CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, MAKING METHOD, PATTERN FORMING PROCESS, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART PROTECTING FILM.

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, MAKING METHOD, PATTERN FORMING PROCESS, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART PROTECTING FILM

Номер патента: US20130149645A1
Опубликовано: 13-06-2013
Автор(ы): Miyazaki Takashi, Takemura Katsuya, Urano Hiroyuki
Принадлежит: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, MAKING METHOD, PATTERNING PROCESS, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART-PROTECTING FILM

Номер патента: US20160097974A1. Автор: Takemura Katsuya,SOGA Kyoko,ASAI Satoshi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-04-07.

Chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film, making method, patterning process, and electric/electronic part-protecting film

Номер патента: KR102367254B1. Автор: 사토시 아사이,교코 소가,가쓰야 다케무라. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-02-23.

Chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film, making method, patterning process, and electric/electronic part-protecting film

Номер патента: CN105487337A. Автор: 浅井聪,曾我恭子,竹村胜也. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-13.

POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF, LAYERED PRODUCT, PATTERNING PROCESS, AND SUBSTRATE

Номер патента: US20150056545A1. Автор: Miyazaki Takashi,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya,IIO Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

SILICONE SKELETON-CONTAINING POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME, CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, PATTERNING PROCESS, LAYERED PRODUCT, AND SUBSTRATE

Номер патента: US20160097973A1. Автор: Hasegawa Koji,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya,Fujiwara Takayuki,FUKUSHIMA Masahiro,IIO Masashi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-04-07.

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, PATTERNING PROCESS, PROTECTIVE FILM, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART

Номер патента: US20140220483A1. Автор: ASAI Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-07.

Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing same, layered product, patterning process, and substrate

Номер патента: US09557645B2. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing same, layered product, patterning process, and substrate

Номер патента: KR101908174B1. Автор: 가츠야 다케무라,다카시 미야자키,마사시 이이오,히로유키 우라노. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-12-10.

SILICONE STRUCTURE-BEARING POLYMER, RESIN COMPOSITION, AND PHOTO-CURABLE DRY FILM

Номер патента: US20130196114A1. Автор: Miyazaki Takashi,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-08-01.

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION AND PHOTO-CURABLE DRY FILM USING THE SAME

Номер патента: US20160357105A1. Автор: KATO Hideto,SOGA Kyoko,ASAI Satoshi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-12-08.

Pattern forming material and method for forming pattern therewith

Номер патента: US4507384A. Автор: Masao Morita,Akinobu Tanaka,Saburo Imamura,Toshiaki Tamamura,Osamu Kogure. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-03-26.

Positive resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2040122A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Negative resist material

Номер патента: US4826943A. Автор: Toshio Ito,Miwa Sakata,Yoshio Yamashima. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-02.

Positive resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: US7611820B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-11-03.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20240118619A1. Автор: Tomotaka Yamada,Keiichi IBATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Resist composition

Номер патента: EP1810084A1. Автор: Sheng Wang,Sanlin Hu,Eric Scott Moyer,Sina Maghsoodi. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2007-07-25.

Chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: EP2479611A3. Автор: Katsuya Takemura,Noriyuki Koike,Hiroyuki Yasudo. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-09.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US8530148B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-10.

Resist compositions

Номер патента: US6709799B2. Автор: Kazuhiko Hashimoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-23.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US10488755B2. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20180017865A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Photosensitive polymer containing silicon and a resist composition using the same

Номер патента: US6849382B2. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-02-01.

SILICONE STRUCTURE-BEARING POLYMER, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, PATTERNING PROCESS, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART-PROTECTING FILM

Номер патента: US20160033865A1. Автор: Hasegawa Koji,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya,Fujiwara Takayuki,IIO Masashi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-02-04.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US09513550B2. Автор: Hideyoshi Yanagisawa,Yoshinori Hirano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Resist composition and method for forming pattern

Номер патента: US9354517B2. Автор: Yoshihiro Nakata,Junichi Kon. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-05-31.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, MAKING METHOD, PATTERN FORMING PROCESS, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART PROTECTING FILM

Номер патента: US20130149493A1. Автор: WATANABE Takeru,Miyazaki Takashi,Takemura Katsuya. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film, making method, pattern forming process, and electric/electronic part protecting film

Номер патента: TWI547762B. Автор: 渡辺武,竹村勝也,宮崎隆. Владелец: 信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2016-09-01.

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, PATTERNING PROCESS, PROTECTIVE FILM, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART

Номер патента: US20130323631A1. Автор: KATO Hideto,SOGA Kyoko,ASAI Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-05.

Photo-curable resin composition, photo-curable dry film, patterning process, protective film, and electic/electronic part

Номер патента: KR101780680B1. Автор: 사토시 아사이,교코 소가,히데토 가토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-09-21.

