Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Pressure measuring instrument and substrate processing apparatus including the pressure measuring instrument

Pressure measuring instrument and substrate processing apparatus including the pressure measuring instrument

Номер патента: JP5993312B2
Опубликовано: 14-09-2016
Автор(ы): 悟 小池
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Pressure measuring apparatus

Номер патента: RU2330252C2. Автор: Томас ФЕССЕЛЕ,Ханс-Мартин ХОХЕНБЕРГЕР,Винфрид КУНТ,Томас ФЕССЕЛЕ (DE),Ханс-Мартин ХОХЕНБЕРГЕР (DE),Винфрид КУНТ (DE). Владелец: Роберт Бош Гмбх. Дата публикации: 2008-07-27.

Capacitive pressure measuring cell and pressure measuring device

Номер патента: US09891127B2. Автор: Oliver Blankenhorn. Владелец: IFM ELECTRONIC GMBH. Дата публикации: 2018-02-13.

Semiconductor type differential pressure measurement apparatus and method for manufacturing the same

Номер патента: US5375473A. Автор: Tetsuya Watanabe,Hideo Tsukamoto,Kyoichi Ikeda,Satoshi Fukuhara,Takahiro Kudo,Kouji Nagai. Владелец: Yokogawa Electric Corp. Дата публикации: 1994-12-27.

System and method for pressure measurement

Номер патента: CA2576962C. Автор: Yoshikazu Kaneko,William Stephen Kosh. Владелец: ASHCROFT-NAGANO Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Sealed pressure-measuring member

Номер патента: US09476789B2. Автор: Peter Smith,Jonathan Champredonde,Richard Leman,Mark Leman. Владелец: Michelin Recherche et Technique SA Switzerland. Дата публикации: 2016-10-25.

Particle trapping apparatus for preventing an error of a pressure measurement

Номер патента: US20230324246A1. Автор: Sang Woo Lee,Woo Hyung CHOI,Hwi Gon Jang,Gyoung Ho KWON. Владелец: Adaptive Plasma Technology Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Pressure measuring instrument

Номер патента: US09921121B2. Автор: Holger Glaab,Julian HUENERTH. Владелец: WIKA INSTRUMENTATION SUZHOU CO Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Sealed element for pressure measurement

Номер патента: RU2567179C2. Автор: Питер СМИТ,Жонатан ШАМПРЕДОНД,Ричард ЛЕМАН,Марк ЛЕМАН. Владелец: Компани Женераль Дез Этаблиссман Мишлен. Дата публикации: 2015-11-10.

Pressure measuring cell

Номер патента: US09759623B2. Автор: Ulfert Drewes,Elke Schmidt,Andreas Rossberg,Nils Ponath. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2017-09-12.

Apparatus for measuring the pressure and flow rate of a high temperature corrosive liquid

Номер патента: AU2022351351A1. Автор: Michael P. Nelson,Paul Jeffrey Parish. Владелец: Flowserve Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Apparatus for measuring the pressure and flow rate of a high temperature corrosive liquid

Номер патента: CA3233280A1. Автор: Michael P. Nelson,Paul Jeffrey Parish. Владелец: Flowserve Pte Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Apparatus for measuring the pressure and flow rate of a high temperature corrosive liquid

Номер патента: US20230094491A1. Автор: Michael P. Nelson,Paul Jeffrey Parish. Владелец: Flowserve Management Co. Дата публикации: 2023-03-30.

Apparatus for measuring the pressure and flow rate of a high temperature corrosive liquid

Номер патента: AU2022351351B2. Автор: Michael P. Nelson,Paul Jeffrey Parish. Владелец: Flowserve Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus for measuring the pressure and flow rate of a high temperature corrosive liquid

Номер патента: EP4409252A1. Автор: Michael P. Nelson,Paul Jeffrey Parish. Владелец: Flowserve Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Pressure measuring unit for measuring a pressure

Номер патента: US12130191B2. Автор: Nils Ponath,Armin Rupp,Dirk Lill. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2024-10-29.

Metal pressure measuring cell

Номер патента: EP4396551A1. Автор: Frederic Zimmermann,Jonas Müller,Raphael KÄPPELI,Jürg Hess. Владелец: Huba Control AG. Дата публикации: 2024-07-10.

Pressure measurement probe comprising a pressure sensor board

Номер патента: US20240288465A1. Автор: Romain Hodot,Lilian Cauchard. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2024-08-29.

Metal Pressure Measuring Cell

Номер патента: US20240369433A1. Автор: Frederic Zimmermann,Jonas Müller,Raphael KÄPPELI,Jürg Hess. Владелец: Huba Control AG. Дата публикации: 2024-11-07.

Pressure measuring cell, including a measuring membrane arranged at a measuring cell body via a joining structure

Номер патента: US09958352B2. Автор: Jörn Jacob. Владелец: VEGA Grieshaber KG. Дата публикации: 2018-05-01.

Sensor module for measuring a pressure of a fluid with at least one electronic circuit, particularly an integrated circuit, arranged on a circuit carrier, and at least one pressure measuring chip

Номер патента: US09835513B2. Автор: Torsten Eggers,Peter Muller. Владелец: Hella KGaA Huek and Co. Дата публикации: 2017-12-05.

Pressure measuring instrument

Номер патента: US20220373421A1. Автор: Chang-Ching Huang. Владелец: Zhongshan Fumao Seal Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Apparatus and method for assisting with fluid pressure measurement

Номер патента: US09631998B2. Автор: Anne M. Sullivan,Brittany Reanne KINKADE,James Alan GERHARDT,Russell V. Westhphal. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

High-temperature gas pressure measuring method

Номер патента: US09983080B2. Автор: Wen-Chueh Pan,Ming-June Lin,Jen-Chieh Li,Tsan-Tung Chen,Yih-Hsing Wang,Tien-Fu Wu. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2018-05-29.

Pressure measuring device

Номер патента: US20180238758A1. Автор: Holger Blum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-08-23.

Pressure measuring device comprising an air passage provided at a plug connection

Номер патента: US11747177B2. Автор: Robert Rimmele,Ruben Bentele. Владелец: IFM ELECTRONIC GMBH. Дата публикации: 2023-09-05.

Miniaturized device for pressure measurements over a very wide range

Номер патента: EP3100018A2. Автор: Gianpiero MENSA. Владелец: NANOTECH ANALYSIS Srl S. Дата публикации: 2016-12-07.

Pressure measurement device including an absolute and an atmospheric pressure sensor connected by a bus to a circuit for calculating gage pressure

Номер патента: WO2004085984A1. Автор: Mark S. Schumacher,Kelly M. Orth. Владелец: Rosemount Inc.. Дата публикации: 2004-10-07.

Pressure measurement device with automatic position correction

Номер патента: US09739678B2. Автор: Joern Jacob. Владелец: VEGA Grieshaber KG. Дата публикации: 2017-08-22.

Pressure measuring sensor

Номер патента: US12031878B2. Автор: Andreas Rossberg,Nils Ponath. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2024-07-09.

Device for pressure measurement, in particular for blood pressure measurement

Номер патента: RU2482789C2. Автор: Герхард ГЛУФКЕ,Герхард МАРКВАРДТ. Владелец: Рудольф Ристер Гмбх. Дата публикации: 2013-05-27.

Pressure measurement device

Номер патента: US12078566B2. Автор: HUI Wang,Shounan Luo,Songnan Fan,Fudong Xu,Shaolin Xia. Владелец: Fluke Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Pressure-measuring device for measuring dynamic pressure and gas-turbine combustion chamber having pressure measuring device

Номер патента: US09683909B2. Автор: Sermed Sadig,Jochen Rupp. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2017-06-20.

Pressure measurement device for molten salt systems

Номер патента: DK202330283A1. Автор: Stubsgaard Aslak. Владелец: Copenhagen Atomics AS. Дата публикации: 2023-10-27.

Method and device for pressure measurement with use of filling pipe

Номер патента: RU2511629C2. Автор: Чарльз Р. ВИЛЛКОКС,Роберт К. ХЕДТКЕ,Лян-цзю ЛУ. Владелец: Роузмаунт Инк.. Дата публикации: 2014-04-10.

Non-intrusive process fluid pressure measurement system

Номер патента: RU2769409C1. Автор: Чарльз Р. УИЛЛКОКС. Владелец: Роузмаунт Инк.. Дата публикации: 2022-03-31.

Integrated pressure sensor with double measuring scale, pressure measuring device including the integrated pressure sensor, braking system, and method of measuring a pressure using the integrated pressure sensor

Номер патента: US09804047B2. Автор: Bruno Murari,Domenico Giusti,Alberto Pagani,Marco Ferrera,Daniele Caltabiano. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-10-31.

Pressure measurement bar improving the monitoring of unsteady aerodynamic phenomena

Номер патента: US20240280064A1. Автор: Maxime Keller,Nicolas Jean,Nicolas Dupe,Cyrille Dajean. Владелец: AIRBUS OPERATIONS SAS. Дата публикации: 2024-08-22.

Pressure measuring procedure, pressure apparatus and tonometer

Номер патента: RU2372021C2. Автор: Акихико УТИЯМА,Кендзи ЯНАСИМА,Сунао ТАКЕДА,Макото НАКАИ,Акихиро ФУДЗИТА,Итару ЕСИЗАВА. Владелец: Кова Компани, Лтд.. Дата публикации: 2009-11-10.

Differential-pressure measuring assembly having effective-pressure lines and method for detecting plugged effective-pressure lines

Номер патента: US09683876B2. Автор: Davide Parrotto. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2017-06-20.

Ceramic pressure measuring cell

Номер патента: US09625335B2. Автор: Ulfert Drewes,Michael Philipps,Elke Schmidt,Andrea Berlinger,Andreas Rossberg. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2017-04-18.

Capacitive pressure-measuring cell having at least one temperature sensor and pressure measurement method

Номер патента: US09976923B2. Автор: Drewes Ulfert,Thomas Uehlin,Andreas Rossberg,Martin Burgard,Nils Ponath. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2018-05-22.

Atmospheric pressure measuring apparatus and method of measuring atmospheric pressure

Номер патента: US20090288491A1. Автор: Yoshitaka Suzuki,Takahiro Imamura,Shinji Koganezawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-11-26.

Wall surface pressure measurement structure and wind-tunnel test apparatus

Номер патента: US20190128773A1. Автор: Yoshikazu Makino,Ryota TAKAYA,Toshiteru MITOMO. Владелец: Japan Aerospace Exploration Agency JAXA. Дата публикации: 2019-05-02.

Method For Compensating a Temperature Shock at a Capacitive Pressure Measuring Cell

Номер патента: US20240328881A1. Автор: Peter Kimbel,Manfred Maurus. Владелец: IFM ELECTRONIC GMBH. Дата публикации: 2024-10-03.

Differential pressure measuring device and degree of pollution monitoring unit and filter unit

Номер патента: US20130139571A1. Автор: Alfred Gröner. Владелец: MAHLE International GmbH. Дата публикации: 2013-06-06.

Process fluid pressure measurement system with improved coupling

Номер патента: EP2855995A1. Автор: Daniel A. Norberg,Nathan L. WIATER. Владелец: Rosemount Inc. Дата публикации: 2015-04-08.

Distributed pressure measurement system for core flood experiments

Номер патента: US12044609B2. Автор: Tao Li,Partha Dutta,Yogesh B. Gianchandani,John-Richard Ordonez-Varela,Alexander BENKEN. Владелец: TOTAL SE. Дата публикации: 2024-07-23.

Pressure measuring device, tap, storage unit and installation comprising such a device

Номер патента: US09786151B2. Автор: Guillaume Roberge. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-10-10.

Method of fuel rods internal pressure measurement

Номер патента: WO2023156967A1. Автор: Zbyněk Hlaváč,Ondřej Pašta,Leoš Assmann,Marcin KOPEĆ. Владелец: Centrum Výzkumu Řež S.R.O.. Дата публикации: 2023-08-24.

Pressure measuring device and pressure measuring method

Номер патента: US09970838B2. Автор: Tomohide Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Method of pressure measurement for pressure cooker

Номер патента: RU2543595C2. Автор: Фолькхарт ФИССЛЕР. Владелец: Фисслер Гмбх. Дата публикации: 2015-03-10.

