

Produce chamber with inflatable balloon seal

Номер патента: US8808776B2. Автор: Scott Andrew North,Gary Martin North. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-08-19.

Produce chamber with inflatable balloon seal

Номер патента: US20110244097A1. Автор: Scott Andrew North,Gary Martin North. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-06.

Fuel reaction chambers

Номер патента: US2869321A. Автор: Welch Douglas Francis,Randall Kenneth Barrington. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1959-01-20.

Centrifugal chamber with capsule positioning guide

Номер патента: AU2023252507A1. Автор: Gilles Gavillet,Rudolf Schenk,Marcel Fankhauser,Miguel GORTCHACOW. Владелец: Nestle SA. Дата публикации: 2024-09-05.

Engine assembly including combustion chambers with different port arrangements

Номер патента: US09752531B2. Автор: Alan W. Hayman. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2017-09-05.

Combustion chamber with wall cooling

Номер патента: WO2021115658A1. Автор: David Larsson,Magnus Sundholm,Daniel LOERSTAD,Frank Rubensdoerffer,Simon SVANSTROEM. Владелец: Siemens Energy Global GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2021-06-17.

Air chamber with adjustable element for regulation and/or directioning of the flow

Номер патента: EP4390265A1. Автор: Ondrej Ertl,Andrej Harsány. Владелец: Systemair Production AS. Дата публикации: 2024-06-26.

Combustion chamber with wall cooling

Номер патента: US12130015B2. Автор: David Larsson,Daniel Lorstad,Simon Svanström,Frank Rubensdörffer,Magnus Sundholm. Владелец: Siemens Energy Global GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-10-29.

Drying chamber with vapor emission through a vapor permeable partition

Номер патента: EP1660832A1. Автор: Sten Olof Zeilon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-31.

Drying chamber with vapor emission through a vapor permeable partition

Номер патента: WO2005015101A1. Автор: Sten Olof Zeilon. Владелец: Sten Olof Zeilon. Дата публикации: 2005-02-17.

Centrifugal chamber with capsule opening elements

Номер патента: AU2023253783A1. Автор: Gilles Gavillet,Marcel Fankhauser,Miguel GORTCHACOW,Mr. Rudolf SCHENK. Владелец: Nestle SA. Дата публикации: 2024-09-05.

Centrifugal beverage chamber with closure fastener

Номер патента: AU2023254439A1. Автор: Gilles Gavillet,Rudolf Schenk,Marcel Fankhauser,Miguel GORTCHACOW. Владелец: Nestle SA. Дата публикации: 2024-09-12.

Toroidal combustion chamber with side injection

Номер патента: US09482145B2. Автор: Robert Levy,Peter Hofbauer,Diana Brehob. Владелец: Ecomotors Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

FUSED QUARTZ GLASS REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS SYSTEMS, AND APPARATUS

Номер патента: US20200003715A1. Автор: Barney Jason Locke. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF FILM IN REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150025832A1. Автор: Chen Lu,Li Yousen,Zhang Chaoqian,Ma Yanzhong,Chen Zhehao,Tianxiao Lee Steven. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-22.

COMPACT AND SELECTIVE REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220057142A1. Автор: Bailey Robert,Marcotte Bryan,Socha Jeffrey,Poon King,Rossmeisl Mark. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

AUTOMATED STAINING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150111202A1. Автор: HARTMAN ANTHONY L.,BUI XUAN S.,FUJIMAKI TOSHIYUKI,TOKUDAIJI SHINJI,OKABE YOSHITAKE,MIZUSAWA YOSHITADA. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-23.

MONITORING OPERATION OF A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160258844A1. Автор: Conner William Tuttle,Tepermeister Igor. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-08.

METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING MATCHING PROCESS RESULTS AMONG MULTIPLE REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20200285790A1. Автор: ZHANG Jihong,FU Jinsheng. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-10.

Reaction chamber isolation check valve and gaseous fuel engine using same

Номер патента: US20020011232A1. Автор: Edward Gillis,Dan Ibrahim,Harold Ogg. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2002-01-31.

Device for introducing materials into a reaction chamber

Номер патента: CN1884914A. Автор: 汉诺·陶茨. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2006-12-27.

Current monitoring method and device for heating lamp and reaction chamber

Номер патента: CN110376416B. Автор: 苏运坤. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-27.