Photocurable resin composition, dry film thereof, pattern forming method, and electrical/electronic part protect film

Номер патента: KR101575707B1. Автор: 교코 소가,다카노부 다케다,히데토 가토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-12-08.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443241A2. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240329522A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443241A3. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337935A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20210395195A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US12060317B2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Patterning process and chemically amplified negative resist composition

Номер патента: US09910358B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Chemically amplified negative resist composition and patterning process

Номер патента: US20140329183A1. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-06.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240280900A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393470A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286945A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286943A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393466A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photomask blank, resist pattern forming process, and method for making photomask

Номер патента: US09904169B2. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337927A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Composition for forming fine resist pattern and pattern forming method using same

Номер патента: US09448485B2. Автор: Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tetsuo Okayasu. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP3579050A1. Автор: Satoshi Watanabe,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-11.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20240361688A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Negative chemically-amplified photoresist and imaging method thereof

Номер патента: US09766542B2. Автор: Jia Sun,Xin Chen,Haibo Li,Bing Li,Roger Sinta,Cuimei Diao,Xiantao Han. Владелец: KEMPUR MICROELECTRONICS Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337939A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240377741A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4462188A2. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-13.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4462189A2. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-13.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20220308451A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4198630A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Onium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310723A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4407375A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4446812A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: EP4276534A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20230367213A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemically amplified resist composition and manufacturing method of semiconductor integrated circuit device with such chemically amplified resist composition

Номер патента: US20080233518A1. Автор: Kazunori Maeda,Satoshi Watanabe,Seiji Nagahara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2008-09-25.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20190346765A1. Автор: Akiya Kawaue,Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: US20220404701A1. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Critical dimension control in photo-sensitized chemically-amplified resist

Номер патента: US09645495B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US09645493B2. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393461A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286944A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

High heat resistance resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2017084742A1. Автор: Masato Suzuki,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.. Дата публикации: 2017-05-26.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230194986A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393465A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286946A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20140087294A1. Автор: Hideyoshi Yanagisawa,Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-27.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4276533A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4270108A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230341775A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230367214A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230116747A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240329529A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Polymer, Chemically Amplified Positive Resist Composition, Resist Patterning Process, And Mask Blank

Номер патента: US20240134280A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Polymer, chemically amplified positive resist composition, resist patterning process, and mask blank

Номер патента: EP4343433A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230418157A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Onium salt, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20220127225A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Satoshi Watanabe,Kousuke Ohyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-28.

Shrink material and pattern forming process

Номер патента: EP3032333A3. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Kentaro Kumaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-07.

Shrink material and pattern forming process

Номер патента: US09904172B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe,Koji Hasegawa,Daisuke Domon,Kentaro Kumaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Shrink material and pattern forming process

Номер патента: US09632417B2. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Kentaro Kumaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1225479A3. Автор: Yasunori Uetani,Junji Nakanishi,Katsuhiko Namba. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-05.

Photoacid generator, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20230123180A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Koji Hasegawa,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Chemically Amplified Resist Composition and Patterning Process

Номер патента: US20180136558A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20100010129A1. Автор: Akira Kamabuchi,Takayuki Miyagawa,Junji Shigematsu,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-14.

Non-chemically amplified resist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20240142874A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Jiyoung Park,Jinkyu HAN,Seungyeol Baek,Chawon KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and patterning process

Номер патента: US20150198876A1. Автор: Satoshi Watanabe,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-16.

Pattern-forming method

Номер патента: US09971247B2. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US09939729B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and patterning process

Номер патента: US09535325B2. Автор: Satoshi Watanabe,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US09523914B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Methods and compositions for imaging acids in chemically amplified photoresists using pH-dependent fluorophores

Номер патента: US20020042019A1. Автор: James Taylor,Paul Dentinger,Scott Bukofsky,Robert Grober. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-11.

Methods and compositions for imaging acids in chemically amplified photoresists using ph-dependent fluorophores

Номер патента: US20010001698A1. Автор: James W. Taylor,Scott J. Bukofsky,Robert D. Grober,Paul M. Dentinger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-24.

Chemically amplified resist composition

Номер патента: US6114086A. Автор: Toshiyuki Ota,Makoto Murata,Akira Tsuji,Eiichi Kobayashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-09-05.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200142307A1. Автор: Yasuo Masuda,Akiya Kawaue,Shota Katayama,Aya Momozawa,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA,Kohei Fukumoto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A2. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Photosensitive dry film, laminated film, method for producing laminated film, and method for producing patterned resist film

Номер патента: US20240053680A1. Автор: Yuta Yamamoto,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Negative-acting chemically amplified photoresist composition

Номер патента: EP1297386A1. Автор: Ping-Hung Lu,Ralph R. Dammel,Pingyong Xu. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-04-02.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A3. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile and resolution

Номер патента: EP4369099A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Ycchem Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts

Номер патента: US20020006582A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-17.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310725A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemically amplified resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: EP4204901A1. Автор: Rui Zhang,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-07-05.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound

Номер патента: US20190121233A1. Автор: Akiya Kawaue,Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104989A1. Автор: Kenta WATANABE,Tomohide Katayama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104940A1. Автор: Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemically amplified resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: US20230314943A1. Автор: Rui Zhang,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Pattern forming process and shrink agent

Номер патента: US09618850B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Kenji Funatsu. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170052450A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20160147149A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Chemically-amplified-type negative-type photoresist composition

Номер патента: US20190137871A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Photoacid generator containing two kinds of sulfonium salt compound, chemically amplified resist containing the same and pattern transfer method

Номер патента: US20020182535A1. Автор: Shigeyuki Iwasa,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Onium salt monomer, polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240329527A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Methods and techniques to use with photosensitized chemically amplified resist chemicals and processes

Номер патента: US09618848B2. Автор: Michael A. Carcasi,Benjamen M. Rathsack,Joshua S. Hooge,Seiji Nagahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US09551929B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick-film application

Номер патента: US09448478B2. Автор: Makiko Irie,Yuta Yamamoto,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US7304175B2. Автор: Yukako Harada,Ichiki Takemoto,Kouji Toishi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-04.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20070184382A1. Автор: Yukako Harada,Satoshi Yamaguchi,Isao Yoshida. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-09.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US7527910B2. Автор: Yukako Harada,Satoshi Yamaguchi,Isao Yoshida. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-05.

Dissolution inhibitor of chemically amplified photoresist and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6165680A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-12-26.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20010046641A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroaki Fujishima,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-29.

Chemically amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1207423A1. Автор: Kenji Ohashi,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-22.

Sulfonium salt and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US5691112A. Автор: Satoshi Watanabe,Toshinobu Ishihara,Fujio Yagihashi,Katsuya Takemura,Kazumasa Maruyama,Yoshihumi Takeda,Youichi Ohsawa,Junji Shimada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-11-25.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US11846884B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Chuanwen Lin. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Acid generator, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20130224657A1. Автор: Masaki Ohashi,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Chemical amplification-type photosensitive composition, photosensitive dry film, production method of patterned resist layer, production method of plated molded article, compound, and production method of compound

Номер патента: US11803122B2. Автор: Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230137472A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230161254A1. Автор: Kenji Yamada,Kazuhiro Katayama,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Polyhydric phenol compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20080248417A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando,Junji Shigematsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-09.

Compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20100151379A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230105986A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11994799B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240027902A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US12032289B2. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Acid-labile polymer and resist composition

Номер патента: EP1254915A3. Автор: Seong-Ju Kim,Dong-Chul Seo,Hyun-Sang Joo,Young-Taek Lim,Joo-Hyeon Park,Seong-Duk Cho. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-19.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310727A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polymer, chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: US09810983B2. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Positive-tone, chemically amplified, aqueous-developable, permanent dielectric

Номер патента: US09740096B2. Автор: Paul A. Kohl,Brennen Karl Mueller. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Chemically amplified resist composition and process for forming resist pattern using same

Номер патента: US5506088A. Автор: Satoshi Takechi,Yuko Kaimoto,Koji Nozaki,Ryosuke Tokutomi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1996-04-09.

Method for measuring diffusion of photogenerated catalyst in chemically amplified resists

Номер патента: WO2001079932A1. Автор: Robert D. Grober,Gilbert D. Feke. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2001-10-25.

Method for measuring diffusion of photogenerated catalyst in chemically amplified resists

Номер патента: US20020001768A1. Автор: Gilbert Feke,Robert Grober. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2002-01-03.

Method for measuring diffusion of photogenerated catalyst in chemically amplified resists

Номер патента: EP1277085A1. Автор: Robert D. Grober,Gilbert D. Feke. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2003-01-22.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick film

Номер патента: US09977328B2. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US09720324B2. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Pattern forming method, pattern forming apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US09618849B2. Автор: Makoto Muramatsu,Takahiro Kitano,Tadatoshi Tomita,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Sulfonium salt, resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US09604921B2. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US09557651B2. Автор: Yasushi Washio,Takahiro Shimizu,Shota Katayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US5750309A. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Toshinobu Ishihara,Shigehiro Nagura,Kiyoshi Motomi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-12.

Polymeric compounds, chemically amplified positive type resist materials and process for pattern formation

Номер патента: US6048661A. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Toshinobu Ishihara,Shigehiro Nagura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2000-04-11.

Water-soluble material, chemically amplified resist and pattern formation method using the same

Номер патента: EP1553453A2. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-13.

Photosensitive polymer, dissolution inhibitor and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6103450A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-08-15.

Chemically-amplified positive photosensitive resin composition, manufacturing method of substrate with casting mold, and manufacturing method of electroplated molded article

Номер патента: SG10201710688SA. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-07-30.

Color filter black matrix resist composition and carbon black dispersion composition used for the composition

Номер патента: EP1576418A1. Автор: Hirotoshi Showa Denko K. K. KAMATA,Masanao Showa Denko K. K. KAMIJO,Mina Showa Denko K. K. ONISHI. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2005-09-21.

