深uv用光致抗蚀剂组合物及其方法
Номер патента: CN101061434A
Опубликовано: 24-10-2007
Автор(ы): A·R·罗马诺, D·M·拉曼, F·M·胡里汉, M·帕德马纳班, R·R·达米尔
Принадлежит: AZ Electronic Materials USA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-10-2007
Автор(ы): A·R·罗马诺, D·M·拉曼, F·M·胡里汉, M·帕德马纳班, R·R·达米尔
Принадлежит: AZ Electronic Materials USA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photoresist composition for deep UV and process thereof
Номер патента: US7537879B2. Автор: M. Dalil Rahman,Munirathna Padmanaban,Ralph R. Dammel,Andrew R. Romano,Francis M. Houlihan. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2009-05-26.