Flow control valve and reaction chamber pressure control device

Номер патента: CN110500429B. Автор: 赵迪,陈正堂,郑文宁. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-15.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: US20040217016A1. Автор: Tahir Khan. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2004-11-04.

Combustion chamber with splitter of compressed air stream

Номер патента: RU2243449C2. Автор: Харджит Сингх ХУРА. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2004-12-27.

INTERNAL COMBUSTION ENGINE WITH PERFECTED EXHAUST GAS REACTION CHAMBERS

Номер патента: FR2327399A1. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-06.

THERMOCOMPRESSOR USING A FREE PISTON FLOATING BETWEEN REACTION CHAMBERS.

Номер патента: NL7709236A. Автор: . Владелец: Schuman Mark. Дата публикации: 1978-03-01.

Apparatus for cleaning exhaust portion of chemical reaction chamber

Номер патента: KR100511525B1. Автор: 장덕현. Владелец: 주식회사 테라텍. Дата публикации: 2005-09-01.

INSULATED EXHAUST REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL168583C. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1982-04-16.

Reaction chamber for removing so 2 and no x from a stream of industrial flue gases by radiation

Номер патента: PL174442B1. Автор: Andrzej G. Chmielewski,Zbigniew Zimek. Владелец: Inst Fiziki Jadrowej. Дата публикации: 1998-07-31.

The public dry pail latrine reaction chamber temperature control method of ecology based on FPGA

Номер патента: CN110515405A. Автор: 肖夏,刘冠聪. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2019-11-29.

INSULATED EXHAUST REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL168583B. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1981-11-16.

PROCESS AND BURNER WITH REACTION CHAMBER FOR THE COMBUSTION OF GASEOUS FUELS AND SMOKE

Номер патента: BE814029R. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1974-08-16.

Bioluminescence reaction chamber

Номер патента: US3359973A. Автор: Duane G Hoffman. Владелец: Hazleton Laboratories Inc. Дата публикации: 1967-12-26.

Reaction chamber having pre-stored reagents

Номер патента: US8911938B2. Автор: Haim H. Bau,Michael G. Mauk,Do Young Byun,Dafeng Chen,Amanda W. Dyson,Sudhir Ramprasad. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2014-12-16.

EXHAUST ASSY WITH REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL164362B. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1980-07-15.

EXHAUST GAS REACTION CHAMBER DEVICE FOR A FOUR CYLINDER COMBUSTION ENGINE

Номер патента: DE2639362A1. Автор: Shuichi Yamazaki,Ikuo Kajitani. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1977-04-07.

Pyrolysis and reaction chamber for gas chromatography equipment

Номер патента: FR1464507A. Автор: Alfred Reichle,Martin Wandel,Heinrich Borger,Hubert Tengler. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1966-12-30.

Pressure regulating valve, pressure control valve and reaction chamber

Номер патента: CN111043327A. Автор: 赵迪,陈正堂,郑文宁. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-21.

A kind of industrial production sealing reaction chamber

Номер патента: CN107860219A. Автор: 黎英姿. Владелец: City Changsha Machinery Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-30.

Device for inserting thermoelectric elements into pressurized reaction chambers

Номер патента: FR1334739A. Автор: . Владелец: Heinrich Koppers GmbH. Дата публикации: 1963-08-09.

Combustion gun with reaction chamber

Номер патента: CN212618273U. Автор: 彭程,朱锐斌,朱湛斌. Владелец: Guangzhou Thomson Electric Co ltd. Дата публикации: 2021-02-26.

Reaction chamber

Номер патента: MY158608A. Автор: Yoshihiro Nakatani. Владелец: Sumitomo Heavy Industries. Дата публикации: 2016-10-31.

Brake chamber with spring-type power accumulator

Номер патента: RU2495772C2. Автор: Владимир Николаевич Цехан. Владелец: Владимир Николаевич Цехан. Дата публикации: 2013-10-20.

Packing Material for Gas Purifiers or Washers, Condensers, Reaction Chambers, Hot-blast Stoves or the like

Номер патента: GB190721346A. Автор: Hugo Petersen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-08-20.

Chamber with demountable printer

Номер патента: RU2344451C2. Автор: Киа СИЛВЕРБРУК,Тобин Аллен КИНГ. Владелец: Силвербрук Рисерч Пти, Лтд.. Дата публикации: 2009-01-20.