Method and apparatus for modeling chemically amplified resists

Номер патента: US20110029118A1. Автор: Yongfa Fan. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2011-02-03.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240272550A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi,Ryunosuke HANDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Onium salt compound, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US09989847B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Methods and techniques to use with photosensitized chemically amplified resist chemicals and processes

Номер патента: KR20220075439A. Автор: 세이지 나가하라,마이클 에이. 카르카시,조슈아 에스. 후게,벤자멘 엠. 라스색. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-06-08.

Development defects-preventing process and material for the process

Номер патента: MY131861A. Автор: Hatsuyuki Tanaka,Yoshio Murakami,Yusuke Takano,Satoru Funato,Kazuyo Ijima. Владелец: Az Electronic Mat Ip Japan Kk. Дата публикации: 2007-09-28.

Pattern forming method through combined electron beam and light exposure utilizing multiple heat steps

Номер патента: US6020107A. Автор: Shinji Sato,Hiromi Niiyama,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2000-02-01.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US20210216013A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US11906900B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Pattern forming method and resist composition

Номер патента: US20130011785A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

Negative resists based on acid-catalyzed elimination of polar molecules

Номер патента: US20070259274A1. Автор: Robert Allen,David Medeiros,Ratnam Sooriyakumaran,Phillip Brock,Gregory Breyta,Richard DiPietro. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2007-11-08.

Fabrication method for pattern-formed structure

Номер патента: US09568827B2. Автор: Makoto Abe,Kazuaki Baba,Masaaki Kurihara. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-02-14.

Pattern forming method and resist composition

Номер патента: US09551935B2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

Номер патента: US8030515B2. Автор: Takeshi Kinsho,Youichi Ohsawa,Takeru Watanabe,Katsuhiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-04.

Chemically amplified photoresist composition and method for forming pattern

Номер патента: US20100203446A1. Автор: Koji Ichikawa,Masako Sugihara,Yusuke Fuji. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-12.

Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same

Номер патента: MY129169A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-30.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11940728B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20210096465A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20180259853A1. Автор: Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-13.

Image forming methods, pattern forming methods, pattern forming material and planographic printing plate

Номер патента: EP1475230A3. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method of manufacturing substrate with template, and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200033729A1. Автор: Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230288804A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230350296A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240160101A1. Автор: Jun Hatakeyama,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230359119A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230305393A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230288800A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230251572A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US12072628B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Sulfonium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240302740A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of producing a polyorganosiloxane-based stamp, a polyorganosiloxane-based die, use thereof for the printing process and a method for imprinting using it

Номер патента: RU2741506C2. Автор: Маркус Антониус ВЕРСХЮИРЕН. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2021-01-26.

Resist-modifying composition and pattern forming process

Номер патента: US8426105B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Takeshi Kinsho,Masashi Iio,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-23.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20190004426A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20160299432A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-13.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: US09709891B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Photosensitive composition, photocurable composition, chemical amplification resist composition, resist film, pattern forming method, method of manufacturing electronic device and electronic device

Номер патента: US09488911B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Kyouhei SAKITA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Chemical-amplification-type negative resist composition and method for forming negative resist pattern

Номер патента: US5955241A. Автор: Hiroyuki Yamazaki,Yoshiki Sugeta,Kiyoshi Ishikawa,Mitsuru Sato,Toshimasa Nakayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20200102271A1. Автор: Masaki Ohashi,Yuki Suka,Kazuya HONDA,Yuki Kera. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230023593A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-26.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4394508A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4393925A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Black resist composition, and method for forming black pattern by near-infrared photolithographic method

Номер патента: US20240219833A1. Автор: Akihiko Igawa,Hidekazu Shioda. Владелец: Echem Solutions Japan Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Ionic salt, radiation-sensitive resist composition comprising the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20230022002A1. Автор: TADAO Yagi,Mitsumasa Hamano,Naoki Ogiwara,Nobuji Sakai,Sayaka UCHIDA. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2023-01-26.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240239820A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Intermediate layer composition for multilayer resist process, pattern-forming process using the same, and laminate

Номер патента: US20050003299A1. Автор: Yutaka Adegawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-06.

Polymer, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20170226250A1. Автор: Jun Hatakeyama,Kenji Funatsu,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-10.

