Reaction chamber lining.

Reaction chamber lining

Номер патента: US12112923B2
Опубликовано: 08-10-2024
Автор(ы): Chengyi Wang, Dongdong HU, Haiyang Liu, Kaidong Xu, NA Li, Shiran CHENG, Yonggang HOU, Zhaochao CHEN
Принадлежит: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Reaction chamber lining

Номер патента: US20210398781A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Chengyi Wang,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu,Yonggang HOU,Zhaochao CHEN. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Lower electrode mechanism and reaction chamber

Номер патента: US11410833B2. Автор: Yahui Huang,Gang Wei,Yicheng Li,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-09.

Lower electrode mechanism and reaction chamber

Номер патента: US20200321198A1. Автор: Yahui Huang,Gang Wei,Yicheng Li,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

PLASMA ETCHING REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190244787A1. Автор: CHIU Hsin-Chih,Wang Chun-Fu,CHEN YI-HSIANG,Cheng Yao-Syuan,Huang Zhi Kai,Ho Mu-Chun,Chou Wei-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-08.

LOWER ELECTRODE MECHANISM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200321198A1. Автор: Wei Gang,HUANG Yahui,LI Yicheng,MAO Xingfei. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-08.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN109087841A. Автор: 李璐. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-25.

Lining and reaction chamber

Номер патента: CN111383896A. Автор: 刘辉,陈国动. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

REACTION CHAMBER AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170011938A1. Автор: Wei Gang,LI Xingcun,GUAN Changle,Li Dongsan,QIU Mingda,ZHAO Longchao,SONG Mingming. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-01-12.

Semiconductor reaction chamber and atomic layer plasma etching equipment

Номер патента: KR20220162772A. Автор: 강 웨이,싱페이 마오,마사야 오다기리,구오동 천. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-12-08.

Isolation apparatus of reaction chamber and quartz tube, and control method thereof

Номер патента: CN104916517A. Автор: 包中诚,巴文林. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2015-09-16.

Plasma reaction chamber.

Номер патента: DE69113231T2. Автор: Stephen L Kaplan,Peter W Rose. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1996-02-22.

Systems and methods for stabilizing reaction chamber pressure

Номер патента: US12098460B2. Автор: Eiichiro Shiba. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-24.

Method and apparatus for cleaning a reaction chamber

Номер патента: FI131079B1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi,Veli-Matti Rissa. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-09-09.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: EP4304772A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: AU2022234467A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma chamber with ancillary reaction chamber

Номер патента: CA3212953A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III,John Joseph REHAGEN. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2022-09-15.

Sputtering reaction chamber and process assembly of sputtering reaction chamber

Номер патента: US20230055006A1. Автор: Bing Li,Keke Zhao,Liren HAN,Lixin PEI,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Sputtering reaction chamber and process assembly of sputtering reaction chamber

Номер патента: US11952653B2. Автор: Bing Li,Keke Zhao,Liren HAN,Lixin PEI,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US11715632B2. Автор: Xingcun LI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-01.

Electrode structure for use in a reaction chamber

Номер патента: WO2013024313A1. Автор: Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2013-02-21.

Carrier device and semiconductor reaction chamber

Номер патента: US20230274917A1. Автор: Xingfei MAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Method of cleaning and conditioning plasma reaction chamber

Номер патента: EP1252361A1. Автор: Duane Outka,Brett C. Richardson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-10-30.

Faceplate for supplying gas to reaction chamber, and reaction chamber

Номер патента: JP4371442B2. Автор: アレックススクレイバー,ジュンゾオ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-25.

Process assembly of sputtering reaction chamber and sputtering reaction chamber

Номер патента: KR20220110831A. Автор: 빙 리,구어동 비엔,리런 한,커커 자오,리신 페이. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-08-09.

Sputtering reaction chamber processing component and sputtering reaction chamber

Номер патента: EP4108802A4. Автор: Bing Li,Keke Zhao,Liren HAN,Lixin PEI,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Reaction chamber and semi-conductor processing device

Номер патента: US09978570B2. Автор: Peng Chen,qing She,Yanzhao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Temperature controlled reaction chamber

Номер патента: US12125684B2. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-22.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: US20240344197A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-17.

Reaction chamber

Номер патента: US11773505B2. Автор: Gang Xu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Method of cleaning and conditioning plasma reaction chamber

Номер патента: TW487988B. Автор: Duane Outka,Brett C Richardson. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-05-21.

Device and method for monitoring the spacing between reaction sustaining electrodes in a reaction chamber

Номер патента: JP2500057B2. Автор: ティナ・ジェーン・コッツラー,ジョン・カート・フォースター,ローレンス・アンドリュー・ロップ,ヨシ・シン. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-05-29.

PLASMA CHAMBER WITH ANCILLARY REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220293400A1. Автор: LEONARD,III George Stephen,McClelland Stefan Andrew,Rehagen John Joseph,Koo Jae Mo. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-15.

Plasma reaction chamber having multi arrayed vacuum chamber and substrate processing system having the same

Номер патента: KR100596466B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2006-07-05.

Chamber intake structure and reaction chamber

Номер патента: JP7179972B2. Автор: ▲剛▼ 徐,波 ▲鄭▼,振国 ▲馬▼,▲軍▼ ▲張▼. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-29.

Chamber air intake structure and reaction chamber

Номер патента: TW202025351A. Автор: 鄭波,張軍,馬振國,徐剛. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2020-07-01.

Replaceable upper chamber section of plasma reaction chamber

Номер патента: TWM400087U. Автор: Singh Harmeet,J Sharpless Leonard,S Kang Michael. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-03-11.

Method for texturing the surface of a crystalline silicon layer and associated reaction chamber

Номер патента: EP3748695A1. Автор: Erik Johnson,Pere Roca I Cabarrocas,Wanghua Chen. Владелец: Institut Photovoltaique dIle de France IPVF. Дата публикации: 2020-12-09.

Method for texturing the surface of a crystalline silicon layer and associated reaction chamber

Номер патента: WO2020245419A1. Автор: Erik Johnson,Pere Roca I Cabarrocas,Wanghua Chen. Владелец: TOTAL SE. Дата публикации: 2020-12-10.

Imr-ms reaction chamber

Номер патента: EP3776629A1. Автор: Alfons Jordan. Владелец: Ionicon Analytik GmbH. Дата публикации: 2021-02-17.

Method for in situ cleaning of mocvd reaction chamber

Номер патента: US20140083453A1. Автор: Yang Wang,Ying Zhang,Shuang Meng,Haruhisa Takiguchi,Gerald Zheyao Yin,Songlin Xu,Zhiyou Du,Ban Zhu. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2014-03-27.

SYSTEM AND METHOD FOR PULSE MODULATION OF RADIO FREQUENCY POWER SUPPLY AND REACTION CHAMBER THEREOF

Номер патента: US20210066041A1. Автор: Wei Jing,Yang Jing,Wei Gang. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

AUXILIARY DEVICE FOR PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PECVD) REACTION CHAMBER AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20180073145A1. Автор: CHANG Yu-Shun. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190074164A1. Автор: LI Xingcun. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-07.

TEMPERATURE CONTROLLED REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220301829A1. Автор: Yoshikawa Jun. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-22.

CLEANING APPARATUS FOR AN EXHAUST PATH OF A PROCESS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190180990A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su,CHU Min Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

CLEANING APPARATUS FOR AN EXHAUST PATH OF A PROCESS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20170221683A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su,CHU Min Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Method For Cleaning Reaction Chamber Using Pre-cleaning Process

Номер патента: US20140345644A1. Автор: Fukazawa Atsuki,Okabe Tatsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

SHIELD COOLING ASSEMBLY, REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210351016A1. Автор: Li Bing,CHANG Qing,BIAN Guodong. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-11.

SEMICONDUCTOR REACTION CHAMBER SHOWERHEAD

Номер патента: US20200279721A1. Автор: White Carl,Shero Eric,Dunn Todd,Fondurulia Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-03.

Determining presence of conductive film on dielectric surface of reaction chamber

Номер патента: US20150364300A1. Автор: Federico Galli. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Faraday shield and reaction chamber

Номер патента: CN107301943A. Автор: 刘建生,陈鹏,张璐,贾强,丁培军,宋巧丽,徐奎,王文章,常大磊,姜鑫先,苏振宁. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-27.

Induction coil set and reaction chamber

Номер патента: KR102435254B1. Автор: 강 웨이,징 양,첸 니우,헝이 수. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-08-23.

Temperature control device for reaction chamber

Номер патента: KR200157366Y1. Автор: 정우혁. Владелец: 엘지반도체주식회사. Дата публикации: 1999-09-15.

Shielding disc system, reaction chamber and semiconductor processing device

Номер патента: CN106571284A. Автор: 陈春伟. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-19.

Method and device for preventing forming of polymer in exhaust pipe of cvd reaction chamber

Номер патента: CN101535525B. Автор: D·K·卡尔森. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-12-19.

A kind of pedestal and reaction chamber

Номер патента: CN107180782A. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Reaction chamber design to minimize particle generation in chemical vapor deposition reactors

Номер патента: KR100190951B1. Автор: 태판 제임스이,야스다 아더케이,데니슨 딘알,문트 랜달에스. Владелец: 리차드 에이치. 로브그렌. Дата публикации: 1999-06-15.

Radio-frequency coil, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN110491761A. Автор: 牛晨. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-22.

Side gas injector for plasma reaction chamber

Номер патента: CN102034666A. Автор: 金起铉,朴根周,金珉植,高诚庸,蔡焕国,李元默. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-27.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: TWI685913B. Автор: 卡爾懷特,泰德杜恩,艾瑞克席羅,凱勒方杜魯利亞. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股公司. Дата публикации: 2020-02-21.

Determining presence of conductive film on dielectric surface of reaction chamber

Номер патента: TW201612955A. Автор: Federico Galli. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2016-04-01.

Reaction chamber with at least one hf feedthrough

Номер патента: EP1273027A1. Автор: Gerd Strauch,Holger Jurgensen,Johannes Käppeler,Walter Franken. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2003-01-08.

PLASMA REACTION CHAMBER WITH CONDUCTING DIAMOND-COATED SURFACES

Номер патента: DE69024504D1. Автор: Douglas Downey,James Liporace. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-02-08.

Silicon parts having reduced metallic impurity concentration for plasma reaction chambers

Номер патента: US6846726B2. Автор: Daxing Ren,Jerome S. Hubacek,Nicholas E. Webb. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-25.

Reaction chamber and capacitance coupling plasma equipment

Номер патента: CN107578977A. Автор: 陈鹏,丁培军,刘菲菲,王文章. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-12.

Plasma Reaction Chamber with Adaptive Plasma Source

Номер патента: KR101063319B1. Автор: 김남헌. Владелец: 에이피티씨 주식회사. Дата публикации: 2011-09-07.

Side gas injector for plasma reaction chamber

Номер патента: KR101095172B1. Автор: 김기현,김민식,박근주,이원묵,고성용,채환국. Владелец: 주식회사 디엠에스. Дата публикации: 2011-12-16.

Plasma reactor with reduced reaction chamber

Номер патента: WO2002033729A3. Автор: Steven T Fink. Владелец: Steven T Fink. Дата публикации: 2002-08-01.

Reaction chamber and plasma apparatus

Номер патента: US20210272778A1. Автор: Wei Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Bogey and reaction chamber

Номер патента: CN108807254A. Автор: 师帅涛,赵梦欣,史全宇. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

Method for replacing electrode assembly of plasma reaction chamber

Номер патента: CN100585794C. Автор: J·利勒兰德,J·S·哈巴塞克,W·S·肯尼迪,R·A·马拉斯钦. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-01-27.

Reaction chamber and plasma equipment

Номер патента: JP7093464B2. Автор: 偉王. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-29.

Plasma reactor with reduced reaction chamber

Номер патента: US20030209324A1. Автор: Steven Fink. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-11-13.

Plasma reactor electrode, method of forming a plasma reactor electrode, and plasma reaction chamber

Номер патента: TW583898B. Автор: Michael Barnes,David Palagashvili. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-04-11.

Upper electrode assembly, reaction chamber and atomic layer deposition device

Номер патента: TW202003906A. Автор: 李春雷,史小平,王洪彪,蘭雲峰,王勇飛. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2020-01-16.

Bearing device and reaction chamber

Номер патента: CN108807254B. Автор: 师帅涛,赵梦欣,史全宇. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-29.

Guard ring assembly for a plasma reaction chamber in semiconductor substrate processing, electrode assembly including the same, and method for centering the same

Номер патента: TWI424492B. Автор: Daniel Brown,Victor Wang,Keith Comendant,Dean J Larson. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2014-01-21.

Protective coating for semiconductor reaction chamber

Номер патента: CN115298796A. Автор: 雷切尔·巴策尔,达斯汀·扎卡里·奥斯丁,阿隆·加纳尼,阿希尔·辛格哈尔. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-11-04.

Reaction chamber with at least one hf feedthrough

Номер патента: KR20020092394A. Автор: 케펠러요하네스,슈트라우흐게르트,프랑켄발터,위르겐젠홀거. Владелец: 아익스트론 아게. Дата публикации: 2002-12-11.

Liner assembly, reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG11202104119PA. Автор: Yue Lan,LU Zhang,Jue HOU,Jiansheng Liu,qing She. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-28.

Electrode structure for using in reaction chamber

Номер патента: HUP1100438A2. Автор: Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2013-02-28.

Method of cleaning MOCVD reaction chamber in situ

Номер патента: TWI535884B. Автор: Yang Wang,Ying Zhang,Shuang Meng. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-01.

Plasma reaction chamber liner comprising ruthenium

Номер патента: US7131391B2. Автор: Li Li,Max F. Hineman. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-11-07.

Photon induced cleaning of a reaction chamber

Номер патента: US20090173359A1. Автор: Dries Dictus. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2009-07-09.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: FI20215853A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-02-14.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: EP4384649A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-06-19.

Semiconductor processing device, reaction chamber thereof, and film layer deposition method

Номер патента: EP4249633A1. Автор: Yunfeng LAN,Fang Zhang,Huanyu Wang,Wenqiang Zhang,Haifeng Qin,Shuaitao SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Reaction chamber for deposition of a semiconductor layer on the plurality substrates in batches

Номер патента: EP2744925A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2014-06-25.

Semiconductor reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230223280A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Semiconductor reaction chamber

Номер патента: US20230230803A1. Автор: Wei Wang,Guodong Chen,Gang Wei,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Reaction chamber component, deposition apparatus provided with such component and method of protecting such component

Номер патента: US20240084446A1. Автор: Christiaan Werkhoven,Ivo Johannes Raaijmakers,Loke Yuen WONG,Iordan Iordanov,Osama Khalil. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-14.

Reaction chamber arrangement and a method for forming a reaction chamber arrangement

Номер патента: US20130164566A1. Автор: Klaus Elian. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-06-27.

Combined epitaxial growth system having multiple reaction chambers, operation method, device, and manufactured chip and application thereof

Номер патента: US20230387349A1. Автор: Bingfeng Fan,Zekai Hong. Владелец: Foshan University. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber

Номер патента: US09790595B2. Автор: Sung-hoon Jung,Petri Raisanen,Eric Jen Cheng Liu,Mike Schmotzer. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-17.

LINER, REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT

Номер патента: US20210193434A1. Автор: CHANG Kai,ZHAO Jinrong. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

MAGNETRON DRIVE MECHANISM, MAGNETRON ASSEMBLY AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200203135A1. Автор: Zhao Mengxin,HOU Jue,SHE Qing,WEI Jingfeng. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: TWI727477B. Автор: 侯玨. Владелец: 北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2021-05-11.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN107731650B. Автор: 陈鹏,郭浩,赵梦欣,郑金果,侯珏,丁培军,杨敬山. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-29.

Reaction chamber for processing semiconductor substrates with gas flow control capability

Номер патента: US20230411176A1. Автор: Arun THOTTAPPAYIL,Dongrak Jeong. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US12094936B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-17.

An injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: EP4446463A2. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-16.

Method for controlling the temperature of the walls of a reaction chamber during processing

Номер патента: US6083323A. Автор: David K. Carlson,Norma Riley,Roger N. Anderson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: WO2020264464A8. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang Yuh Chen. Владелец: eJoule, Inc.. Дата публикации: 2022-02-03.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20240075451A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: eJoule Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Fixtures and methods for positioning process kit components within reaction chambers

Номер патента: US20220243324A1. Автор: Kihyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-04.

Reaction chamber, atomic layer deposition apparatus and method

Номер патента: FI20225272A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-10-01.

System and apparatus for a reaction chamber

Номер патента: US20240076778A1. Автор: Michael Schmotzer,Jessica Akemi Cimada da Silva. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Reaction chamber, atomic layer deposition apparatus and a method

Номер патента: WO2023187257A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-10-05.

Modular reaction chamber

Номер патента: US20230108280A1. Автор: Jianqiu HUANG,Ruchik Bhatt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Reaction chamber for the decontamination of articles of clothing and equipment

Номер патента: CA2117839C. Автор: Norbert Klein,Paul Hellmuth,Michael Theis. Владелец: Dornier GmbH. Дата публикации: 2004-05-25.

Formation of oxynitride and polysilicon layers in a single reaction chamber

Номер патента: US5998270A. Автор: Mark I. Gardner,Mark C. Gilmer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-12-07.

Pre-lithiation reaction chamber apparatus

Номер патента: US11967699B2. Автор: Oh-Byong CHAE,Seung-Hae HWANG,Ye-Ri Kim. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Pre-lithiation reaction chamber apparatus

Номер патента: US20220085349A1. Автор: Oh-Byong CHAE,Seung-Hae HWANG,Ye-Ri Kim. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Conditioning of a reaction chamber

Номер патента: US20060202394A1. Автор: Steven Ott,Bill Crane,William Polinsky,John Gonzales. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-14.

Reaction chamber passivation and selective deposition of metallic films

Номер патента: US09803277B1. Автор: Han Wang,SHANG Chen,Qi Xie,Jan Willem Maes,Dai Ishikawa,Toshiharu Watarai,Delphine Longrie,Antti Juhani Niskanen,Takahiro Onuma,Kunitoshi Namba. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-31.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: US20240026536A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-01-25.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: FI20215378A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-05-13.

Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber

Номер патента: WO2022207976A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-10-06.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747A1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2022-10-05.

Apparatus for cleaning exhaust part and vacuum pump of reaction chamber for semiconductor device and LCD manufacturing equipment

Номер патента: US20070286766A1. Автор: Byoung-Chun Choi. Владелец: Teratech Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: US11891696B2. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G. M. de Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-06.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US20240030296A1. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US11798999B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-24.

Heating system of batch type reaction chamber and method thereof

Номер патента: US20070166656A1. Автор: Young Ho Lee,Byoung Il Lee,Taek Yong Jang. Владелец: Terasemicon Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-19.

Injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240167158A1. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-23.

Electrostatic chuck and reaction chamber

Номер патента: US11837491B2. Автор: Qiwei Huang,Quanyu SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Device for adjusting wafer, reaction chamber, and method for adjusting wafer

Номер патента: US11892778B2. Автор: Xing Zhang,Congjun Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Reaction chamber for epitaxial growth with a loading/unloading device and reactor

Номер патента: EP3084034A1. Автор: Franco Preti,Danilo Crippa,Vincenzo Ogliari,Carmelo VECCHIO,Francesco COREA,Marco Mauceri,Laura GOBBO,Marco Puglisi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-10-26.

Methods for depositing a hafnium lanthanum oxide film on a substrate by a cyclical deposition process in a reaction chamber

Номер патента: US11769664B2. Автор: Michael Eugene Givens,Tatiana Ivanova,Perttu Sippola. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Reaction chamber of semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: CN111446199B. Автор: 刘建. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-16.

Carrying device and semiconductor reaction chamber

Номер патента: WO2022095794A1. Автор: 许金基,茅兴飞. Владелец: 北京北方华创微电子装备有限公司. Дата публикации: 2022-05-12.

Reaction chamber component, preparation method, and reaction chamber

Номер патента: US20200406222A1. Автор: Yulin Peng,Yicheng Li,Yongyou CAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Reaction chamber member and manufacturing method thereof, reaction chamber

Номер патента: KR102434345B1. Автор: 이췡 리,이?Z 리,유린 펑,용유 카오. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-08-19.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US20160013024A1. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-01-14.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US20150024609A1. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2015-01-22.

IMR-MS REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210057203A1. Автор: JORDAN Alfons. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

CHEMICAL DISPENSING APPARATUS AND METHODS FOR DISPENSING A CHEMICAL TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190096708A1. Автор: Sharma Varun. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

METHODS FOR THERMALLY CALIBRATING REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20180114680A1. Автор: Jacobs Loren,Westrom Peter,Kim Hyeongeu. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-26.

REACTION CHAMBER AND SEMI-CONDUCTOR PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20170154758A1. Автор: CHEN PENG,ZHANG Yanzhao,SHE Qing. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-01.

METHODS FOR THERMALLY CALIBRATING REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20200227243A1. Автор: Jacobs Loren,Westrom Peter,Kim Hyeongeu. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

CHEMICAL DISPENSING APPARATUS AND METHODS FOR DISPENSING A CHEMICAL TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200279758A1. Автор: Sharma Varun. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-03.

REACTION CHAMBER, DRY ETCHING MACHINE AND ETCHING METHOD

Номер патента: US20200381220A1. Автор: HE HUAILIANG. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: US10714315B2. Автор: Eric Shero,Carl White,Todd Dunn,Kyle Fondurulia. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-07-14.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: US10643826B2. Автор: Hyeongeu Kim,Loren Jacobs,Peter Westrom. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-05-05.

Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber

Номер патента: US10658205B2. Автор: Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-05-19.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: KR102433657B1. Автор: 안셀모 킴,로렌 제이컵스,피터 웨스트롬. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2022-08-18.

Methods for thermally calibrating reaction chambers

Номер патента: US10943771B2. Автор: Hyeongeu Kim,Loren Jacobs,Peter Westrom. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-03-09.

Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber

Номер патента: US11387120B2. Автор: Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-07-12.

Plasma reaction chamber with a built-in magnetic core

Номер патента: KR100743840B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2007-07-30.

Diamond coating on reaction chamber wall and method for producing the same

Номер патента: JP4358509B2. Автор: ロバート，ジェイ．オドネル，,ジョン，イー．ダウエルティー，,クリストファー，シー．チャン，. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-11-04.

Semiconductor reaction chamber showerhead

Номер патента: KR102045583B1. Автор: 에릭 쉬로,칼 화이트,토드 던,카일 폰두루리아. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2019-11-15.

Method for cleaning reaction chamber using substrate on which catalyst layer is formed

Номер патента: KR100593441B1. Автор: 송민우,원석준,김원홍. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-06-28.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105097401A. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-25.

Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities

Номер патента: US9412564B2. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma reaction chamber assemblies

Номер патента: US20070113975A1. Автор: Li Li,Max Hineman. Владелец: Hineman Max F. Дата публикации: 2007-05-24.

A plasma reaction chamber component having improved temperature uniformity

Номер патента: KR100733897B1. Автор: 딘드사라진더,하오팡리,푸어하셰미자바드. Владелец: 램 리서치 코포레이션. Дата публикации: 2007-07-02.

Apparatus and method for dispensing chemical substance into reaction chamber

Номер патента: JP2019063792A. Автор: Sharma Varun,ヴァルン・シャルマ. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-04-25.

Plasma reactor with conductive member in reaction chamber for shielding substrate from undesirable irradiation

Номер патента: US9558963B2. Автор: Sang In LEE,Ilsong Lee,Hyo Seok Yang. Владелец: Veeco ALD Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Gas sprayer assembly applied in plasma reaction chamber, manufacture method and renewing reutilization method thereof

Номер патента: CN100577866C. Автор: 倪图强,吴万俊. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2010-01-06.

