Photosensitive resin composition, process of forming patterns with the same, and electronic components
Номер патента: KR100805134B1
Опубликовано: 21-02-2008
Автор(ы): 나고야도모히로, 마쯔우라히데까즈, 시미즈다께히로
Принадлежит: 히다찌 가세이 고오교 가부시끼가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-02-2008
Автор(ы): 나고야도모히로, 마쯔우라히데까즈, 시미즈다께히로
Принадлежит: 히다찌 가세이 고오교 가부시끼가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
High-Molecular Compounds for Photoresists, Monomeric Compounds, Photosensitive Resin Compositions, Method for Forming Patterns with the Compositions, and Process for Production of Electronic Components
Номер патента: KR100518702B1. Автор: 나오미 시다,도루 우시로고우찌,다꾸야 나이또. Владелец: 가부시끼가이샤 도시바. Дата публикации: 2005-10-05.