Processing apparatus, measurement method, and article manufacturing method

Номер патента: US20210364274A1. Автор: Shinichi Shudo,Masataka Yasukawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Device for pressure measurement

Номер патента: RU2660393C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Кирилл Геннадьевич Домнин,Александр Дмитриевич Чекушин. Владелец: Акционерное общество "Корпорация "Московский институт теплотехники" (АО "Корпорация "МИТ"). Дата публикации: 2018-07-06.

Apparatus and method for calibrating span of pressure measuring instruments

Номер патента: CA1238206A. Автор: George E. Sgourakes. Владелец: Foxboro Co. Дата публикации: 1988-06-21.

Piezoelectric pressure measuring instrument

Номер патента: US4898024A. Автор: Kiyoshi Takeuchi. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 1990-02-06.

Internal pressure measuring jig for cylindrical battery cell

Номер патента: EP3780247A1. Автор: Jung Hoon Kim,Joo Hwan Sung,Myung An Lee,Ik Jong LEE,Byung Hyuk Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2021-02-17.

Method and device for determining an error in a pressure measurement in a pressure reservoir

Номер патента: US09606017B2. Автор: Hans Riepl,Christoph Adler. Владелец: Continental Automotive GmbH. Дата публикации: 2017-03-28.

Battery Pressure Measuring Sensor and Battery Pressure Measuring Apparatus Including the Same

Номер патента: US20240142322A1. Автор: Ki-Young Lee,Do-Yul KIM,Dong-Wan KO,Hye-Yun BAE. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Foot pressure measurement apparatus, method, and non-transitory tangible machine-readable medium thereof

Номер патента: US20210145315A1. Автор: Chih-Hao Hsu,yan-tong Liu. Владелец: INSTITUTE FOR INFORMATION INDUSTRY. Дата публикации: 2021-05-20.

Pressure measurement method, control method, pressure measurement device, and analyzer

Номер патента: US20240167900A1. Автор: Atsushi Nakamura,Naohide Miyamoto,Eikichi SHIBATA,Kiyomi Seii. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Method of making a hose connector with a pressure measurement point for a pressure sensor

Номер патента: RU2708192C1. Автор: Петер КОЛЬБ,Маттиас ДЁППЕ,Андреас КЛИНГЛЕР. Владелец: Эста Аппаратебау Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2019-12-04.

Device and method for pressure measurement of jamin effect pore throat based on mechanochromic material

Номер патента: LU500885B1. Автор: Fei Wang. Владелец: Qingdao Univ Of Science And Technology. Дата публикации: 2022-05-23.

Capacitive, ceramic pressure-measuring cell and method for the production thereof

Номер патента: US09958350B2. Автор: Andreas Rossberg,Nils Ponath. Владелец: Endress and Hauser SE and Co KG. Дата публикации: 2018-05-01.

Pressure measurement devices, methods, and systems

Номер патента: US09551625B2. Автор: Jeffrey H. Burbank,James M. Brugger,William J. Schnell,Dennis M. Treu,Scott W. Newell,Kenneth E. Buckler. Владелец: Nxstage Medical Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Pressure measuring glow plug

Номер патента: US09541291B2. Автор: Janpeter Wolff,Holger Scholzen,Wolfgang Koetzle. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Pressure measuring material and method for manufacturing pressure measuring material

Номер патента: EP4414679A2. Автор: Hiroshi Kawakami,Masahiro Hatta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-14.

Pressure measuring material and method for manufacturing pressure measuring material

Номер патента: EP4414679A3. Автор: Hiroshi Kawakami,Masahiro Hatta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Method and system for extracting and correcting ringing component in dynamic pressure measurement signal of shock wave flow field

Номер патента: US20240338562A1. Автор: Deng Chen,Yongsheng Li,Yanfei Chen,Liangchun Zhang,Hanyu HONG,Jinlin SONG,Likun HUANG,Zhenjian YAO,Yaling JI. Владелец: Wuhan Institute of Technology. Дата публикации: 2024-10-10.

Intravital pressure measurement device

Номер патента: EP4215107A1. Автор: Hideaki Hasegawa,Takashi Fujihata,Hiroyuki Tamaoka. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-07-26.

Guidewire system for intra-vascular pressure measurement

Номер патента: US20190343404A1. Автор: Avraham Shekalim,Noam Peleg. Владелец: CardioSert Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Guidewire system for intra-vascular pressure measurement

Номер патента: EP3547929A1. Автор: Avraham Shekalim,Noam Peleg. Владелец: CardioSert Ltd. Дата публикации: 2019-10-09.

Devices and methods for clot burst pressure measurement

Номер патента: WO2024167811A1. Автор: Brijesh S. Gill,Charles S. COX,Julia Litvinov,Atharwa R. MANKAME. Владелец: The Board of Regents of the University of Texas System. Дата публикации: 2024-08-15.

Pressure measurement apparatus for inspecting therapeutic energy waves

Номер патента: US5357805A. Автор: Satoshi Aida,Katsuhiko Fujimoto,Nobuki Kudo,Masamichi Oyanagi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1994-10-25.

Installation method of measuring instrument to working position and device for its implementation

Номер патента: RU2428656C1. Автор: Сергей Иванович Чекалин. Владелец: Сергей Иванович Чекалин. Дата публикации: 2011-09-10.

SYSTEM INCLUDING THE MEASURING RACK AND THE MEASURING INSTRUMENT

Номер патента: RU2013140281A. Автор: Петер ВОЛЬФ,Михаэль ФРАНК,Николас ГРОС,Хайко ФЮЛЛЕМАНН,Илис БЕН-ХАССИНЕ. Владелец: Роберт Бош Гмбх. Дата публикации: 2015-03-10.

Digital measuring instruments

Номер патента: GB1499504A. Автор: . Владелец: CARSON Ltd. Дата публикации: 1978-02-01.

High-precision cog system measuring instrument

Номер патента: US20040143978A1. Автор: Hiroomi Ogasawara. Владелец: OGASAWARA PRECISION ENGINEERING Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Systems and methods for recalibrating a measurement instrument

Номер патента: US20180246142A1. Автор: James Glover. Владелец: West Energy Support & Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

A capacitive measuring instrument for water level measurement in an oil tank

Номер патента: CA2314700C. Автор: Ferencz Nandor Toth. Владелец: Enraf Bv. Дата публикации: 2011-09-27.

MEASURING INSTRUMENT FOR MEASURING ELECTROSTATIC CAPACITY AND METHOD OF CALIBRATING TRANSFER POSITION DATA IN PROCESSING SYSTEM BY USING MEASURING INSTRUMENT

Номер патента: US20170363407A1. Автор: SUGITA Kippei,Minami Tomohide. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2017-12-21.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND SYSTEM INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20190049277A1. Автор: Niwa Isao. Владелец: ROHM CO., LTD.. Дата публикации: 2019-02-14.

Dialogue processing apparatus, a vehicle including the same, and a dialogue processing method

Номер патента: US20210043202A1. Автор: Jeong-Eom Lee,Youngmin Park,Seona KIM. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Level sensor and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240118072A1. Автор: Seungwoo Lee,Akinori Okubo,Sungho Jang,Jaehwang Jung,Jungchul Lee,Sangwoo Bae,Minhwan Seo,Sangjoon Hong,Jangwoon SUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus for monitoring pulsed high-frequency power and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11545340B2. Автор: Hong Won Lee,Shin-woo Nam,Jong Hwan AN,Jae Bak SHIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09818654B2. Автор: Masato Hayashi,Naruaki Iida,Kenji Iizuka,Kohei Noguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Differential pressure measuring device having a shut-off body with a constriction in the flow channel

Номер патента: US09506787B2. Автор: Peter Otto,Hans-Jürgen POSTBERG. Владелец: POSTBERG and Co DRUCKLUFT-CONTROLLING GmbH. Дата публикации: 2016-11-29.

Pressure measurement system

Номер патента: US20030046989A1. Автор: John Jaye. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate position detecting apparatus, substrate processing apparatus using substrate position detecting apparatus, and deposition apparatus

Номер патента: US09404184B2. Автор: Katsuyoshi Aikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-02.

Variable capacitance device, substrate processing apparatus including the variable capacitance device, and substrate processing method

Номер патента: US20240038566A1. Автор: Hyung Joon Kim,Jong Gun Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230317477A1. Автор: Taehoon Lee,Youngjun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Heating device and substrate processing apparatus comprising the same

Номер патента: US20230171853A1. Автор: Jun Ho Song,Min Hee Cho,Won Young Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

System and method for detecting erroneous pressure measurements in air signal system with non-protruding pressure receivers using pressure diagrams between adjacent pressure sampling holes

Номер патента: RU2771090C1. Автор: М. Джаякумар,Кс ФИНИТХА,Н Ремеш,Сб ВИДИЯ,Кришна ШАШИ,Дхаоя ДЖАЯНТА,Ак АБДУЛ САМАД,С Равикумар,Н Шиам Мохан. Владелец: Индиан Спейс Рисерч Организейшн. Дата публикации: 2022-04-26.

Apparatus for monitoring pulsed high-frequency power and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170103871A1. Автор: Hong Won Lee,Shin-woo Nam,Jong Hwan AN,Jae Bak SHIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-13.

Apparatus for monitoring pulsed high-frequency power and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20210050184A1. Автор: Hong Won Lee,Shin-woo Nam,Jong Hwan AN,Jae Bak SHIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-18.

Leakage detection apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240219258A1. Автор: Hironobu Shimizu,Kazuhiro Umemoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for monitoring a flow of a medium by means of a Coriolis mass flowmeter and a differential pressure measurement device

Номер патента: US12044559B2. Автор: Hao Zhu,Josef Hubensteiner. Владелец: Endress and Hauser Flowtec AG. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304439A1. Автор: Koji Akiyama,Philippe Gaubert,Hajime Nakabayashi,Chihiro Tamura,Hisashi WARASHINA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Signal processing method, measurement instrument and measurement system

Номер патента: US20240319248A1. Автор: Andreas LÄGLER,Florian Ramian,Karolin Werthmueller. Владелец: Rohde and Schwarz GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-09-26.

Gas-detecting apparatus including gas sensor and method of detecting hydrogen using gas sensor

Номер патента: US20170307556A1. Автор: Satoru Fujii,Shunsaku Muraoka,Zhiqiang Wei,Kazunari HOMMA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Lymphatic pressure-measuring system and method for controlling same

Номер патента: US20120123254A1. Автор: Naoki Unno. Владелец: Hamamatsu University School of Medicine NUC. Дата публикации: 2012-05-17.

Lymphatic Pressure-Measuring System and Method for Controlling Same

Номер патента: US20150238134A1. Автор: Naoki Unno. Владелец: Hamamatsu University School of Medicine NUC. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Lymphatic pressure-measuring system and method for controlling same

Номер патента: US09597031B2. Автор: Naoki Unno. Владелец: Hamamatsu University School of Medicine NUC. Дата публикации: 2017-03-21.

Estimation of Building Floors Based on Difference in Barometric Pressure Measured by Wireless Terminals

Номер патента: US20190313219A1. Автор: Jonathan Shiao-en Lu,Jain Zhu. Владелец: Polaris Wireless Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Information processing apparatus, information processing method, learning apparatus, learning method, and computer program

Номер патента: US20240290108A1. Автор: Yusuke Komatsu. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Pressure measurement chamber for use in infusion or injection system

Номер патента: RU2609898C2. Автор: Фредерик ФОКС,Уве ШТРИГГОВ,Флориан КОЛИХ,Даниэль ФИЛИПП. Владелец: Ульрих Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2017-02-07.

Information processing apparatus, information processing method, program, information processing terminal, and information processing system

Номер патента: US20230368305A1. Автор: Hajime Fukui,Taizo Shirai,Yuki OKAMURA. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Polyacrylamide-containing indirect negative cavity water pressure measurement system and method

Номер патента: WO2024058745A1. Автор: Asli Senem Acikel,Mehmet Onder Pekcan,Bengu Ozugur Uysal. Владелец: Kadir Has Universitesi. Дата публикации: 2024-03-21.