Reaction chamber

Номер патента: CN111321463B. Автор: 徐刚. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-15.

A kind of reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN105097401B. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

semiconductor reaction chamber

Номер патента: KR20230050463A. Автор: 웨이 왕,강 웨이,싱페이 마오,구오동 천. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2023-04-14.

Reaction chamber and semi-conductor processing device

Номер патента: WO2015172549A1. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司. Дата публикации: 2015-11-19.

Manufacturing method of components of low contamination plasma reaction chamber

Номер патента: JP5371871B2. Автор: クリストファー，シー．チャン，,ロバート，ジェイ．セガー，. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2013-12-18.

Edge ring clamping assembly, plasma reaction chamber, and method of processing a semiconductor substrate

Номер патента: JP4913313B2. Автор: ジェロムエス．ヒューバセク、. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-04-11.

Method of cleaning a reaction chamber with a substrate having a catalyst layer

Номер патента: KR20050078609A. Автор: 송민우,원석준,김원홍. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-08-05.

Capillary mixer with adjustable reaction chamber volume for mass spectrometry

Номер патента: US6870154B1. Автор: Lars Konermann,Derek J. Wilson. Владелец: University of Western Ontario. Дата публикации: 2005-03-22.

Lifting needle system, vacuum reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: TWI694534B. Автор: 茅興飛. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2020-05-21.

Chemical dispensing apparatus and method for dispensing chemicals into reaction chambers

Номер патента: JP7229712B2. Автор: ヴァルン・シャルマ. Владелец: アーエスエム・イーぺー・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップ. Дата публикации: 2023-02-28.

Capillary mixer with adjustable reaction chamber volume for mass spectrometry

Номер патента: CA2458898A1. Автор: Lars Konermann,Derek J. Wilson. Владелец: University of Western Ontario. Дата публикации: 2005-08-25.

Reaction chamber, dry etching machine, and etching method

Номер патента: WO2020056890A1. Автор: 何怀亮. Владелец: 惠科股份有限公司. Дата публикации: 2020-03-26.

Apparatus and methods for performing an in-situ etch of reaction chambers with fluorine-based radicals

Номер патента: KR20210137395A. Автор: 테오도뤼스 지.엠. 오스테를라컨,아미트 미슈라,부샨 조프,샨카르 스와미나탄. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2021-11-17.

Silicon parts for plasma reaction chambers

Номер патента: AU2003220446A1. Автор: Daxing Ren,Jerome S. Hubacek,Nicholas E. Webb. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-11-03.

Reaction chamber for deposition of a semiconductor layer on the plurality substrates in batches

Номер патента: EP2744925B1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2016-02-03.

System and method for pulse modulation of radio frequency power supply and reaction chamber thereof

Номер патента: US11749502B2. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Reaction chamber

Номер патента: EP4116467A4. Автор: Gang Xu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-03.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747C0. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747B1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-06-12.

Magnetic-based actuation mechanisms for and methods of actuating magnetically responsive microposts in a reaction chamber

Номер патента: AU2019249282B2. Автор: Richard Chasen Spero,Jay Kenneth FISHER. Владелец: Redbud Labs Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: US20220411961A1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2022-12-29.

Method for processing parts in semiconductor reaction chamber and semiconductor reaction chamber

Номер патента: CN114196998A. Автор: 郑旭东,吴凤丽,杨华龙. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-03-18.

A kind of wafer with protection method of wafer reaction chamber and wafer reaction chamber

Номер патента: CN105097618B. Автор: 赖朝荣,苏俊铭,董琪琪. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-26.

Device with chemical reaction chamber

Номер патента: US20200411398A1. Автор: David Frank Bolognia,Brian Hall. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Methods for providing a precursor mixture to a reaction chamber

Номер патента: US20240102156A1. Автор: Timothee Blanquart,René Henricus Jozef Vervuurt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Reactor system with multi-directional reaction chamber

Номер патента: SG10202101234VA. Автор: Yukihiro Mori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-09-29.

A load device, a reaction chamber and a semiconductor processing device

Номер патента: TWI569363B. Автор: xue-wei Wu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-01.

An injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: EP4006960B1. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-09.

Warm wall type reaction chamber portion and method for forming hemi-spherical grain layer using the same

Номер патента: TW403994B. Автор: Se-jin Shim,Seung-hee Nam,You-Chan Jin,Sung-Dong Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-09-01.

APPARATUS AND METHODS FOR ISOLATING A REACTION CHAMBER FROM A LOADING CHAMBER RESULTING IN REDUCED CONTAMINATION

Номер патента: US20210104427A1. Автор: White Carl Louis,Shugrue John Kevin,Fondurulia Kyle,Marquardt David. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

APPARATUS AND METHODS FOR ISOLATING A REACTION CHAMBER FROM A LOADING CHAMBER RESULTING IN REDUCED CONTAMINATION

Номер патента: US20210143048A1. Автор: White Carl Louis,Shugrue John Kevin,Fondurulia Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-13.

APPARATUS AND METHODS FOR ISOLATING A REACTION CHAMBER FROM A LOADING CHAMBER RESULTING IN REDUCED CONTAMINATION

Номер патента: US20190139807A1. Автор: White Carl Louis,Shugrue John Kevin,Fondurulia Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-09.

APPARATUS AND METHODS FOR ISOLATING A REACTION CHAMBER FROM A LOADING CHAMBER RESULTING IN REDUCED CONTAMINATION

Номер патента: US20190139808A1. Автор: White Carl Louis,Shugrue John Kevin,Fondurulia Kyle,Marquardt David. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-09.

Apparatus and methods for isolating a reaction chamber from a loading chamber resulting in reduced contamination

Номер патента: US10872804B2. Автор: Kyle Fondurulia,David Marquardt,John Kevin Shugrue,Carl Louis White. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-12-22.

PLASMA REACTOR WITH CONDUCTIVE MEMBER IN REACTION CHAMBER FOR SHIELDING SUBSTRATE FROM UNDESIRABLE IRRADIATION

Номер патента: US20130237065A1. Автор: LEE Sang In,Lee Ilsong,Yang Hyo Seok. Владелец: SYNOS TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2013-09-12.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US20210005723A1. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-01-07.

ELECTRIC INTERRUPTION SWITCH COMPRISING REACTIVE COATING IN THE REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210012986A1. Автор: LELL Peter. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

PLASMA REACTOR WITH CONDUCTIVE MEMBER IN REACTION CHAMBER FOR SHIELDING SUBSTRATE FROM UNDESIRABLE IRRADIATION

Номер патента: US20160020116A1. Автор: LEE Sang In,Lee Ilsong,Yang Hyo Seok. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

ELECTROSTATIC CHUCK AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220051923A1. Автор: SHI Quanyu,Huang Qiwei. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

REACTION CHAMBER PASSIVATION AND SELECTIVE DEPOSITION OF METALLIC FILMS

Номер патента: US20190055643A1. Автор: Maes Jan Willem,ISHIKAWA Dai,Xie Qi,Namba Kunitoshi,Chen Shang,Wang Han,Longrie Delphine,Niskanen Antti Juhani,Watarai Toshiharu,Onuma Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

METHOD FOR DEPOSITING A MATERIAL FILM ON A SUBSTRATE WITHIN A REACTION CHAMBER BY A CYCLICAL DEPOSITION PROCESS AND RELATED DEVICE STRUCTURES

Номер патента: US20210066084A1. Автор: Li Dong,Raisanen Petri,Johnson Ward,CHEN Peijun,Romero Jose Alexandro,Olstad Mark. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

PRE-LITHIATION REACTION CHAMBER APPARATUS

Номер патента: US20220085349A1. Автор: CHAE Oh-Byong,KIM Ye-Ri,HWANG Seung-Hae. Владелец: LG ENERGY SOLUTION, LTD.. Дата публикации: 2022-03-17.

SENSOR ARRAY, APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20200066552A1. Автор: Susa Yoshio. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-27.

REACTION CHAMBER PASSIVATION AND SELECTIVE DEPOSITION OF METALLIC FILMS

Номер патента: US20180080121A1. Автор: Maes Jan Willem,ISHIKAWA Dai,Xie Qi,Namba Kunitoshi,Chen Shang,Wang Han,Longrie Delphine,Niskanen Antti Juhani,Watarai Toshiharu,Onuma Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

METHODS FOR DEPOSITING A HAFNIUM LANTHANUM OXIDE FILM ON A SUBSTRATE BY A CYCLICAL DEPOSITION PROCESS IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220139702A1. Автор: Givens Michael Eugene,Ivanova Tatiana,Sippola Perttu. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20190093221A1. Автор: Tsuji Naoto,Susa Yoshio,Jdira Lucian,Terhorst Herbert. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

APPARATUS, METHOD AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190127850A1. Автор: Maula Jarmo,Söderlund Mikko,Soininen Pekka. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-02.

STRUCTURE OF REACTION CHAMBER OF SEMICONDUCTOR SPUTTERING EQUIPMENT

Номер патента: US20140238851A1. Автор: HO WEN-CHIN,CHOU TSUNG-CHIH,CHERN SHYUE-JER. Владелец: SHIH HER TECHNOLOGIES INC.. Дата публикации: 2014-08-28.

METHODS FOR FORMING A METAL SILICATE FILM ON A SUBSTRATE IN A REACTION CHAMBER AND RELATED SEMICONDUCTOR DEVICE STRUCTURES

Номер патента: US20200161438A1. Автор: Tang Fu,Givens Michael Eugene,Xie Qi,Hsu Peng-Fu. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures

Номер патента: US20190221433A1. Автор: Dong Li,Petri Raisanen,Mark Olstad,Jose Alexandro Romero,Ward Johnson,Peijun Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-07-18.

METHOD OF FORMING A TRANSITION METAL CONTAINING FILM ON A SUBSTRATE BY A CYCLICAL DEPOSITION PROCESS, A METHOD FOR SUPPLYING A TRANSITION METAL HALIDE COMPOUND TO A REACTION CHAMBER, AND RELATED VAPOR DEPOSITION APPARATUS

Номер патента: US20190249300A1. Автор: LESKELA Markku,Ritala Mikko,Hatanpaa Timo,Väyrynen Katja. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-15.

Methods for depositing a hafnium lanthanum oxide film on a substrate by a cyclical deposition process in a reaction chamber

Номер патента: US20200266055A1. Автор: Givens Michael Eugene,Ivanova Tatiana,Sippola Perttu. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-20.

Reaction chamber for epitaxial growth with a loading/unloading device and reactor

Номер патента: US20160312382A1. Автор: Franco Preti,Danilo Crippa,Vincenzo Ogliari,Carmelo VECCHIO,Francesco COREA,Marco Mauceri,Laura GOBBO,Marco Puglisi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-10-27.

REACTION CHAMBER PASSIVATION AND SELECTIVE DEPOSITION OF METALLIC FILMS

Номер патента: US20200291511A1. Автор: Maes Jan Willem,ISHIKAWA Dai,Xie Qi,Namba Kunitoshi,Chen Shang,Wang Han,Longrie Delphine,Niskanen Antti Juhani,Watarai Toshiharu,Onuma Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-17.

METHOD OF DEPOSITING A CO-DOPED POLYSILICON FILM ON A SURFACE OF A SUBSTRATE WITHIN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190304780A1. Автор: Tolle John,Kohen David. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus

Номер патента: US20200340113A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Katja Väyrynen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-10-29.

Waffer pedestal with heating mechanism and reaction chamber including the same

Номер патента: US20190341280A1. Автор: Ren Zhou,Junichi Arami. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2019-11-07.

DEVICE WITH CHEMICAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200411398A1. Автор: Bolognia David Frank,HALL Brian. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

SENSOR ARRAY, APPARATUS FOR DISPENSING A VAPOR PHASE REACTANT TO A REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS

Номер патента: US20220406625A1. Автор: Susa Yoshio. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-22.

Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods

Номер патента: US10844484B2. Автор: Herbert Terhorst,Lucian JDIRA,Naoto Tsuji,Yoshio SUSA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-11-24.

Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures

Номер патента: US10872771B2. Автор: Dong Li,Petri Raisanen,Mark Olstad,Jose Alexandro Romero,Ward Johnson,Peijun Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-12-22.

Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus

Номер патента: US10731249B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Katja Väyrynen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-08-04.

Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber

Номер патента: US10510536B2. Автор: John Tolle,David Kohen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-12-17.

Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods

Номер патента: US11430674B2. Автор: Yoshio SUSA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-30.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US10818758B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-10-27.

Reaction chamber with semi-high temperature wall

Номер патента: KR100375396B1. Автор: 알. 린드스트롬 폴. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2003-05-09.

Tray apparatus, reaction chamber and mocvd device

Номер патента: KR101736427B1. Автор: 예 투. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2017-05-16.

A reaction chamber for forming metal layer and method for forming metal layer in semiconductor device using the same

Номер патента: KR100247643B1. Автор: 조경수. Владелец: 현대전자산업주식회사. Дата публикации: 2000-03-15.

Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures

Номер патента: US11411088B2. Автор: Peng-Fu Hsu,Qi Xie,Michael Eugene Givens,Fu Tang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-09.

A kind of wafer locating device and reaction chamber

Номер патента: CN107093569B. Автор: 聂淼. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-05.

Injection device for metering and injecting two liquids into a reaction chamber

Номер патента: JP2004515440A. Автор: ラウメン・ヘルマン・ヨーゼフ. Владелец: FEV Motorentechnik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2004-05-27.

Fuel cell system with integrated hydrogen generation for use in fuel cell vehicles, has oxygen delivery arrangement with cathode waste gas feedback line to hydrogen generation reaction chamber and/or gas cleaning stage

Номер патента: DE19904711A1. Автор: Gerhard Konrad,Arnold Lamm. Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2000-08-10.

Reaction chamber

Номер патента: KR100284745B1. Автор: 박영욱,원석준,형용우. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-03-15.

Plasma reaction chamber

Номер патента: KR100597627B1. Автор: 최윤호,박영욱,서정훈,김정태. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-07-07.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: KR20030063231A. Автор: 프라사드라비,만엘크리스,트상조셉더블유. Владелец: 휴렛-팩커드 컴퍼니(델라웨어주법인). Дата публикации: 2003-07-28.

A kind of reaction chamber and MOCVD device

Номер патента: CN103820769B. Автор: 涂冶. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: US20030138679A1. Автор: Joseph Tsang,Ravi Prased,L. Mann. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2003-07-24.

Chemical vapor deposition reaction chamber

Номер патента: JP4809562B2. Автор: フリジュランク、ペーター. Владелец: アイクストロン、アーゲー. Дата публикации: 2011-11-09.

Reaction chamber

Номер патента: EP2353176A4. Автор: Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Matthew G Goodman,Brad Halleck. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2013-08-28.

Tray, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN108004525B. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Leaking method of reaction chamber of semiconductor manufacture equipment

Номер патента: JPS59154025A. Автор: Shigekazu Kato,Toru Ueno,上野　透,加藤　重和. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-09-03.

ANTI-CORROSION METAL REACTION CHAMBER CVD OR RTP

Номер патента: FR2818292B1. Автор: Herve Guillon,Franck Laporte,Rene Pierre Ducret. Владелец: Joint Industrial Processors for Electronics. Дата публикации: 2003-03-21.

Chemical laser with a combustion or reaction chamber - has pipes separately supplying reagents diluent and a fluorine compound

Номер патента: FR2298204A1. Автор: . Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1976-08-13.

METHOD FOR AVOIDING RETURN IGNITION IN A MIXTURE ENTERING A REACTION CHAMBER

Номер патента: FR2839268A1. Автор: Andreas Docter,Wolfgang Weger,Norbert Wiesheu,Helmut Gildein,Andreas Kaupert,Stefan Schoffel. Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2003-11-07.

Metal reaction chamber incorporating a polished internal wall coated with an anti-corrosion layer, for chemical vapour phase deposition or rapid temperature processing

Номер патента: FR2818292A1. Автор: Herve Guillon,Franck Laporte,Rene Pierre Ducret. Владелец: Joint Industrial Processors for Electronics. Дата публикации: 2002-06-21.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN111081589A. Автор: 徐悦. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Deposition system having a reaction chamber configured for in situ metrology and related method

Номер патента: KR20140103291A. Автор: 에드 린도우,로날드 버트램,클라우디오 카니자레스. Владелец: 소이텍. Дата публикации: 2014-08-26.

DEPOSITION SYSTEMS COMPRISING A PRECURSOR GAS OVEN WITHIN A REACTION CHAMBER AND METHODS RELATING THERETO

Номер патента: FR2979637B1. Автор: Jr Ronald Thomas Bertram,Michael Landis. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2015-02-20.

Sealing material for reaction chamber preparing semiconductor wafer and sealing material using the same

Номер патента: KR101504725B1. Автор: 황의식. Владелец: 주식회사 씰테크. Дата публикации: 2015-03-24.

Wafer pedestal with heating mechanism and reaction chamber including the same

Номер патента: TW201947692A. Автор: 周仁,荒見淳一. Владелец: 大陸商瀋陽拓荊科技有限公司. Дата публикации: 2019-12-16.

Device for rapid heat treatment comprising inside the reaction chamber cold-walled halogen infrared lamps

Номер патента: EP1573781A2. Автор: Herve Guillon,Franck Laporte,Pierre-Emmanuel Hickel,René-Pierre DUCRET. Владелец: Joint Industrial Processors fo Electronics. Дата публикации: 2005-09-14.

Reaction chamber for processing semiconducter wafers

Номер патента: EP1283544A2. Автор: Takayuki Yamagishi. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2003-02-12.

Preparation of metal/metal oxide supported catalysts by precursor chemical nanometallurgy in defined reaction chambers of porous supports using organometallic and/or inorganic precursors and reductant

Номер патента: CN1905941A. Автор: 马丁·穆勒,里查德·费斯舍尔,罗兰德·费斯舍尔,拉夫·贝克,凯－奥夫·欣里希森. Владелец: Sued Chemie AG. Дата публикации: 2007-01-31.

Heating System for Batch Type Reaction Chamber

Номер патента: KR100848359B1. Автор: 이병일,이영호,장택용. Владелец: 주식회사 테라세미콘. Дата публикации: 2008-07-28.

Reaction chamber

Номер патента: CN111364022A. Автор: 荣延栋,何中凯. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-03.

Method for depositing carbon doped epitaxial semiconductor layer, method and apparatus for depositing semiconductor material and method for forming transistor device on substrate in reaction chamber

Номер патента: TWI405248B. Автор: Matthias BAUER. Владелец: ASM Inc. Дата публикации: 2013-08-11.

Selective metal oxide removal performed in a reaction chamber in the absence of RF activation

Номер патента: US6818493B2. Автор: Philip J. Tobin,Christopher C. Hobbs. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2004-11-16.

Flow distribution device, air inlet system and reaction chamber

Номер патента: CN111276421A. Автор: 何漫丽. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-12.

Electric current generator to power electric vehicle has osmotic wall that separates two compartments in reaction chamber to which liquid reagents are delivered, with spent reagents collected in recovery tank

Номер патента: FR2818939A1. Автор: Julien Yann Diperi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-05.

Reaction chamber passivation and selective deposition of metallic films

Номер патента: KR102208442B1. Автор: 얀 빌럼 마스,치 셰,다이 이시카와,한 왕,쿠니토시 남바,안티 유하니 니스카넨,델핀 롱리,상 천,토시하루 와타라이,타카히로 오누마. Владелец: 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.. Дата публикации: 2021-01-28.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: WO2012101326A1. Автор: Jarmo Maula,Mikko SÖDERLUND,Pekka Soininen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2012-08-02.

Gas distributing plate for reaction chamber

Номер патента: JPH10158844A. Автор: Karl Paul Muller,Bernhard Poschenrieder,Klaus Roithner,ロイトナークラウス,ポッシェンリーダーベルンハルト,パウルムラーカール. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1998-06-16.

Electrochemical generator in which particles react with fluid - maintains circulating fluid separate from particles outside reaction chamber

Номер патента: FR2431878A1. Автор: . Владелец: Compagnie Generale des Etablissements Michelin SCA. Дата публикации: 1980-02-22.

Cleaning method of etching reaction chamber

Номер патента: CN104867815A. Автор: 张旭升,许进,吕煜坤,任昱,胡伟玲. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-08-26.

Method of cleaning a cvd reaction chamber

Номер патента: EP1452625A3. Автор: Kiyoshi Satoh,Nelson Loke Chou San,Kenishi Kagami. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2008-08-06.

Reaction chamber

Номер патента: TWI490919B. Автор: Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Matthew G Goodman,Brad Halleck. Владелец: ASM Inc. Дата публикации: 2015-07-01.

Bogey, reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN106684028B. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-31.

Carrier and reaction chamber

Номер патента: TWI600103B. Автор: Xin Wu. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

Fuel cartridge and reaction chamber

Номер патента: CA2416925A1. Автор: Ravi Prasad,L. Chris Mann,Joseph W. Tsang. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2003-07-22.

The cleaning method of reaction chamber and substrate lithographic method

Номер патента: CN103861843B. Автор: 李成强. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-31.

A kind of reaction chamber

Номер патента: CN107164738A. Автор: 蒋磊. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-15.

Injection device for the metered injection of two liquids into a reaction chamber

Номер патента: DE50105979D1. Автор: Josef Laumen. Владелец: FEV Motorentechnik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2005-05-25.

Device forming apparatus for fabricating a semiconductor device comprises reaction chamber, first processing gas supply pipe, four-way valve, second processing gas supply pipe and bypass, and gate valve

Номер патента: DE102006003100A1. Автор: Young-Hoon Kim,Seok-jun Won,Yong-Min Yoo,Dae-Youn Kim,Dae-jin Suwon Kwon,Weon-Hong Suwon Kim. Владелец: ASM GENITECH KOREA Inc. Дата публикации: 2006-08-17.

Nesting tool and reaction chamber

Номер патента: CN103839841A. Автор: 王阔,代勇. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2014-06-04.

Etching process inside a CVD reaction chamber

Номер патента: DE69706339T2. Автор: Takao Akiyama. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: US10590536B2. Автор: Jarmo Maula,Mikko SÖDERLUND,Pekka Soininen. Владелец: Beneq Group Oy. Дата публикации: 2020-03-17.

Thermal reaction chamber with susceptor drive and wafer displacement mechanism

Номер патента: JP3786976B2. Автор: パーロヴイルヤ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Reaction chamber and MOCVD equipment

Номер патента: CN103820769A. Автор: 涂冶. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-28.

Multiple reaction chamber system with wafer recognition system and wafer processing using the same

Номер патента: JPH11135392A. Автор: Tae-Ryong Kim,太龍金,Dokei Kin,度炯金,Heikyoku Sai,炳旭崔,Kochin Cho,光鎭丁. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-05-21.

Prevention of flashback in a mixture flowing into a reaction chamber

Номер патента: GB0308448D0. Автор: . Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2003-05-21.

Spraying structure and reaction chamber

Номер патента: CN111341690A. Автор: 刘效岩,惠世鹏,张凇铭,许璐. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-26.

Reaction chamber for processing semiconductor wafers

Номер патента: KR100855091B1. Автор: 다카유키 야마기시. Владелец: 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤. Дата публикации: 2008-08-29.

Reaction chamber

Номер патента: US20100116207A1. Автор: Matthew Goodman,Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Brad Halleck. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2010-05-13.

Reaction chamber of semiconductor processing equipment and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN112458441A. Автор: 朱海云. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-09.

Burner for fuel cell system having two reaction chambers

Номер патента: CN111226337A. Автор: 托马斯·克劳斯,迈克尔·赖西格,贝恩德·赖特尔,洛伦佐·霍尔特豪斯,多米尼克·莱波尔德,塞普·斯泰纳,雷内·沃特尔. Владелец: AVL List GmbH. Дата публикации: 2020-06-02.

Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures

Номер патента: TWI797232B. Автор: 東李,派提瑞薩能,華德強森,馬克歐施塔,約瑟艾力山卓羅曼羅,佩君陳. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股公司. Дата публикации: 2023-04-01.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: CN103298974A. Автор: P·索伊尼宁,J·毛拉,M·瑟德隆德. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2013-09-11.

Batch reaction chamber employing separate zones for radiant heating and resistive heating

Номер патента: WO2008042590A3. Автор: Paul Brabant,Paul Jacobson. Владелец: ASM Inc. Дата публикации: 2008-06-05.

Reaction chamber of semiconductor device

Номер патента: CN111739820B. Автор: 史小平,兰云峰,王勇飞,郑波. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-16.

Magnetic-based actuation mechanisms for actuating magnetically-responsive microposts in a reaction chamber

Номер патента: WO2021097430A1. Автор: Richard Chasen Spero,Jay Kenneth FISHER. Владелец: Redbud Labs, Inc.. Дата публикации: 2021-05-20.

Electric circuit breaker with reactive coating in the reaction chamber

Номер патента: DE102018100686A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Peter Lell. Дата публикации: 2018-03-01.

Double wall reaction chamber glassware

Номер патента: CA2261394A1. Автор: Patrick W. Wiesen,Jack D. Fowler,Robert Parvin,Jeffrey Kowalski. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-10.

Apparatus, method and reaction chamber

Номер патента: CN103298974B. Автор: P·索伊尼宁,J·毛拉,M·瑟德隆德. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2015-06-10.

Device for feeding reactants into a reaction chamber

Номер патента: WO2003078046A1. Автор: Norbert Wiesheu,Stefan Joos. Владелец: DaimlerChrysler AG. Дата публикации: 2003-09-25.

Reaction chamber gas humidifying device and diffusion equipment

Номер патента: CN114182354A. Автор: 李时俊,黄绍炎. Владелец: Shenzhen Headquarter SC New Energy Technology Corp. Дата публикации: 2022-03-15.

Methods for depositing a hafnium lanthanum oxide film on a substrate by a cyclical deposition process in a reaction chamber

Номер патента: US11227763B2. Автор: Michael Eugene Givens,Tatiana Ivanova,Perttu Sippola. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-01-18.

Cartridge for fuel cell, has tank containing source liquid oxygen compound that is decomposed, in presence of catalyst, and transfer unit provided for selective transfer of water from reaction chamber towards another tank

Номер патента: FR2920593A1. Автор: Vincent Faucheux. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 2009-03-06.

Magnetic-based actuation mechanisms for and methods of actuating magnetically responsive microposts in a reaction chamber

Номер патента: CA3097960A1. Автор: Richard Chasen Spero,Jay Kenneth FISHER. Владелец: Redbud Labs Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Reaction chamber

Номер патента: CN106702353B. Автор: 陈庆. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-12.

Fixture and method for determining position of a target in a reaction chamber

Номер патента: US20220189804A1. Автор: Xing Lin,Alexandros Demos,Peipei Gao,Siyao Luan,Kishor Patil. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-16.

reaction chamber

Номер патента: KR20220137720A. Автор: 중카이 허,이안동 롱. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-10-12.

Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures

Номер патента: TW201940729A. Автор: 東李,派提瑞薩能,華德強森,馬克歐施塔,約瑟艾力山卓羅曼羅,佩君陳. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股公司. Дата публикации: 2019-10-16.

A method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus

Номер патента: TW201934795A. Автор: 提摩哈坦帕,凱嘉費瑞南,米可雷鐵娜,瑪庫雷可拉. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股公司. Дата публикации: 2019-09-01.

Reaction chamber and plasma processing equipment

Номер патента: CN104752134A. Автор: 刘建生,陈鹏. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Apparatus for cleaning exhaust part and vacuum pump of reaction chamber for semiconductor device and LCD manufacturing equipment

Номер патента: TW200802589A. Автор: Byoung-Chun Choi. Владелец: Teratech Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-01.

A kind of hydrogen storage material reaction chamber and its fuel cell power generating system

Номер патента: CN107910572A. Автор: 李维,邹建新,丁文江,谷杰人. Владелец: Wuhan City Zhida Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-13.

Reaction chamber

Номер патента: TW201023250A. Автор: Herbert Terhorst,Mark Hawkins,Michael Givens,Matthew G Goodman,Brad Halleck. Владелец: ASM Inc. Дата публикации: 2010-06-16.

Heating apparatus for batch type reaction chamber

Номер патента: WO2007081185A1. Автор: Taek-Yong Jang,Young-Ho Lee,Byung-Il Lee. Владелец: Terasemicon Corporation. Дата публикации: 2007-07-19.

Magnetic-based actuation mechanisms for and methods of actuating magnetically responsive microposts in a reaction chamber

Номер патента: AU2019249282A1. Автор: Richard Chasen Spero,Jay Kenneth FISHER. Владелец: Redbud Labs Inc. Дата публикации: 2020-10-15.

Deposition systems with reaction chambers designed for in-situ metrology and related methods

Номер патента: DE112012005276T5. Автор: Ronald Bertram,Ed Lindow,Claudio Canizares. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2014-10-09.

Reaction chamber

Номер патента: CN110400768A. Автор: 邓晓军. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-01.

Reaction chamber for a catalytic cracking process in a fluidized layer and a method of realization of the catalytic cracking process in the fluidized layer (versions)

Номер патента: RU2268912C2. Автор: Хендрикус Ариен ДИРКСЕ,Эрнст Антониус БАККЕР,Дейвид Джон БРИДЖЕР,Стивен Брайан ФАУЛЕР. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2006-01-27.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Device for synthesizing a polymer with reduced formation of deposits in the reaction chamber

Номер патента: US09914805B2. Автор: Achim Stammer,Silke Biedasek,Uwe Witt,Joachim Clauss,Ning Zhu,Gad Kory. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2018-03-13.

Bioreactor having at least two reaction chambers

Номер патента: AU2002314140A1. Автор: Udo Holker. Владелец: Hofer Bioreact GmbH. Дата публикации: 2002-12-23.

Emergency flotation device with chemical reaction chamber

Номер патента: WO2019106677A1. Автор: Moshe Shoham,Noam Hassidov,Oriya SHOHAM,Matityahu AZRIEL. Владелец: Sea-Ark Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Reaction chamber and semiconductor equipment

Номер патента: US20240368803A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Pyrolysis oil made with a microwave-transparent reaction chamber for production of fuel from an organic-carbon-containing feedstock

Номер патента: US09545609B2. Автор: Douglas M. Van Thorre,Michael L. Catto. Владелец: TEKGAR LLV. Дата публикации: 2017-01-17.

Method for stabilizing reaction chamber pressure

Номер патента: US09663857B2. Автор: Wataru Adachi,Ryu Nakano. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-05-30.

Reaction chamber for processing a substrate wafer, and method for operating the chamber

Номер патента: US20020092840A1. Автор: Alfred Kersch. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-07-18.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: US20240209434A1. Автор: Jonathan M. Rothberg,Gerard Schmid,Jonathan C. Schultz,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Keith G. Fife,Todd Rearick,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

MITIGATING PYROPHORIC DEPOSITS DURING SiC CVI/CVD PROCESSES BY INTRODUCING A MITIGATION AGENT INTO AN EXHAUST CONDUIT DOWNSTREAM OF A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220112134A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Thomas P. Filburn,Gavin Charles Richards,Naveen Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US20200391214A1. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US20170065980A1. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2017-03-09.

Mitigating pyrophoric deposits during SiC CVI/CVD processes by introducing a mitigation agent into an exhaust conduit downstream of a reaction chamber

Номер патента: US11713281B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Thomas P. Filburn,Gavin Charles Richards,Naveen Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Self-metering of fluid into a reaction chamber

Номер патента: US12103006B2. Автор: William M. Nelson,Aymeric Randanne de Vazeille,Kyle Armantrout. Владелец: Tetracore Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Method of producing dispersed aluminium nitride, installation and reaction chamber for its implementation

Номер патента: RU2638975C2. Автор: Аскольд Рафаилович Бекетов,Андрей Александрович Елагин,Михаил Владимирович Баранов,Роман Александрович Шишкин,Валерия Сергеевна Кудякова. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина". Дата публикации: 2017-12-19.

Methods for producing 2D materials by moving forming layers disposed on carriers through a reaction chamber open to the atmosphere

Номер патента: US11542632B1. Автор: James Vig Sherrill,Gregory E. Erickson. Владелец: General Graphene Corp. Дата публикации: 2023-01-03.

Methods for producing 2d materials by moving forming layers disposed on carriers through a reaction chamber open to the atmosphere

Номер патента: US20230093707A1. Автор: James Vig Sherrill,Gregory E. Erickson. Владелец: General Graphene Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Chemical vapour deposition epitaxial reactor having two reaction chambers alternatively actuated and actuating method thereof

Номер патента: US20020112661A1. Автор: Franco Preti. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Addressable micro-reaction chamber array

Номер патента: EP3897981A1. Автор: Benjamin Jones,Peter Peumans,Nicolas Vergauwe,Ahmed TAHER. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-10-27.

Reaction chamber and reaction device

Номер патента: EP4417731A1. Автор: Xin Xu,Jiaming LIU,Guofang ZHONG,Yunzhang XIAO,Shuaishuai HUANG,Lianghui LIU,Bingan CHEN. Владелец: Shenzhen Naso Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

In-line, closed-system, downstream alteration of fluent substance within flexible-walled vessel using apparatus with reaction chamber

Номер патента: WO2005103225A3. Автор: Edwin D Neas,Jerald E Kuiken. Владелец: Jerald E Kuiken. Дата публикации: 2005-12-15.

Addressable micro-reaction chamber array

Номер патента: WO2020126985A1. Автор: Benjamin Jones,Peter Peumans,Nicolas Vergauwe,Ahmed TAHER. Владелец: IMEC VZW. Дата публикации: 2020-06-25.

Optical element and reaction chamber

Номер патента: EP4359583A1. Автор: Wolfgang Braun. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2024-05-01.

Reaction chamber comprising a rotating element for the deposition of a semiconductor material

Номер патента: US20210388492A1. Автор: Danilo Crippa,Maurilio Meschia,Francesco COREA,Yuichiro TOKUDA. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2021-12-16.

Exhaust reaction chamber system of engine

Номер патента: CA1042351A. Автор: Shuichi Yamazaki,Ikuo Kajitani. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-11-14.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191B2. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: CA3187109A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: EP4219789A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-02.

Droplet chemical reaction chamber

Номер патента: US5773238A. Автор: Ashok K. Shukla. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-06-30.

Device for the synthesis of a polymer with extraction of a gaseous substance, comprising a reaction chamber having at least one circular-cylindrical section

Номер патента: CA2913498C. Автор: Achim Stammer,Joachim Clauss,Ning Zhu,Gad Kory. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2021-09-07.

Single-use device with a reaction chamber and a method for controlling the temperature in the device and uses thereof

Номер патента: WO2015003722A1. Автор: Kenneth William Harlow,Morten Bech,Ivan R. PERCH-NIELSEN,Jan Harries Hansen. Владелец: Delta Dansk Elektronik, Lys & Akustik. Дата публикации: 2015-01-15.

Method of providing a reaction chamber, reaction chamber and laser evaporation system

Номер патента: EP4271850A1. Автор: Jochen Mannhart,Wolfgang Braun,Johannes Arnoldus BOSCHKER. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2023-11-08.

Method of providing a reaction chamber, reaction chamber and laser evaporation system

Номер патента: US20240110275A1. Автор: Jochen Mannhart,Wolfgang Braun,Johannes Arnoldus BOSCHKER. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2024-04-04.

Reaction chamber for an epitaxial reactor of semiconductor material with non-uniform longitudinal section and reactor

Номер патента: EP3880863A1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI,Francesco COREA. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2021-09-22.

Reaction chamber component, preparation method, and reaction chamber

Номер патента: US20240271310A1. Автор: Yulin Peng,Yicheng Li,Yongyou CAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Differential pressure, countergravity casting with alloyant reaction chamber

Номер патента: US5161604A. Автор: George D. Chandley,Bryant W. Crocker. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 1992-11-10.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4375395A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Process and apparatus for removal of h2s with separate absorber and oxidizer and a reaction chamber therebetween

Номер патента: CA2065546C. Автор: Leslie C. Hardison. Владелец: Wheelabrator Clean Air Systems Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Reaction chamber for extraction of uranium dioxide powder by using method of uranium hexafluoride reductive pyrohydrolysis

Номер патента: MY196848A. Автор: Dmitry Yuryevich OSTROVSKY,Alexander Leonidovich KHLYTIN,Yury Vladimirovich OSTROVSKY,Grigory Mikhailovich ZABORTSEV,Ivan Ignatyevich ZHERIN. Владелец: Publichnoe Aktsionernoe Obshchestvo Novosibirsky Zavod Khimkontsentratov Pao Nzhk. Дата публикации: 2023-05-04.

Reaction chamber with a fluidized bed, comprising a tubular wall structure with water

Номер патента: RU2727947C1. Автор: Пентти ЛАНКИНЕН,Джон К. МЕРФИ. Владелец: СУМИТОМО ЭсЭйчАй ФВ ЭНЕРДЖИА ОЙ. Дата публикации: 2020-07-27.

Fluidics circuit of hermatology analyzer with heated reaction chamber

Номер патента: EP1515140A3. Автор: Bruce E. Behringer,Michael T. Peets,Joseph A. Raneri,Joseph J. Carlucci,Terry Goodsell. Владелец: Bayer HealthCare LLC. Дата публикации: 2007-03-14.

Procedure and device for cracking of hydrocarbons using two successive reaction chambers

Номер патента: US20020096452A1. Автор: Marcellin Espeillac,Pierre Crespin. Владелец: Total Raffinage Distribution SA. Дата публикации: 2002-07-25.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: EP2744924A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2014-06-25.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: US11932906B2. Автор: Jonathan M. Rothberg,Gerard Schmid,Jonathan C. Schultz,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Keith G. Fife,Todd Rearick,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: AU2019205383B2. Автор: Jonathan M. Rothberg,Gerard Schmid,Jonathan C. Schultz,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Keith G. Fife,Todd Rearick,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: AU2019205383A8. Автор: Jonathan M. Rothberg,Gerard Schmid,Jonathan C. Schultz,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Keith G. Fife,Todd Rearick,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: AU2019205383B8. Автор: Jonathan M. Rothberg,Gerard Schmid,Jonathan C. Schultz,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Keith G. Fife,Todd Rearick,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Probe system for real-time quantitative and qualitative analysis of biomaterial, reaction chamber with said probe system, and analysis method thereof

Номер патента: WO2016085036A1. Автор: Sun Young PARK,Jong Pil Park,Mun Cheol Paek,Nam Joong Kim,Su Jin Ku,Jin Seok Noh,Lee Kyung Kim,Do Bu Lee. Владелец: K-MAC. Дата публикации: 2016-06-02.

Micro-reaction chamber microelectrodes especially for neural and biointerfaces

Номер патента: US09592378B2. Автор: Bruce J. Gluckman,Balaji Shanmugasundaram. Владелец: PENN STATE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-03-14.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: CA2843828C. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2019-02-26.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: CA2843828A1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Lefort, Guillaume. Дата публикации: 2013-02-07.

Device with several reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: US9028760B2. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2015-05-12.

Probe system for real-time quantitative and qualitative analysis of biomaterial, reaction chamber with said probe system, and analysis method thereof

Номер патента: US20170327878A1. Автор: Sun Young PARK,Jong Pil Park,Mun Cheol Paek,Nam Joong Kim,Su Jin Ku,Jin Seok Noh,Lee Kyung Kim,Do Bu Lee. Владелец: K-Mac Bio Center Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Reaction chamber with covering system and epitaxial reactor

Номер патента: US20240271319A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Silvio PRETI,Francesco COREA,Stefano POLLI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-08-15.

CVD reaction chamber

Номер патента: US4596208A. Автор: Robert G. Wolfson,Stanley M. Vernon. Владелец: Spire Corp. Дата публикации: 1986-06-24.

Method of eliminating undesirable carbon product deposited on the inside of a reaction chamber

Номер патента: US4816113A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1989-03-28.

Plurality of reaction chambers in test cassette

Номер патента: RU2644476C2. Автор: ФАБРА Хорди КАРРЕРА,ГИБЕРТ Рафаэль БРУ,КАСАС Анна КОМЕНХЕС,САНЧЕЗ Хосе Антонио ГАРСИА. Владелец: Стат-Диагностика Энд Инновэйшн, С.Л.. Дата публикации: 2018-02-12.

Method and apparatus for continuously taking a hot gas sample to be analyzed from a reaction chamber

Номер патента: US4779466A. Автор: Wolfgang Ramsner,Karl Ruemer,Kurt Holzl. Владелец: Voestalpine AG. Дата публикации: 1988-10-25.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: US9382642B2. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-07-05.

Apparatus and method for improved delivery of vaporized reactant gases to a reaction chamber

Номер патента: US5451258A. Автор: Joseph T. Hillman,W. Chuck Ramsey. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-09-19.

Distributing light in a reaction chamber

Номер патента: WO2019056137A1. Автор: Fariborz Taghipour,Manoj Singh,Babak Adeli Koudehi,Alireza Jalali. Владелец: Acuva Technologies Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: CA3211291A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2022-09-15.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: WO2022189409A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2022-09-15.

Stacked showerhead assembly for delivering gases and rf power to a reaction chamber

Номер патента: WO1999053116A1. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Arizona, Inc.. Дата публикации: 1999-10-21.

Patch for microarray reaction chamber having adhesive means support and two or more adhesive materials

Номер патента: US20050136459A1. Автор: Jeong-Gun Lee,Hun-Joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-06-23.

Method for measuring temperature of film in reaction chamber

Номер патента: US09696209B2. Автор: Lu Chen,Yousen Li,Yanzhong Ma,Chaoqian Zhang,Steven Tianxiao Lee,Zhehao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2017-07-04.

Alkylation reaction chamber

Номер патента: US3982903A. Автор: Robert F. Anderson. Владелец: Universal Oil Products Co. Дата публикации: 1976-09-28.

Method for improving the reactant gas flow in a reaction chamber

Номер патента: US5096534A. Автор: Albert E. Ozias. Владелец: Epsilon Technology Inc. Дата публикации: 1992-03-17.

Exhaust reaction chamber for internal combustion engine

Номер патента: US4109463A. Автор: Satoru Ohata,Masao Watanabe,Kiyoyuki Itakura,Yohji Ishii. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-08-29.

Mixed-phase distributor for fixed-bed catalytic reaction chambers

Номер патента: US4140625A. Автор: Robert H. Jensen. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1979-02-20.

Biological reaction chamber apparatus

Номер патента: US3745091A. Автор: J Mccormick. Владелец: Miles Laboratories Inc. Дата публикации: 1973-07-10.

Spherical reactor having a plurality of cylindrical reaction chambers and method for carrying out a reaction using said spherical reactor

Номер патента: GB2110105A. Автор: Bunji Kinno,Jun Zanma,Tomoyoshi Nakano. Владелец: Toyo Engineering Corp. Дата публикации: 1983-06-15.

Reaction chamber and method for preparing preforms for optical fibers

Номер патента: US20060016224A1. Автор: Gilles Fonteneau,Catherine Boussard-Pledel,David Le Coq. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2006-01-26.

A fluidized bed reaction chamber comprising a tubular waterwall structure

Номер патента: MY194817A. Автор: Pentti Lankinen,John Q Murphy. Владелец: SUMITOMO SHI FW ENERGIA OY. Дата публикации: 2022-12-16.

Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers

Номер патента: US20040226507A1. Автор: Danny Dynka,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-18.

Apparatus for providing a gas mixture to a reaction chamber and method of using same

Номер патента: US20240141486A1. Автор: Eric Shero,Jereld Lee Winkler,Todd Robert Dunn,Michael Eugene Givens,Hannu Huotari,Paul Ma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: EP4323542A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: CA3215070A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2022-10-20.

Nanoscale reaction chambers and methods of using the same

Номер патента: AU2022258444A1. Автор: Wei-Ying Kuo,Joseph de Rutte,Sheldon ZHU. Владелец: Partillion Bioscience Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Nitric oxide water generation system having purifying part for automatically purifying water in reaction chamber

Номер патента: US20230257267A1. Автор: Kiman Hwangbo,Daehwa Hwangbo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-17.

Reaction chamber for amino-terminal sequence analysis of proteins or peptides

Номер патента: US5135720A. Автор: Toyoaki Uchida. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 1992-08-04.

Alkylation reaction chamber

Номер патента: CA1051809A. Автор: Robert F. Anderson. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1979-04-03.

Miniature reaction chamber and devices incorporating same

Номер патента: US6132580A. Автор: Richard A. Mathies,Adam T. Woolley. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2000-10-17.

Gas injection system for reaction chambers in CVD systems

Номер патента: US5819684A. Автор: Mcdonald Robinson,Mark R. Hawkins. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 1998-10-13.

Dehydrogenation reactions in narrow reaction chambers and integrated reactors

Номер патента: US20040199039A1. Автор: Gary Roberts,Anna Tonkovich,Matthew Schmidt,G. Chadwell,John Brophy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-07.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: CA2774503C. Автор: Xuan S. Bui,Toshiyuki Fujimaki,Shinji Tokudaiji,Yoshitake Okabe,Yoshitada Mizusawa,Anthony L. Hartman. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2021-06-29.

Gas injectors for reaction chambers in CVD systems

Номер патента: US5411590A. Автор: Mcdonald Robinson,Mark R. Hawkins. Владелец: Advanced Semiconductor Materials America Inc. Дата публикации: 1995-05-02.

Reaction chamber with covering system and epitaxial reactor

Номер патента: EP4352284A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Silvio PRETI,Francesco COREA,Stefano POLLI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-04-17.

Two-phase spraying device and reaction chamber for the preparation of a product containing ammonium orthophosphate

Номер патента: US4370304A. Автор: Petrus F. A. M. Hendriks,Arie Jansen,Willem B. van den Berg,Cornelis Hoek. Владелец: Unie Van Kunstmestfabrieken BV. Дата публикации: 1983-01-25.

Electrocoagulation reaction chamber and method

Номер патента: US20030070919A1. Автор: F. Gilmore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-17.

Reaction chamber, processing system and processing method

Номер патента: EP4305236A1. Автор: Martin LIDSTRAND. Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2024-01-17.

Microfluidic cartridge having a vent channel and method of filling a reaction chamber using same

Номер патента: WO2024036326A2. Автор: Patrick David ERB,Maxwell Pierce HENSLEY. Владелец: Canon Virginia, Inc.. Дата публикации: 2024-02-15.

Pin for holding and/or cooling of ceramic coatings in hot reaction chambers, and method of manufacturing the same

Номер патента: US4574713A. Автор: Norbert Ullrich,Reinhard Muller,Klaus Kohnen. Владелец: Krupp Koppers GmbH. Дата публикации: 1986-03-11.

Microfluidic cartridge having a vent channel and method of filling a reaction chamber using same

Номер патента: WO2024036326A3. Автор: Patrick David ERB,Maxwell Pierce HENSLEY. Владелец: Canon Virginia, Inc.. Дата публикации: 2024-03-14.

Electrode and reaction chamber for use in generation of non-thermal plasma

Номер патента: AU4534299A. Автор: Torfinn Johnsen. Владелец: Applied Plasma Physics AS. Дата публикации: 2000-01-24.

