Verfahren zum Auffüllen von Vertiefungen in einer Oberfläche einer Halbleiterstruktur
Номер патента: EP1128420A3
Опубликовано: 07-06-2006
Автор(ы): Markus Dr. Kirchhoff
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-06-2006
Автор(ы): Markus Dr. Kirchhoff
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Verfahren zum Auffüllen von Vertiefungen in einer Oberfläche einer Halbleiterstruktur
Номер патента: EP1128420A2. Автор: Markus Dr. Kirchhoff. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2001-08-29.