Device for identifying change in vertical direction by using air pressure measurement value

Номер патента: US20160091309A1. Автор: Hiroyuki Sasaki. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2016-03-31.

Light interference system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130314713A1. Автор: Kenji Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-11-28.

Measurement instrument with multi-level user interface

Номер патента: RU2411001C2. Автор: Барри Д. ПАУЭР,Джеффри А. КАЛВЕР. Владелец: Байер Хелткэр Ллк. Дата публикации: 2011-02-10.

Substrate processing apparatus and substrate floating amount measurement method

Номер патента: US20230350300A1. Автор: Byeong Min LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Estimating the Elevation of a Wireless Terminal by Determining a Bias of Pressure Measurement from a Probability Distribution

Номер патента: US20200370887A1. Автор: Jian Zhu,Jeffrey Noel Wu. Владелец: Polaris Wireless Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Information processing apparatus, assembly apparatus, information processing method, and storage medium that generate a measurement pattern having different amounts of irradiation light depending on imaging regions

Номер патента: US09714829B2. Автор: Masakazu Matsugu,Takahisa Yamamoto,Akira Ohno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Pressure measurement cell for use in an infusion or injection system

Номер патента: US09534493B2. Автор: Uwe Striggow,Daniel Philipp,Frederik Fox,Florian Kolich. Владелец: Ulrich GmbH and Co KG. Дата публикации: 2017-01-03.

Measuring apparatus, measuring method, and processing apparatus thereof that obtain displacement amount of an object using clock in synchronization with data request signal

Номер патента: US09488501B2. Автор: Yoshiyuki Okada,Takafumi Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240125697A1. Автор: Masato Hayashi,Kohei Noguchi,Koudai Higashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11879839B2. Автор: Masato Hayashi,Kohei Noguchi,Koudai Higashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Information processing apparatus with which deterioration of colorimetric accuracy is suppressed, image forming system including the information processing apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US20240053931A1. Автор: Hiroki Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Information processing apparatus with which deterioration of colorimetric accuracy is suppressed, image forming system including the information processing apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US20220326892A1. Автор: Hiroki Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Multiple distributed pressure measurements

Номер патента: US20160312554A1. Автор: Daniel D. Gleitman. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-10-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Spectral characteristic measuring system, spectral characteristic measuring instrument, and data processing device

Номер патента: US20110019192A1. Автор: Kenji Imura. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2011-01-27.

Cell processing apparatus, sample preparation apparatus, and cell analyzer

Номер патента: US20130183747A1. Автор: Masakazu Fukuda,Hironori Kobayashi,Koki Tajima,Ryuichiro Ebi,Junyi Ding. Владелец: Sysmex Corp. Дата публикации: 2013-07-18.

Information processing apparatus, output method, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20220090936A1. Автор: Yoko Sakurai,Hiroaki Takeyama,Norihiro Nakamura,Kensuke Takeuchi,Motohiro Nakamura,Hajime Morikawa,Hideki KASEZAWA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Multiple distributed pressure measurements

Номер патента: US09938785B2. Автор: Daniel D. Gleitman. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Information processing system, information processing method, program, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220093409A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

A system and method for scheduling blood pressure measurements of a subject

Номер патента: WO2021069408A1. Автор: Jens Muehlsteff,Bishal LAMICHHANE. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2021-04-15.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US20060104797A1. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2006-05-18.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US20100059932A1. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2010-03-11.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US20080240899A1. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2008-10-02.

Information processing method, program, and information processing apparatus

Номер патента: US20240338633A1. Автор: Akio Kasuga. Владелец: Sumitomo Mitsui Construction Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US7451983B2. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2008-11-18.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US7708274B2. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2010-05-04.

Card-holding device in a card-processing apparatus

Номер патента: US7980474B2. Автор: Lutz Neubauer,Martin Landwehr,Thorsten Kulik. Владелец: WINCOR NIXDORF INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2011-07-19.

Method/Apparatus for training absolute pitch, electronic musical instrument and sound source processing apparatus

Номер патента: US20120198986A1. Автор: Young Il Chung. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-08-09.

Parallel processing unit and digital audio signal processing apparatus and method including the same

Номер патента: KR100435349B1. Автор: 로드니휴덴샴,피터찰스이스티,콘라드찰스쿡크. Владелец: 소니 유나이티드 킹덤 리미티드. Дата публикации: 2004-09-13.

Substrate processing apparatus and system including the same

Номер патента: US20230402297A1. Автор: Dong Min Kim,Hyung Chul Kim,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Heating plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240155741A1. Автор: Minwoo Kim,Seunghwan KO,Kyoungwhan OH,Chulmin Cho,Wooseop SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Cooling module for baking device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230408200A1. Автор: Min Hee Cho,Ju Mi LEE,Chun Woo Park,Gyeong Won SONG,Byung Hwi KIM,Hee Man AHN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Exhaust flow rate control apparatus and substrate processing apparatus provided therewith

Номер патента: US09616545B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887106B2. Автор: Hiroshi Sano,Itaru Furukawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Liquid chemical supply module and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240149308A1. Автор: Sangwoo Park,Youngjoon HAN,Seonghyeon Kim,Seungtae YANG,Gi Hun CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Supercritical fluid supply apparatus, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240069451A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11869781B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate transport apparatus, substrate processing apparatus, and substrate transport method

Номер патента: US11710654B2. Автор: Ki Won Han,Byoung Doo CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Substrate holding apparatus of a simple structure for holding a rotating substrate, and a substrate processing apparatus including the substrate holding apparatus

Номер патента: US5322079A. Автор: Yasushi Nakamura,Masami Ohtani,Yoshiteru Fukutomi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1994-06-21.

Living body information measuring instrument and method for controlling living body information measuring instrument

Номер патента: US20240032803A1. Автор: Kentaro Mori,Takeshi Kubo,Yasuo Asano. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Position detection method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240320837A1. Автор: Hikaru Sato,Yuta Haga,Motoi Okada,Kei Sano,Motohiro Okaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09847239B2. Автор: Yuichiro Inatomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Information processing apparatus, transfer position correction method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220388785A1. Автор: Tadashi Enomoto,Youngtai KANG,Keishi Shionaga,Nao Akashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Gas supply ring and substrate processing apparatus

Номер патента: US12087553B2. Автор: Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240079256A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11869789B2. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20180203434A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20210011462A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Substrate processing apparatus, program and substrate processing method

Номер патента: US20150179490A1. Автор: Masahiro Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Heating unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230268203A1. Автор: Seung Han Lee,Dongwoon PARK,Jong Seok SEO,Jin Taek Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11971661B2. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200243365A1. Автор: Kenichirou Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Sphygmomanometer, blood pressure measurement method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220273246A1. Автор: Yukiya Sawanoi,Shingo Yamashita,Mika Ezoe. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2022-09-01.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240036476A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200395227A1. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178009A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Process control system and implementation method for standardized blood pressure measurement

Номер патента: EP4397233A1. Автор: Hai SU,Linglin XIA,Yuyuan ZHANG,Aihua YUAN,Renliang GENG. Владелец: Jiangxi Changgang Medical Technology Ltd Co. Дата публикации: 2024-07-10.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20160283403A1. Автор: Yasuto Ishibashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

System and method to obtain intraocular pressure measurements and other ocular parameters

Номер патента: US20240130615A1. Автор: Alberto O. Gonzalez Garcia,Freddy S. MORGENSTERN. Владелец: Aeyedx Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

System and method to obtain intraocular pressure measurements and other ocular parameters

Номер патента: US20240225443A9. Автор: Alberto O. Gonzalez Garcia,Freddy S. MORGENSTERN. Владелец: Aeyedx Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory computer readable medium to share restriction information with other information processing apparatus

Номер патента: US09710405B2. Автор: Yasuto Ishibashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307270A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11908752B2. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021457A1. Автор: Kenichirou Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307271A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240120232A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11881426B2. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240184208A1. Автор: Hyun Min Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Image processing system, image processing method, and image processing apparatus

Номер патента: US20170262240A1. Автор: Shohgo OSAKI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-14.

Image processing system, image processing method, and image processing apparatus

Номер патента: US10031708B2. Автор: Shohgo OSAKI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-24.

Method for correcting blood pressure estimation parameter and blood pressure measurement apparatus

Номер патента: US20130281852A1. Автор: Hiromitsu Mizukami. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2013-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US10331034B2. Автор: Yuji Tanaka,Masahiko Harumoto,Koji Kaneyama,Masaya Asai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190393028A1. Автор: Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311172A1. Автор: Tae Won Yun,Sung Hun Eom. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20230244150A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Fluidic baffle for high pressure fluid distribution and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240167156A1. Автор: Kuntack Lee,Ilyoung Kim,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN,Hyungseok Kang,Joonho Won,Pilkyun HEO,Hongchan Cho. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20220075268A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-10.

Monitoring unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240184216A1. Автор: Yoon Sang Lee,Jeong-Gil Kim,Hyuck Shin,Eun Hee Jeang,Kyung Bin PARK,Dong Hyeong KIM,Teun Boeren. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-06.

Information processing apparatus, method for displaying information, non-transitory storage medium encoded with computer readable program, and information processing system

Номер патента: US20140306861A1. Автор: Yoshio Sakamoto,Ryutaro Takahashi,Masaki Wada,Eisaku Nakae. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-16.

Information processing apparatus, information processing system, and information processing method for managing authentication information across multiple information processing devices, information processing apparatuses, and information processing systems

Номер патента: US11762612B2. Автор: Eiichiro Yoshida. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295821A1. Автор: Makoto Muramatsu,Hiroyuki Fujii,Keisuke Yoshida,Soichiro Okada,Yasuyuki Ido,Nanoka Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US10153181B2. Автор: Katsuya Okumura,Soichi Nadahara,Hiroaki Kitagawa,Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Method and apparatus for arterial blood pressure measurement and individualized rectifying technology

Номер патента: US09974449B2. Автор: Meng-Sun YU,Hai-Yan Xiang,Zu-Lai Tao. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-22.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Blood pressure measurement method, apparatus, device and readable storage medium

Номер патента: US20240366099A1. Автор: Yongjie Gao. Владелец: Shenzhen AOJ Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Information processing apparatus, method for displaying information, non-transitory storage medium encoded with computer readable program, and information processing system

Номер патента: US09833713B2. Автор: Yoshio Sakamoto,Ryutaro Takahashi,Masaki Wada,Eisaku Nakae. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US5665200A. Автор: Kiyomi Sonobe,Takashi Takekuma,Akihiro Fujimoto. Владелец: Tokyo Electron Kyushu Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US10520831B2. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20140071423A1. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20240085812A1. Автор: Jongmin Baek,Woojin Lee,Wookyung You,Juhee Lee,Kyuhee Han,Kyeongbeom Park,Koungmin Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180076066A1. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Blood-pressure measuring device and method for presenting data of blood-pressure measurement

Номер патента: US20220400966A1. Автор: Meng-Yi Lin. Владелец: Health and Life Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Mediation server for mediating target service provision from service provision server to image processing apparatus

Номер патента: US09876919B2. Автор: Takeshi Nagasaki,Masafumi Miyazawa. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Job processing system, job processing apparatus, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09569149B2. Автор: Chihiro Sato. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

System and method for estimating artery compliance and resistance from 4D cardiac images and pressure measurements

Номер патента: US09462952B2. Автор: Bogdan Georgescu,Dorin Comaniciu,Tommaso Mansi,Viorel Mihalef,Ali Kamen. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: EP3753674A1. Автор: Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20160093486A1. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2016-03-31.