Polymer, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20160168296A1. Автор: Jun Hatakeyama,Kenji Funatsu,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-16.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220252983A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Onium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230400766A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230314944A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11914294B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11953832B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20200192221A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220390846A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Onium Salt, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240176237A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240111212A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240210830A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Kousuke Ohyama,Yutaro OTOMO,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240118615A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Positive resist composition for electron beam, x-ray or euv and pattern forming method using the same

Номер патента: US20090246685A1. Автор: Katsuhiro Yamashita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Resist composition, resist pattern forming method, and polymer

Номер патента: US20240295814A1. Автор: Tomotaka Yamada,Takuya Uehara,Keiichi IBATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Resist pattern forming method and developer for lithography

Номер патента: US09964851B2. Автор: Tomoya Kumagai,Takayoshi Mori,Kazufumi Sato,Ryoji Watanabe,Kenta Suzuki,Masahito YAHAGI,Mitsuo Hagihara. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230393462A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230393463A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230288801A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device using same

Номер патента: US20170146908A1. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Negative resist composition and patterning process

Номер патента: EP2345934A3. Автор: Satoshi Watanabe,Akinobu Tanaka,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-12.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US10534264B2. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-14.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220350243A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20180224742A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20060194148A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Pattern forming method and resist composition

Номер патента: WO2011118855A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-09-29.

Dry film resist sheet and method of manufacturing the same

Номер патента: US20140106278A1. Автор: Hye Jin Cho,Suk Jin Ham,Kyoung Soon Park,Sung Hee LIM. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.

Resist Composition and Resist Pattern Forming Method

Номер патента: US20200201176A1. Автор: Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Congque DINH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Resist composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20190219922A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA,Hajime Furutani,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US20220043351A1. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-10.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Dry film formulation

Номер патента: US20210011382A1. Автор: Sean T. Weaver. Владелец: Funai Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US12085856B2. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Pattern forming method

Номер патента: US09465295B2. Автор: Eiji Yoneda,Kentaro Matsunaga,Masashi Terao. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Resist composition

Номер патента: US6010826A. Автор: Hideyuki Tanaka,Tatsuya Sugimoto,Nobunori Abe,Shugo Matsuno,Yasumasa Wada. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2000-01-04.

Dry multilayer inorganic alloy thermal resist for lithographic processing and image creation

Номер патента: CA2416412C. Автор: Glenn Harrison Chapman,Yugiang Tu,Marinko Venci Sarunic. Владелец: CHAPMAN TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2012-01-17.

Pattern forming method, kit, and resist composition

Номер патента: US20230350290A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230305394A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20190033715A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Ryosuke Taniguchi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240176235A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230251573A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Pattern forming method and pattern structural body

Номер патента: US20170168388A1. Автор: Masahiko Akiyama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240053678A1. Автор: Tomohiro Kobayashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230236503A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240168382A1. Автор: Jun Hatakeyama,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230324798A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20080081282A1. Автор: Kenji Wada,Sou Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-04-03.

Polymer, resist composition, and pattern forming method

Номер патента: US20230244142A1. Автор: Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Method for producing resist composition and pattern forming method

Номер патента: US20230045851A1. Автор: Kazunari Yagi,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Positive resist composition and pattern forming method

Номер патента: EP2130094A1. Автор: Yushi c/o FUJIFILM Corporation KANEKA,Kunihiko c/o FUJIFILM Corporation KODAMA,Akinori c/o FUJIFILM Corporation SHIBUYA,Yuko c/o FUJIFILM Corporation YOSHIDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20230205084A1. Автор: Masatoshi Arai,Makoto Sakata,Takatoshi INARI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240231225A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Resist composition and method for producing resist pattern, and method for producing plated molded article

Номер патента: US20210278765A1. Автор: Takashi Nishimura,Junji Nakanishi,Masako Sugihara. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom

Номер патента: US09908831B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Resist composition

Номер патента: US09785048B2. Автор: Masaaki Takasuka,Masatoshi Echigo,Yu Okada,Yumi Ochiai. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom

Номер патента: US09598392B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom

Номер патента: US09540339B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Resist composition for electron beam, x-ray, or euv, and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2020616A2. Автор: Katsuhiro Yamashita,Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-04.

Formation of a negative resist pattern utilize water-soluble polymeric material and photoacid generator

Номер патента: US5017461A. Автор: Naomichi Abe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-05-21.

Polyethylene film and dry film resist

Номер патента: US11914297B2. Автор: Hitoshi Nakamura,Toshiaki Hagiwara,Shinichi Oya. Владелец: Tamapoly Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Chemical liquid, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20190258165A1. Автор: Takashi Nakamura,Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, pattern forming method, and kit

Номер патента: US11747727B2. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1770441A3. Автор: Kazuyoshi c/o Fuji Photo Co. Ltd. Mizutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Substrate protective film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: US20200133123A1. Автор: Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20210397086A1. Автор: Yosuke Suzuki,Tsuyoshi Nakamura,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: EP4394506A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Cheol Kang,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20230367211A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: EP3948418A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-02-09.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: US20240231223A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: EP4394507A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Positive resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20090098483A1. Автор: Yusuke Nakagawa,Shinichi Hidesaka,Waki Ohkubo,Makiko Irie,Yohei Kinoshita. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Electron beam resist composition

Номер патента: EP3177966A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-06-14.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20170235227A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-08-17.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20190324370A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2019-10-24.

