Method of and apparatus for producing exposure mask
Номер патента: TW389937B
Опубликовано: 11-05-2000
Автор(ы): Isao Ashida
Принадлежит: Sony Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-05-2000
Автор(ы): Isao Ashida
Принадлежит: Sony Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photomask using separated exposure technique, method of fabricating photomask, and apparatus for fabricating photomask by using the method
Номер патента: US20070231715A1. Автор: Sung-Ho Park,Byung-gook Kim,Seong-Woon Choi,Hee-Bom Kim,Hak-Seung Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-10-04.