KIT FOR ANALYZING AND MONITORING A PARAMETER, BY MEANS OF A MOBILE SENSOR, OF A CHEMICAL OR BIOCHEMICAL OR BIOLOGICAL REACTION IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220073860A1. Автор: Caroff Tristan,BRULAIS Sébastien,GAUROY Martin,NIEF Nadège. Владелец: Commissariat A L'Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives. Дата публикации: 2022-03-10.

KIT FOR ANALYSIS AND MONITORING OF A PARAMETER, BY MEANS OF A MOBILE SENSOR, OF A CHEMICAL OR BIOCHEMICAL OR BIOLOGICAL REACTION IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: FR3113909B1. Автор: Tristan Caroff,Sébastien Brulais,Martin GAUROY,Nadège Nief. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2022-08-26.

A kind of adaptive matching method and system of microwave power source and reaction chamber

Номер патента: CN110311646A. Автор: 刘丹,傅历建,吕超飞. Владелец: GOSPELL DIGITAL TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-08.

Heating lamp brackets for reaction chambers of evaporation coating machines

Номер патента: US20020084391A1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Hung-Lin Ke,Muh-Lang Jang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2002-07-04.

Microreactor with vent channels for removing air from a reaction chamber

Номер патента: US09616423B2. Автор: Michele Palmieri,Gaetano Panvini. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-04-11.

Microreactor with vent channels for removing air from a reaction chamber

Номер патента: US09561504B2. Автор: Michele Palmieri,Gaetano Panvini. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-02-07.

Device for the synthesis of a polymer with extraction of a gaseous substance comprising a reaction chamber having at least one circular-cylindrical section

Номер патента: US09631051B2. Автор: Achim Stammer,Joachim Clauss,Ning Zhu,Gad Kory. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-04-25.

Device for sequentially dispensing liquid reagents to a reaction chamber

Номер патента: US20130109082A1. Автор: Simon Webster,Edward John Quinn,David Alistair Smith,Robert Harrand. Владелец: Avacta Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: US09855553B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2018-01-02.

Method for cell lysis and pcr within the same reaction chamber

Номер патента: US20130203120A1. Автор: Ingrid Hoffmann. Владелец: Roche Diagnostics Operations Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Manufacturing 1,2-dichloroethane, comprises cracking core hydrocarbonated source, separating into fractions, sending into chlorination reaction chamber and oxychlorination reaction chamber and separating from chambers

Номер патента: FR2880019A1. Автор: Michel Strebelle,Dominique Balthasart. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2006-06-30.

Reaction chamber heated device for oxygen generation

Номер патента: US3719456A. Автор: J Bode. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1973-03-06.

Device useful for carrying out gas phase reaction, comprises a casing defining a reaction chamber, first line section which opens into reaction chamber, and extends along a first longitudinal axis, and a second line section

Номер патента: DE102011116503A1. Автор: Michael Nold. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2013-04-25.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: US9063121B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2015-06-23.

A liquid vortex apparatus, a self cleaning chamber mechanism, an effluent abatement system, a reaction chamber cleaning apparatus, and a method for cleaning an effluent gas

Номер патента: TW497119B. Автор: David M Inori. Владелец: Adbanced Technology Materials. Дата публикации: 2002-08-01.

Tilting Reaction-chamber for Superphosphate.

Номер патента: GB191422645A. Автор: Herbert William Hall. Владелец: Individual. Дата публикации: 1915-03-11.

For being distributed the system and reaction chamber of gas phase and/or liquid phase in the reaction chamber

Номер патента: CN208771380U. Автор: E·尼德尔科恩,J·德尔特尔,D-J·维内尔. Владелец: Axens SA. Дата публикации: 2019-04-23.

Lining device for epitaxial reaction chamber and epitaxial reaction chamber

Номер патента: CN111850515B. Автор: 李晓军,袁福顺. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-16.

Electron beam reaction chamber

Номер патента: GB2157140A. Автор: Warren J Ramler,Richard G Daigle. Владелец: RPC Industries. Дата публикации: 1985-10-16.

Device for handling and analysis of multi-component mixtures, comprises two parallel reaction chambers, reaction chamber outlet side connected to high pressure separator, outlet line, and a gas collection container

Номер патента: DE102006034172B3. Автор: Alfred Haas,Uwe Vietze,Andreas Christian Möller. Владелец: HTE GmbH the High Throughput Experimentation Co. Дата публикации: 2007-09-20.

Heated Reaction Chamber For Processing A Biochip And Method For Controlling Said Reaction Chamber

Номер патента: US20090197778A1. Автор: Jana Lepschi,Jens Gohring,Stefan Heydenhaus,Manuel Ullrich. Владелец: ZENTERIS GMBH. Дата публикации: 2009-08-06.

A bioreactor comprising a reactor vessel having a mixing chamber separated by a partition of a reaction chamber generally located above the mixing chamber, where said chamber has an intake system and an outlet opening; method of mixing a tributary.

Номер патента: CL2011002773A1. Автор: Sjoerd Hubertus Jozef Vellinga,Douwe Frankena. Владелец: Paques IP BV. Дата публикации: 2012-02-17.

Segmented reaction chamber for radioisotope production

Номер патента: US11894157B2. Автор: Thomas Rockwell Mackie,Gregory Piefer. Владелец: Shine Technologies LLC. Дата публикации: 2024-02-06.

Segmented reaction chamber for radioisotope production

Номер патента: US20240145111A1. Автор: Thomas Rockwell Mackie,Gregory Piefer. Владелец: Shine Technologies LLC. Дата публикации: 2024-05-02.

DEVICE FOR THE INTRODUCTION OF REACTIVE GASES TO THE REACTION CHAMBER AND EPITAXIAL REACTOR IN WHICH THE INDICATED DEVICE IS USED

Номер патента: RU2007148476A. Автор: Джанлука ВАЛЕНТЕ,Франко ПРЕТИ,Аитторио ПОДЗЕТТИ,Натале СПЕЧИАЛЕ,Джанлука ВАЛЕНТЕ (IT),Франко ПРЕТИ (IT),Аитторио ПОДЗЕТТИ (IT),Натале СПЕЧИАЛЕ (IT). Владелец: Лпе Спа (It). Дата публикации: 2009-06-27.

METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM DISPERSED NITRIDE, INSTALLATION AND REACTION CHAMBER FOR ITS IMPLEMENTATION

Номер патента: RU2015152708A. Автор: Аскольд Рафаилович Бекетов,Андрей Александрович Елагин,Михаил Владимирович Баранов,Роман Александрович Шишкин,Валерия Сергеевна Кудякова. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина". Дата публикации: 2017-06-14.

Reaction chamber, processing system and processsing method

Номер патента: GB202103185D0. Автор: . Владелец: Trifilon AB. Дата публикации: 2021-04-21.

Fluid manipulation in a microfabricated reaction chamber system

Номер патента: AU2002356341A8. Автор: Frank Karlsen,Olaf SÖRENSEN,Klaus Drese. Владелец: NORCHIP AS. Дата публикации: 2003-07-30.

Catalytic reaction chamber for grafity flowing catalyst particles

Номер патента: GB2013518B. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1983-01-12.

Fuel reaction chambers

Номер патента: US2869321A. Автор: Welch Douglas Francis,Randall Kenneth Barrington. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1959-01-20.

DEVICE WITH SEVERAL REACTION CHAMBERS FOR IMPLEMENTING LIQUID/SOLID OXIDATION-REDUCTION REACTIONS IN A FLUIDIZED BED

Номер патента: US20140219877A1. Автор: Lançon Franck. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-07.

Dehydrogenation reactions in narrow reaction chambers and integrated reactors

Номер патента: US7405338B2. Автор: John H. Brophy,Anna Lee Tonkovich,G. Bradley Chadwell,Matthew B. Schmidt,Gary Roberts. Владелец: Velocys Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Dehydrogenation reactions in narrow reaction chambers and integrated reactors

Номер патента: KR101094894B1. Автор: 존 에이치 브로피,애나 리 톤코비치,개리 로버츠,매튜 비 슈미트,지 브래들리 챠드웰. Владелец: 벨로시스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2011-12-15.

DEVICE TO TAKE REACTION GAS IN A REACTION CHAMBER AND EPITAXIAL REACTOR THAT USES IT

Номер патента: ITMI20050962A1. Автор: Natale Speciale,Franco Preti,Gianluca Valente,Vittorio Pozzetti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2006-11-26.

Circulating fluidized bed reactor for gas-solid reactions has a centrifugal separator and an integrated acceleration duct located in the upper part of the reaction chamber

Номер патента: FR2845620A1. Автор: Daniel Baglione. Владелец: Alstom Schweiz AG. Дата публикации: 2004-04-16.

Device for cementation by depression of a marginal zone of a metallic component is performed in a reaction chamber fed by a reaction gas injection system providing a homogeneous concentration

Номер патента: FR2832735A1. Автор: Steffen Hein,Nils Lippmann. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2003-05-30.

DEVICE WITH MULTIPLE REACTION CHAMBERS FOR THE IMPLEMENTATION OF FLUIDIZED BED OXYDO-REDUCTION LIQUID / SOLID REACTIONS

Номер патента: FR2978680B1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Franck Lancon. Дата публикации: 2014-02-28.

Modular fluidised reactor for a gas solid reaction comprises a reaction chamber coupled to a centrifugal separator, for boiler applications

Номер патента: FR2873790A1. Автор: Corinne Beal,Jean Xavier Morin,Jean Luc Lascombes. Владелец: Alstom Technology AG. Дата публикации: 2006-02-03.

Dehydrogenation reactions in narrow reaction chambers and integrated reactors

Номер патента: CA2521547A1. Автор: John H. Brophy,Anna Lee Tonkovich,G. Bradley Chadwell,Matthew B. Schmidt,Gary Roberts. Владелец: Gary Roberts. Дата публикации: 2004-10-28.

Device provided with a reaction chamber in which pre-heated fluid reagents are introduced for generating a high-temperature reaction

Номер патента: EP1883603A2. Автор: Didier Grouset,Samuel Lecoq,Christophe Hoguet. Владелец: N Ghy SA. Дата публикации: 2008-02-06.

Plasma scrubber supplying reaction water to the reaction chamber and method for treating waste gas using the same

Номер патента: KR102522762B1. Автор: 이세희,윤성식,최락진,김근석,이준유,서영원,박옥석. Владелец: 영진아이엔디(주). Дата публикации: 2023-04-19.

Substrate reactor with adjustable injectors for mixing gases within reaction chamber

Номер патента: US8486191B2. Автор: Rand Conner,John Disanto,James A. Alexander,Ravinder Aggarwal. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2013-07-16.

DEVICE WITH MULTIPLE REACTION CHAMBERS FOR THE IMPLEMENTATION OF FLUIDIZED BED OXYDO-REDUCTION LIQUID / SOLID REACTIONS

Номер патента: FR2978680A1. Автор: Franck Lancon. Владелец: Franck Lancon. Дата публикации: 2013-02-08.

CATALYST FOR CHEMICAL PROCESSES 1 The invention relates to catalysts for chemical processes, for example for the oxidation of ethylene, containing the active phase in the carrier. Catalysts for chemical processes containing the active phase deposited on the carrier are known. chemical process to the formation of overheated catalyst zones or "GQp points". ' Due to local overheating of the catalyst, it is impossible to precisely maintain the desired temperature that is optimal for this process. Temperature fluctuations during the chemical process can lead not only to a decrease in the yield of the target product, but also to the appearance of undesirable products resulting from the development of side reactions. The presence of “hot spots” also increases the amount of carbonaceous deposits on the catalyst surface, thereby reducing its service life. Local overheating of the catalyst causes sintering of the surface, which disrupts its structure. To improve the heat transfer properties of the catalysts, a catalyst is proposed consisting of an active phase in the form of solid particles pressed into the metal strip of lesser hardness than the active phase, which is then given the desired geometric configuration providing a good catalyst conductivity with reagent-5 and low resistance to the flow through the reactor. The active phase is deposited on one or both sides of the metalogical strip. . Catalytic particles are pre-screened through standard 10-100 mesh sieves and then applied to the metal sheet by rolling. The basis for the active phase can be any metal, less solid than the active phase, inert with respect to the reactants and products obtained in the chemical process being carried out, as well as with high thermal conductivity. The metal strip with the active phase applied to it is attached to the geometric 20 configuration, e.g., star-shaped, spiral-shaped, etc., providing good contact and heat transfer when this configuration is set as a liner in the reactor. In the drawings, variations of configurations25 of metal liners for a catalyst supported on a metal catalyst are given. FIG. 1 is given a section of a metal sheet with a supported catalyst; in fig. 2 shows a reaction chamber for carrying out a chemical process, a top view; in fig. 3—

Номер патента: SU434641A3. Автор: Иностранцы изобретени,Бруно Феррарио Паоло Монталенти Тициано Паоло Делла Порта. Владелец: Сайерс Джеттерс С.п А.. Дата публикации: 1974-06-30.

Device having a plurality of reaction chambers for implementing liquid/solid oxidation-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: PL2739384T3. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2016-02-29.

Reaction pressure controller for servo-assisted steering - utilises excessive pressure of oil in reaction chamber to displace EM valve and reduce inlet aperture

Номер патента: DE4109571A1. Автор: Yasuyoshi Emori,Yukimitsu Minamibata. Владелец: Jidosha Kiki Co Ltd. Дата публикации: 1991-09-26.

Device provided with a reaction chamber in which pre-heated fluid reagents are introduced for generating a high-temperature reaction

Номер патента: WO2006103369A3. Автор: Didier Grouset,Samuel Lecoq,Christophe Hoguet. Владелец: N Ghy. Дата публикации: 2006-11-16.

Apparatus for gas-phase fluorination of fuel tanks and associated plastic parts comprises a reaction chamber and a device for removing hydrogen fluoride from the reaction gas, e.g. a calcium carbonate filter

Номер патента: DE10159940A1. Автор: Rolf Van Bonn. Владелец: Messer Griesheim GmbH. Дата публикации: 2003-06-26.

SPHERICAL REACTOR WITH A VARIETY OF CYLINDRICAL REACTION CHAMBERS AND METHOD FOR CARRYING OUT REACTIONS IN THIS REACTOR

Номер патента: DE3240089A1. Автор: Bunji Kinno,Tomoyoshi Nakano,Jun Chiba Zanma. Владелец: Toyo Engineering Corp. Дата публикации: 1983-10-13.

Reaction chamber (foundry) for the thermal reaction of metals

Номер патента: GR20000100197A. Автор: Alfred Graf,Gunther Koblmuller. Владелец: P.C.Wagner Elektro-Thermit Schweissgesellschaft M.B.H.. Дата публикации: 2001-02-28.

Device with several reaction chambers for the execution of liquid / solid oxide-reduction reactions in a fluidized bed

Номер патента: ES2553793T3. Автор: Franck Lancon. Владелец: Cleanmetals Sa. Дата публикации: 2015-12-11.

Method of indirect heating in a reaction chamber for endothermic reaction and apparatus for carrying it out

Номер патента: JPH0714473B2. Автор: マウリツィオ・ベツェッチェリ,フランチェスコ・ジャコッベ,ロレーナ・モスカ. Владелец: キネティクス・テクノロジー・インターナショナル・グループ・ビー・ヴィー. Дата публикации: 1995-02-22.

REACTIONAL CHAMBER FOR CATALYTIC REACTIONS COMPRISING A COMPLETE MIXING DEVICE FOR PROCESSED GASES

Номер патента: FR2472412A1. Автор: Noboru Hashimoto,Mitsuo Akatsu. Владелец: JGC Corp. Дата публикации: 1981-07-03.

A portable micro polymerase chain reaction (pcr) device based on a low temperature co-firing ceramic (ltcc) micro chip comprising reaction chamber, heater, heater temperature control, communication interface optical detection, and the method of monitoring and controlling it.

Номер патента: CL2008003008A1. Автор: Jagannath Manjula,Mondal Sudip,Viswanathan Sathyadeep,Jayaraman Raviprakash,Krishnakumar Kishore,Bhaskaran Nair Chandrasekhar,Venkataraman Venkatakrishnan,Venkata Subbarao Pillarisetti,Mahiladevi Radhakrishnan Renjith,Chennakrishnaiah Shilpa,Kaipa Narasimh Sankaranand. Владелец: Bigtec Private Ltd. Дата публикации: 2009-10-02.

Device for introducing reaction gases into a reaction chamber and epitaxial reactor which uses said device

Номер патента: WO2006125777A1. Автор: Natale Speciale,Franco Preti,Gianluca Valente,Vittorio Pozzetti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2006-11-30.

Engine exhaust reaction chamber

Номер патента: AU1683376A. Автор: S. Kajitani I. and Rosati Y Yamasaki. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1978-02-16.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: AU2020418169B2. Автор: Hwai-Jyh Michael Yang,Erico von Bueren,Amit D. Shah,Andrew Watkins,Chester Henderson,Scott Webster,Nicholas J. BOOKER,Rebecca J. BARTEL. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: WO2010119430A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: Lpe S.P.A.. Дата публикации: 2010-10-21.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: CN102395714B. Автор: 斯瑞尼瓦斯·亚拉加达,纳塔莱·斯佩恰莱,弗兰科·佩雷蒂,马里奥·佩雷蒂. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2014-07-09.

Plasma reaction chamber having multi arrayed vacuum chamber

Номер патента: KR100576093B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2006-05-03.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor using the chamber

Номер патента: EP2419552B1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2016-07-06.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: CN102395714A. Автор: 斯瑞尼瓦斯·亚拉加达,纳塔莱·斯佩恰莱,弗兰科·佩雷蒂,马里奥·佩雷蒂. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-03-28.

Reaction chamber of an epitaxial reactor and reactor that uses said chamber

Номер патента: EP2419552A1. Автор: Srinivas Yarlagadda,Natale Speciale,Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-02-22.

WATER TREATMENT BY SUSPENSION OF MATERIALS TO BE ELIMINATED AND AUTOMATIC TRANSFER OF THE SUSPENSION FROM A SEPARATION CHAMBER TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: FR2322829A1. Автор: . Владелец: Agrotechnika NP. Дата публикации: 1977-04-01.

Miniaturizable hydrogen generator, e.g. for supplying fuel cell, has mixing chamber connected to water supply, metal hydride-based fuel store and catalyst-containing reaction chamber

Номер патента: FR2937028A1. Автор: Frederic Gaillard,Jerome Delmas,Philippe Capron,Isabelle Rougeaux,Emmanuel Damery. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 2010-04-16.

Method of pre-oxidation of strip steel in a reaction chamber arranged in a furnace chamber

Номер патента: KR102445685B1. Автор: 프랭크 마슐러,루츠 퀴멜,장 피에르 크뤼츤. Владелец: 에스엠에스 그룹 게엠베하. Дата публикации: 2022-09-21.

Method for the preoxidation of strip steel in a reaction chamber arranged in a furnace chamber

Номер патента: EP3710605B1. Автор: Lutz Kümmel,Frank Maschler,Jean-Pierre Crutzen. Владелец: SMS group GmbH. Дата публикации: 2023-01-25.

Chamber assembly and reaction chamber

Номер патента: WO2019218765A1. Автор: 陈鹏,李春雷,丁安邦,师帅涛,史小平,兰云峰. Владелец: 北京北方华创微电子装备有限公司. Дата публикации: 2019-11-21.

Foamed plastics mass mixing gun - has preliminary and main foaming chambers followed by reaction chamber fitted with spray nozzle

Номер патента: FR2407750A1. Автор: . Владелец: Weber Adolphe. Дата публикации: 1979-06-01.

Rotary/linear actuator for closed chamber, and reaction chamber utilizing same

Номер патента: WO1992008068A1. Автор: James Mcdiarmid. Владелец: Rapro Technology, Inc.. Дата публикации: 1992-05-14.

Chamber assembly and reaction chamber

Номер патента: KR102439759B1. Автор: 춘레이 리,펑 천,슈아이타오 쉬,안방 딩,시아오핑 쉬,윤펑 란. Владелец: 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.. Дата публикации: 2022-09-02.

Photocatalytic reactor useful in fogging device to treat water, comprises catalytic layer, reaction chamber, and holding unit arranged at first side of layer to hold other side of layer to be in contact with inner walls of chamber

Номер патента: FR2957275A1. Автор: Gilles Delattre. Владелец: Delattre Industrie Developpement en Abrege DID SARL. Дата публикации: 2011-09-16.

Reaction Chamber for Exothermic Material

Номер патента: US20130101470A1. Автор: Mazaudier Fabrice. Владелец: Commissariat A L'Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives. Дата публикации: 2013-04-25.

System and Method Using a Microwave-Transparent Reaction Chamber for Production of Fuel from a Carbon-Containing Feedstock

Номер патента: US20130156655A1. Автор: Van Thorre Douglas,Catto Michael,Aaron Sherman. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-20.

PROCESSES AND SYSTEMS FOR REDUCING UNDESIRED DEPOSITS WITHIN A REACTION CHAMBER ASSOCIATED WITH A SEMICONDUCTOR DEPOSITION SYSTEM

Номер патента: US20130160802A1. Автор: Bertram,JR. Ronald Thomas. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2013-06-27.

METHOD FOR CELL LYSIS AND PCR WITHIN THE SAME REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130203120A1. Автор: Hoffmann Ingrid. Владелец: ROCHE DIAGNOSTICS OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2013-08-08.

System and Method for Renewable Fuel Using Sealed Reaction Chambers

Номер патента: US20130205650A1. Автор: Strimling Jon. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-15.

APPARATUS, METHOD AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130269608A1. Автор: Maula Jarmo,Söderlund Mikko,Soininen Pekka. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2013-10-17.

Plurality of Reaction Chambers in a Test Cartridge

Номер патента: US20130302809A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: STAT-DIAGNOSTICA & INNOVATION, S.L.. Дата публикации: 2013-11-14.

METHOD FOR IN SITU CLEANING OF MOCVD REACTION CHAMBER

Номер патента: US20140083451A1. Автор: ZHANG YING,Wang Yang,Meng Shuang,Du Zhiyou,YIN Gerald Zheyao. Владелец: ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC, SHANGHAI. Дата публикации: 2014-03-27.

METHOD FOR IN SITU CLEANING OF MOCVD REACTION CHAMBER

Номер патента: US20140083452A1. Автор: ZHANG YING,Wang Yang,Meng Shuang,Du Zhiyou,YIN Gerald Zheyao. Владелец: ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC, SHANGHAI. Дата публикации: 2014-03-27.

Reaction chamber with removable liner

Номер патента: US20160002781A1. Автор: Jill S. Becker,Roger R. Coutu,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2016-01-07.

FUSED QUARTZ GLASS REACTION CHAMBER AND RELATED METHODS SYSTEMS, AND APPARATUS

Номер патента: US20200003715A1. Автор: Barney Jason Locke. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

METHOD AND SYSTEM TO REDUCE OUTGASSING IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150017319A1. Автор: Jung Sung-Hoon,Raisanen Petri,Liu Eric Jen Cheng,Schmotzer Mike. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

MICROFLUIDIC DEVICE INCLUDING AN AMPLIFICATION REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210017573A1. Автор: BORDY Thomas,BOURDAT Anne-Gaelle,TOUTAIN Remi. Владелец: Commissariat a I'Energie Atomique et aux Energies Alternatives. Дата публикации: 2021-01-21.

REACTION CHAMBER FOR VAPOR DEPOSITION APPARATUS

Номер патента: US20200017964A1. Автор: Huang Tsan-Hua,LIANG Yu-Sheng,CHIU Chien-Chin,TAKAHIRO Oishi,NOBORU Suda,JUNJI Komeno. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-16.

METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF FILM IN REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150025832A1. Автор: Chen Lu,Li Yousen,Zhang Chaoqian,Ma Yanzhong,Chen Zhehao,Tianxiao Lee Steven. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-22.