Pattern forming method

Номер патента: US9437477B1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20140045122A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Polymer, resist composition including the same, and method of forming pattern using the resist composition

Номер патента: US20240124635A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Jungha Chae,Sungwon Choi,Beomseok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Pattern forming method

Номер патента: US20170068162A1. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12050402B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of forming nanopattern and substrate having pattern formed using the method

Номер патента: EP1999513A1. Автор: Seung-Tae Oh,Sang-Choll Han,Deok-Joo Kim,Matthias Henyk. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2008-12-10.

Negative resist formulation for producing undercut pattern profiles

Номер патента: SG11201908415XA. Автор: Medhat A Toukhy,Anupama Mukherjee. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-28.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20150212416A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-30.

Fine pattern forming method and stamper

Номер патента: US20090017266A1. Автор: Kyosuke Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210191262A1. Автор: Yasuhiro Yoshii,Yosuke Suzuki,Takahiro Kojima,Yoichi Hori,Mari MURATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Pattern forming method

Номер патента: US20100021850A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method

Номер патента: WO2004023213A1. Автор: Kentaro Tada,Nobuji Sakai. Владелец: TOYO GOSEI CO., LTD.. Дата публикации: 2004-03-18.

Pattern forming method using contrast enhanced material

Номер патента: US4849323A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-18.

Resist composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240069437A1. Автор: Jaemyoung Kim,Suk Koo Hong,Kyungoh KIM,Moo Hyun KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: MY142216A. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-15.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent

Номер патента: US20170097564A1. Автор: Takashi Nagamine,Kotaro Endo,Hideto Nito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Pattern forming method, template manufacturing method, and photomask manufacturing method

Номер патента: US20220091499A1. Автор: Yoshinori Kagawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Methods of forming resist pattern, forming electrode pattern, and manufacturing surface acoustic wave device

Номер патента: US6821712B2. Автор: Kenji Sakaguchi,Yoshihiro Koshido,Toshiyuki Fuyutsume. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-23.

Imprint pattern forming method

Номер патента: US8444889B2. Автор: Ikuo Yoneda,Ryoichi Inanami,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-05-21.

Resist composition

Номер патента: EP1580600A1. Автор: Isamu Asahi Glass Company Limited Kaneko,Yoko Asahi Glass Company Limited Takebe,Yasuhide Asahi Glass Company Limited KAWAGUCHI,Shinji Asahi Glass Company Limited OKADA,Osamu Asahi Glass Company Limited YOKOKOJI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-28.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20200249571A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Pattern forming method

Номер патента: US20160060410A1. Автор: Hitoshi Kubota,Katsutoshi Kobayashi,Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240319592A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim,Jinwon JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US20240345480A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi,Ryunosuke HANDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09921479B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Pattern forming method, composition kit and resist film, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US09915870B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09897918B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Pattern forming method capable of minimizing deviation of an inversion pattern

Номер патента: US09887099B2. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Pattern forming method, and, electronic device producing method and electronic device, each using the same

Номер патента: US09885956B2. Автор: Kei Yamamoto,Tsukasa Yamanaka,Naoya Iguchi,Ryosuke Ueba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09869931B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Pattern-forming method

Номер патента: US09847232B1. Автор: Kristin Schmidt,Chi-chun Liu,Hitoshi Osaki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Photocurable and thermocurable resin composition and dry film solder resist

Номер патента: US09778566B2. Автор: Byung Ju Choi,You Jin KYUNG,Woo Jae Jeong,Bo Yun Choi,Min Su Jeong,Kwang Joo Lee. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Multiple-pattern forming methods

Номер патента: US09753370B2. Автор: Phillip D. Hustad,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,James C. Taylor,Jung Woo Kim,Choong-Bong LEE,Chang-Young Hong,Lori Anne Joesten. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09709890B2. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi,Daisuke Domon. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Pattern forming method

Номер патента: US09696628B2. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher and compound

Номер патента: US09671690B2. Автор: Daichi Takaki,Takashi Nagamine,Miki Shinomiya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Carboxylate, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US12124167B2. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09601331B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Imprinting method and process for producing a member in which a mold contacts a pattern forming layer

Номер патента: US09573319B2. Автор: Junichi Seki,Nobuhito Suehira,Kazuyuki Kasumi,Shingo Okushima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like

Номер патента: US5213945A. Автор: James J. Briguglio,Fredrick J. Axon,Leo Roos. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1993-05-25.

Multilayer dry-film positive-acting photoresist

Номер патента: CA1242917A. Автор: Peter M. Koelsch,John P. Vikesland. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1988-10-11.

Multilayer dry-film positive-acting photoresist

Номер патента: CA1265696A. Автор: John P. Vikesland. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1990-02-13.

Multilayer dry-film positive-acting o-quinone diazide photoresist with integral laminable layer, photoresist layer, and strippable carrier layer

Номер патента: US4672020A. Автор: Peter M. Koelsch,John P. Vikesland. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1987-06-09.