Optical processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164696A1. Автор: Makoto Hayakawa,Masaru Tomono,Seiji Nagahara,Ryo Shimada,Teruhiko MORIYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128101A1. Автор: Shinichi Umeno,Atsushi Anamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200402835A1. Автор: Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Pressure adjustment apparatus for controlling pressure in chamber and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20220208562A1. Автор: Min Cheol Kim,Su Chul PARK,Eui Cheol HONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Information processing apparatus, information processing method, and recording medium

Номер патента: US20180121207A1. Автор: Yusuke Hayashi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-03.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20210089195A1. Автор: Kosuke KIKUSHIMA. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Barcode reading mechanism, reading method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20100025471A1. Автор: Tadashi Inoue,Satoshi Nakazawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2010-02-04.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20240163552A1. Автор: Daisuke Yamamoto,Takeshi Ogita,Keiichiro Taniguchi,Ayumi NAKAGAWA,Akiko Yoshimoto,Atsutaka Ito,Mayumi Uemura. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Image processing apparatus and method

Номер патента: EP4401401A1. Автор: Xiaomin Wang,Xingxin ZHANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Image processing apparatus, image processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20230298174A1. Автор: Itaru Otomaru. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Information processing apparatus, information processing method, and information processing program

Номер патента: US12085912B2. Автор: Takashi Yamamoto,Tetsuo Ogawa,Koji Matsuoka,Masahiko Mori,Hironari Sakamoto,Munetaka Wakizaka,Naruhiro Irino,Takaaki Soga,Yasuhiro Imabeppu,Yoji Tsukui. Владелец: DMG Mori Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Blood pressure measurement method and apparatus

Номер патента: US12109049B2. Автор: Liming Fu,Kayden Beibei Fu. Владелец: Kayden Fu. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Method for the hands-free access to a motor vehicle and for monitoring the pressure of the tires mounted on said motor vehicle

Номер патента: US09895942B2. Автор: Youri Vassilieff,Helene Garnier. Владелец: Continental Automotive France SAS. Дата публикации: 2018-02-20.

Information processing apparatus that displays status of external apparatus in status monitor, and displaying method

Номер патента: US09606696B2. Автор: Takehiko Asano,Takashi Oguma,Yoshiyuki Taira. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Information processing apparatus and parameter control method

Номер патента: US20240087925A1. Автор: Kiwamu Ito,Yuichi Takenaga,Youngtai KANG,Rui IKEDA,Ken OKOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152774A1. Автор: Tsuneo Torikoshi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Image processing apparatus, imaging apparatus, and image processing method

Номер патента: EP4187902A3. Автор: Hiroki Ito,Shuichi Terada,Takumi Uehara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-13.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Information processing apparatus and program

Номер патента: EP2466487A3. Автор: Kuniki NAKAMURA. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2012-10-31.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Image processing apparatus and method

Номер патента: US20240257302A1. Автор: Xiaomin Wang,Xingxin ZHANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Information processing apparatus with which deterioration of colorimetric accuracy is suppressed, image forming system including the information processing apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US20220326646A1. Автор: Kazumi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Information processing apparatus and method of manufacturing information processing apparatus

Номер патента: US20190250453A1. Автор: Shuji Honda,Wakana Sato. Владелец: Fujitsu Client Computing Ltd. Дата публикации: 2019-08-15.

Medical image processing apparatus

Номер патента: US20160155220A1. Автор: Tatsuya Kimoto,Yasuko Fujisawa,Megumu Fujiwara. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2016-06-02.

Information processing apparatus with which deterioration of colorimetric accuracy is suppressed, image forming system including the information processing apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US12072655B2. Автор: Kazumi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Information processing apparatus, control method of information processing apparatus, storage medium, and cloud printing system

Номер патента: US20230280950A1. Автор: Koichi Abe,Shogo Kunii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Information processing apparatus, disc, information processing method, and program

Номер патента: EP2081190A3. Автор: Kenjiro Ueda,Katsumi Muramatsu. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-09-16.

Information processing apparatus, information processing method, and recording medium storing computer program

Номер патента: US20090198987A1. Автор: Ryuichi Matsukura,Masahiko Murakami,Motoshi Sumioka. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-08-06.

Film forming apparatus including a sprayer port and exhaust port on a supply pipe

Номер патента: US12096678B2. Автор: Yasutaka Nishi,Makoto NAKAZUMI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory recording medium

Номер патента: US12106128B2. Автор: Rikuto SAKURAI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Information processing apparatus, print data generation method, and storage medium

Номер патента: US09990572B2. Автор: Namihiro Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Information processing apparatus and method of manufacturing information processing apparatus

Номер патента: US09933894B2. Автор: Nobuyuki Shigeno,Shuichi Tatemori,Kengo AOKI. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Information processing apparatus, information processing system, and information processing method

Номер патента: US09886587B2. Автор: Daisuke Kamishiro. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Information processing apparatus, print data generation method, and storage medium

Номер патента: US09754197B2. Автор: Namihiro Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Information processing apparatus and method of manufacturing information processing apparatus

Номер патента: US09710102B2. Автор: Nobuyuki Shigeno,Shuichi Tatemori,Kengo AOKI. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Information processing apparatus, image processing apparatus, information processing system and information processing method

Номер патента: US09535634B2. Автор: Tomoyuki Takahira. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09494877B2. Автор: Kazuhiro Nishimura,Yasushi Nakamura,Ryuichi Chikamori,Yasuo Kawamatsu. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Image processing apparatus, image reading apparatus, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09462153B2. Автор: Shigeru Okada,Hiroyuki Kishimoto,Katsuya Koyanagi,Shintaro Adachi,Minoru Sodeura,Shinji Hanaoka. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US10290499B2. Автор: Tomohiro Goto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-05-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170213721A1. Автор: Tomohiro Goto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Blood pressure measuring apparatus, method and program for measuring blood pressure, and respiration assistance apparatus

Номер патента: US20200376217A1. Автор: Yasushi Matsuoka. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2020-12-03.

Information processing apparatus, web application program non-transitory computer readable recording medium that records, and information processing system

Номер патента: US20200097518A1. Автор: Hideyuki Sasaki. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Sheet processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: EP2296048A3. Автор: Koki Sato,Satoshi Iwama. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2014-06-18.

Sheet processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20100320671A1. Автор: Koki Sato,Satoshi Iwama. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2010-12-23.

Data processing apparatus, data processing method, and data processing system

Номер патента: US20240202877A1. Автор: Yusuke MIZUSHINA,Jade FOUNTAIN. Владелец: Telexistence Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Medical image processing apparatus, treatment system, and medical image processing program

Номер патента: EP3503971A1. Автор: Yasunori Taguchi,Ryusuke Hirai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2019-07-03.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240142886A1. Автор: Dongjin Lee,Inho Choi,Injae Lee,Dohyun Jung,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Jonggu LEE,Dongsik JEONG,Daegeun YOON,Yebin Nam,Sungyong Bae,Euishin Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Sheet processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US8547560B2. Автор: Koki Sato,Satoshi Iwama. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2013-10-01.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20150106080A1. Автор: Keigo Hattori,Yasuhide Miura,Tomoko Okuma. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Access key generating apparatus and information processing apparatus

Номер патента: US20100185826A1. Автор: Hideki Mitsubayashi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-07-22.

Information processing apparatus and method, and program

Номер патента: US20240214216A1. Автор: Yoshiyuki Kobayashi,Tatsuya Igarashi. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for processing documents on an image-processing apparatus

Номер патента: US20120069384A1. Автор: Nanne KRIKKE,Taco M. DE BOER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-22.

Method for processing documents on an image-processing apparatus

Номер патента: US8717592B2. Автор: Nanne KRIKKE,Taco M. DE BOER. Владелец: Oce Technologies BV. Дата публикации: 2014-05-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and information processing program

Номер патента: US20240340344A1. Автор: Hiroaki Takano,Fumio Teraoka,Hiroki Watanabe,Ryota Kimura,Hirofumi Kasai. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Method, device, and non-transitory computer readable medium for determining timing of removing substrate from cassette in substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US12119246B2. Автор: Hidetatsu Isokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Information processing apparatus and method for remotely correcting movement of a machine tool on the basis of measurement data measured during a licensing period

Номер патента: US12130607B2. Автор: Masahiko Mori,Masahiro Shimoike. Владелец: DMG Mori Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Image processing apparatus, method of controlling image processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240362819A1. Автор: Shinji Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Systems and methods for non-invasive blood pressure measurement

Номер патента: US20240307000A1. Автор: Ramkrishnan Narayanan,Elad FERBER,Derya Gol Gungor,Pierre-Jean COBUT. Владелец: Itamar Medical Spry 2021 LP. Дата публикации: 2024-09-19.

Recording medium, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US09990168B2. Автор: Aoi NAKAMURA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Information processing apparatus and image processing system

Номер патента: US09894320B2. Автор: Masato Takahashi,Koji Kuwata,Hiroaki Uchiyama,Tomoyuki Goto,Kiyoto Igarashi,Nobumasa GINGAWA,Kazuki Kitazawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Information processing apparatus, information processing method and computer program product

Номер патента: US09798804B2. Автор: Kouji Ueno,Hirokazu Suzuki,Tomoo Ikeda,Osamu Nishiyama,Nobuhiro Shimogori,Manabu Nagao. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US09761031B2. Автор: Minako Kato,Hiroyuki Sakai,Naoki Sumi,Kiyoshi Umeda,Yusuke Hashii,Hiroyasu Kunieda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Image processing apparatus for monochrome conversion and image forming apparatus including the same

Номер патента: US09723175B2. Автор: Mitsuaki Ishitoya. Владелец: Riso Kagaku Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Electronic sphygmomanometer and method of controlling blood pressure measurement

Номер патента: RU2506043C2. Автор: Йоко СИМОСЕ,Синго ЯМАСИТА. Владелец: Омрон Хэлткэа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-02-10.

Sphygmomanometer, blood pressure measurement method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220240795A1. Автор: Yukiya Sawanoi,Shingo Yamashita,Mika Ezoe. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2022-08-04.

Information processing apparatus, information processing system, and information display method

Номер патента: US09509731B2. Автор: Hiroya Kumashio. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Blood pressure measurement apparatus, method, and program

Номер патента: US20190387979A1. Автор: Hirotaka Wada,Ayako Kokubo,Yousuke Inai. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Blood pressure measuring device having adaptive cuff deflation rate

Номер патента: US4625277A. Автор: Christopher Pearce,Michel A. Lynch,Richard K. Davis. Владелец: Physio Control Inc. Дата публикации: 1986-11-25.

Blood pressure monitor, blood pressure measurement apparatus and blood pressure measurement method

Номер патента: US11925443B2. Автор: Kazuyoshi Nishikawa,Shuhei OJIRO. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Sphygmomanometer, blood pressure measurement method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220233083A1. Автор: Yukiya Sawanoi,Shingo Yamashita,Mika Ezoe. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2022-07-28.

Blood pressure measurement module, strap assembly, and wearable device

Номер патента: EP4252634A1. Автор: Shun Zhou. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2023-10-04.

Microwave apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment

Номер патента: US6045618A. Автор: Tsutomu Tanaka,David Cheung,Hari Ponnekanti,Kevin Fairbairn,Sebastien Raoux,Mukul Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate stage and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240167162A1. Автор: Yihwan Kim,Minsung Kim,Byeongsang KIM,Sangchul Han,Sangyeon OH,Jihyeong LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Exhaust gas processing apparatus having plasma source and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240249925A1. Автор: Jaehyun Kim,Suji Gim,Young Heo,Sunwoo YOOK,Kookjin Ann,Taijong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09895711B2. Автор: Jian Zhang,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234171A1. Автор: Mi So PARK,Do Hyeon YOON,Eun Seok Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240242978A1. Автор: Yuichi Tanaka,Manabu Yamanaka,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki,Katsuhiro Ookawa,Tomotaka OMAGARI,Takuya ITAHASHI,Keiichi Yahata,Shuji OIE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Method for manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09856560B2. Автор: Jie Wang,Kenji Kameda,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09349587B2. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Kiyohiko Maeda,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210193494A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240274462A1. Автор: Makoto Fujiwara,Daisuke Ikemoto,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096866A1. Автор: Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Shared exhaust unit and substrate processing apparatus including shared exhaust unit

Номер патента: US20240258085A1. Автор: Koei Aida. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Pressure-measuring foot board, and exercise apparatus comprising same for correcting state of imbalance of body

Номер патента: EP3892195A2. Автор: Sung Ho Lee,Sang Jin Park,Hui Sung Lee,Kwan Myung Kim,Won Do Jeong,Byoung Hern KIM. Владелец: Moon Yang Gyu. Дата публикации: 2021-10-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Blood pressure measurement apparatus, method of controlling blood pressure measurement apparatus, and program

Номер патента: US11324454B2. Автор: Hirotaka Wada,Masaaki Kasai,Eriko Kan,Keiichi Obayashi,Ayako Kokubo. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2022-05-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09583360B2. Автор: Akio Ui,Hisataka Hayashi,Keisuke Kikutani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09773686B2. Автор: Hideaki Tanaka. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09666464B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Naoto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090014126A1. Автор: Yasufumi Koyama,Masami Ohtani. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-15.