EPITAXIAL DEPOSITION REACTOR WITH REFLECTOR EXTERNAL TO THE REACTION CHAMBER AND COOLING METHOD OF A SUSCEPTOR AND SUBSTRATES

Номер патента: US20200024768A1. Автор: Preti Silvio,OGLIARI Vincenzo,PRETI Franco. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-23.

MICROFLUIDIC REACTION CHAMBER FOR AMPLIFICATION OF NUCLEIC ACIDS

Номер патента: US20220048026A1. Автор: Choy Si-lam,Ely Hilary,Lahmann John. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2022-02-17.

COMPACT AND SELECTIVE REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220057142A1. Автор: Bailey Robert,Marcotte Bryan,Socha Jeffrey,Poon King,Rossmeisl Mark. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

SHOWERHEAD ASSEMBLY FOR DISTRIBUTING A GAS WITHIN A REACTION CHAMBER AND A METHOD FOR CONTROLLING THE TEMPERATURE UNIFORMITY OF A SHOWERHEAD ASSEMBLY

Номер патента: US20190040529A1. Автор: Winkler Jereld Lee,White Carl Louis,Verbaas Melvin,Shugrue John Kevin. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

ADDRESSABLE MICRO-REACTION CHAMBER ARRAY

Номер патента: US20220062850A1. Автор: Peumans Peter,Jones Benjamin,Taher Ahmed,VERGAUWE Nicolas. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

REACTION CHAMBER FOR A DEPOSITION REACTOR WITH INTERSPACE AND LOWER CLOSING ELEMENT AND REACTOR

Номер патента: US20220074046A1. Автор: MESCHIA Maurilio,Preti Silvio,Corea Francesco,CRIPPA Danilo,TOKUDA Yuichiro. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-10.

REACTION CHAMBER FOR AN EPITAXIAL REACTOR OF SEMICONDUCTOR MATERIAL WITH NON-UNIFORM LONGITUDINAL SECTION AND REACTOR

Номер патента: US20220074048A1. Автор: MESCHIA Maurilio,Preti Silvio,Corea Francesco. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-10.

SELF-METERING OF FLUID INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20170065980A1. Автор: Nelson William M.,de Vazeille Aymeric Randanne,Armantrout Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-09.

REFLECTIVE REACTION CHAMBERS FOR USE IN SYSTEMS FOR RAPID ANALYSIS OF BIOLOGICAL SAMPLES

Номер патента: US20180066300A1. Автор: WILLIAMS Marvin R.,MCBRAIRTY Charles,PFAUTZ Daniel W.,ZUPANCIC Thomas J.,WEIMAN Andrew. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

REACTION CHAMBER AND ASSEMBLY METHOD

Номер патента: US20210071085A1. Автор: MOZZARDI Fabrizio,TOSTO Luca. Владелец: WALTER TOSTO SPA. Дата публикации: 2021-03-11.

AUTOMATED STAINING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220090994A1. Автор: HARTMAN ANTHONY L.,BUI XUAN S.,FUJIMAKI TOSHIYUKI,TOKUDAIJI SHINJI,OKABE YOSHITAKE,MIZUSAWA YOSHITADA. Владелец: Sakura Finetek U.S.A., Inc.. Дата публикации: 2022-03-24.

AUTOMATED STAINING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150111202A1. Автор: HARTMAN ANTHONY L.,BUI XUAN S.,FUJIMAKI TOSHIYUKI,TOKUDAIJI SHINJI,OKABE YOSHITAKE,MIZUSAWA YOSHITADA. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-23.

INJECTOR CONFIGURED FOR ARRANGEMENT WITHIN A REACTION CHAMBER OF A SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220170156A1. Автор: de Ridder Chris G. M.,Jdira Lucian C.. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-02.

MICROREACTOR WITH VENT CHANNELS FOR REMOVING AIR FROM A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160114321A1. Автор: PALMIERI Michele,Panvini Gaetano. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: US20160115592A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2016-04-28.

REACTION CHAMBER FOR A CHEMICAL REACTOR, AND CHEMICAL REACTOR CONSTRUCTED THEREFROM

Номер патента: US20190111406A1. Автор: Mleczko Leslaw,Buchholz Sigurd,Boos Karl-Robert,FALSS Sebastian. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

REACTION CHAMBER FOR DEPOSITION OF A SEMICONDUTOR LAYER ON THE PLURALITY SUBSTRATES IN BATCHES

Номер патента: US20150122178A1. Автор: Vadadi Zsolt,Strausz Tamas,Nemeth Peter. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2015-05-07.

Apparatus and Method for Delivering a Gaseous Precursor to a Reaction Chamber

Номер патента: US20170121814A1. Автор: Caymax Matty. Владелец: IMEC VZW. Дата публикации: 2017-05-04.

DEVICE FOR SYNTHESIZING A POLYMER WITH REDUCED FORMATION OF DEPOSITS IN THE REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160130398A1. Автор: Stammer Achim,Kory Gad,Clauss Joachim,ZHU Ning,Biedasek Silke,Witt Uwe. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-12.

Pyrolysis Oil Made with a Microwave-Transparent Reaction Chamber for Production of Fuel from an Organic-Carbon-Containing Feedstock

Номер патента: US20140208638A1. Автор: Catto Michael L.,Van Thorre Douglas M.. Владелец: . Дата публикации: 2014-07-31.

Char Made with a Microwave-Transparent Reaction Chamber for Production of Fuel from an Organic-Carbon-Containing Feedstock

Номер патента: US20140208639A1. Автор: Catto Michael L.,Van Thorre Douglas M.. Владелец: . Дата публикации: 2014-07-31.

PREPARATION OF REACTION CHAMBERS WITH DRIED PROTEINS

Номер патента: US20140212985A1. Автор: Jacobs Antonius Johannes Josephus Maria. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2014-07-31.

METHOD AND SYSTEM TO REDUCE OUTGASSING IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20150140210A1. Автор: Jung Sung-Hoon,Raisanen Petri,Liu Eric Jen Cheng,Schmotzer Mike. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-21.

REACTION CHAMBER FOR A CHEMICAL REACTOR, AND CHEMICAL REACTOR CONSTRUCTED THEREFROM

Номер патента: US20170136440A1. Автор: Mleczko Leslaw,Buchholz Sigurd,Boos Karl-Robert,FALSS Sebastian. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

METHOD AND DEVICE FOR INTRODUCING REACTIVE GASSES INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160145099A1. Автор: Tautz Hanno. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-26.

Method of Using A Reaction Chamber for Beneficiation

Номер патента: US20170145331A1. Автор: Tait Carleton Drew,Scalzo Philip James. Владелец: BIOMASS ENERGY ENHANCEMENTS LLC. Дата публикации: 2017-05-25.

System and Method for Renewable Fuel Using Sealed Reaction Chambers

Номер патента: US20160160124A1. Автор: Strimling Jon. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

DISTRIBUTING LIGHT IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210187149A1. Автор: TAGHIPOUR Fariborz,Jalali Alireza,ADELI KOUDEHI Babak,SINGH Manoj. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

PRINTING OF INK DROPLETS COMBINED IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200156370A1. Автор: JEUTÉ Piotr. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

DEVICE FOR THE SYNTHESIS OF A POLMER WITH EXTRACTION OF A GASEOUS SUBSTANCE COMPRISING A REACTION CHAMBER HAVING AT LEAST ONE CIRCULAR-CYLINDRICAL SECTION

Номер патента: US20160200870A1. Автор: Stammer Achim,Kory Gad,Clauss Joachim,ZHU Ning. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-14.

DEVICE FOR THE ENERGY-OPTIMISED PRODUCTION OF FLUID EDDIES IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190193046A1. Автор: LEHMANN Jörg,LINDEN Olaf. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-27.

Mitigating Pyrophoric Deposits In Exhaust Piping During SIC CVI/CVD Processes By Introducing Water Vapor Into An Outlet Portion Of A Reaction Chamber

Номер патента: US20190194806A1. Автор: She Ying,Dardas Zissis A.,Filburn Thomas P.,Richards Gavin Charles,MENON NAVEEN. Владелец: GOODRICH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-27.

SYSTEMS AND METHODS FOR STABILIZING REACTION CHAMBER PRESSURE

Номер патента: US20210230746A1. Автор: Shiba Eiichiro. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

CONDUCTIVITY-BASED REACTION CHAMBER CONTROL

Номер патента: US20210239634A1. Автор: GOVYADINOV Alexander,Shkolnikov Viktor. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2021-08-05.

SYSTEM AND METHODS FOR ELECTROKINETIC LOADING OF SUB-MICRON-SCALE REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20190211389A1. Автор: Rothberg Jonathan M.,REARICK Todd,Lackey Jeremy,Fife Keith G.,Chen Guojun,Kabiri Ali,Schmid Gerard,Schultz Jonathan C.,Ghasemi Farshid,Goryanyov Alex. Владелец: Quantum-Si incorporated. Дата публикации: 2019-07-11.

REACTOR SYSTEM WITH MULTI-DIRECTIONAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20210246556A1. Автор: Mori Yukihiro. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-12.

GENERAL-PURPOSE RECONFIGURABLE CONDUIT AND REACTION CHAMBER MICROFLUIDIC ARRANGEMENTS FOR LAB-ON-CHIP AND MINIATURE CHEMICAL PROCESSING

Номер патента: US20170225163A1. Автор: Ludwig Lester F.. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Reaction Chamber For Chemical Vapor Apparatus

Номер патента: US20170233869A1. Автор: Byun Chul Soo,Han Man Cheol. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology. Дата публикации: 2017-08-17.

METHODS FOR DEPOSITING MATERIAL ONTO MICROFEATURE WORKPIECES IN REACTION CHAMBERS AND SYSTEMS FOR DEPOSITING MATERIALS ONTO MICROFEATURE WORKPIECES

Номер патента: US20150247236A1. Автор: Gealy F. Daniel,Dando Ross S.. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

Reaction chamber for supercritical water oxidation reactor

Номер патента: US20210278080A1. Автор: John Troy KRACZEK,Gordon Ray WHIPPLE,Paul James FREEMAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-09.

MONITORING OPERATION OF A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20160258844A1. Автор: Conner William Tuttle,Tepermeister Igor. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-08.

Method for Performing Uniform Processing in Gas System-Sharing Multiple Reaction Chambers

Номер патента: US20150267297A1. Автор: Shiba Eiichiro. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2015-09-24.

SYSTEM AND METHODS FOR ELECTROKINETIC LOADING OF SUB-MICRON-SCALE REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20210310066A1. Автор: Rothberg Jonathan M.,REARICK Todd,Lackey Jeremy,Fife Keith G.,Chen Guojun,Kabiri Ali,Schmid Gerard,Schultz Jonathan C.,Ghasemi Farshid,Goryaynov Alexander. Владелец: Quantum-Si incorporated. Дата публикации: 2021-10-07.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150283542A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

Plurality of Reaction Chambers in a Test Cartridge

Номер патента: US20150284771A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150284772A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

PLURALITY OF REACTION CHAMBERS IN A TEST CARTRIDGE

Номер патента: US20150284773A1. Автор: CARRERA FABRA Jordi,Comengés Casas Anna,Bru Gibert Rafael,Garcia Sánchez José Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-08.

Plurality of Reaction Chambers in a Test Cartridge

Номер патента: US20150284774A1. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2015-10-08.

TRAY DEVICE, REACTION CHAMBER AND MOCVD APPARATUS

Номер патента: US20150284846A1. Автор: Tu Ye. Владелец: Beijing NMC Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-10-08.

Method for Stabilizing Reaction Chamber Pressure

Номер патента: US20150284848A1. Автор: Nakano Ryu,Adachi Wataru. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2015-10-08.

AUTOMATED STAINING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20190271618A1. Автор: HARTMAN ANTHONY L.,BUI XUAN S.,FUJIMAKI TOSHIYUKI,TOKUDAIJI SHINJI,OKABE YOSHITAKE,MIZUSAWA YOSHITADA. Владелец: Sakura Finetek U.S.A., Inc.. Дата публикации: 2019-09-05.

METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING MATCHING PROCESS RESULTS AMONG MULTIPLE REACTION CHAMBERS

Номер патента: US20200285790A1. Автор: ZHANG Jihong,FU Jinsheng. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-10.

REACTION CHAMBERS FOR USE IN SYSTEMS FOR RAPID ANALYSIS OF BIOLOGICAL SAMPLES

Номер патента: US20160327487A1. Автор: WILLIAMS Marvin R.,MCBRAIRTY Charles,PFAUTZ Daniel W.,ZUPANCIC Thomas J.,ZENG Lingchun,WEIMAN Andrew,BRODY Richard S.,TRUSCOTT Anthony,BARANOWSKI Robert,KITTLE Joseph D.. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-10.

PROBE SYSTEM FOR REAL-TIME QUANTITATIVE AND QUALITATIVE ANALYSIS OF BIOMATERIAL, REACTION CHAMBER WITH SAID PROBE SYSTEM, AND ANALYSIS METHOD THEREOF

Номер патента: US20170327878A1. Автор: Park Sun Young,PARK Jong Pil,PAEK Mun Cheol,Kim Lee Kyung,Ku Su Jin,Lee Do Bu,Kim Nam Joong,Noh Jin Seok. Владелец: K-MAC BIO CENTER CORP.. Дата публикации: 2017-11-16.

APPARATUS AND METHOD RELATED TO REACTION CHAMBER WITH SHUTTER SYSTEM

Номер патента: US20160340780A1. Автор: Wang Wentao,Sullivan Timothy J.,Swan Paul,Sarin Michael C.. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-24.

System of Using a Reaction Chamber to Beneficiate Organic-Carbon-Containing Feedstock for Downstream Processes

Номер патента: US20150361368A1. Автор: Tait Carleton Drew,Scalzo Philip James,Catto Michael L.,Van Thorre Douglas M.. Владелец: BIOMASS ENERGY ENHANCEMENTS LLC. Дата публикации: 2015-12-17.

SELF-METERING OF FLUID INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200391214A1. Автор: Nelson William M.,de Vazeille Aymeric Randanne,Armantrout Kyle. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-17.

EMERGENCY FLOTATION DEVICE WITH CHEMICAL REACTION CHAMBER

Номер патента: US20200407031A1. Автор: SHOHAM Moshe,Hassidov Noam,SHOHAM Oriya,AZRIEL Matityahu. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

METHOD AND APPARATUS FOR INJECTING SOLIDS INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: DE2257669A1. Автор: William Lamont Calvert,Richard Herman Handwerk. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1973-06-14.

METHOD FOR MEASURING AGGLUTINATION OF ONE OR MORE PARTICLES IN A TARGET-INDUCED AGGLUTINATION ASSAY PERFORMED IN A REACTION CHAMBER, AND, KIT AND DEVICE FOR MEASURING ONE OR MORE PARTICLES AGGLUTINATION ASSAY IN A TARGET-INDUCED AGGLUTINATION ASSAY

Номер патента: BRPI0720361A8. Автор: De Kievit Peggy,U Dittmer Wendy,H Nieuwenhuis Jeroen,W Prins Menno,J Van Ijzendoorn Leonardus,J A Janssen Xander. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2015-10-13.

Method for measuring agglutination of one or more particles in a target-induced agglutination test performed in a reaction chamber

Номер патента: BRPI0720361A2. Автор: Wendy U Dittmer,Jeroen H Nieuwenhuis,Kievit Peggy De,Menno W Prins,Ijzendoorn Leonardus J Van,Xander J A Janssen. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2013-12-24.

APPARATUS FOR PROVIDING A GAS MIXTURE TO A REACTION CHAMBER AND METHOD OF USING SAME

Номер патента: US20220403513A1. Автор: Winkler Jereld Lee,Shero Eric James,Ma Paul. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-22.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: US8932543B2. Автор: Xuan S. Bui,Toshiyuki Fujimaki,Shinji Tokudaiji,Yoshitake Okabe,Yoshitada Mizusawa,Anthony L. Hartman. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2015-01-13.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: US10295444B2. Автор: Xuan S. Bui,Toshiyuki Fujimaki,Shinji Tokudaiji,Yoshitake Okabe,Yoshitada Mizusawa,Anthony L. Hartman. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2019-05-21.

Pumping facility connected to the multi-reaction chamber and method thereof

Номер патента: KR0183912B1. Автор: 김영선,박준식,김중기. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-05-01.

Multiple reaction chambers in test cartridge

Номер патента: JP6585119B2. Автор: ブルヒベルトラファエル,ブルヒベルトラファエル,カレラファブラホルディ,カレラファブラホルディ,コメンヘスカサスアナ,コメンヘスカサスアナ,アントニオガルシアサンチェスホセ,アントニオガルシアサンチェスホセ. Владелец: スタット−ダイアグノスティカアンドイノベーション，エス．エル．. Дата публикации: 2019-10-02.

For being distributed the system of gas phase and/or liquid phase in the reaction chamber

Номер патента: CN109894054A. Автор: E·尼德尔科恩,J·德尔特尔,D-J·维内尔. Владелец: Axens SA. Дата публикации: 2019-06-18.

Apparatus and method for delivering a gaseous precursor to a reaction chamber

Номер патента: EP3162914A1. Автор: Matty Caymax. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-05-03.

A kind of chemical industry reaction chamber

Номер патента: CN110433756A. Автор: 王晖. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-12.

Plurality Of Reaction Chambers In A Test Cartridge

Номер патента: KR102366452B1. Автор: 파브라 조르디 카레라,카사스 안나 코멘게스,기버트 라파엘 브루,산체즈 호세 안토니오 가르시아. Владелец: 스타트-다이아그노스티카 앤드 이노베이션, 에스.엘.. Дата публикации: 2022-02-23.

Tandem reactor system having an injectively-mixed backmixing reaction chamber, tubular-reactor, and axially movable interface

Номер патента: US7879296B2. Автор: Nathan A. Pawlak,Robert W. Carr,Roger J Grunch. Владелец: GAS TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2011-02-01.

Tandem Reactor System Having an Injectively-Mixed Backmixing Reaction Chamber, Tubular-Reactor, and Axially Movable Interface

Номер патента: US20070166212A1. Автор: Robert Carr,Nathan Pawlak,Roger Grunch. Владелец: GAS TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2007-07-19.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: EP3154674B1. Автор: Sigurd Buchholz,Leslaw Mleczko,Karl-Robert Boos,Sebastian FALSS. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2018-07-18.

Variable rate distribution gas flow reaction chamber

Номер патента: US5269847A. Автор: Wayne Johnson,Roger N. Anderson,Paul R. Lindstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1993-12-14.

Reaction chamber for real time pcr comprising capture probes and permitting detection of the pcr product by hybridisation without opening the pcr vessel

Номер патента: US20090191618A1. Автор: José REMACLE,Isabelle Alexandre,Heinz Koehn,Martin Seippel. Владелец: Eppendorf Array Technologies SA. Дата публикации: 2009-07-30.

Reaction chamber for real time PCR comprising capture probes and permitting detection of the PCR product by hybridisation without opening the PCR vessel

Номер патента: EP1788095B1. Автор: José REMACLE,Isabelle Alexandre,Heinz Koehn,Martin Seippel. Владелец: Eppendorf Array Technologies SA. Дата публикации: 2011-04-13.

Reaction chamber for real time PCR comprising capture probes and permitting detection of the PCR product by hybridisation without opening the PCR vessel

Номер патента: AU2007251538A1. Автор: José REMACLE,Isabelle Alexandre,Heinz Koehn,Martin Seippel. Владелец: Eppendorf Array Technologies SA. Дата публикации: 2007-11-22.

Multistage hydrogeneration operation reaction chamber with intemediate flash section

Номер патента: CN100489067C. Автор: A.J.戴尔博格,J.F.梅尔. Владелец: Chevron USA Inc. Дата публикации: 2009-05-20.

Reaction chamber

Номер патента: JP4974239B2. Автор: カーン，ピーター・エイ,アンダーソン，クリフォード・エル. Владелец: Amersham Bioscience AB. Дата публикации: 2012-07-11.

Microvolume biochemical reaction chamber

Номер патента: EP1346770A1. Автор: Bruno Sebastien c/o Corning Incorporated Caubet,Thierry c/o Corning Incorporated de Lumley,Olivier c/o Corning Incorporated Lobet,Jean-Pierre c/o Corning Incorporated Themont,Uwe Richard c/o Corning Incorporated Muller. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-09-24.

REACTION CHAMBER DEVICE FOR BIOLOGICAL EXAMINATIONS

Номер патента: DE2157150B2. Автор: James Benjamin Hinsdale IU. McCormick (V.StA.). Владелец: Miles Laboratories Inc. Дата публикации: 1973-01-25.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: CN103018081B. Автор: 藤牧俊幸,德大路伸二,冈部惠壮,水泽义忠,X·S·布伊,A·L·哈特曼. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2017-11-03.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: CN106687208A. Автор: S.布希霍尔茨,L.姆莱齐科,K-R.博斯,S.法尔斯. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2017-05-17.

Multiple reaction chambers in detection kit

Номер патента: CN105642378A. Автор: R·布鲁吉博特,J·卡雷拉法布拉,A·科门格斯卡萨斯,J·A·加西亚桑切斯. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2016-06-08.

System and method using a reaction chamber to beneficiate organic-carbon-containing feedstock for downstream processes

Номер патента: US9593447B2. Автор: Carleton Drew Tait,Philip James Scalzo. Владелец: BIOMASS ENERGY ENHANCEMENTS LLC. Дата публикации: 2017-03-14.

System of using a reaction chamber to beneficiate organic-carbon-containing feedstock for downstream processes

Номер патента: US9701918B2. Автор: Douglas M Van Thorre,Carleton Drew Tait,Michael L Catto,Philip James Scalzo. Владелец: BIOMASS ENERGY ENHANCEMENTS LLC. Дата публикации: 2017-07-11.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN107345293B. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-05.

Reaction chamber isolation check valve and gaseous fuel engine using same

Номер патента: US20020011232A1. Автор: Edward Gillis,Dan Ibrahim,Harold Ogg. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2002-01-31.

Reaction chamber for carbon nano tube with rupture disc

Номер патента: KR101115342B1. Автор: 김성수. Владелец: 금호석유화학 주식회사. Дата публикации: 2012-03-06.

Device for introducing materials into a reaction chamber

Номер патента: CN1884914A. Автор: 汉诺·陶茨. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2006-12-27.

Cleaning system, method, equipment and storage medium for reaction chamber of epitaxial furnace

Номер патента: CN114082729B. Автор: 刘欣,王鑫,王慧勇,毛朝斌,唐卓睿,孔倩茵. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-01.

Current monitoring method and device for heating lamp and reaction chamber

Номер патента: CN110376416B. Автор: 苏运坤. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-27.

Device for introducing into reaction chamber

Номер патента: SU598630A1. Автор: Галина Александровна Иванова,Николай Сидорович Веремейчук. Владелец: Предприятие П/Я Р-6707. Дата публикации: 1978-02-21.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR AND REACTOR THAT USES IT

Номер патента: IT1393695B1. Автор: Franco Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-05-08.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR AND REACTOR THAT USES IT

Номер патента: ITMI20090629A1. Автор: Franco Preti,Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2010-10-18.

Reaction chamber of an epitaxial reactor

Номер патента: EP2367964B1. Автор: Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2014-04-30.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: KR101901048B1. Автор: 지구르트 부흐홀츠,레슬라브 믈레츠코,칼-로베르트 보오스,제바스티안 팔쓰. Владелец: 바이엘 악티엔게젤샤프트. Дата публикации: 2018-09-20.

The reaction chamber of chemical reactor, and the chemical reactor thus constructed

Номер патента: CN106687208B. Автор: S.布希霍尔茨,L.姆莱齐科,K-R.博斯,S.法尔斯. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2018-12-21.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR

Номер патента: IT1392068B1. Автор: Franco Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2012-02-09.