Resistance welding dry film photoresist as well as preparation method use thereof

Номер патента: NL2032627B1. Автор: Yang Yang,Zhang Weiguo,Peng Wei,Li Zhixin,Du Yongjie,Deng Xiaoming. Владелец: Zhuhai Nengdong Tech Optical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-10.

Photosensitive dry film and uses of the same

Номер патента: US20180210342A1. Автор: Chang-Hong Ho,Ming-Jhe Li,Tsung-Hsiu TSAI. Владелец: Eternal Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Photosensitive dry film and uses of the same

Номер патента: US11353791B2. Автор: Chang-Hong Ho,Ming-Jhe Li,Tsung-Hsiu TSAI. Владелец: Eternal Materials Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Pattern forming method

Номер патента: US20170125262A1. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Manufacturing method of pattern formed body and pattern formed body manufacturing apparatus

Номер патента: US20090168033A1. Автор: Takashi Sawada,Hironori Kobayashi,Kaori Yamashita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-02.

Composition for forming underlayer film, resist pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US20220283499A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kei Yamamoto,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-09-08.

Black resist composition and method for forming black pattern by near-infrared photolithography

Номер патента: EP4339701A1. Автор: Akihiko Igawa,Hidekazu Shioda. Владелец: Echem Solutions Japan Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Process for preparing of semiconductor device and pattern-forming coating solution used for this process

Номер патента: US5087551A. Автор: Satoshi Takechi,Yuko Nakamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-02-11.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220206384A1. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20210003917A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Pattern forming method

Номер патента: US20170184958A1. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20030175617A1. Автор: Yoshinori Hirano,Hideto Kato,Toshihiko Fujii,Hiromasa Yamaguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US6866982B2. Автор: Yoshinori Hirano,Hideto Kato,Toshihiko Fujii,Hiromasa Yamaguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-15.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US20210088906A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material

Номер патента: US20050214693A1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240231226A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi,Haruka Homma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013081168A1. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method

Номер патента: US20190346764A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Polymer compound, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and production method thereof, layered product, patterning process, and substrate

Номер патента: US20150056545A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, LAYERED PRODUCT, PATTERNING PROCESS, AND SUBSTRATE

Номер патента: US20150370166A1. Автор: Miyazaki Takashi,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya,IIO Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-24.

Negative-type photosensitive resin composition, photo-curable pattern and image display device using the same

Номер патента: TW201635030A. Автор: 全志珉,梁敦植,金聖彬. Владелец: 東友精細化工有限公司. Дата публикации: 2016-10-01.

Negative-type photosensitive resin composition, photo-curable pattern and image display device using the same

Номер патента: TWI667540B. Автор: 全志珉,梁敦植,金聖彬. Владелец: 南韓商東友精細化工有限公司. Дата публикации: 2019-08-01.

SILICONE STRUCTURE-BEARING POLYMER, RESIN COMPOSITION, AND PHOTO-CURABLE DRY FILM

Номер патента: US20150293447A1. Автор: Miyazaki Takashi,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2015-10-15.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240377738A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Fine resist pattern-forming composition and pattern forming method using same

Номер патента: US09921481B2. Автор: Yoshihiro Miyamoto,Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara,Kazuma Yamamoto. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2018-03-20.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US8841059B2. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-09-23.

Chemically amplified photosentive composition, photosensitive dry film, production method of substrate having template for plating, and production method of plated article

Номер патента: US20230273521A1. Автор: Akiya Kawaue,Yuta Yamamoto,Daisuke OJIMA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemically amplified resist and a resist composition

Номер патента: US20030181629A1. Автор: Yong-Joon Choi,Hyeon-Jin Kim,Yoon-Sik Chung,Deog- Bae Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

Positive resist composition and positive resist base material using the same

Номер патента: US6649322B2. Автор: Hiroto Yukawa,Satoshi Kumon. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-18.

Chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: EP2955576A1. Автор: Yoshinori Hirano,Katsuya Takemura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-16.

Simulator for the post-exposure bake of chemically amplified resists

Номер патента: US6295637B1. Автор: Tsung-Lung Li. Владелец: TSMC Acer Semiconductor Manufacturing Inc. Дата публикации: 2001-09-25.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US20120115084A1. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-05-10.

Chemically amplified photosensitive resin composition and method for producing resist pattern using the same

Номер патента: US20150044613A1. Автор: Makiko Irie,Shota Katayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-12.

Negative resist composition, method for producing relief pattern using the same, and electronic component using the same

Номер патента: US09651864B2. Автор: Kenichi Okuyama,Satoru Kanke. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-05-16.

Organic processing liquid for patterning chemical amplification resist film, container for organic processing liquid for patterning chemical amplification resist film, and pattern forming method, method of manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US10705428B2. Автор: Tsukasa Yamanaka,Takashi Kawamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-07-07.

Chemically amplified photoresist composition, photoresist laminated product, manufacturing method for photoresist composition, manufacturing method for photoresist pattern, and manufacturing method for connection element

Номер патента: EP2202579A2. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-30.