Gas distribution apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US10557198B2. Автор: Sang Yub Ie,Dong Woo Kim,Dae Yong Kim,Sang Jin HYUN,Heon Bok LEE,Jun Ki PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-11.

Gas supply apparatus, gas supply method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12024776B2. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Height correction device, and height correction method and blood pressure measurement system using height correction device

Номер патента: US20190387978A1. Автор: Takahide Tanaka,Shingo Yamashita,Yumi Kitamura. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate heating apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230282496A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230295837A1. Автор: Takayuki Yamamoto,Akito Hirano,Naonori Akae,Kaichiro MINAMI,Yugo Orihashi,Yasuhiro Megawa,Sadayasu Suyama,Shunsuke Asakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09978617B2. Автор: Hideaki Tanaka. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09466512B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Gas supply apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: WO2024055142A1. Автор: HUI Wang,Shan ZHANG,Tom Kim,Jacob Lee,William BAEK,Sulan Xie,Hongcai Fei. Владелец: Cleanchip Technologies Limited. Дата публикации: 2024-03-21.

Insulation plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20220172947A1. Автор: Soo Woong Kim,Dong Mok Lee,Jin II Sung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate cleaning apparatus, substrate drying apparatus, substrate transport apparatus, substrate placing apparatus, substrate processing apparatus, charge amount control method, and charge amount control program

Номер патента: US20240145276A1. Автор: Yosuke Himori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Sputtering apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09997339B2. Автор: Eiji Nakamura,Shin Imai,Yasushi Yasumatsu,Hiroyuki Toya,Shigenori Ishihara,Shintaro Suda,Yuu Fujimoto,Toshikazu Nakazawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Chamber insulation plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230411126A1. Автор: Dongmok LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US20180190485A1. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US20200303182A1. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US10707071B2. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Processing device, processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: EP4417356A1. Автор: Masami Kurata,Hiroshi Yamaoka,Yoshikazu Ohtani,Taketo Usami. Владелец: Shin Etsu Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Device for multi-level pulsing, substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US12087547B2. Автор: Hyun Jin Kim,Ja Myung GU,Jung Mo GU,Goon Ho PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US12009187B2. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-11.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Wearable Blood Pressure Measurement Apparatus and Blood Pressure Measurement Method

Номер патента: US20220110531A1. Автор: Zhenlong Huang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230395407A1. Автор: Tomofumi EMURA,Tomotaka OMAGARI,Tomoo HAYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Machining method for pressure measurement hole of unviewable interlayer cooling structure brazed member

Номер патента: EP4397434A1. Автор: Xiaoming Wu,Wenbo Zhang,Bo Lu,Xiaohu HE,Weizhen QIU,Qinlian ZHANG,Changhui AI,Guozeng LIU. Владелец: Xi'an Space Engine Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Showerhead, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240331981A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09761456B2. Автор: KIMIHIKO Nakatani,Kazuhiro Harada,Masahito Kitamura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-12.

Systems and methods for evaluating ventricular dyssynchrony using atrial and ventricular pressure measurements obtained by an implantable medical device

Номер патента: US09414754B1. Автор: Anne M. Shelchuk. Владелец: Pacesetter Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230245864A1. Автор: Hakyoung Kim,Chulwoo PARK,Dowon Kim,Youngjin Noh,Jisoo Im,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4421850A1. Автор: Takayoshi Tanaka,Tomoya Tanaka,Masayuki Otsuji,Akihisa Iwasaki,Ryuta Tsukahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20170207106A1. Автор: HAIYANG Xu,Mitsuru Miyazaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-07-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Catheter with combined device for position determination and pressure measurement

Номер патента: RU2648871C2. Автор: Мейр БАР-ТАЛ,Джеффри Л. КЛАРК,Джордж КАМИН,Марк Стэнли,Аврам МОНТАГ. Владелец: Байосенс Вебстер (Изрэйл) Лтд.. Дата публикации: 2018-03-28.

Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20210159112A1. Автор: Sangwook Park,Seungwon SHIN,Keonwoo KIM,Byeongsang KIM,Eungsu Kim,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Hyanjung LEE,Wooram KIM,Geunsik Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-27.

Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11984344B2. Автор: Sangwook Park,Seungwon SHIN,Keonwoo KIM,Byeongsang KIM,Eungsu Kim,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Hyanjung LEE,Wooram KIM,Geunsik Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Substrate holding/rotating device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20180277417A1. Автор: Hiroaki Ishii,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Heating unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230197474A1. Автор: Hye Ji KIM,Dong Min CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312765A1. Автор: Kyung Min Lee,Sung-Yeol Kim,Sang Yeol Park,Myung Jae Yoo,Sung Yong Lim,Yong Won CHO,Min Ju Jeong,Eun Suk LIM. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Blood pressure measuring device

Номер патента: US20240350023A1. Автор: Lei Zhang,Changming Li,Shiqiang LU,Menglong Zhao,Wenjian Yang,Junye Jin. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Blood pressure measurement apparatus and method

Номер патента: US20240315576A1. Автор: Xiaoyu Fu,Zhenlong Huang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Conveying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09899245B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Eiki Fujii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Method for direct intraoperative measurement of the pressure gradient between the left cardiac ventricle and the aorta

Номер патента: RU2762165C1. Автор: Борис Николаевич Козлов,Константин Александрович Петлин,Екатерина Алексеевна Косовских. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Томский национальный исследовательский медицинский центр Российской академии наук" (Томский НИМЦ). Дата публикации: 2021-12-16.

Blood pressure measuring electronic device

Номер патента: RU2355296C2. Автор: Синобу ОЗАКИ,Сигенобу ТОДА,Тосихару АИБА. Владелец: Эй энд Ди Компани, Лтд.. Дата публикации: 2009-05-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240006166A1. Автор: Minyoung Kim,Hanglim Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Upper electrode and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20220051877A1. Автор: Jungmin Ko,SeungBo SHIM,Sangki NAM,Byungjo KIM,Kwonsang SEO,Younghyun JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-02-17.

Upper electrode and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11869751B2. Автор: Jungmin Ko,SeungBo SHIM,Sangki NAM,Byungjo KIM,Kwonsang SEO,Younghyun JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230260807A1. Автор: Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100573A1. Автор: Manabu Yamamoto,Takashi Izuta,Mitsutoshi Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190244835A1. Автор: Nobuaki Okita,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate holding apparatus

Номер патента: US20190318954A1. Автор: Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307277A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Jun SAWASHIMA,Akihisa ENSATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Discharging device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240226920A9. Автор: Jong Han Kim,Ji Ho Kim,Ho Kyung KANG,Jin Uk SONG,Rae Taek OH,Kwang Sung SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Wearable blood pressure measuring device and blood pressure measuring method

Номер патента: EP3960076A1. Автор: Zhenlong Huang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-02.

Substrate supporting member, substrate treating apparatus including the same and substrate treating method thereof

Номер патента: US12040216B2. Автор: Kang Suk Lee,Hyeon Jun Lee,Yong Hoon HONG,So Young Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240282617A1. Автор: Kimio Motoda,Norio Wada,Shintaro SUGIHARA,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Blood pressure measurement method, and electronic device and medium thereof

Номер патента: EP4431012A1. Автор: ZHENG Jia,Jie Zhou,Yan Zeng,Hongbao LI,Jiabing YAN,Jiahui PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966252B2. Автор: Yoshiro Hirose,Yosuke Ota,Naonori Akae,Ryota Sasajima,Kojiro Yokozawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966251B2. Автор: Yoshiro Hirose,Yosuke Ota,Naonori Akae,Ryota Sasajima,Kojiro Yokozawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240371661A1. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09595433B2. Автор: Hiroaki Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Cuff device for blood pressure measuring and device for blood pressure measuring

Номер патента: RU2325106C2. Автор: Хироси КИСИМОТО,Йосихико САНО,Хиромити КАРО,Йосинори ЦУРУМИ. Владелец: Омрон Хэлткэа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2008-05-27.

Method for intraocular pressure measurement and device for its implementation

Номер патента: RU2689733C1. Автор: Олег Леонидович Головков. Владелец: Олег Леонидович Головков. Дата публикации: 2019-05-28.

Method for detecting asymmetry of peripheral systolic blood pressure measurements using single-cuff volume sphygmograph

Номер патента: RU2747035C1. Автор: Анатолий Николаевич Рогоза,Алсу Рафхатовна Заирова,Григорий Иосифович Хеймец. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр кардиологии" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "НМИЦ кардиологии" Минздрава России). Дата публикации: 2021-04-23.

Device for pressure measurement and drug introduction into blood vessel aneurism

Номер патента: RU2557418C1. Автор: Заза Александрович Кавтеладзе. Владелец: Заза Александрович Кавтеладзе. Дата публикации: 2015-07-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240071794A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240017375A1. Автор: Takeshi Tamura,Tomohiro Kaneko,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240068109A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230402303A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Tsunenaga Nakashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240149312A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Method for determining amount of wear of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240212979A1. Автор: Atsushi TERASAWA,Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200246723A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Blood pressure measurement apparatus

Номер патента: US20190090758A1. Автор: Kazumasa Ito,Yoshinori Ueda,Takashi Usuda. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Method and arrangement for blood pressure measurement

Номер патента: EP1011434A1. Автор: Seppo NISSILÄ,Mika Sorvisto,Antti Ruha,Mika NIEMIMÄKI,Hannu Sorvoja. Владелец: POLAR ELECTRO OY. Дата публикации: 2000-06-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Centering Device, Centering Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240258148A1. Автор: Itsuki Kajino,Shuhei NEMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Venous pressure measurement apparatus

Номер патента: US12064220B2. Автор: Naoki Kobayashi,Haruka Morimoto. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Cuff of blood pressure measuring device, and blood pressure measuring device provided with such cuff

Номер патента: RU2505265C2. Автор: Йосихиде ОНИСИ,Йосихико САНО,Тисато УЕСАКА,Такахиде ТАНАКА,Хироясу АРИГА. Владелец: Омрон Хэлткэа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-01-27.

Reflector for generating a neutral beam and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20060219887A1. Автор: Sung-Wook Hwang,Chul-Ho Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220415680A1. Автор: Kuntack Lee,Hae-Won Choi,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jaeseong LEE,Kihoon Choi,Sangjine Park,Seohyun Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140290701A1. Автор: Yusuke Hashimoto,Shuichi Nagamine. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230056038A1. Автор: Naruaki Iida,Kousei Ide,Kazuya Matsushita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190096711A1. Автор: Yoshinori Nishiwaki,Hideaki Sato,Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano,Takahiko Otsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Reflector for generating a neutral beam and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US7446325B2. Автор: Sung-Wook Hwang,Chul-Ho Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-11-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230349036A1. Автор: Naoki Takahashi,Masato Shinada,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240173752A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190308276A1. Автор: Jaebum PAHK,Jeongho YI,Dokyun KWON,Kyongho HONG,Toshinaru Suzuki,Jinwon BAEK,Jinpyung LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-10.

Gas spraying apparatus for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190157038A1. Автор: Sung Bae KIM,Cheong SON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240186155A1. Автор: Woo Ram Lee,Young Jun SON,Ki Sang EUM,Dong Woon Park,Jin Ho Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate lift mechanism and substrate processing apparatus including same

Номер патента: US20220415701A1. Автор: Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus and substrate transfer position adjustment method

Номер патента: US20220310369A1. Автор: Hidehiko Sato,Hiroshi Nagahata,Joji TAKAYOSHI,Yuri Kimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240203701A1. Автор: Sunggil Kang,Yeongkwang Lee,Jeongmin BANG,Chanyeong JEONG,Soonku Kwon,Ilgon Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240194496A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Blood pressure measurement system

Номер патента: EP1272103A2. Автор: Charles Bluth,James Bluth. Владелец: Computerized Screening Inc. Дата публикации: 2003-01-08.

