Single wafer dryer and drying methods
Номер патента: KR100939596B1
Опубликовано: 01-02-2010
Автор(ы): 가이 시라지, 라시드 마브리브, 마이클 슈가맨, 보리스 티. 고브즈맨, 보리스 피시킨, 시지안 리, 알렉산더 러너, 유네스 아치키레, 지안셰 탕, 하오콴 팡
Принадлежит: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Опубликовано: 01-02-2010
Автор(ы): 가이 시라지, 라시드 마브리브, 마이클 슈가맨, 보리스 티. 고브즈맨, 보리스 피시킨, 시지안 리, 알렉산더 러너, 유네스 아치키레, 지안셰 탕, 하오콴 팡
Принадлежит: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Single wafer type wafer drying apparatus and drying method
Номер патента: JP2005534162A. Автор: アカイア,ヤンズ,ラーナー,アレキサンダー,ゴヴズマン,ボリス,ティー.,フィッシュキン,ボリス,シュガーマン,マイケル,マヴレイヴ,ラシッド,ファン,ハオクァン,リー,シジャン,シラジ,ガイ,タン,ジアンシェ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-11-10.