Brake chamber with membrane energy accumulator and brake retraction mechanism

Номер патента: RU2457125C2. Автор: . Владелец: Мамончик Александр Ильич. Дата публикации: 2012-07-27.

Vacuum reaction chamber

Номер патента: TW430112U. Автор: Jen-Shiang Fang,Hau-Wei Jang,Jin-Kuen Jung. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-04-11.

Air release valve for vacuum cavity of cold plasma vacuum reaction chamber

Номер патента: CN214743369U. Автор: 吴军,吴萍,朱劼. Владелец: Changzhou Hanjie Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-16.

Method for preventing powder in pipeline from flowing backward into a vacuum reaction chamber

Номер патента: TW434666B. Автор: Dung-Sung Li,Chung-Ye Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

High vacuum reaction device of double-layer glass reaction kettle

Номер патента: CN210815119U. Автор: 陈冬恩,贤少赟,靳跃双. Владелец: Tianjin Yaotech Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

A kind of vacuum reaction kettle for being easily installed dismounting

Номер патента: CN207385413U. Автор: 施旭晓. Владелец: Zhejiang Ldk Environmental Protection Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Converted starch vacuum reaction system

Номер патента: CN203971882U. Автор: 乐晓旺,刘雷震,温费申,彭代红. Владелец: JIANGXI HONGXING MODISTAR INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-03.

Vacuum reaction kettle for producing special chemical products

Номер патента: CN215540674U. Автор: 张凤艳. Владелец: Harbin Liante Technology Development Co ltd. Дата публикации: 2022-01-18.

Temperature control type vacuum reaction kettle

Номер патента: CN216024729U. Автор: 吕冬福,黄云飞,黄银龙,项连根,管根华,杨佳畏. Владелец: Zhejiang Nopalry Chemical Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-03-15.

Vacuum reaction kettle for recycling tributyltin chloride

Номер патента: CN210009934U. Автор: 刘美芳,姜盼盼. Владелец: Nantong Haotai Chemical Products Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-04.

Reaction chamber cover plate and reaction chamber with same

Номер патента: CN202307825U. Автор: 张晓红,吴仪,裴立坤,昝威. Владелец: Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Improvements in or relating to Packing Material for Reaction Chambers, Towers or the like

Номер патента: GB190715406A. Автор: Hugo Petersen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-06-18.

CORNER CHAMBER WITH HEATER

Номер патента: US20120003062A1. Автор: Chen Jinliang,Taburaza Noe D.. Владелец: WD Media, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Reaction chamber with protector

Номер патента: CN210163521U. Автор: 南建辉,王祎,丁建,庞云玲. Владелец: Shenzhen Yongshenglong Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-20.

Reaction chamber with external heating mode for metal organic chemical vapor deposition system

Номер патента: CN102121098A. Автор: 陈国荣,刘晓萌,莫晓亮,龚大卫. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2011-07-13.

Reaction Chamber of an Epitaxial Reactor and Reactor That Uses Said Chamber

Номер патента: US20120027646A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-02.

REACTION CHAMBER ARRANGEMENT AND A METHOD FOR FORMING A REACTION CHAMBER ARRANGEMENT

Номер патента: US20130164566A1. Автор: Elian Klaus. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-06-27.

Chamber top cover and reaction chamber containing said top cover

Номер патента: CN101207034B. Автор: 张风港. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-19.

Deposition method for preventing sparking generation in reaction chamber and reaction chamber thereof

Номер патента: CN104746024A. Автор: 侯珏. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: TWI235832B. Автор: Tahir S Khan. Владелец: Lifescan Inc. Дата публикации: 2005-07-11.

Reaction chamber

Номер патента: CA414320A. Автор: J. Hall Homer,Menshih Nicholas. Владелец: Standard Oil Development Co. Дата публикации: 1943-08-03.

Method for reducing defect sources in a high-density plasma reaction chamber

Номер патента: TW434737B. Автор: Shin-Kuen Ju. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Electrocoagulation reaction chamber and method

Номер патента: AU2002340157A1. Автор: F. William Gilmore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-22.

Valve structure for wafer reaction chamber

Номер патента: TWM242623U. Автор: Wei-Yue Wu. Владелец: Wei-Yue Wu. Дата публикации: 2004-09-01.

Plasma reaction chamber and process of dry etching

Номер патента: TW200428514A. Автор: Chun-Wei Chen,Yi-Hsiung Lin,Hong-Long Chang,Shih-Kun Kuo. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2004-12-16.