Blood pressure measurement system

Номер патента: WO2001078592A2. Автор: Charles Bluth,James Bluth. Владелец: Computerized Screening, Inc.. Дата публикации: 2001-10-25.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Blood pressure measurement system

Номер патента: WO2001078592A3. Автор: Charles Bluth,James Bluth. Владелец: Computerized Screening Inc. Дата публикации: 2002-06-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Blood Pressure Measurement Device and Blood Pressure Measurement Method

Номер патента: US20200037889A1. Автор: I-Chih Huang,Jui-Yang Huang. Владелец: Avita Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US20150332947A1. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2015-11-19.

Blood pressure measurement system

Номер патента: WO2001078592B1. Автор: Charles Bluth,James Bluth. Владелец: Computerized Screening Inc. Дата публикации: 2002-08-01.

Blood pressure measurement apparatus

Номер патента: US20100069764A1. Автор: Hee-Jung Kang. Владелец: Daeyomedi Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Blood Pressure Measurement Device and Blood Pressure Measurement Method

Номер патента: US20220117497A1. Автор: I-Chih Huang,Jui-Yang Huang. Владелец: Avita Corp. Дата публикации: 2022-04-21.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Blood pressure measurement method, electronic device, and medium

Номер патента: US20240335126A1. Автор: ZHENG Jia,Jie Zhou,Yan Zeng,Hongbao LI,Jiabing YAN,Jiahui PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Method and device for inflating a cuff of a non-invasive blood pressure measurement apparatus

Номер патента: US09833153B2. Автор: Sufang Ma. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-12-05.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20100183807A1. Автор: Dong-Hun Kim. Владелец: Kim Dong-Hun. Дата публикации: 2010-07-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220157567A1. Автор: Takashi Aramaki,Hiroshi Tsujimoto,Lifu Li,Junya Kuramoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240136157A1. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021412A1. Автор: Jae Hoo Lee,Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Seong Pyo Ahn,Hyun Min Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230422348A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Shingo Hishiya,Nobuyuki Hirota,Yasuaki Kikuchi,SungDuk SON,Miki OUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11856655B2. Автор: Atsushi Tanaka,Yoshiaki Sasaki,Hirofumi Yamaguchi,Yuichi Nishimori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11801537B2. Автор: Takahito NAKASHOYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915944B2. Автор: Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240033766A1. Автор: Akira Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210305053A1. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11450530B2. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-20.

Gate valve, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240068090A1. Автор: Yukio Ohizumi,Yoshifumi HOSHINO,Kaito SUZUKI. Владелец: Kitz SCT Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230065374A1. Автор: Junya Minamida,Jun Tamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11998954B2. Автор: Junya Minamida,Jun Tamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240096650A1. Автор: Masami Yamashita,Shogo Fukui,Tomofumi EMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240173738A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210366740A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US20220139734A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170287760A1. Автор: Masahiro Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230366100A1. Автор: Min Jung Kim,Jun Kil HWANG,Seong Soo Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical liquid supply module and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240198371A1. Автор: Jaewon Kim,Dogyeong Ha. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US20150332946A1. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2015-11-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method

Номер патента: US20220396882A1. Автор: Satoshi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Deoxygenation apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190046900A1. Автор: Kenji Kobayashi,Noriyuki Kikumoto,Mitsutoshi Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Blood-pressure-measuring device and blood-pressure-measuring system

Номер патента: US20240268766A1. Автор: Yasuhiro Kawabata,Kenji Fujii,Naomi Matsumura,Takahide Tanaka,Yuki Sakaguchi,Akito Ito. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Blood pressure measurement device wearable by a patient

Номер патента: WO2018190942A1. Автор: Alexander H. Siemons,Blake W. Axelrod. Владелец: EDWARDS LIFESCIENCES CORPORATION. Дата публикации: 2018-10-18.

Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Insulating film forming method and substrate processing system

Номер патента: US20240321571A1. Автор: Nobuo Matsuki,Yoshinori Morisada,Daisuke Oba,Masafumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Monitoring of health conditions using a real-time and continuous blood pressure measuring system

Номер патента: US20240285177A1. Автор: Aditya Rajagopal,Alaina RAJAGOPAL. Владелец: Esperto Medical Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Blood pressure measuring device and electronic device

Номер патента: EP4393384A1. Автор: Lei Zhang,Zhao Zeng,Sulin Yang,Zhongwei Lin,Junye Jin. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Monitoring of health conditions using a real-time and continuous blood pressure measuring system

Номер патента: WO2024182452A1. Автор: Aditya Rajagopal,Alaina Brinley RAJAGOPAL. Владелец: Esperto Medical Inc.. Дата публикации: 2024-09-06.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Method and apparatus for pressure measurement

Номер патента: US09931044B2. Автор: Daniel R. BURNETT,Gregory W. HALL,Brian M. Neil,Byron Reynolds,Paul B. Guerra. Владелец: Potrero Medical Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Method and apparatus for hemodynamic monitoring using combined blood flow and blood pressure measurement

Номер патента: US09649037B2. Автор: Graham Desmond Lowe,Andrew Jones,Leonard Smith,Richard John Willshire,Ewan Alistair Phillips. Владелец: Deltex Medical Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and apparatus for pressure measurement

Номер патента: US09622670B2. Автор: Gregory W. HALL,Daniel Rogers Burnett,Brian M. Neil,Byron Reynolds,Paul B. Guerra. Владелец: Potrero Medical Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US09620405B2. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240379377A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Hideaki Yamasaki,Shinya Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Non-invasive blood pressure measurement system

Номер патента: US09408542B1. Автор: Eric Karl Kinast,Valery G. Telfort. Владелец: Masimo Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11180853B2. Автор: FONG-JIE Du,Yu Ishii,Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-11-23.

Blood pressure measuring device enabling high-precision measurement of blood pressure

Номер патента: RU2384292C1. Автор: Йосихико САНО,Акихиса ТАКАХАСИ,Синго ЯМАСИТА,Йосихико САНО (JP),Синго ЯМАСИТА (JP),Акихиса ТАКАХАСИ (JP). Владелец: Омрон Хэлткэа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2010-03-20.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US20210362285A1. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate holding apparatus, substrate holding method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US8141513B2. Автор: Kenichi Suzuki,Takahiro Ogawa,Masahiko Sekimoto,Seiji Katsuoka,Kenichi Kobayashi,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe,Yasuyuki Motoshima,Naoki Dai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2012-03-27.

Self-diagnostic blood pressure measuring apparatus

Номер патента: US6152880A. Автор: Koichi Okada. Владелец: Matsushita Electric Works Ltd. Дата публикации: 2000-11-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11935739B2. Автор: Akira Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915947B2. Автор: Koji Yamashita,Takumi Honda,Hironobu Hyakutake,Shinji Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11905603B2. Автор: Takashi Nakazawa,Isamu Miyamoto,Keigo Satake,Kenji Nakamizo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US20230260754A1. Автор: Yonggyu Han,DaeYoun Kim,KiChul Um,DooHan Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11955365B2. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11887871B2. Автор: Yuichi Tanaka,Yoshihiro Kai,Kazushige Sano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230033040A1. Автор: Hyunwoo Kim,Seok Heo,Chawon KOH,Hyunwoong HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961757B2. Автор: Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US11787006B2. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20170047233A1. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220208567A1. Автор: Mikio Nakashima,Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230408194A1. Автор: Haewon Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240035168A1. Автор: Hironobu Hyakutake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate mounting table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130342952A1. Автор: Tsutomu Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate transporter and substrate processing apparatus including substrate transporter

Номер патента: US20220005716A1. Автор: FONG-JIE Du,Takashi Mitsuya,Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi,Takashi Koba,Makoto Kashiwagi,Asagi Matsugu,Takahiro Nanjo,Kenichi Akazawa,Akihiro Yazawa,Hideharu Aoyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-01-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230256477A1. Автор: Toru Endo,Yuta Segawa,Jun SAWASHIMA,Rikuta Aoki,Yuta YAMANOUCHI,Tsung Ju LIN. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus, substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20200006092A1. Автор: Yoshinori Ikeda,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230302502A1. Автор: Jiyeon Lee,Seyoon KIM,Cheolmin SHIN,Jongha Yun,Juhui PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240136205A1. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240178046A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11923209B2. Автор: Hyunwoo Kim,Seok Heo,Chawon KOH,Hyunwoong HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230170230A1. Автор: Shinichi Shudo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178024A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, processing gas concentrating apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20220372623A1. Автор: Muneo Harada,Tsuneyuki Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240194502A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Blood Pressure measuring apparatus

Номер патента: US20020188208A1. Автор: Tomohiro Nunome. Владелец: Colin Corp. Дата публикации: 2002-12-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Sheet feeding apparatus, and document feeding apparatus and image processing apparatus including the same

Номер патента: US7819400B2. Автор: Hidetoshi Atsumi,Junko Yabuta,Fuminori Miyoshii. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2010-10-26.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Obtaining blood pressure measurements

Номер патента: US20240225459A1. Автор: Teodora Sandra Buda,Myriam Amsallem,Rashmee Shah,Kevin Kai-feng Chiou. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Obtaining blood pressure measurements

Номер патента: EP4400038A1. Автор: Teodora Sandra Buda,Myriam Amsallem,Rashmee Shah,Kevin Kai-feng Chiou. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-17.

Diesel exhaust fluid pressure measuring and control systems and methods

Номер патента: US20190242284A1. Автор: Perry Paielli. Владелец: Tenneco Automotive Operating Co Inc. Дата публикации: 2019-08-08.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Transport apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US12046500B2. Автор: Hao Yu,Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Blood pressure measurement using device with piezoelectric sensor

Номер патента: US11744476B2. Автор: Siddharth Nangia,Makiko K. Brzezinski,Wegene H. Tadele,Riley E. Brandt. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Oral pressure measurement device

Номер патента: US20230277078A1. Автор: Toru Yabe,Koji Tanaka,Jun Takagi,Keisuke DANNO. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Blood pressure measuring device and blood pressure measuring method using the same

Номер патента: US20180070887A1. Автор: Kwangjin Lee,Jongin Kim,Boreom LEE,Dongrae CHO. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2018-03-15.

Gate valve and substrate-treating apparatus including the same

Номер патента: US20070044720A1. Автор: Klaus Hügler. Владелец: ASYS Automatic Systems GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-03-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Gas baffle and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240318313A1. Автор: Dae-geun YOON. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Inner Wall and substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240321602A1. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting abnormality in transport container

Номер патента: US09773690B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Suguru Enokida,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Blood pressure measurement device

Номер патента: US09642541B2. Автор: Yukiya Sawanoi. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09472441B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482429B2. Автор: Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: CA1044917A. Автор: Dennis E. Bahr,Jeffrey C. Petzke. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 1978-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11667008B2. Автор: Hokuto YAMANOBE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-06.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: EP4353148A1. Автор: Lei Zhang,Changming Li,Shiqiang LU,Menglong Zhao,Wenjian Yang,Junye Jin. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Chemical liquid supply unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240055276A1. Автор: Moon Sik Choi,Seong Soo Lee,Dong Hee Son. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230374647A1. Автор: Etsuro Kishi,Masumi Itabashi,Yasushi Kawasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11862474B2. Автор: Takashi Nakazawa,Taisei Inoue,Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11887869B2. Автор: Teruhiko Kodama,Yasushi Takiguchi,Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230416920A1. Автор: Yutaka Sasaki,Toru Ishii,Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Koji Yoshii,Naoshige Fushimi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307265A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tsubasa WATANABE,Naomi Yanai,Tatsuhiko Koide,Takaumi Morita. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11972958B2. Автор: Takumi Honda,Hiroyuki Masutomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180236510A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Eri Fujita,Ayumi Higuchi,Naoyuki Osada,Shota IWAHATA,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240051080A1. Автор: Nobuyuki Takada,Kohei Ota. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus including edge ring assembly and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230207281A1. Автор: Sungsoo Choi,Wonyoung JEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods for forming coating films and substrate processing apparatus including parts manufactured by such methods

Номер патента: US20240011146A1. Автор: Seungjun LEE,Nongmoon HWANG. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178031A1. Автор: Jaesung Lee,Sumi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240066561A1. Автор: Yuichiro Inatomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240175125A1. Автор: Sung Duk SON. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Pressure measurement device and injection molding machine

Номер патента: US20240123666A1. Автор: Takumi Sako. Владелец: Sodick Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Blood pressure measuring cuff and sphygmomanometer

Номер патента: US20190090761A1. Автор: Toshihiko Ogura,Yoshihiko SANO,Takeshi Kubo,Yukiya Sawanoi. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

A system and method for robustly and accurately obtaining a pore pressure measurement of a subsurface formation penetrated by a wellbore

Номер патента: WO2008078060A1. Автор: Marc Thiercelin,John Cook. Владелец: Prad Research And Development N.V.. Дата публикации: 2008-07-03.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: EP3600021A1. Автор: Yoshiharu Kikuchi. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2020-02-05.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: WO2018180787A1. Автор: Yoshiharu Kikuchi. Владелец: Nihon Kohden Corporation. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Pressure measurement device

Номер патента: US20220361792A1. Автор: Vikram SRIDHAR,Benjamin William Mounir Kirollos. Владелец: Heaviside Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Optical ankle-brachial index and blood pressure measurement system and method

Номер патента: US20210393153A1. Автор: Lloyd A. Marks. Владелец: Mgi LLC. Дата публикации: 2021-12-23.

