Radiation curable compositions for coating and imaging processes and method of use
Номер патента: US4120721A
Опубликовано: 17-10-1978
Автор(ы): Arthur Donald Ketley, Michael Wen-Chien Yang, Paul Richard Hein
Принадлежит: WR Grace and Co
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-10-1978
Автор(ы): Arthur Donald Ketley, Michael Wen-Chien Yang, Paul Richard Hein
Принадлежит: WR Grace and Co
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Compound containing phenolic hydroxy group, photosensitive composition, composition for resists, resist coating film, curable composition, composition for resist underlayer films, and resist underlayer film
Номер патента: US09828457B2. Автор: Yusuke Sato,Tomoyuki Imada,Seiji Kimoto. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-11-28.