Sealing ring used in wafer reaction chamber

Номер патента: TWM257007U. Автор: Wei-Yue Wu. Владелец: Hung Cheng Latex Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-11.

Improvements in and relating to fuel reaction chambers

Номер патента: AU2430454A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-18.

Improvements in and relating to mono-fuel reaction chambers

Номер патента: AU162228B2. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-11.

Improvements in and relating to fuel reaction chambers

Номер патента: AU162229B2. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-18.

Reaction chamber temperature controlling apparatus

Номер патента: CA380219A. Автор: August Aicher Alfred. Владелец: ROBINSON BINDLEY PROCESSES Ltd. Дата публикации: 1939-03-21.

Catalytic reaction chamber for gravity-flowing catalyst particles

Номер патента: ZA784486B. Автор: R Millar,R Jensen,P Persico. Владелец: Uop Inc. Дата публикации: 1979-07-25.

Method of and apparatus for controlling the temperature of exothermic reaction chambers

Номер патента: AU537736A. Автор: Arct sr Aicher. uf England Alfred. Владелец: Robixkox Bixby Ky Processes Ltd. Дата публикации: 1937-08-12.

Method of and apparatus for controlling the temperature of exothermic reaction chambers

Номер патента: AU101714B2. Автор: Arct sr Aicher. uf England Alfred. Владелец: Robixkox Bixby Ky Processes Ltd. Дата публикации: 1937-08-12.

Improvements in and relating to fuel supply systems for reaction chambers

Номер патента: AU216154A. Автор: Barrington Randall. George Tabberer Kenneth. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1955-02-10.

Improvements in and relating to fuel supply systems for reaction chambers

Номер патента: AU200758B2. Автор: Barrington Randall. George Tabberer Kenneth. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1955-02-10.

Method of reducing the sediment for reaction chamber

Номер патента: TW200623202A. Автор: Jen-Yu Juo,Bing-Yun Suen,Ming-Jeng Liu. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-07-01.

Alignment method for wafer delivery in reaction chamber

Номер патента: TW563219B. Автор: Yu-Yi Wu,Kuen-Yi Chen,Shan-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2003-11-21.

Improvements in and relating to mono-fuel reaction chambers

Номер патента: AU2415054A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-11.

Method and device for forming stacked ONO structured dielectric layers in one reaction chamber

Номер патента: TWI241680B. Автор: Kuan-Ting Lin,Chia-Chang Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-10-11.

Catalytic reaction chamber

Номер патента: JPS5528702A. Автор: Jiyosefuaa Perushiko Pooru,Hiyuu Jiensen Robaato,Furedoritsuku Miraa Robaato. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1980-02-29.

Precast mould with shifted out reaction chamber for thermoaluminium welding

Номер патента: CS231394B1. Автор: Štefan Janíčko,Katarína Janíčková. Владелец: Katarína Janíčková. Дата публикации: 1984-11-19.

Immuno reaction chambers

Номер патента: GB8822634D0. Автор: . Владелец: Spitz G E. Дата публикации: 1988-11-02.

Method of reducing the sediment for reaction chamber

Номер патента: TWI253100B. Автор: Jen-Yu Juo,Ming-Jeng Liu,Bing-Yun Sucn. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-04-11.

Improvements in Traps for use in Drains & in Chambers with Non-return Valves for like use and other Purposes.

Номер патента: GB190320628A. Автор: Charles Percival Grundy. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-09-22.

Non-Contact Radiant Heating and Temperature Sensing Device for a Chemical Reaction Chamber

Номер патента: US20120052564A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-01.

Microfluidic reactor having an annular reaction chamber

Номер патента: US20120071647A1. Автор: LADE Oliver,Steckenborn Arno. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-22.

ENCLOSED ROTOR-BASED CAVITATIONAL AND CATALYTIC FLOW-THROUGH REACTION CHAMBER

Номер патента: US20120124894A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-05-24.

SYSTEMS AND METHODS FOR PRODUCING AN EVAPORATION BARRIER IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20120288866A1. Автор: Ching Jesus,KOZMA Lynn,FAIRCHILD Maureen. Владелец: GENTURADX, INC.. Дата публикации: 2012-11-15.