Reaction chamber for atomic layer deposition

Номер патента: KR100408519B1. Автор: 조영진,김대식,이정현,민요셉. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2003-12-06.

Reactors, systems with reaction chambers, and methods for depositing materials onto micro-device workpieces

Номер патента: US20040173150A1. Автор: Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Device for depositing crystalline layers on crystalline substrates in the gas phase comprises a heated reaction chamber with substrate holders arranged in a circular manner on a support, heated sources, and a hydride feed line

Номер патента: DE10118130A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Gerd Strauch,Michael Heuken,Rainer Beccard. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2002-10-17.

Flow control valve and reaction chamber pressure control device

Номер патента: CN110500429B. Автор: 赵迪,陈正堂,郑文宁. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-15.

Structure of reaction chamber for semiconductor sputtering device

Номер патента: KR200471181Y1. Автор: 호 웬-친,초우 충-치,천 시우에-저. Владелец: 쉬 허 테크놀로지스 인코포레이티드. Дата публикации: 2014-02-21.

Reaction chamber of waste-gas dust eliminating equipment.

Номер патента: KR20000018918U. Автор: 원영식. Владелец: 원영식. Дата публикации: 2000-10-25.

Water effluent treatment plant reaction chambers subdivided into series of zones

Номер патента: DE4423051A1. Автор: Genannt Menningmann Jud Schulz. Владелец: ENVICON KLAERTECH VERWALT. Дата публикации: 1996-01-11.

Multiple reaction chambers in test cartridge

Номер патента: JP6375291B2. Автор: ファブラ，ホルディカレラ,ファブラ，ホルディカレラ,ヒベルト，ラファエルブル,ヒベルト，ラファエルブル,カサス，アナコメンヘス,カサス，アナコメンヘス,サンチェス，ホセアントニオガルシア,サンチェス，ホセアントニオガルシア. Владелец: スタット−ダイアグノスティカアンドイノベーション，エス．エル．. Дата публикации: 2018-08-15.

Hydrogenation of chlorosilane comprises contacting silicon-containing compound and hydrogen with surface of reaction chamber and surface of heater such that silicon carbide coating is formed in situ on the surfaces in first process step

Номер патента: DE102005046703A1. Автор: Uwe Dipl.-Chem.Dr. Pätzold,Anton Reisbeck,Manfred Surner. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2007-04-05.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: US20040217016A1. Автор: Tahir Khan. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2004-11-04.

Reaction chamber

Номер патента: US8999636B2. Автор: Rudolf Gilmanshin,Emilia Mollova,Vishal Patil. Владелец: Toxic Report LLC. Дата публикации: 2015-04-07.

Reaction chamber, and apparatus and system of collecting carbon nano tube having the same

Номер патента: KR100824301B1. Автор: 김성수,전종관. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2008-04-22.

Flow reaction chamber for sensor chips

Номер патента: DE10152690A1. Автор: Martin Mueller,Patric Zeltz,Dieter Pfeifer. Владелец: GENESCAN EUROP AG. Дата публикации: 2003-05-08.

Reaction chamber for processing biological samples, especially microarrays on object carriers, having magnetic or magnetizable base structures and spacing and pressing pieces

Номер патента: DE102004041062B4. Автор: Olaf Dipl.-Ing. Hoyer. Владелец: QUANTIFOIL INSTRUMENTS GMBH. Дата публикации: 2006-05-18.

A kind of gas reaction chamber preparing YBCO bands for MOCVD

Номер патента: CN106435526B. Автор: 刘青,李言荣,陶伯万,赵瑞鹏,张宇希. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2018-07-27.

DEPOSITION SYSTEMS COMPRISING CONFIGURED REACTION CHAMBERS FOR REALIZING IN SITU METROLOGY OPERATIONS AND RELATED METHODS

Номер патента: FR2984923B1. Автор: Ed Lindow,Ronald Thomas Bertram Jr,Claudio Canizares. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2014-11-07.

HYDROCARBON CRACKING PROCESS AND DEVICE IMPLEMENTING TWO SUCCESSIVE REACTIONAL CHAMBERS

Номер патента: FR2811327B1. Автор: Marcelin Espeillac,Pierre Crespin. Владелец: Total Raffinage Distribution SA. Дата публикации: 2002-10-25.

Catalytic reaction chamber for gravity-flowing catalyst particles - which are prevented from becoming pinned to its centre pipe by including apertures in the catalyst transfer conduits

Номер патента: FR2434648A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1980-03-28.

Chemiluminescent dose measuring appts. for atmospheric gas components - contains sync. detection system for measuring outputs of photomultipliers sensing luminescence in reaction chambers

Номер патента: FR2495775A1. Автор: Louis Charpenet. Владелец: Agence National de Valorisation de la Recherche ANVAR. Дата публикации: 1982-06-11.

Drum brake with regulated couple - has common circuits between pilot, work and reaction chambers incorporating flow control valve

Номер патента: FR2517397A1. Автор: Jean-Jacques Carre,Pierre Pressaco,Gerard Volan. Владелец: DBA. Дата публикации: 1983-06-03.

INTERNAL COMBUSTION ENGINE WITH PERFECTED EXHAUST GAS REACTION CHAMBERS

Номер патента: FR2327399A1. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-06.

Fusible valve for motor vehicle internal combustion engine cooling circuit has reaction chamber with locking spring and piloted control for forced cooling by full opening of valves

Номер патента: FR2816358A1. Автор: Alain Bourgin. Владелец: Alain Bourgin. Дата публикации: 2002-05-10.

Releasing pressure from reactors for vaporising fuels in dust form - by contacting hot gases with cooling shield surrounding reaction chamber

Номер патента: FR2437437A1. Автор: . Владелец: Brennstoffinstitut Freiberg. Дата публикации: 1980-04-25.

Device for purging a reaction chamber containing a corrosive gas

Номер патента: FR2652146A1. Автор: Pata Martial,Gossin Alain. Владелец: Plastic Omnium SE. Дата публикации: 1991-03-22.

DEPOSITION SYSTEMS COMPRISING CONFIGURED REACTION CHAMBERS FOR REALIZING IN SITU METROLOGY OPERATIONS AND RELATED METHODS

Номер патента: FR2984923A1. Автор: Ed Lindow,Ronald Thomas Bertram Jr,Claudio Canizares. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2013-06-28.

Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers

Номер патента: US20080029028A1. Автор: Demetrius Sarigiannis,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-02-07.

Introducing liq. phase reactants into reaction chamber - by passing liq. into vaporiser contg. microporous packing then transporting vapour to reactor using carrier gas

Номер патента: FR2692597A1. Автор: Lindfors Sven,Soininen Pekka,Suntola Tuomo,Tammenmaa Markku,Lujala Vesa. Владелец: Mikrokemia Oy. Дата публикации: 1993-12-24.

STEERING DEVICE HAVING LOW DIMENSIONAL AND EASY TO ASSEMBLE REACTION CHAMBERS

Номер патента: FR2459750A1. Автор: Yoichi Sato,Masao Nishikawa,Takashi Aoki. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1981-01-16.

THERMOCOMPRESSOR USING A FREE PISTON FLOATING BETWEEN REACTION CHAMBERS.

Номер патента: NL7709236A. Автор: . Владелец: Schuman Mark. Дата публикации: 1978-03-01.

Air intake assembly and reaction chamber

Номер патента: CN106702350B. Автор: 李兴存,韦刚,成晓阳. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-31.

Apparatus for cleaning exhaust portion of chemical reaction chamber

Номер патента: KR100511525B1. Автор: 장덕현. Владелец: 주식회사 테라텍. Дата публикации: 2005-09-01.

INSULATED EXHAUST REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL168583C. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1982-04-16.

Reaction chamber for carbon nano tube with ground member

Номер патента: KR100998071B1. Автор: 심재원,김성수. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2010-12-03.

Reaction chamber for removing so 2 and no x from a stream of industrial flue gases by radiation

Номер патента: PL174442B1. Автор: Andrzej G. Chmielewski,Zbigniew Zimek. Владелец: Inst Fiziki Jadrowej. Дата публикации: 1998-07-31.

Conductivity-based reaction chamber control

Номер патента: WO2020032958A1. Автор: Alexander Govyadinov,Viktor Shkolnikov. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2020-02-13.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: IL249301A0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2017-02-28.

The public dry pail latrine reaction chamber temperature control method of ecology based on FPGA

Номер патента: CN110515405A. Автор: 肖夏,刘冠聪. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2019-11-29.

Reaction chamber with auto experimental equipment of pollutant for evaluating indoor air pollutant

Номер патента: KR101255192B1. Автор: 정호철,김영섭,천영민,최항,문경환. Владелец: 천영민. Дата публикации: 2013-04-22.

INSULATED EXHAUST REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL168583B. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1981-11-16.

Reaction chamber especially for Atomic Laver deposition

Номер патента: DE102013020106A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-11.

Method for improving transfer in a biological reaction chamber

Номер патента: WO2002002734A1. Автор: Jeremy Pruvost,Jack Legrand,Arnaud Muller-Feuga,Patrick Legentilhomme,Roland Le Guedes. Владелец: Institut Francais de Recherche pour L'exploitation de la Mer (IFREMER). Дата публикации: 2002-01-10.

Microfluidic device including a reaction chamber for amplification

Номер патента: EP3766581A1. Автор: Thomas Bordy,Anne-Gaelle Bourdat,Rémi TOUTAIN. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2021-01-20.

Gas distributing plate, and reaction chamber including the same, and apparatus treating substrate including the same

Номер патента: KR102132295B1. Автор: 황지현,김진원,오세용,주현호. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2020-07-09.

Reaction chamber suitable for remote plasma cleaning, deposition equipment and cleaning method

Номер патента: CN111471980B. Автор: 史小平,兰云峰,王勇飞,张文强,纪红,赵雷超,秦海丰. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-27.

Box with several reaction chambers and electrodes

Номер патента: ES2630010T3. Автор: Andreas WIRTH,Ludger Altrogge,Andreas Heinze,Timo Gleissner,Herbert Müller-Hartmann. Владелец: LONZA COLOGNE GMBH. Дата публикации: 2017-08-17.

Device for the perfusion of reaction chambers, comprises a storage tank for the intake having excess pressure, a storage tank for the outflow having lower pressure, level sensors arranged in the tanks, and/or a controllable pump

Номер патента: DE102007007046A1. Автор: Thorsten Voss,Wolfgang Dr. Tappe,Ansgar Weuthen. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH. Дата публикации: 2008-08-21.

Energy producing fluid, and its use for feeding a reaction chamber with combustible material

Номер патента: CA1253342A. Автор: Olivier Francois,Robert Wang,Gerard Antonini,Alain Touret. Владелец: Creusot Loire SA. Дата публикации: 1989-05-02.

PROCESS AND BURNER WITH REACTION CHAMBER FOR THE COMBUSTION OF GASEOUS FUELS AND SMOKE

Номер патента: BE814029R. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1974-08-16.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN107345293A. Автор: 黎俊希. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: CA2952110A1. Автор: Sigurd Buchholz,Leslaw Mleczko,Karl-Robert Boos,Sebastian FALSS. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2015-12-23.

Processing method of quartz window of etching machine reaction chamber

Номер патента: CN114536158A. Автор: 秦一川,许存娥,胡龙辉,卢旭彬. Владелец: Ningbo Yunde Semiconductor Materials Co ltd. Дата публикации: 2022-05-27.

Bioluminescence reaction chamber

Номер патента: US3359973A. Автор: Duane G Hoffman. Владелец: Hazleton Laboratories Inc. Дата публикации: 1967-12-26.

Reaction chamber having pre-stored reagents

Номер патента: US8911938B2. Автор: Haim H. Bau,Michael G. Mauk,Do Young Byun,Dafeng Chen,Amanda W. Dyson,Sudhir Ramprasad. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2014-12-16.

Reaction chamber used in carbon nano tube producing system

Номер патента: KR20070074278A. Автор: 김성수,김형석,황호수,황진태. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2007-07-12.

Epitaxial deposition reactor with reflector external to the reaction chamber and cooling method of a susceptor and substrates

Номер патента: US11377754B2. Автор: Franco Preti,Vincenzo Ogliari,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2022-07-05.

EXHAUST ASSY WITH REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL164362B. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1980-07-15.

EXHAUST GAS REACTION CHAMBER DEVICE FOR A FOUR CYLINDER COMBUSTION ENGINE

Номер патента: DE2639362A1. Автор: Shuichi Yamazaki,Ikuo Kajitani. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1977-04-07.

Pyrolysis and reaction chamber for gas chromatography equipment

Номер патента: FR1464507A. Автор: Alfred Reichle,Martin Wandel,Heinrich Borger,Hubert Tengler. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1966-12-30.

Method for managing diesel engine of vehicle, involves determining temperature of reaction chamber and/or temperature of exhaust gas of thermal engine using temperature module whose input magnitude is measurement magnitude

Номер патента: FR2955356A1. Автор: Sascha Joos. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2011-07-22.

Apparatus for carrying out agglutination tests comprises two plates which are sealed together, inlets in upper plate connecting with channels of same length and volume on either side which lead to reaction chambers

Номер патента: DE20221515U1. Автор: . Владелец: Prisma Diagnostika GmbH. Дата публикации: 2006-03-23.

Reaction chamber

Номер патента: US20060113486A1. Автор: James Paul,Edgar Dally. Владелец: Valence Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

Reaction chamber structural parts with thermal spray ceramic coating and method for forming the ceramic coating thereof

Номер патента: US20090311145A1. Автор: Bo-Chen Wu,Tsung-Chih Chou,Jen-Yung Teng,Shyue-Jer Chern. Владелец: Shih Her Tech Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Production of pyrogenic metal oxides in tempered reaction chambers

Номер патента: DE102006030002A1. Автор: Torsten Dipl.-Chem. Dr. Gottschalk-Gaudig,Markus Dipl.-Chem. Dr. Niemetz. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2008-01-03.

Reaction chamber for vapor deposition process

Номер патента: WO2014036886A1. Автор: 孙仁君,左然,何晓崐,谭华强,叶芷飞,田益西. Владелец: 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司. Дата публикации: 2014-03-13.

Method for the bioreactive extraction of produced oxygen from a reaction chamber, and use of phototrophic microorganisms when obtaining hydrogen

Номер патента: CA3055404A1. Автор: Andreas Schmid,Bruno Buhler,Anna Hoschek. Владелец: Helmholtz Zentrum fuer Umweltforschung GmbH UFZ. Дата публикации: 2018-09-13.

A kind of shielding construction for reaction chamber

Номер патента: CN104593735B. Автор: 佘清,吕铀. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-13.

Method for preventing reactants and by-products of reactants from being deposited on MOCVD reaction chamber components

Номер патента: CN105349964A. Автор: 王雷,张杨,张露,方聪,杨翠柏,刘向平,靳恺. Владелец: Zhongshan Dehua Chip Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-24.

GAS INJECTOR FOR THE REACTION CHAMBER OF A FLUIDIZING OVEN.

Номер патента: NL167608C. Автор: Hermann Jakob Flamm. Владелец: Euratom. Дата публикации: 1982-01-18.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: ES2834461T3. Автор: Gibert Rafael Bru,Fabra Jordi Carrera,Casas Anna Comenges,Sanchez José Antonio Garcia. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2021-06-17.

Chemical vapor deposition apparatus capable of controlling discharging fluid flow path in reaction chamber

Номер патента: TW201114943A. Автор: Myung-Woo Han. Владелец: LIG ADP CO Ltd. Дата публикации: 2011-05-01.

Nanoparticle based in vitro diagnostic method and reaction chamber with minimization of non-specific binding

Номер патента: KR101616985B1. Автор: 정신영,이윤식,정대홍. Владелец: 서울대학교산학협력단. Дата публикации: 2016-04-29.

Agglutinographic reaction chamber

Номер патента: GB2168808A. Автор: Hugh V Cottingham. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-06-25.

REACTION CHAMBER OF AN EPITAXIAL REACTOR

Номер патента: ITMI20082092A1. Автор: Mario Preti. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2010-05-25.

Reducing gas producer - with coaxial inner and outer reaction chambers operated under stoichiometrically without extraneous heat

Номер патента: DE2351479A1. Автор: Bruno Kruschel. Владелец: Deutsche Shell GmbH. Дата публикации: 1975-04-24.

Agglutinographic reaction chamber

Номер патента: FR2589239A1. Автор: . Владелец: Cottingham Hugh. Дата публикации: 1987-04-30.

Reaction chamber

Номер патента: WO2008085991A3. Автор: Rudolf Gilmanshin,Emilia Mollova,Vishal Patil. Владелец: Vishal Patil. Дата публикации: 2008-10-16.

Method of automatic regulation of process of preventing outburst of foam from closed reaction chamber

Номер патента: SU640639A3. Автор: Карренбауер Курт,Гедике Ейтель,Кирштейн Дитер,Яекел Герхард. Владелец: Хехст Аг (Фирма). Дата публикации: 1978-12-30.

Improvements to the reaction chambers fed with granulated materials

Номер патента: FR1119179A. Автор: . Владелец: ACTIVIT. Дата публикации: 1956-06-15.

Reaction chamber for exothermic material

Номер патента: KR101787799B1. Автор: 파브리스 마조디에. Владелец: 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈. Дата публикации: 2017-10-18.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: US10099216B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2018-10-16.

REACTION CHAMBER AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION.

Номер патента: DE3851627D1. Автор: Albert E Ovias. Владелец: Advanced Semiconductor Materials America Inc. Дата публикации: 1994-10-27.

A kind of reaction chamber guiding device

Номер патента: CN107385417A. Автор: 黄维,陈志宽,郭鸿晨. Владелец: NANJING TECH UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-11-24.

Apparatus for continuous formation of thin ceramic coatings on plate type metal strip, sheets or thread, comprises reaction chamber comprising soft steel tank covered inside and outside by plastic reinforced fibers for increased security

Номер патента: FR2937342A1. Автор: Lingamaneni Rama Krishna,Nitin Pandurang Wasekar,Govindan Sundararajan. Владелец: INTERNAT ADVANCED RES CT FOR P. Дата публикации: 2010-04-23.

Fluid bed reactor with particle separator and reaction chamber

Номер патента: EP2284245A1. Автор: Peder Christian Stoholm. Владелец: Dong Energy Power AS. Дата публикации: 2011-02-16.

Reaction chamber for bringing solid particles into contact with gases

Номер патента: FR1048102A. Автор: . Владелец: Standard Oil Development Co. Дата публикации: 1953-12-21.

Pressure regulating valve, pressure control valve and reaction chamber

Номер патента: CN111043327A. Автор: 赵迪,陈正堂,郑文宁. Владелец: Beijing Sevenstar Flow Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-21.

Even gas structure of reaction chamber

Номер патента: CN114134486A. Автор: 郑亚新. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-03-04.

A kind of industrial production sealing reaction chamber

Номер патента: CN107860219A. Автор: 黎英姿. Владелец: City Changsha Machinery Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-30.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20210402365A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: Ejoule International Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: CN115279496A. Автор: 庄至顺,S·韦伯斯特,A·D·沙阿,C·R·弗洛雷斯,郑陈煜,林家贤,N·J·布克,A·D·沃特金斯,R·J·巴特尔,C·J·亨德森,E·冯比伦,杨怀智. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2022-11-01.

Reaction chamber for exothermic material

Номер патента: RU2557086C2. Автор: Фабрис МАЗОДЬЕ. Владелец: Коммиссариат А Л'Энержи Атомик Э О Энержи Альтернатив. Дата публикации: 2015-07-20.

Reaction chamber system for processing samples

Номер патента: WO2004062806A1. Автор: Klaus-Günter EBERLE. Владелец: Hettlab Ag. Дата публикации: 2004-07-29.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: US10092900B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2018-10-09.

Conductivity-based reaction chamber control

Номер патента: EP3775832A1. Автор: Alexander Govyadinov,Viktor Shkolnikov. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2021-02-17.

Reaction chamber for producing uranium dioxide powder by thermal hydrolysis of uranium hexafluoride

Номер патента: KR20220062220A. Автор: 드미트리 유례비치 오스트로프스키,알렉산더 레오니도비치 크리틴,유리 브라디미로비치 오스트로프스키,그리고리 미카일로비치 자보르트세프,이반 이그나테비치 제린. Владелец: 퍼블리크노에 악트시오네르노에 옵스체스트보 "노보시비르스키 자보드 힘콘트센트라토브" (파오 엔제트에이치케이). Дата публикации: 2022-05-16.

Device for synthesizing a polymer with reduced formation of deposits in the reaction chamber

Номер патента: KR20160018800A. Автор: 닝 주,아킴 스테머,요아킴 클라우스,갓 코리,우베 위트,실케 비에다세크. Владелец: 바스프 에스이. Дата публикации: 2016-02-17.

Gas feeding structure of rotating disc type MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition) reaction chamber

Номер патента: CN105970188A. Автор: 王雷,张露,方聪,刘向平,靳恺,冯钊俊. Владелец: Zhongshan Dehua Chip Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-28.

Reaction chamber

Номер патента: AU3306071A. Автор: Horst Dr Biallas. Владелец: Kloeckner Humboldt Deutz AG. Дата публикации: 1973-03-08.

Diode laser heated micro-reaction chamber with sample detection means

Номер патента: WO1996041864A1. Автор: Raymond P. Mariella, Jr.,Jackson C. Koo,Milton A. Northrup,J. Courtney Davidson. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 1996-12-27.

Processes and systems for reducing undesired deposits within a reaction chamber associated with a semiconductor deposition system

Номер патента: CN104011259A. Автор: R·T·小贝尔特拉姆. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2014-08-27.

System and method for electrokinetic loading of sub-micron reaction chambers

Номер патента: CN111867729A. Автор: 乔纳森·M·罗斯伯格,托德·雷亚里克,法席德·加塞米,J·C·舒尔茨,基斯·G·法夫,陈国钧,阿里·卡比里,杰勒德·施密德,杰瑞米·拉基,亚历山大·戈里亚诺夫. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2020-10-30.

Reaction Chamber for Extraction of Uranium Dioxide Powder by Using Method of Uranium Hexafluoride Reductive Pyrohydrolysis

Номер патента: US20220324720A1. Автор: Dmitry Yuryevich OSTROVSKY,Alexander Leonidovich KHLYTIN,Yury Vladimirovich OSTROVSKY,Grigory Mikhailovich ZABORTSEV,Ivan Ignatyevich ZHERIN. Владелец: Publichnoe Aktsionernoe Obshchestvo "novosibirskt Zavod Khimkontsentratov" Pao Nzhik. Дата публикации: 2022-10-13.

Method and device for introducing reactive gasses into a reaction chamber

Номер патента: CN105627312A. Автор: H·陶茨. Владелец: Linde GmbH. Дата публикации: 2016-06-01.

Method for monitoring changes and conditions in reaction chambers

Номер патента: DE10346451B4. Автор: Ralf Dr. Ehret,Heiko Holst,Elke Thedinga,Axel Kob. Владелец: BIONAS GmbH. Дата публикации: 2007-08-02.

Reaction chamber for an epitaxial reactor

Номер патента: US7314526B1. Автор: Franco Preti,Vincenzo Ogliari,Giuseppe Tarenzi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2008-01-01.

Flexible nozzle system for gas distribution plate of plasma reaction chamber

Номер патента: US20020084352A1. Автор: Chien-Wei Chen. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-04.

Reaction chamber for exothermic material

Номер патента: EP2583283B1. Автор: Fabrice Mazaudier. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2014-10-01.

