Surface treatment method for imparting alcohol repellency to semiconductor substrate
Номер патента: EP3633711A4
Опубликовано: 27-05-2020
Автор(ы): Kenji Shimada, Priangga Perdana Putra
Принадлежит: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-05-2020
Автор(ы): Kenji Shimada, Priangga Perdana Putra
Принадлежит: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Surface treatment method for imparting alcohol repellency to semiconductor substrate
Номер патента: EP3633711A1. Автор: Kenji Shimada,Priangga Perdana Putra. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-04-08.