SEGMENTED REACTION CHAMBER FOR RADIOISOTOPE PRODUCTION

Номер патента: US20120300890A1. Автор: Piefer Gregory,Mackie Thomas Rockwell. Владелец: SHINE MEDICAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-11-29.

DEPOSITION SYSTEMS INCLUDING A PRECURSOR GAS FURNACE WITHIN A REACTION CHAMBER, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20130047918A1. Автор: Bertram,JR. Ronald Thomas,Landis Michael. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2013-02-28.

DEPOSITION SYSTEMS HAVING REACTION CHAMBERS CONFIGURED FOR IN-SITU METROLOGY AND RELATED METHODS

Номер патента: US20130052333A1. Автор: Lindow Ed,Bertram Ronald,Canizares Claudio. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2013-02-28.

DEVICE FOR SEQUENTIALLY DISPENSING LIQUID REAGENTS TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130109082A1. Автор: Quinn Edward John,Webster Simon,Smith David Alistair,Harrand Robert. Владелец: AVACTA LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

SEMICONDUCTOR REACTION CHAMBER SHOWERHEAD

Номер патента: US20140103145A1. Автор: White Carl,Shero Eric,Dunn Todd,Fondurulia Kyle. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2014-04-17.

Coating method for reaction chamber of CVD apparatus

Номер патента: JP3471082B2. Автор: 加一 福田. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-11-25.

Graphite disc and reaction chamber

Номер патента: CN217077782U. Автор: 向鹏. Владелец: Enkris Semiconductor Inc. Дата публикации: 2022-07-29.

Plasma reaction chamber pretreatment method

Номер патента: CN101643895B. Автор: 张海洋,孙武,王新鹏,尹晓明. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

A kind of plasma-reaction-chamber and its electrostatic chuck

Номер патента: CN104112638B. Автор: 左涛涛,吴狄,张亦涛,彭帆. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for increasing use ratio of heat treatment reaction chamber

Номер патента: CN101685766B. Автор: 赵星,桂远远. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2011-09-07.

A kind of inlet duct and reaction chamber

Номер патента: CN104651838B. Автор: 刘凯. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Reaction chamber for irradiator

Номер патента: SU997792A1. Автор: Александр Петрович Мерзликин. Владелец: Предприятие П/Я Р-6601. Дата публикации: 1983-02-23.

Reaction chamber and plasma processing device

Номер патента: CN104746043B. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-13.

Rotating connection assembly for trays and reaction chamber employing same

Номер патента: CN105575860A. Автор: 刘凯. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-11.

Reaction chamber and epitaxial growth equipment

Номер патента: CN104233233A. Автор: 蒲春. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-24.

Spray head and vapor-deposition reaction chamber

Номер патента: CN103409731A. Автор: 林翔,乔徽,黄允文,谭华强,苏育家. Владелец: Light Base Photoelectric Technology (shanghai) Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-27.

Ion implantation arc reaction chamber

Номер патента: CN202332780U. Автор: 许鹖. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2012-07-11.

Reaction chamber lifting device

Номер патента: CN211644512U. Автор: 黄剑锋,谢杰,谢龙旭,蔡雪青,翁丹容. Владелец: Guangzhou Hybribio Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-10-09.

The cleaning method of reaction chamber

Номер патента: CN105336643B. Автор: 王京,谢秋实. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-18.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: IL150669A. Автор: . Владелец: Lifescan Inc. Дата публикации: 2007-06-03.

Reaction chamber and air flow control method

Номер патента: CN103160814A. Автор: 姜勇,何乃明. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2013-06-19.

Reaction chamber and plasma equipment with same

Номер патента: CN103972012A. Автор: 杨玉杰,吕铀. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-06.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: AU2002300361A1. Автор: Tahir S. Khan. Владелец: Lifescan Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Reaction chamber for studying a solid-gas interaction

Номер патента: GB201001307D0. Автор: . Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2010-03-17.

Bearing device and reaction chamber

Номер патента: CN109872965B. Автор: 兰云峰,王勇飞,王洪彪. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-11.

Lower electrode arrangement and reaction chamber

Номер патента: CN109767968A. Автор: 崔咏琴. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-17.

Multiple spray header chemical vapor deposition reaction chamber structure

Номер патента: CN101560650B. Автор: 左然. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2011-01-05.

Base installation component, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN109755151B. Автор: 孙宝林. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-17.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: CN105762095A. Автор: 王福来. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-13.