Apparatus for evacuation and degassing of granuled fluid material from reaction chamber

Номер патента: YU43573B. Автор: G Nineuil. Владелец: Rhone Poulenc SA. Дата публикации: 1989-08-31.

Device for inserting thermoelectric elements into pressurized reaction chambers

Номер патента: FR1334739A. Автор: . Владелец: Heinrich Koppers GmbH. Дата публикации: 1963-08-09.

Device for reducing the effect of the speed of impact of a fluid on a fixed bed of solid particles, reaction chamber equipped with such a device and uses thereof

Номер патента: EP2078558A1. Автор: Olivier Delsart,Pedro Nascimento,Denis Vedrine. Владелец: Total Raffinage Marketing SA. Дата публикации: 2009-07-15.

Preparation of reaction chambers with dried proteins

Номер патента: EP2726874A1. Автор: Antonius Johannes Josephus Maria JACOBS. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2014-05-07.

Method of eliminating undesirable carbon product deposited on inside of reaction chamber for cvd

Номер патента: CN1016972B. Автор: 山崎舜平. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1992-06-10.

Reaction chamber and semiconductor processing equipment

Номер патента: CN112553594B. Автор: 何中凯. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-21.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: AU2016208331B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2018-08-02.

Suspended particle material conversion involves compressing suspended matter in liquid gas bubbles in temporary reaction chamber, where radicals are formed from liquid

Номер патента: DE102009024707A1. Автор: Hartmuth Dr.rer.nat. Dipl.-Chem. Kölling,Carlo MSc. Wi.-Ing. Meier,Wolfgang Mulinski,Heinz-Ferdinand Dipl.-Ing. Oppermann,Bernd Dipl.-Ing. Paul,Hannelore Dipl.-Oek. Riedel. Владелец: KAVIWO GmbH. Дата публикации: 2010-12-16.

Reaction chamber with removable liner

Номер патента: US20100247763A1. Автор: Jill S. Becker,Roger R. Coutu,Douwe J. Monsma. Владелец: Cambridge NanoTech Inc. Дата публикации: 2010-09-30.

Combustion gun with reaction chamber

Номер патента: CN212618273U. Автор: 彭程,朱锐斌,朱湛斌. Владелец: Guangzhou Thomson Electric Co ltd. Дата публикации: 2021-02-26.

Reaction chamber

Номер патента: EP4116467A1. Автор: Gang Xu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Reaction chamber roll pump

Номер патента: US6746649B2. Автор: John F. McEntee. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2004-06-08.

Systems and methods for electrodynamic loading of sub-micron-scale reaction chambers

Номер патента: KR102509385B1. Автор: 조나단 엠. 로스버그,알리 카비리,파시드 가세미,제라드 슈미드,제레미 래키,키쓰 지. 피프,궈쥔 천,알렉산더 고레이노브,토드 레아릭,조나단 씨. 슐츠. Владелец: 퀀텀-에스아이 인코포레이티드. Дата публикации: 2023-03-14.

Device for the synthesis of a polymer with extraction of a gaseous substance, comprising a reaction chamber having at least one circular-cylindrical section

Номер патента: CN105283244A. Автор: J·克劳斯,N·朱,A·斯坦默,G·科里. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-01-27.

Device for regulating the continuously circulating flow of solid particles in a system with two reaction chambers

Номер патента: DE1542521B2. Автор: Harold William Arlington Heights Bergendorf,Lawrence Oliver Western Springs Stine. Владелец: Universal Oil Products Co. Дата публикации: 1973-11-29.

Reaction chamber for real time PCR comprising capture probes and permitting detection of the PCR product by hybridisation without opening the PCR vessel

Номер патента: CN101506374B. Автор: H·科恩,I·亚历山大,J·利马科尔,M·赛佩尔. Владелец: Eppendorf Array Technologies SA. Дата публикации: 2013-03-27.

Reaction chamber that is elongated along an axis that contains at least one solid catalyst bed and at least one box for contact, mixing and quenching

Номер патента: US20020187086A1. Автор: Ludovic Raynal,Isabelle Harter,Francis Aubry. Владелец: IFP Energies Nouvelles IFPEN. Дата публикации: 2002-12-12.

A reaction chamber

Номер патента: CA2588844A1. Автор: James C. Paul,Edgar B. Dally. Владелец: Valence Corporation. Дата публикации: 2006-06-01.

Device for synthesizing a polymer with reduced formation of deposits in the reaction chamber

Номер патента: CN105555397A. Автор: 朱宁,J·克劳斯,S·比达塞克,A·斯坦默,G·科里,U·威特. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-05-04.

Thermalizing gas injector for injecting gases into reaction chamber of deposition system, comprises inlet, thermalizing conduit, liquid container to hold liquid reagent, outlet, and pathway extending from inlet through thermalizing conduit

Номер патента: FR2965823A1. Автор: Jr Ronald Thomas Bertram. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2012-04-13.

System for the distribution of a liquid and/or gaseous phase in a reaction chamber

Номер патента: EP3495037A1. Автор: Etienne NIDERKORN,Daniel-Jean VINEL,Jauffray Delteil. Владелец: Axens SA. Дата публикации: 2019-06-12.

Method and apparatus for removing H2S by separate absorber and oxidizer and reaction chamber between them

Номер патента: JP2506596B2. Автор: レズリー・シー・ハーディソン. Владелец: HOIIRABURATAA KURIIN EA SHISUTEMUZU Inc. Дата публикации: 1996-06-12.

Reaction chamber for carbon nano tube with rapid cooling unit

Номер патента: KR101430969B1. Автор: 김성수,황호수. Владелец: 금호석유화학 주식회사. Дата публикации: 2014-08-18.

Feed system for closed reaction chambers with moveable sample racks

Номер патента: WO2000025925A1. Автор: Werner DÖBELIN. Владелец: Hettlab Ag. Дата публикации: 2000-05-11.

Device for synthesizing a polymer with reduced formation of deposits in the reaction chamber

Номер патента: KR102254367B1. Автор: 닝 주,아킴 스테머,요아킴 클라우스,갓 코리,우베 위트,실케 비에다세크. Владелец: 바스프 에스이. Дата публикации: 2021-05-24.

Reaction chamber used in a coal gasification process

Номер патента: CA1156836A. Автор: Hans Dohren,Jurgen Seipenbusch. Владелец: Ruhrkohle AG. Дата публикации: 1983-11-15.

Production of pyrogenic metal oxides in temperature-controlled reaction chambers

Номер патента: CN101472838B. Автор: T·戈特沙尔克-高迪希,M·尼梅茨. Владелец: Wacker Polymer Systems GmbH and Co KG. Дата публикации: 2013-07-10.

A kind of hydride gas-phase epitaxy equipment for improving reaction chamber clean-up performance

Номер патента: CN107740182A. Автор: 刘鹏,李成明,李文辉,陈蛟,吴洁君. Владелец: Sino Nitride Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Measuring device for MOCVD equipment reaction chamber

Номер патента: CN113340180A. Автор: 尧舜,刘晨晖,董国亮. Владелец: Huaxin Semiconductor Research Institute Beijing Co ltd. Дата публикации: 2021-09-03.

Fluidized bed reactor with two separate reaction chambers

Номер патента: DE1033187B. Автор: . Владелец: Exxon Research and Engineering Co. Дата публикации: 1958-07-03.

It is a kind of most according to Mode S CR reaction chamber flue gas concentration on-line detecting system and its control method

Номер патента: CN109991366A. Автор: 卢志民,姚顺春,莫爵徽. Владелец: Foshan Huapi Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-09.

Method of forming crucibles and reaction chambers for production of uranium of high purity

Номер патента: US2785064A. Автор: Harley A Wilhelm. Владелец: Individual. Дата публикации: 1957-03-12.

Hydrocarbon cracking process and device using two successive reaction chambers

Номер патента: CA2352018A1. Автор: Marcellin Espeillac,Pierre Crespin. Владелец: Total Raffinage Distribution SA. Дата публикации: 2002-01-05.

Apparatus, used to produce silicon, includes bottom plate with first passages and electrodes, cover and gas-tight closable opening for introducing pre-heater in reaction chamber, which includes second passage and sliding contact element

Номер патента: DE102013105607A1. Автор: Karl Schickle. Владелец: CENTROTHERM SITEC GMBH. Дата публикации: 2013-12-05.

Apparatus and method for treating sewage and wastewater using complex reaction chamber

Номер патента: WO2015020271A1. Автор: 강원태. Владелец: (주)더존코리아. Дата публикации: 2015-02-12.

Automatic staining system and reaction chamber

Номер патента: JP6599929B2. Автор: エル．ハートマンアンソニー,義忠水澤,エス．ブイシャン,伸二徳大路,俊幸藤牧,恵壮岡部. Владелец: サクラファインテックユー．エス．エー．，インコーポレイテッド. Дата публикации: 2019-10-30.

System, useful e.g. to produce a medicament to treat malignant diseases and metastatic tumors and for the isolation of a specific element of a molecular library, comprises a reaction chamber partitioned into a number of compartments

Номер патента: DE102008062965A1. Автор: Ruediger Marcus Flaig,M A Iren Lange-Flaig. Владелец: Lange-Flaig, M. A. Irén. Дата публикации: 2010-02-25.

Material processing method in a current or reaction chamber - uses laser with adjustable lenses and mirrors working over defined surface or volume; for waste materials e.g. asbestos, paint

Номер патента: NL9100885A. Автор: . Владелец: Keuken & De Koning B V. Дата публикации: 1992-12-16.

Reaction chambers coated with defined concentrations of nucleic acids, method for the production and use thereof

Номер патента: WO2000012756A2. Автор: Thomas Koehler. Владелец: Thomas Koehler. Дата публикации: 2000-03-09.

Reaction chamber isolation check valve and gaseous fuel engine using same

Номер патента: US6390053B2. Автор: Dan R. Ibrahim,Edward R. Gillis,Harold E. Ogg, Jr.. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2002-05-21.

EXHAUST ASSY WITH REACTION CHAMBER FOR A COMBUSTION ENGINE.

Номер патента: NL164361B. Автор: . Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 1980-07-15.

Reaction chamber for processing biological samples, especially microarrays on object carriers, having magnetic or magnetizable base structures and spacing and pressing pieces

Номер патента: DE102004041062A1. Автор: Olaf Dipl.-Ing. Hoyer. Владелец: QUANTIFOIL INSTRUMENTS GMBH. Дата публикации: 2006-03-02.

Coating articles with oxygen barriers in a reaction chamber of a chemical vapor deposition device under normal pressure, comprises initially admixing undried air to gas stream of silicon and monocarbonic acid with a given steam pressure

Номер патента: DE102009032151A1. Автор: Matthias Usenbenz,Uwe Keim. Владелец: Centrotherm Thermal Solutions GmbH and Co KG. Дата публикации: 2010-08-19.

Reaction chamber for vapor deposition apparatus

Номер патента: TWI672388B. Автор: 米野純次,須田昇,大石隆宏,黃燦華,梁祐笙,邱建欽. Владелец: 漢民科技股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-21.

Lamp bead processing disc type reaction chamber

Номер патента: CN109208071A. Автор: 文波. Владелец: Mianyang Boxia Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-15.

Reaction chamber with protector

Номер патента: CN111349909A. Автор: 南建辉,王祎,丁建,庞云玲. Владелец: Shenzhen Yongshenglong Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-30.

Charging door opening-closing mechanism used for rotary tank body and reaction chamber of charging door opening-closing mechanism

Номер патента: CN105620967A. Автор: 柏红梅. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-01.

Reaction chamber and semiconductor process equipment

Номер патента: TW202305206A. Автор: 王磊磊,董博宇,劉晶晶,李世凱,袁福順,李曉軍,趙東華,劉廣政,徐柯柯,孫小芹,宮兆輝,賈萬泳,許利飛,董學,王鐵然. Владелец: 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司. Дата публикации: 2023-02-01.

Hydrocarbon cracking process and device using two successive reaction chambers

Номер патента: CA2352018C. Автор: Marcellin Espeillac,Pierre Crespin. Владелец: Total Raffinage Distribution SA. Дата публикации: 2010-02-02.

Photoreactive process assembly, used for treatment of fluids, has reaction chamber for fluid flows with outer beaker-shaped electrode and inner counter electrode

Номер патента: DE10236717A1. Автор: Willi Gudernatsch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Polymerisation process with reduced deposit formation in the reaction chamber

Номер патента: PL3007816T3. Автор: Achim Stammer,Silke Biedasek,Uwe Witt,Joachim Clauss,Ning Zhu,Gad Kory. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2018-01-31.

Fluctuating hydraulic pressure generation - is produced by piston vibrating between interconnected and pressure balanced compression and reaction chambers

Номер патента: FR2449217A1. Автор: Daniel Abrassard,Lucien Fouchs,Marcel Lambert. Владелец: Electricite de France SA. Дата публикации: 1980-09-12.

Reaction chamber for a chemical reactor, and chemical reactor constructed therefrom

Номер патента: US10189004B2. Автор: Sigurd Buchholz,Leslaw Mleczko,Karl-Robert Boos,Sebastian FALSS. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2019-01-29.

Electric furnace with reaction chamber for the extraction of metals from their ores and their simultaneous refining

Номер патента: FR333366A. Автор: . Владелец: CIE DU REACTEUR METALLURG. Дата публикации: 1903-11-23.

A kind of reaction chamber guiding device

Номер патента: CN207452249U. Автор: 黄维,陈志宽,郭鸿晨. Владелец: NANJING TECH UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-06-05.

Horizontal reaction chamber comprised of nested, concentric tubes for use in water purification

Номер патента: US20040089611A1. Автор: Richard Curlee,Richard Paetsch. Владелец: Paetsch Richard H.. Дата публикации: 2004-05-13.

Reaction chamber of micro-fluidic chip

Номер патента: CN111167528B. Автор: 冯尧,肖金. Владелец: Beijing Bioassay Technologies Co ltd. Дата публикации: 2021-09-07.

System for the thermochemical conversion of a carbonaceous charge comprising a batch reactor and a holding tank containing a supercritical fluid connected to the reaction chamber of the batch reactor.

Номер патента: FR3127951A1. Автор: Christian Perret. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2023-04-14.

Biological reaction chamber apparatus

Номер патента: CA962617A. Автор: James B. McCormick. Владелец: Miles Laboratories Inc. Дата публикации: 1975-02-11.

Reaction chamber

Номер патента: EP1772722A1. Автор: Ingo Dipl.-Ing. Freund (FH),Werner Dr. Rer. Nat Baumann,Mirko Dr. Rer. Nat Lehmann. Владелец: TDK Micronas GmbH. Дата публикации: 2007-04-11.

Device for injecting liquid selectively into reaction chamber and biosensor comprising the same

Номер патента: KR101414048B1. Автор: 이재훈. Владелец: 디지탈 지노믹스(주). Дата публикации: 2014-07-02.

Reaction chamber for producing uranium dioxide powder from uranium hexafluoride by the reduction pyrohydrolysis method

Номер патента: JOP20210345A1. Автор: Dmitry Yuryevich OSTROVSKY,Alexander Leonidovich KHLYTIN,Yury Vladimirovich OSTROVSKY,Grigory Mikhailovich ZABORTSEV,Ivan Ignatyevich ZHERIN. Владелец: Novosibirsky Zavod Khimkontsentratov Public Joint Stock Company. Дата публикации: 2023-01-30.

A kind of method of cleaning plasma reaction chamber sidewall

Номер патента: CN103871865B. Автор: 刘志强,王兆祥,邱达燕,吴紫阳. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2016-08-17.

Quasi-in-situ scanning probe microscope (QIS-SPM) with an automatically operated reaction chamber and method of operation

Номер патента: DE102010015966B4. Автор: Franz Fischer,Violetta Olszowka,Markus Hund,Heinz Krejtschi. Владелец: Markus Hund. Дата публикации: 2014-01-30.

Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition Apparatus with Intermediate Reaction Chamber

Номер патента: KR101687904B1. Автор: 백승재,홍승우. Владелец: 한경대학교 산학협력단. Дата публикации: 2016-12-29.

Movable bottom device or auxiliary bottom usable for emptying tanks, silos, reaction chambers for superphosphate, etc.

Номер патента: FR467082A. Автор: . Владелец: Dansk Svovlsyre og Superphosphatfabrik AS. Дата публикации: 1914-06-03.

Reaction chamber for chemical reactor and chemical reactor composed thereof

Номер патента: JP6430543B2. Автор: レスロー、ムレチェコ,シーグルト、ブッフホルツ,カール−ローベルト、ボース,セバスティアン、ファルシュ. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2018-11-28.

Cooling device for a reaction chamber for processing a biochip and method for controlling said cooling device

Номер патента: US8151589B2. Автор: Jana Lepschi,Jens Gohring,Stefan Heydenhaus,Manuel Ullrich. Владелец: ZENTERIS GMBH. Дата публикации: 2012-04-10.

Miniature reaction chamber template structure for fabrication of nanoscale molecular systems and devices

Номер патента: US7189378B2. Автор: Anthony D. Kurtz. Владелец: Kulite Semiconductor Products Inc. Дата публикации: 2007-03-13.

Pull rod structure for reaction chamber

Номер патента: CN108953616B. Автор: 杨海燕,罗臻,袁卫华,魏唯,程文进,周立庆,罗才旺,胡尚正,邸拴虎. Владелец: CETC 48 Research Institute. Дата публикации: 2020-12-11.

Reaction chamber for manufacturing a carbon nanotube, apparatus for manufacturing the carbon nanotube and system for manufacturing the carbon nanotube

Номер патента: US7618599B2. Автор: Sung-Soo Kim,Jong-Kwan Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-17.

Reaction chamber for an epitaxial reactor

Номер патента: EP1173632B1. Автор: Franco Preti,Vincenzo Ogliari,Giuseppe Tarenzi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2003-10-22.

Electrocoagulation reaction chamber and method

Номер патента: WO2003032452A1. Автор: F. William Gilmore. Владелец: Gilmore F William. Дата публикации: 2003-04-17.

Isolation of nucleic acids from a liquid sample comprises mixing with insolubilizing buffer and binding in a polymer-coated reaction chamber

Номер патента: DE10222275A1. Автор: Wilhelm PLUESTER,Alexander Papra,Wolfgang Goemann-Thos,Susanne Heins,Renate Froendt. Владелец: Eppendorf SE. Дата публикации: 2003-12-04.

Reaction chamber used for in-vitro diagnosis device and with cucurbit-shaped opening

Номер патента: CN106399054A. Автор: 刘聪,王超,赵鹏,杨柳青,刘耀基,潘洋,刘晓莉. Владелец: Autobio Labtec Instruments Zhengzhou Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-15.

Reactor for thermal splitting of sulfuric acid into sulfur dioxide, oxygen and water, comprises reactor container in a reaction chamber

Номер патента: DE102006010289A1. Автор: Martin Roeb,Andreas Schultz,Adam Noglik. Владелец: Deutsches Zentrum fuer Luft und Raumfahrt eV. Дата публикации: 2007-09-13.

Production of pyrogenic metal oxides in temperature-controlled reaction chambers

Номер патента: EP2038214A1. Автор: Markus Niemetz,Torsten Gottschalk-Gaudig. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2009-03-25.

It is used to prepare BiGaO3The vacuum reaction chamber of film

Номер патента: CN107475688B. Автор: 宋长青,王志亮,尹海宏. Владелец: Nantong University. Дата публикации: 2019-05-03.

Powder is prepared by concentric injection of gaseous reactants separated by an inert gas into a reaction chamber

Номер патента: FR2771655A1. Автор: Andre Feugier. Владелец: Franco Belge de Fabrication de Combustible FBFC. Дата публикации: 1999-06-04.

Reaction chamber pretreatment method and preparation method of aluminum nitride epitaxial layer

Номер патента: CN110983436A. Автор: 张康,赵维,陈志涛,何晨光,吴华龙,贺龙飞,刘云洲,廖乾光. Владелец: Guangdong Semiconductor Industry Technology Research Institute. Дата публикации: 2020-04-10.

Method of removing surface deposits from reaction chambers using nf3

Номер патента: WO2007059140A1. Автор: Herbert H. Sawin,Bo Bai,Ju Jin An. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2007-05-24.

A method of removing undesired carbon deposits from the inside of a cvd reaction chamber

Номер патента: EP0280539B1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1992-01-22.

Method of recovering valuable material from exhaust gas stream of a reaction chamber

Номер патента: US7833358B2. Автор: Seshadri Ganguli,Christophe Marcadal,Paul Ma,Schubert S. Chu,Dien-Yeh Wu,Kavita Shah,Frederick C. Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

Entrained-flow gasifier with reduced quencher diameter compared to the reaction chamber diameter

Номер патента: WO2018050559A1. Автор: Andreas Meissner,André HERKLOTZ,Dietmar Degenkolb,Thomas Fleischer. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2018-03-22.

Fluid exit in reaction chambers

Номер патента: US20050201896A1. Автор: Bill Peck. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-15.

A fluidized bed reaction chamber comprising a tubular waterwall structure

Номер патента: AU2018298911A1. Автор: Pentti Lankinen,John Q. Murphy. Владелец: SUMITOMO SHI FW ENERGIA OY. Дата публикации: 2019-12-19.

Device for equalizing pressure between a reaction chamber and cooling screen gap in an entrained-flow gasifier having a fixed welded cooling screen

Номер патента: WO2010083897A1. Автор: Norbert Fischer,Tino Just,Manfred Schingnitz,Christian Reuther. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2010-07-29.

Method and supply unit for monitoring changes and states in reaction chambers

Номер патента: EP1667795A2. Автор: Ralf Ehret,Heiko Holst,Elke Thedinga,Axel Kob. Владелец: BIONAS GmbH. Дата публикации: 2006-06-14.

INSULATING WALL CONSTRUCTION FOR REACTION CHAMBERS AND THE LIKE

Номер патента: DE3721284A1. Автор: Herbert G P Dipl Ing Nuessel. Владелец: Nuessel herbert Gp dipl-Ing. Дата публикации: 1989-01-12.

Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers

Номер патента: US20050061243A1. Автор: Demetrius Sarigiannis,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-24.

ANALYZER WITH A BLOW-MOLD REACTION CHAMBER.

Номер патента: ATE54753T1. Автор: Gary Wayne Howell. Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1990-08-15.

A reaction chamber and a method for generating a gaseous sample based on the use thereof

Номер патента: CA2178756A1. Автор: Paul Ek. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-07-06.

Reaction chamber for an epitaxial reactor

Номер патента: DK1173632T3. Автор: Franco Preti,Vincenzo Ogliari,Giuseppe Tarenzi. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2004-03-01.

Reaction chamber

Номер патента: CA2492491A1. Автор: Andreas Brunner,Guy Oram,Roberto Tommasini,Rupert Hagg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-24.

Chemical vapour infiltration plant with dual reaction chamber

Номер патента: WO2023105139A1. Автор: Simon Lucien René THIBAUD,Stéphane Roger André GOUJARD. Владелец: SAFRAN CERAMICS. Дата публикации: 2023-06-15.

Plurality of reaction chambers in a test cartridge

Номер патента: US9968928B2. Автор: Jordi Carrera Fabra,Anna Comenges Casas,Rafael BRU GIBERT,José Antonio Garcia Sánchez. Владелец: Stat Diagnostica and Innovation SL. Дата публикации: 2018-05-15.

Device for pressure equalization between the reaction chamber and the cooling screen gap in an air flow gasifier with a firmly welded-in cooling screen

Номер патента: DE102009005856A1. Автор: Manfred Dr. Schingnitz,Norbert Fischer,Christian Reuther,Tino Dr. Just. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2010-07-29.

AUTOMATED COLORING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: BR112022012447A2. Автор: Watkins Andrew,HENDERSON Chester,Yang Michael,Von Bueren Erico,Webster Scott,D Shah Amit,J Booker Nicholas,J Bartel Rebecca. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2022-08-30.