Blood pressure measurement with haptic calibration

Номер патента: US20240298895A1. Автор: Mostafa Ghannad-Rezaie. Владелец: Whoop Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Pressure measurement device

Номер патента: EP4054418A1. Автор: Vikram SRIDHAR,Benjamin William Mounir Kirollos. Владелец: Heaviside Ltd. Дата публикации: 2022-09-14.

Pressure measurement device

Номер патента: WO2021090009A1. Автор: Vikram SRIDHAR,Benjamin William Mounir Kirollos. Владелец: Heaviside Ltd. Дата публикации: 2021-05-14.

Blood pressure measurement with haptic calibration

Номер патента: WO2024187186A1. Автор: Mostafa Ghannad-Rezaie. Владелец: Whoop, Inc.. Дата публикации: 2024-09-12.

Calibrated blood pressure measurement

Номер патента: WO2024187175A1. Автор: Behnoosh TAVAKOLI,Mostafa Ghannad-Rezaie,Kelly Danielle CHICKERING,Amy Lawson. Владелец: Whoop, Inc.. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method

Номер патента: US20240321600A1. Автор: Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Blood pressure measurement device

Номер патента: EP4417113A1. Автор: Dong Li,BO Yang,Zhi Guo,Nan Lu,Shiqiang LU,Menglong Zhao,Junye Jin. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Pressure-measuring glow plug device

Номер патента: US09874195B2. Автор: Janpeter Wolff,Wolfgang Koetzle. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2018-01-23.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate liquid processing apparatus, exhaust switching unit and substrate liquid processing method

Номер патента: US09842747B2. Автор: Junya Minamida,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Method of controlling gas supply apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09758867B2. Автор: Shigeru Nakajima,Hiromi Shima,Yusuke TACHINO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method

Номер патента: US09716020B2. Автор: Koji Tanaka,Yasuhiro Takaki,Shun Tominaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Blood pressure measurement device

Номер патента: US09706933B2. Автор: Yukiya Sawanoi,Shingo Yamashita,Mika Eto. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2017-07-18.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Blood pressure measurement method

Номер патента: US09649054B2. Автор: Massi Joe E. Kiani,Marcelo Lamego,Cristiano Dalvi,Hung Vo,Ken Lam. Владелец: Cercacor Laboratories Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Blood pressure measuring apparatus and blood pressure measuring method

Номер патента: US09622667B2. Автор: Hideaki Hirahara. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Information processing apparatus, relay method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US09509657B2. Автор: Naoya Inoue. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Blood pressure measurement device and control method for blood pressure measurement device

Номер патента: US09364156B2. Автор: Kenji Fujii,Yukiya Sawanoi,Naomi Matsumura,Reiji Fujita. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2016-06-14.

Blood pressure measuring system

Номер патента: RU2329759C2. Автор: Хироси КИСИМОТО,Такахиде ТАНАКА,Масаюки ФУКУЦУКА,Кендзи ЭДА,Есуке ФУДЗИИ,Хироси КИСИМОТО (JP),Такахиде ТАНАКА (JP),Масаюки ФУКУЦУКА (JP),Кендзи ЭДА (JP),Есуке ФУДЗИИ (JP). Владелец: Омрон Хэлткэа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2008-07-27.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: US5000187A. Автор: Minoru Niwa,Tomoe Higuchi. Владелец: Colin Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1991-03-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20020132480A1. Автор: Tadashi Iino,Naoki Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US10796891B2. Автор: Hyung Joon Kim,Seon Do Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-06.

Substrate process apparatus and substrate process method using the same

Номер патента: US20240021413A1. Автор: Jaehyun Park,Jingoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Showerhead assembly and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240042462A1. Автор: Kyung-Ho Jang,Byeong-Ho Yun,Min-Wook KANG. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11901197B2. Автор: Masataka GOSHO,Reijiro Yamanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method

Номер патента: US11929251B2. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200294797A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11850697B2. Автор: Osamu Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US20140020832A1. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-01-23.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US11257692B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11958087B2. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20200126823A1. Автор: Keisuke Sasaki,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama,Akihiro TERAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240162053A1. Автор: Masataka GOSHO,Reijiro Yamanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for removing impurities in thin film and substrate processing apparatus

Номер патента: US11972946B2. Автор: Kyu Jin Choi,Gyu Ho Choi,Sang Hyuk HWANG. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Remote plasma unit and substrate processing apparatus including remote plasma

Номер патента: US20230215697A1. Автор: Ping Ren. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Showerhead assembly and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240042463A1. Автор: Kyung-Ho Jang,Byeong-Ho Yun,Min-Wook KANG. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11911872B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Blood pressure measurement system and method of the same

Номер патента: US20240057879A1. Автор: Chul Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230030470A1. Автор: Ryo SHINOZAKI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240213049A1. Автор: Kibong Kim,Seunghoon OH,YoungHun LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US8575042B2. Автор: Atsushi Sano,Osamu Kasahara,Yoshiro Hirose,Yosuke Ota,Kiyohiko Maeda,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-11-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240216960A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate monitoring method

Номер патента: US20240186159A1. Автор: Jong-Seok Lee,Seung-Min Oh,In-Il JUNG. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A3. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-26.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A2. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2011-11-10.

Substrate transfer apparatus and substrate processing system

Номер патента: US12033878B2. Автор: Naoki Watanabe,Naoyuki Suzuki,Tetsuya Miyashita,Tatsuo Hatano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and non-transitory computer readable storage medium

Номер патента: US20140298422A1. Автор: Kouichi ODAJIMA. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and non-transitory computer readable storage medium

Номер патента: US9306919B2. Автор: Kouichi ODAJIMA. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Image processing apparatus, image processing method, and computer program product

Номер патента: US20090237736A1. Автор: Yoshifumi Sakuramata. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-24.

Sphygmomanometer, and method and device for blood pressure measurement

Номер патента: US20190290141A1. Автор: Yasuhiro Kawabata,Kentaro Mori,Naomi Matsumura. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2019-09-26.

Inline vacuum processing apparatus, method of controlling the same, and information recording medium manufacturing method

Номер патента: SG162699A1. Автор: Masahiro Kawata. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-29.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Blood pressure measurement with force sensing

Номер патента: US20240298904A1. Автор: Behnoosh TAVAKOLI,Mostafa Ghannad-Rezaie,Kelly Danielle CHICKERING,Amy Lawson. Владелец: Whoop Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Reconstruction of a patient-specific central arterial pressure waveform morphology from a distal non-invasive pressure measurement

Номер патента: AU2022440238A1. Автор: Kryspin Mirota,Izabela POPIEL. Владелец: Hemolens Diagnostic Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332047A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Image processing apparatus including first image processing section performing first image processing on image data to be supplied to image output apparatus and second image processing section performing second image processing on image data to be supplied to image display device, and image forming apparatus including the image processing apparatus

Номер патента: US09521281B2. Автор: Makio Gotoh. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing device equipped with semicircle shaped antenna

Номер патента: US09416451B2. Автор: Il Kwang Yang,Byung Gyu Song,Song Hwan Park,Sung Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Manufacturing method of semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US8071446B2. Автор: Tadashi Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11806767B2. Автор: Ho Jong Hwang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Semiconductor Device Manufacturing Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20150214045A1. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-07-30.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210242084A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200373179A1. Автор: Go Ayabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200227288A1. Автор: Yukifumi Yoshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Blood pressure measuring apparatus and non-transitory recording medium storing control program

Номер патента: US20220248964A1. Автор: Yukiko Mitsunami,Daisuke Ishihara,Motofumi Nakanishi,Miki Okugawa. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2022-08-11.

Blood pressure measuring apparatus, wrist watch type terminal having the same, and method of measuring blood pressure

Номер патента: US11344208B2. Автор: Takahiro Tokumiya,Yosuke Aoyagi,Takeshi Nagahiro. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200211864A1. Автор: Yasuhito Yoshimizu,Hakuba KITAGAWA,Takaumi Morita. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210098279A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Emi Matsui,Yoshikazu Ohtani,Kyouhei TOMIOKA,Shunya KUBOTA. Владелец: Shin Etsu Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Blood pressure measuring apparatus, wrist watch type terminal having the same, and method of measuring blood pressure

Номер патента: US20190038152A1. Автор: Takahiro Tokumiya,Yosuke Aoyagi,Takeshi Nagahiro. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20160293460A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Toshiyuki Kikuchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-06.

Airbag, blood pressure measurement apparatus, and blood pressure measurement method

Номер патента: US20230046240A1. Автор: Yunsheng KUANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Air bag, blood pressure measurement apparatus, and blood pressure measurement method

Номер патента: EP4066735A1. Автор: Yunsheng KUANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-05.

Wearable blood pressure measuring device

Номер патента: US20190133455A1. Автор: Chi-Feng Huang,Hao-Jan Mou,Yung-Lung Han,Wei-Ming Lee,Hsuan-Kai Chen,Ta-Wei Hsueh. Владелец: Microjet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Fluid bladder, blood pressure measurement cuff, blood pressure monitor, and blood pressure measurement method

Номер патента: US20180177414A1. Автор: Kenji Ono,Hiroshi Koshimizu,Ryosuke Doi,Yoshihide Tokko. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2018-06-28.

Information processing apparatus, information processing method, and computer-readable medium

Номер патента: US20230293111A1. Автор: Kazuya Niyagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-21.

Electronic pressure measuring and recording device

Номер патента: EP2670698A1. Автор: Engin MERGENCI,Recep IZCI,Kazim Burak DUMANCI. Владелец: Galipoglu Hidromas Hidrolik Otomotiv Sanayi Ve Tic. Дата публикации: 2013-12-11.

Cuffless Blood Pressure Measurement Apparatus and Method

Номер патента: US20240138687A1. Автор: Nikita Balashov,Vadym Danylevych. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-02.

Processing apparatus

Номер патента: US20230405663A1. Автор: Tomohiro Sato,Masato Isobe,Hironari Adachi,Akihiro TOKUYAMA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Image processing apparatus generating image of review question, control method therefor, and storage medium storing control program therefor

Номер патента: US11765301B2. Автор: Kyosuke Nakano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

System for facilitating measurement of a person's blood pressure and method of taking a blood pressure measurement using the system

Номер патента: US20150342474A1. Автор: John R. Collins,Jeffrey D. Flammer. Владелец: Stayhealthy Inc. Дата публикации: 2015-12-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150241125A1. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20130161187A1. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Blood pressure measurement apparatus and methods of use thereof

Номер патента: US20240306925A1. Автор: Aditya Rajagopal,Dominic YURK,Yaser Abu-Mostafa,Alaina Ann Brinley Rajagopal. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US10601922B2. Автор: Tatsuo Kumano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09988717B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Blood pressure measurement apparatus and control method for the same

Номер патента: US09895084B2. Автор: Toshihiko Ogura,Hironori Sato,Hiroyuki Kinoshita. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09892942B2. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2018-02-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Blood pressure measurement device, electronic device, and blood pressure measurement method

Номер патента: US09737218B2. Автор: Kazuhiro Nishida,Sumio Utsunomiya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Information processing apparatus and terminal device that communicate with each other

Номер патента: US09680885B2. Автор: Takuma Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Method of intraocular pressure measurement through eyelid (versions)

Номер патента: RU2642274C2. Автор: Олег Леонидович Головков,Константин Васильевич Иванищев. Владелец: Константин Васильевич Иванищев. Дата публикации: 2018-01-24.

Substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US6155275A. Автор: Kaoru Shinbara. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240116087A1. Автор: Kenji Kawaguchi,Toru Endo,Kota TANIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Blood pressure measuring apparatus and blood pressure measuring method

Номер патента: US11903684B2. Автор: Masashi Kawamoto,Noboru Saeki,Ryuji Nakamura,Teiji Ukawa,Tsuneo TAKAYANAGI,Haruka Morimoto. Владелец: Hiroshima University NUC. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11913115B2. Автор: Yoshitaka Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11883858B2. Автор: Kenji Kawaguchi,Toru Endo,Kota TANIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11823921B2. Автор: Shuichi Yasuda,Kazuhiro Fujita,Takahiro Yamaguchi,Noriyuki Kikumoto,Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: WO2018180783A1. Автор: Yoshiharu Kikuchi. Владелец: Nihon Kohden Corporation. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230008278A1. Автор: Takeshi Matsumoto,Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230323538A1. Автор: Yusuke Kikuchi,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Pulse wave generation apparatus and blood pressure calculation system including the same

Номер патента: US20240032806A1. Автор: Hyeon Jun Lee,Gyeong Ub MOON,Jong Yeop AN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

A system and method for thermometric normalisation of blood pressure measurements

Номер патента: EP4208084A1. Автор: Robert Allan Phillips. Владелец: Uscom Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

A System And Method For Thermometric Normalisation Of Blood Pressure Measurements

Номер патента: US20230301525A1. Автор: Robert Allan Phillips. Владелец: Uscom Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Blood pressure measuring apparatus

Номер патента: EP3600003A1. Автор: Yoshiharu Kikuchi. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2020-02-05.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240162054A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230392262A1. Автор: Tae-Kwang Kim. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200365417A1. Автор: Yoshiki Okamoto,Teruhiko Kodama,Akihiro Kubo,Yasushi Takiguchi,Hayato HOSAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240076777A1. Автор: Hitoshi Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Drive circuit for measuring blood pressure, and blood pressure measurement device

Номер патента: US20240081669A1. Автор: Takanori Nishioka,Shohei Iwata. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2024-03-14.

Intracranial pressure measurement artifact reduction method

Номер патента: US20020183650A1. Автор: Royce Johnson. Владелец: Kci Licensing Inc. Дата публикации: 2002-12-05.

Systems and methods for non-invasive blood pressure measurement

Номер патента: US20170311902A1. Автор: Ramkrishnan Narayanan,Elad FERBER,Derya Gol Gungor. Владелец: Spry Health Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Substrate processing apparatus including plurality of electrodes

Номер патента: US20230100582A1. Автор: Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Yunhwan Kim,Namkyun Kim,Youngjin Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Blood pressure measurement device

Номер патента: EP3643225A1. Автор: Ki Chul Cha. Владелец: InBody Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-29.

A blood pressure measuring apparatus

Номер патента: WO2001037727B1. Автор: Jozsef Beres,Miklos Illyes Jr. Владелец: Miklos Illyes Jr. Дата публикации: 2001-10-25.

Blood pressure measurement method and apparatus, and electronic device and storage medium

Номер патента: EP4179965A1. Автор: Kongqiao Wang. Владелец: Anhui Huami Health Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-17.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Apparatus and method for formation testing while drilling using combined absolute and differential pressure measurement

Номер патента: EP1334261A2. Автор: Per-Erik Berger,Volker Krueger,Matthias Meister. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2003-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Apparatus and method for formation testing while drilling using combined absolute and differential pressure measurement

Номер патента: WO2002037072A2. Автор: Per-Erik Berger,Volker Krueger,Matthias Meister. Владелец: BAKER HUGHES INCORPORATED. Дата публикации: 2002-05-10.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and recording medium

Номер патента: US20140248783A1. Автор: Kenji Kameda,Jun Sonobe,Yudai Tadaki. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2014-09-04.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Esophageal pressure measurement catheter

Номер патента: EP3930569A1. Автор: Rutger Christiaan FLINK,Laurens Bastiaan Josef HOGENBIRK,Teunis Hendrik SCHAART. Владелец: Pulmotech BV. Дата публикации: 2022-01-05.

Automatic blood-pressure measuring apparatus

Номер патента: US20020052555A1. Автор: Akihiro Yokozeki. Владелец: Colin Corp. Дата публикации: 2002-05-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240278437A1. Автор: Sang Woo Park,Ji Ho Uh,Hyun Soo CHUN,Hyeon Dong SONG,Jun Young MOON,Un Ki JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240207906A1. Автор: Young Joon Han,In Ki JUNG,Sang Gun LEE,Jeong Hyup YU,Se Min KANG,Ju Ha WOO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate process apparatus

Номер патента: WO2020252476A3. Автор: Alexander Krupyshev,Robert May,Daniel Babbs,Leigh SHARROCK. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12131918B2. Автор: Sang Min Lee,Seung Hoon Oh,Yong Joon Im,Hyo Won Yang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Systems and methods for non-invasive blood pressure measurement

Номер патента: US12121371B2. Автор: Ramkrishnan Narayanan,Elad FERBER,Derya Gol Gungor. Владелец: Itamar Medical Spry 2021 LP. Дата публикации: 2024-10-22.

Image processing apparatus and method

Номер патента: US09924177B2. Автор: Kazushi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09865451B2. Автор: Yoshiro Hirose,Takaaki Noda,Shingo Nohara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Blood pressure measuring cuff

Номер патента: US09770178B2. Автор: Teishi Oishi. Владелец: Nihon Kohden Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

BODY MODULE FOR AN OPTICAL MEASUREMENT INSTRUMENT

Номер патента: US20120001089A1. Автор: . Владелец: WALLAC OY. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL MEASUREMENT INSTRUMENT WITH DATA TRANSMISSION

Номер патента: US20120002960A1. Автор: . Владелец: WALLAC OY. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Electric Measuring Instruments.

Номер патента: GB190015001A. Автор: Arthur Honig. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-07-27.

Formwork pressure measurement device and monitoring system

Номер патента: WO2024182842A1. Автор: Penglei DAI. Владелец: IQM Systems Pty Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

BLOOD PRESSURE MEASUREMENT DEVICE

Номер патента: US20120004558A1. Автор: Uesaka Chisato,Kukita Tomohiro,Maruta Koji,Takeoka Kohei. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for identifying R waves in an ECG signal and an ECG measuring instrument as well as a magnetic resonance device

Номер патента: US20120004568A1. Автор: Rößler Jürgen. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Laser Beam Irradiation Apparatus and Substrate Sealing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20120000611A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRESSURE MEASURING DEVICE AND METHOD FOR ASCERTAINING PRESSURE VALUES

Номер патента: US20120000292A1. Автор: Loidreau Maxime,LEPIDIS Polichronis. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING PROGRAM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002010A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STAGE-UNDULATION CORRECTING METHOD, PROGRAM THEREFOR

Номер патента: US20120002032A1. Автор: Sakagami Junichi,Narusawa Ryu,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Image processing apparatus, computer program product, and preview image displaying method

Номер патента: US20120002231A1. Автор: MANO Hiroko,SAKAYORI Tetsuya,YANO Takashi,TAKAMI Junichi,SAEKI Iwao,SAKURAMATA Yoshifumi,NAGAHARA Takanori,SHIDA Haruo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM STORING IMAGE TRANSMISSION PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE NON TRANSITORY STORAGE MEDIUM STORING IMAGE DISPLAY PROGRAM

Номер патента: US20120002715A1. Автор: Matsui Kazuki,HORIO Kenichi,IMAI Tomoharu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF PROCESSING IMAGE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002879A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM

Номер патента: US20120002083A1. Автор: Machida Yoshihito. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY, DATA PROCESSING APPARATUS, AND MICROCOMPUTER APPLICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002498A1. Автор: MATSUBARA Ken,Setogawa Jun,IWASE Takashi,Matsushita Toru,Mitani Hidenori,Yamada Fumiko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Analog pressure-measuring instrument

Номер патента: RU2017163C1. Автор: Ю.В. Афанасьев,Е.Г. Горьков. Владелец: Энгельсское опытно-конструкторское бюро "Сигнал". Дата публикации: 1994-07-30.

Sound pressure measuring device

Номер патента: RU2384826C1. Автор: Акоп Айрапетович Казарян,Василий Васильевич Петроневич,Николай Андреевич Езеев. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2010-03-20.

Pressure measurement sensor

Номер патента: RU2384825C1. Автор: Акоп Айрапетович Казарян,Василий Васильевич Петроневич,Николай Андреевич Езеев. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2010-03-20.

Method of blood pressure measurement

Номер патента: RU2410016C1. Автор: Игорь Николаевич Синицын,Робиндар Николаевич Каратаев,Алексей Игорьевич Сойко,Александр Витальевич Овчинников. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева. Дата публикации: 2011-01-27.

Drilling pressure measurement method

Номер патента: RU2271447C2. Автор: Василий Прокопьевич Чупров,Альберт Амирзянович Шакиров,Альберт Амирз нович Шакиров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственная фирма "ВНИИГИС-Забойные телеметрические системы" (ООО НПФ "ВНИИГИС-ЗТС"). Дата публикации: 2006-03-10.

Pressure measuring device

Номер патента: RU2396528C1. Автор: Владимир Андреевич Коровин,Константин Владимирович Коровин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Резонанс". Дата публикации: 2010-08-10.

ARRANGEMENT AND A METHOD FOR CONTROLLING A MEASUREMENT HEAD OF AN OPTICAL MEASUREMENT INSTRUMENT

Номер патента: US20120002190A1. Автор: Ojala Markku,Laitinen Jyrki,Isaksson Christer,Sarmaala Jarkko. Владелец: WALLAC OY. Дата публикации: 2012-01-05.

Pressure measuring device

Номер патента: RU2316743C2. Автор: Альберт Яковлевич Юровский,Олег Вадимович Клитеник,Виктор Егорович Лучко,Евгений Михайлович Сычугов,Виктор Егорович Лучко (RU),Альберт Яковлевич Юровский (RU),Евгений Михайлович Сычугов (RU),Олег Вадимович Клитеник (RU). Владелец: Закрытое Акционерное Общество Научно-Производственный Комплекс "Вип". Дата публикации: 2008-02-10.

Pressure measuring device

Номер патента: RU2084847C1. Автор: А.А. Казарян. Владелец: Центральный аэрогидродинамический институт им.проф.Н.Е.Жуковского. Дата публикации: 1997-07-20.

Method of pressure measurement

Номер патента: RU2426079C1. Автор: Акоп Айрапетович Казарян,Виктор Владимирович Подлубный,Виктор Владимирович Подлубный (RU),Акоп Айрапетович Казарян (RU). Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2011-08-10.

Method of pressure measurement

Номер патента: RU2036447C1. Автор: Эдвард Вигенович Геворкян,Сергей Вениаминович Пасечник,Вячеслав Алексеевич Баландин. Владелец: Вячеслав Алексеевич Баландин. Дата публикации: 1995-05-27.

Pressure measuring device

Номер патента: RU2586388C1. Автор: Александр Сергеевич Совлуков. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова РАН. Дата публикации: 2016-06-10.

Fibre-optic device of pressure measurement

Номер патента: RU2509994C1. Автор: Владимир Иванович Пустовой,Игорь Геннадьевич Лихачев. Владелец: Научная организация "Центр лазерной технологии и материаловедения" (Автономная некоммерческая организация). Дата публикации: 2014-03-20.

Device with complexed carriers of even angular scales of different discrecity for calibration of angle-setting and angle-measuring instruments

Номер патента: RU2489682C1. Автор: Валерий Анатольевич Грановский,Михаил Дмитриевич Кудрявцев. Владелец: Открытое акционерное общество "Концерн "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор". Дата публикации: 2013-08-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.