極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法
Номер патента: JP2010080940A
Опубликовано: 08-04-2010
Автор(ы): Akira Endo, Akira Sumiya, Hiroshi Komori, Tatsuya Yanagida, Tsukasa Hori, Yoshifumi Ueno, 司 堀, 彰 遠藤, 明 住谷, 浩 小森, 能史 植野, 達哉 柳田
Принадлежит: GIGAPHOTON INC, KOMATSU LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-04-2010
Автор(ы): Akira Endo, Akira Sumiya, Hiroshi Komori, Tatsuya Yanagida, Tsukasa Hori, Yoshifumi Ueno, 司 堀, 彰 遠藤, 明 住谷, 浩 小森, 能史 植野, 達哉 柳田
Принадлежит: GIGAPHOTON INC, KOMATSU LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
High brightness lpp euv light source with fast rotating target and method of cooling thereof
Номер патента: US20240121878A1. Автор: Denis Alexandrovich Glushkov,Konstantin Nikolaevich Koshelev,Vladimir Mikhailovich KRIVTSUN,Aleksandr Andreevich LASH,Aleksandr Yurievich Vinokhodov,Vladimir Vitalievich Ivanov,Mikhail Sergeyevich Krivokorytov,Vyacheslav Valerievich Medvedev,Yury Viktorovich Sidelnikov,Oleg Feliksovich Yakushev,Samir Ellwi,Oleg Borisovich Khristoforov. Владелец: Isteq Group Holding BV. Дата публикации: 2024-04-11.