A kind of masking disc transport apparatus and reaction chamber

Номер патента: CN105470181B. Автор: 徐桂玲. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-19.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105762095B. Автор: 王福来. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-24.

System and method for controlling batches in layers of reaction chamber

Номер патента: CN100422888C. Автор: 陈建中,林明昌,萧世宗,许家诚. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Method for detecting temperature distribution of wafer in reaction chamber

Номер патента: CN101286466A. Автор: 王雷,张炳一. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Reaction chamber for epitaxial process and epitaxial equipment

Номер патента: CN213144954U. Автор: 赵万辉. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-07.

For the combination base type electromagnetic heater of MOCVD reaction chamber

Номер патента: CN103614709B. Автор: 李志明,李海玲. Владелец: University of Jinan. Дата публикации: 2015-10-07.

Double-wavelength radial mobile colorimetric temperature measuring meter used for MOCVD reaction chamber

Номер патента: CN203349936U. Автор: 方文卿,杨超普,刘苾雨. Владелец: Nanchang University. Дата публикации: 2013-12-18.

Reaction chamber

Номер патента: CN103074599A. Автор: 梁秉文. Владелец: GUANGDA PHOTOELECTRIC EQUIPMENT TECHNOLOGY (JIAXING) CO LTD. Дата публикации: 2013-05-01.

Reaction chamber and semiconductor processing device

Номер патента: CN101740340A. Автор: 张风港. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-16.

Multi-reaction-chamber CVD furnace

Номер патента: CN213447294U. Автор: 张峰,刘汝强,王殿春,周清波,吴思华. Владелец: Shandong Guojing New Material Co ltd. Дата публикации: 2021-06-15.

For the inlet duct of semiconductor equipment and using its reaction chamber

Номер патента: CN105448770B. Автор: 罗巍,符雅丽,陈永远. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Reaction chamber signal detection fibre-optical splice fastener

Номер патента: CN206594339U. Автор: 张德培. Владелец: Shanghai Betone Semiconductor Energy Technology Co ltd. Дата публикации: 2017-10-27.

Electrochemical test bar with multi-reaction chamber and using method thereof

Номер патента: CN1469117A. Автор: T・S・坎,T·S·坎. Владелец: Lifescan Inc. Дата публикации: 2004-01-21.

Reaction chamber and there is its plasma apparatus

Номер патента: CN103887137B. Автор: 郑金果. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Electrode plate and reaction chamber for medium and low frequency plasma processing equipment

Номер патента: CN102082063B. Автор: 朱桂林. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-26.

Bear device, "The reaction chamber" and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN205944058U. Автор: 栾大为. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-08.

A kind of reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105336559B. Автор: 李璐. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Method for removing residual halogen elements from reaction chamber components

Номер патента: JP2654652B2. Автор: 彰典 岩崎. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 1997-09-17.

Reaction chamber and coating equipment

Номер патента: CN210420140U. Автор: 张兴,孙红霞,李建勇,潘世荣. Владелец: Lingfan New Energy Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Method for calibrating epitaxial reaction chamber temperature

Номер патента: CN101399163B. Автор: 徐伟中,王剑敏. Владелец: Shanghai Hua Hong NEC Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-11.

Plasma etching reaction chamber

Номер патента: CN210349767U. Автор: 林俊成,郑耀璿,陈英信. Владелец: Xintianhong (xiamen) Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-17.

Technique for reducing particle in reaction chamber

Номер патента: CN101154559A. Автор: 汪钉崇,林忠明,蓝受龙. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2008-04-02.

Method for carrying out leak detection to process reaction chamber

Номер патента: CN102427044A. Автор: 王科,许隽,顾梅梅,侯多源. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-04-25.

Pallet rotary mechanism and reaction chamber

Номер патента: CN208308958U. Автор: 周志文. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Reaction chamber and plasma processing device

Номер патента: CN104637837B. Автор: 张风港. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-01.

Reaction chamber device and there is its substrate processing equipment

Номер патента: CN103031540B. Автор: 周卫国. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.

Top cover of reaction chamber for epitaxial growth of silicon carbide

Номер патента: CN203462174U. Автор: 赵建辉,冯淦. Владелец: Epiworld International Co ltd. Дата публикации: 2014-03-05.

Etching reaction chamber

Номер патента: CN203800029U. Автор: 顾琛. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2014-08-27.