Reactor with two or more separate reaction chambers

Номер патента: EP1681094A2. Автор: Gerd Kaibel,Peter Zehner,Bianca Stack,Frank Poplow. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2006-07-19.

System and methods for electrokinetic loading of sub-micron-scale reaction chambers.

Номер патента: MX2020007284A. Автор: Gerard Schmid,Jonathan M Rothberg,Jeremy Lackey,Guojun Chen,Ali Kabiri,Farshid Ghasemi,Todd Rearick,Keith G Fife,Jonathan C Schultz,Alexander Goryaynov. Владелец: Quantum Si Inc. Дата публикации: 2020-09-10.

Reaction chamber having pre-stored reagents

Номер патента: US20090226911A1. Автор: Haim H. Bau,Do Young Byun,Dafeng Chen,Amanda W. Dyson,Sudhir Ramprasad,Michael G Mauk. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2009-09-10.

Dual Reaction Chamber Gas-Phase Chemical Infiltration Plant

Номер патента: FR3129954A1. Автор: Simon Lucien René THIBAUD,Stéphane Roger André GOUJARD. Владелец: Safran Ceramics SA. Дата публикации: 2023-06-09.

Electrochemical generator in which particles react with fluid - maintains circulating fluid separate from particles outside reaction chamber

Номер патента: FR2431872A1. Автор: . Владелец: Compagnie Generale des Etablissements Michelin SCA. Дата публикации: 1980-02-22.

Tubular pecvd reaction chamber-mouth-door structure

Номер патента: WO2019148520A1. Автор: 李学文,李军阳,刘兵吉,王俊朝. Владелец: 深圳丰盛装备股份有限公司. Дата публикации: 2019-08-08.

Gas collector for providing an even flow of gasses through a reaction chamber of an epitaxial reactor

Номер патента: US6666920B1. Автор: Khang V. Nguyen,Roger Sillmon. Владелец: ITT Manufacturing Enterprises LLC. Дата публикации: 2003-12-23.

Reaction chamber

Номер патента: DE102017127417B4. Автор: Wolfgang Gesen. Владелец: Egm Holding Int GmbH. Дата публикации: 2021-01-21.

Biological reaction chamber apparatus

Номер патента: IL37597A. Автор: . Владелец: Miles Lab. Дата публикации: 1974-03-14.

Methods for testing reagent distribution in reaction chambers

Номер патента: US20030232343A1. Автор: Eric Leproust,Douglas Amorese,Bill Peck. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2003-12-18.

Fluid exit in reaction chambers

Номер патента: US20030118717A1. Автор: Bill Peck. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2003-06-26.

Flow thru reaction chamber for sensor chips

Номер патента: CA2408462A1. Автор: Martin Müller,Patric Zeltz,Dietmar Pfeifer. Владелец: Genescan Europe Ag. Дата публикации: 2003-04-19.

Reaction chamber heated device for oxygen generation

Номер патента: CA962039A. Автор: James D. Bode. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1975-02-04.

Downdraft biomass gasification reaction chamber and gasification process thereof

Номер патента: CN102329656B. Автор: 张瑜,张建国,张建超,唐旻,姜晨旭. Владелец: 张建超. Дата публикации: 2013-06-05.

Hot blast nozzle for the dissolution of material caking in process engineering reaction chambers

Номер патента: DE202017105058U1. Автор: . Владелец: Agrichema Schuettguttechnik & Co KG GmbH. Дата публикации: 2018-08-26.

Reaction chamber for contact masses

Номер патента: US1992946A. Автор: James W Harrison. Владелец: Houdry Process Corp. Дата публикации: 1935-03-05.

Gas flow system for using in reaction chamber

Номер патента: HUP1100436A2. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2013-02-28.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: EP4085017A4. Автор: BUEREN Erico VON,Michael Yang,Andrew Watkins,Chester Henderson,Scott Webster,Amit D SHAH,Nicholas J Booker,Rebecca J Bartel. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2024-01-10.

Reaction chamber for supercritical water oxidation reactor

Номер патента: US11890601B2. Автор: John Troy KRACZEK,Gordon Ray WHIPPLE,Paul James FREEMAN. Владелец: Sreus Energy LLC. Дата публикации: 2024-02-06.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: EP2744924B1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2015-11-18.

Software-reconfigurable conduit and reaction chamber microfluidic arrangements for lab-on-a-chip and miniature chemical processing techologies

Номер патента: US9636655B2. Автор: Lester F. Ludwig. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-02.

Automated staining system and reaction chamber

Номер патента: AU2024200066A1. Автор: Chen Yu Cheng,Erico von Bueren,Michael Yang,Amit D. Shah,Chia Hsien Lin,Chester John Henderson,Scott Webster,Cristina R. FLORES,Rebecca Jean BARTEL,Nick John BOOKER,Chih Shun Chuang,Andrew Douglas WATKINS. Владелец: Sakura Finetek USA Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Reaction chamber for producing uranium dioxide powder by pyrohydrolysis from uranium hexafluoride (versions)

Номер патента: RU2498941C2. Автор: Юрий Александрович Никонов,Игорь Витальевич Хмелевской. Владелец: Открытое акционерное общество "Машиностроительный завод". Дата публикации: 2013-11-20.

The high-temperature reactor reaction chamber

Номер патента: RU2286206C1. Автор: Борис Николаевич Улько,Эдуард Васильевич Завьялов,Анатолий Артемович Янин,Фарит Салихович Бурганов,лов Эдуард Васильевич Завь. Владелец: Борис Николаевич Улько. Дата публикации: 2006-10-27.

Tesner's method for creation of aerodynamic regime of flow of combustion products in thermal reactor reaction chamber of claus plant

Номер патента: RU2145257C1. Автор: П.А. Теснер,Н.Я. Зайцев,М.С. Немировский,И.С. Славкин. Владелец: Всероссийский научно-исследовательский институт природных газов и газовых технологий Российского акционерного общества "Газпром". Дата публикации: 2000-02-10.

Reaction chamber

Номер патента: MY158608A. Автор: Yoshihiro Nakatani. Владелец: Sumitomo Heavy Industries. Дата публикации: 2016-10-31.

Hinged suspension for mounting reaction chamber on flying vehicle

Номер патента: RU2090773C1. Автор: Игорь Алексеевич Клепиков,Аркадий Алексеевич Бахмутов. Владелец: Аркадий Алексеевич Бахмутов. Дата публикации: 1997-09-20.

Packing Material for Gas Purifiers or Washers, Condensers, Reaction Chambers, Hot-blast Stoves or the like

Номер патента: GB190721346A. Автор: Hugo Petersen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-08-20.

Method for chamber lining with heat-shielding coating and device for its realisation

Номер патента: RU2356735C2. Автор: Лаврентий Лаврентьевич Краснов,Виктор Борисович Климов,Анатолий Федорович Неруш,Александр Борисович Панкратов,Лаврентий Лаврентьевич Краснов (RU),Виктор Борисович Климов (RU),Анатолий Федорович Неруш (RU),Александр Борисович Панкратов (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Конструкторское бюро точного машиностроения им. А.Э. Нудельмана". Дата публикации: 2009-05-27.

Improvements in or relating to Packing Material for Reaction Chambers, Towers or the like

Номер патента: GB190715406A. Автор: Hugo Petersen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-06-18.

Reaction chamber component and plasma treating device using the reaction chamber component

Номер патента: TWM390537U. Автор: chao-yang Xu,xu-sheng Zhou,Tu-Qiang Ni. Владелец: Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc Asia. Дата публикации: 2010-10-11.

Heated Reaction Chamber For Processing A Biochip And Method For Controlling Said Reaction Chamber

Номер патента: US20120094393A1. Автор: Lepschi Jana,Gohring Jens,Heydenhaus Stefan,Ullrich Manuel. Владелец: ZENTERIS GMBH. Дата публикации: 2012-04-19.

REACTION CHAMBER ARRANGEMENT AND A METHOD FOR FORMING A REACTION CHAMBER ARRANGEMENT

Номер патента: US20130164566A1. Автор: Elian Klaus. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-06-27.

Auxiliary heating device for PECVD reaction chamber and PECVD reaction chamber

Номер патента: CN214458314U. Автор: 李明,谢成,张春成. Владелец: Hunan Red Sun Photoelectricity Science and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-22.

Deposition method for preventing sparking generation in reaction chamber and reaction chamber thereof

Номер патента: CN104746024A. Автор: 侯珏. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Substrate support seat for III-V group thin film growth reaction chamber, reaction chamber thereof and process treatment method

Номер патента: CN102031498A. Автор: 尹志尧. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2011-04-27.

Reaction chamber cover plate and reaction chamber with same

Номер патента: CN202307825U. Автор: 张晓红,吴仪,裴立坤,昝威. Владелец: Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Electrochemical test strip having a plurality of reaction chambers and methods for using the same

Номер патента: TWI235832B. Автор: Tahir S Khan. Владелец: Lifescan Inc. Дата публикации: 2005-07-11.

Reaction chamber

Номер патента: CA414320A. Автор: J. Hall Homer,Menshih Nicholas. Владелец: Standard Oil Development Co. Дата публикации: 1943-08-03.

Method for reducing defect sources in a high-density plasma reaction chamber

Номер патента: TW434737B. Автор: Shin-Kuen Ju. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Sealing ring used in wafer reaction chamber

Номер патента: TWM257007U. Автор: Wei-Yue Wu. Владелец: Hung Cheng Latex Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-11.

Improvements in and relating to fuel reaction chambers

Номер патента: AU2430454A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-18.

Improvements in and relating to mono-fuel reaction chambers

Номер патента: AU162228B2. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-11.

Improvements in and relating to fuel reaction chambers

Номер патента: AU162229B2. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-18.

Reaction chamber temperature controlling apparatus

Номер патента: CA380219A. Автор: August Aicher Alfred. Владелец: ROBINSON BINDLEY PROCESSES Ltd. Дата публикации: 1939-03-21.

Catalytic reaction chamber for gravity-flowing catalyst particles

Номер патента: ZA784486B. Автор: R Millar,R Jensen,P Persico. Владелец: Uop Inc. Дата публикации: 1979-07-25.

Improvements in and relating to fuel supply systems for reaction chambers

Номер патента: AU216154A. Автор: Barrington Randall. George Tabberer Kenneth. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1955-02-10.

Improvements in and relating to fuel supply systems for reaction chambers

Номер патента: AU200758B2. Автор: Barrington Randall. George Tabberer Kenneth. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1955-02-10.

Method of reducing the sediment for reaction chamber

Номер патента: TW200623202A. Автор: Jen-Yu Juo,Bing-Yun Suen,Ming-Jeng Liu. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-07-01.

Alignment method for wafer delivery in reaction chamber

Номер патента: TW563219B. Автор: Yu-Yi Wu,Kuen-Yi Chen,Shan-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2003-11-21.

Improvements in and relating to mono-fuel reaction chambers

Номер патента: AU2415054A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1954-03-11.

Termination definition method of the cleaning procedure for the deposit on the inner wall of reaction chamber by using the pressure variation

Номер патента: TW444277B. Автор: Wen-Liang Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-07-01.

Method and device for forming stacked ONO structured dielectric layers in one reaction chamber

Номер патента: TWI241680B. Автор: Kuan-Ting Lin,Chia-Chang Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-10-11.

Catalytic reaction chamber

Номер патента: JPS5528702A. Автор: Jiyosefuaa Perushiko Pooru,Hiyuu Jiensen Robaato,Furedoritsuku Miraa Robaato. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1980-02-29.

Precast mould with shifted out reaction chamber for thermoaluminium welding

Номер патента: CS231394B1. Автор: Štefan Janíčko,Katarína Janíčková. Владелец: Katarína Janíčková. Дата публикации: 1984-11-19.

Immuno reaction chambers

Номер патента: GB8822634D0. Автор: . Владелец: Spitz G E. Дата публикации: 1988-11-02.

Method of reducing the sediment for reaction chamber

Номер патента: TWI253100B. Автор: Jen-Yu Juo,Ming-Jeng Liu,Bing-Yun Sucn. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-04-11.

A method for modifying cast iron in the casting mold reaction chamber

Номер патента: UA6778U. Автор: Maksym Anatoliiovych Fesenko,Viacheslav Oleksand Kosiachkov,Oleksandr Pavlovych Makarevych. Владелец: Nat Tech Univ Kyiv Polytech. Дата публикации: 2005-05-16.

Plasma reaction chamber for realizing fast reaction gas switching and method thereof

Номер патента: CN104112639A. Автор: 倪图强,左涛涛,周旭升. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2014-10-22.

Vacuum reaction chamber

Номер патента: TW430112U. Автор: Jen-Shiang Fang,Hau-Wei Jang,Jin-Kuen Jung. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-04-11.

Chemical vapor deposition apparatus having a reaction chamber condition detection function and a detection method thereof

Номер патента: TW200619412A. Автор: Chien-Hsing Lai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-06-16.

Electrocoagulation reaction chamber and method

Номер патента: AU2002340157A1. Автор: F. William Gilmore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-22.

Valve structure for wafer reaction chamber

Номер патента: TWM242623U. Автор: Wei-Yue Wu. Владелец: Wei-Yue Wu. Дата публикации: 2004-09-01.

Plasma reaction chamber and process of dry etching

Номер патента: TW200428514A. Автор: Chun-Wei Chen,Yi-Hsiung Lin,Hong-Long Chang,Shih-Kun Kuo. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2004-12-16.

Method of and apparatus for controlling the temperature of exothermic reaction chambers

Номер патента: AU537736A. Автор: Arct sr Aicher. uf England Alfred. Владелец: Robixkox Bixby Ky Processes Ltd. Дата публикации: 1937-08-12.

Method of and apparatus for controlling the temperature of exothermic reaction chambers

Номер патента: AU101714B2. Автор: Arct sr Aicher. uf England Alfred. Владелец: Robixkox Bixby Ky Processes Ltd. Дата публикации: 1937-08-12.

Automatic alignment structure of the upper cover of the physical vapor deposition reaction chamber

Номер патента: TWM565205U. Автор: 宋媛媛,邱新智,黃裕鴻,周偉權,彭奎彰,陳英信. Владелец: 天虹科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-08-11.

Reaction Chamber of an Epitaxial Reactor and Reactor That Uses Said Chamber

Номер патента: US20120027646A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-02.

Chamber top cover and reaction chamber containing said top cover

Номер патента: CN101207034B. Автор: 张风港. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-19.

A reaction chamber for real-time PCR that includes a capture probe and allows detection of PCR products by hybridization without opening the PCR chamber

Номер патента: JP5258755B2. Автор: アレクサンドル，イザベル,レマクル，ヨセ,コーン，ハインツ,ザイペル，マルテイーン. Владелец: エッペンドルフアレイテクノロジーズエス．アー．. Дата публикации: 2013-08-07.

Supporting construction (variants) for attachment of catalytic structure in reaction chamber, method of this structure attachment in chamber and method of fuel catalytic combustion

Номер патента: RU2160415C2. Автор: ДАЛЛА БЕТТА Ралф,ШЛЭТТЕР Джеймс,Бернард КАТРОН Мартин,Уинстон БИБ Кеннет. Владелец: Каталитика Инк.. Дата публикации: 2000-12-10.

METHOD OF FABRICATING A REACTION CHAMBER FOR A FUEL STORAGE ASSEMBLY

Номер патента: US20120017439A1. Автор: BRAITHWAITE DANIEL,Peterson Andrew,Jonemann Matthieu,Helland Courtney Aline,Yamamoto Kei Edgardo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-26.

Non-Contact Radiant Heating and Temperature Sensing Device for a Chemical Reaction Chamber

Номер патента: US20120052564A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-01.

Microfluidic reactor having an annular reaction chamber

Номер патента: US20120071647A1. Автор: LADE Oliver,Steckenborn Arno. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-22.

ENCLOSED ROTOR-BASED CAVITATIONAL AND CATALYTIC FLOW-THROUGH REACTION CHAMBER

Номер патента: US20120124894A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-05-24.

METHODS FOR DEPOSITING MATERIAL ONTO MICROFEATURE WORKPIECES IN REACTION CHAMBERS AND SYSTEMS FOR DEPOSITING MATERIALS ONTO MICROFEATURE WORKPIECES

Номер патента: US20120171389A1. Автор: Gealy Dan,Dando Ross S.. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-07-05.

METHODS FOR INTRODUCTING A FIRST GAS AND A SECEOND GAS INTO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20120230903A1. Автор: Gupta Puneet,Kulkarni Milind,Revankar Vithal,Devulapalli Balaji,Ibrahim Jameel,Foli Kwasi. Владелец: MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2012-09-13.

SYSTEMS AND METHODS FOR PRODUCING AN EVAPORATION BARRIER IN A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20120288866A1. Автор: Ching Jesus,KOZMA Lynn,FAIRCHILD Maureen. Владелец: GENTURADX, INC.. Дата публикации: 2012-11-15.

SEGMENTED REACTION CHAMBER FOR RADIOISOTOPE PRODUCTION

Номер патента: US20120300890A1. Автор: Piefer Gregory,Mackie Thomas Rockwell. Владелец: SHINE MEDICAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-11-29.

Non-Contact Radiant Heating and Temperature Sensing Device for a Chemical Reaction Chamber

Номер патента: US20120322140A1. Автор: Shigeura John S.,Shigeura Janice G.. Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-20.

DEPOSITION SYSTEMS INCLUDING A PRECURSOR GAS FURNACE WITHIN A REACTION CHAMBER, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20130047918A1. Автор: Bertram,JR. Ronald Thomas,Landis Michael. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2013-02-28.

DEPOSITION SYSTEMS HAVING REACTION CHAMBERS CONFIGURED FOR IN-SITU METROLOGY AND RELATED METHODS

Номер патента: US20130052333A1. Автор: Lindow Ed,Bertram Ronald,Canizares Claudio. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2013-02-28.

MICRO-REACTION CHAMBER MICROELECTRODES ESPECIALLY FOR NEURAL AND BIOINTERFACES

Номер патента: US20130053934A1. Автор: Gluckman Bruce J.,Shanmugasundaram Balaji. Владелец: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2013-02-28.

AUTOMATED STAINING SYSTEM AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130071858A1. Автор: HARTMAN ANTHONY L.,BUI XUAN S.,FUJIMAKI TOSHIYUKI,TOKUDAIJI SHINJI,OKABE YOSHITAKE,MIZUSAWA YOSHITADA. Владелец: Sakura Finetek U.S.A., Inc.. Дата публикации: 2013-03-21.

DEVICE FOR SEQUENTIALLY DISPENSING LIQUID REAGENTS TO A REACTION CHAMBER

Номер патента: US20130109082A1. Автор: Quinn Edward John,Webster Simon,Smith David Alistair,Harrand Robert. Владелец: AVACTA LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

SEMICONDUCTOR REACTION CHAMBER SHOWERHEAD

Номер патента: US20140103145A1. Автор: White Carl,Shero Eric,Dunn Todd,Fondurulia Kyle. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2014-04-17.

Reaction chamber of mould for treating poured-in metal with solid additives

Номер патента: SU622557A1. Автор: Николай Иванович Кобелев,Иван Андреевич Дибров,Анатолий Владимирович Козлов,Вячеслав Дмитриевич Винокуров. Владелец: Всесоюзный научно-исследовательский институт литейного машиностроения, литейной технологии и автоматизации литейного производства. Дата публикации: 1978-09-05.

Reaction chamber air inlet device for metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) equipment

Номер патента: CN103074674B. Автор: 胡强,梁勇,王军喜,曾一平,李晋闽,冉军学,胡国新,熊衍凯. Владелец: Institute of Semiconductors of CAS. Дата публикации: 2015-05-13.

Coating method for reaction chamber of CVD apparatus

Номер патента: JP3471082B2. Автор: 加一福田. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-11-25.

Graphite disc and reaction chamber

Номер патента: CN217077782U. Автор: 向鹏. Владелец: Enkris Semiconductor Inc. Дата публикации: 2022-07-29.

Plasma reaction chamber pretreatment method

Номер патента: CN101643895B. Автор: 张海洋,孙武,王新鹏,尹晓明. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

A kind of plasma-reaction-chamber and its electrostatic chuck

Номер патента: CN104112638B. Автор: 左涛涛,吴狄,张亦涛,彭帆. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2017-07-18.

Can obtain the big area VHF-PECVD reaction chamber back feed-in type parallel plate power electrode of uniform electric field

Номер патента: CN100567567C. Автор: 赵颖,张晓丹,张建军,魏长春,侯国付,任慧志,耿新华,许盛之,葛洪,薛俊明,熊绍珍. Владелец: Nankai University. Дата публикации: 2009-12-09.

Method for increasing use ratio of heat treatment reaction chamber

Номер патента: CN101685766B. Автор: 赵星,桂远远. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2011-09-07.

Plasma reactor and the method for removing plasma reaction chamber particle contamination

Номер патента: CN105097423B. Автор: 童浩,严琰. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-09-18.

A kind of inlet duct and reaction chamber

Номер патента: CN104651838B. Автор: 刘凯. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Reactor with circulating fluidized bed and method of material separation in solid phase from flue gases leaving the reaction chamber

Номер патента: SU1678195A3. Автор: Энгстрем Фолке,Олоф Хенриксон Кай,Рагнар Лундквист Густав. Владелец: А.Альстрем Корпорейшн (Фирма). Дата публикации: 1991-09-15.

Reaction chamber for irradiator

Номер патента: SU997792A1. Автор: Александр Петрович Мерзликин. Владелец: Предприятие П/Я Р-6601. Дата публикации: 1983-02-23.

Reaction chamber and plasma processing device

Номер патента: CN104746043B. Автор: 陈鹏,张彦召,佘清. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-13.

Rotating connection assembly for trays and reaction chamber employing same

Номер патента: CN105575860A. Автор: 刘凯. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-11.

Reaction chamber and epitaxial growth equipment

Номер патента: CN104233233A. Автор: 蒲春. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-24.

Reaction chamber

Номер патента: SU1102116A2. Автор: А.В. Кондратьев,А.В. Путилов,С.Л. Кудрявцев,С.Я. Пшежецкий,С.А. Каменецкая,Н.В. Петрухин,Б.А. Мишарин,В.Н. Коронов. Владелец: А.В. Путилов. Дата публикации: 1996-04-10.

Reaction chamber for intramould inoculation of high-strength cast iron

Номер патента: SU1379074A1. Автор: Виктор Михайлович Ткаченко,Семен Наумович Леках,Анатолий Иванович Козлов,Георгий Феликсович Андреев,Михаил Михайлович Бондарев,Владимир Михайлович Михайловский,Игорь Викторович Хорошко,Владимир Андреевич Чайкин,Борис Исакович Каминский. Владелец: Павлодарский Тракторный Завод. Дата публикации: 1988-03-07.

Номер патента: SU1518349A1. Автор: Геннадий Александрович Сергеев,Михаил Васильевич Кретинин,Риф Мударисович Усманов,Андрей Владимирович Казачанский. Владелец: Уфимский Филиал Всесоюзного Научно-Исследовательского И Проектно-Конструкторского Института Нефтяного Машиностроения. Дата публикации: 1989-10-30.

Combined base type electromagnetic heating device used in metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) reaction chamber

Номер патента: CN103614709A. Автор: 李志明,李海玲. Владелец: University of Jinan. Дата публикации: 2014-03-05.

Reaction chamber for silicon carbide epitaxial wafer, exhaust device for silicon carbide epitaxial wafer, and semiconductor device

Номер патента: CN213781995U. Автор: 周长健,吴从俊. Владелец: Clc Semiconductor Co ltd. Дата публикации: 2021-07-23.

Reaction chamber lining

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты