Dipole-first approach to fabricate a top-tier device of a complementary field effect transistor (cfet)
Номер патента: US20240258315A1
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Cheng-Ming Lin, Szuya Liao, Wei-Yen Woon
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Cheng-Ming Lin, Szuya Liao, Wei-Yen Woon
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of forming epitaxial structures in fin-like field effect transistors
Номер патента: US12068204B2. Автор: Yen-Ming Chen,Feng-Cheng Yang,Wei-Yang Lee,Feng-Ching Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.