Photosensitive polymer and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6593441B2. Автор: Sang-jun Choi,Si-hyeung Lee,Sook Lee,Dong-Won Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-15.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US09798242B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US09632416B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240319594A1. Автор: Changki Kim,Hyunseok Choi,Cheol Kang,Minsang Kim,Hana Kim,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Negative resist compositions

Номер патента: CA1325353C. Автор: Jean M. J. Frechet,Robert David Allen,Carlton Grant Willson,Robert James Twieg. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Patterning process and resist composition

Номер патента: US09551932B2. Автор: Koji Hasegawa,Tomohiro Kobayashi,Akihiro Seki,Kenji Funatsu,Kentaro Kumaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Negative resist composition

Номер патента: US7432034B2. Автор: Shoichiro Yasunami,Koji Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-07.

Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method

Номер патента: US20100330507A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kenji Wada,Shinji Tarutani,Wataru HOSHINO,Kazuyoshi Mizuyoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-12-30.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US20160154312A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Positive resist compostion and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1975717A2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shuji Hirano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Polymer and positive resist composition

Номер патента: US20180024430A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-01-25.

Positive Resist Composition and Method of Forming Resist Pattern

Номер патента: US20080241747A1. Автор: Tomoyuki Ando,Kiyoshi Ishikawa,Takuma Hojo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-02.

Resist compositions with polymers having 2-cyano acrylic monomer

Номер патента: US20040072099A1. Автор: Wenjie Li,Pushkara Varanasi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-15.

Chemical amplification, positive resist compositions

Номер патента: US20010033994A1. Автор: Jun Watanabe,Akihiro Seki,Youichi Ohsawa,Takanobu Takeda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-25.

Resist compositions with polymers having 2-cyano acrylic monomer

Номер патента: EP1405140A1. Автор: Pushkara Rao Varanasi,Wenjie Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-04-07.

Carboxyl-containing plasticizers in dry film photopolymerizable compositions

Номер патента: CA2081931A1. Автор: Richard Thomas Mayes. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-05-02.

Increasing adhesion of dry-film photopolymerizable compositions to carriers

Номер патента: CA2081965A1. Автор: Richard Thomas Mayes. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-05-02.

Negative resists with high thermal stability comprising end capped polybenzoxazole and bisazide

Номер патента: US5486447A. Автор: Erwin Schmidt,Albert Hammerschmidt,Eberhard Kuhn. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1996-01-23.

SILICONE SKELETON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, PATTERNING PROCESS, LAYERED PRODUCT, SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS

Номер патента: US20160200877A1. Автор: Miyazaki Takashi,Urano Hiroyuki,Takemura Katsuya,IIO Masashi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-07-14.

Chemically amplified negative resist composition using novel onium salt and resist pattern forming process

Номер патента: US09740098B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Acetal modifier, polymer, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240329532A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Acetal modifier, polymer, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4455118A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240118613A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4336261A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa,Keichii MASUNAGA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20140255833A1. Автор: Hiroyuki Yasuda,Katsuya Takemura,Shohei Tagami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-11.

Chemical amplifying type positive resist composition and sulfonium salt

Номер патента: SG166668A1. Автор: Akira Kamabuchi,Yasunori Uetani,Kenji Oohashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2010-12-29.

Pattern forming process and shrink agent

Номер патента: US09927708B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: PH12019501406A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-08.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP3566098A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-13.

Chemically amplified photosensitive composition, photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and compound

Номер патента: US20200209739A1. Автор: Akiya Kawaue,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Polymer compound, negative resist composition, laminate, patterning process, and compound

Номер патента: US09969829B2. Автор: Koji Hasegawa,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemically amplified resist material, pattern-forming method, compound, and production method of compound

Номер патента: US20170052449A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Monomer, polymer, positive resist composition, and patterning process

Номер патента: US09829792B2. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Acetal group-containing alkoxy-styrene polymers, method of preparing the same and chemical amplified photoresist composition mainly comprising the same

Номер патента: US5665841A. Автор: Seong-Ju Kim,Ji-Hong Kim,Joo-Hyeon Park,Sun-Yi Park. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Chemically amplified photoresist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20100330497A1. Автор: Takashi Hiraoka,Koji Ichikawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-30.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same

Номер патента: US7862980B2. Автор: Yukako Harada,Isao Yoshida,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-04.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same

Номер патента: US7611822B2. Автор: Ichiki Takemoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-03.

Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method

Номер патента: US20030235779A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Youichi Ohsawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-25.

Onium salt, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20240103364A1. Автор: Kenji Yamada,Masahiro Fukushima,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230076505A1. Автор: Jun Hatakeyama,Hiroki Nonaka,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Mitigation of EUV shot noise replicating into acid shot noise in photo-sensitized chemically-amplified resist (PS-CAR)

Номер патента: US09746774B2. Автор: Mark H. Somervell,Michael A. Carcasi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Process for forming features of 50 nm or less half-pitch with chemically amplified resist imaging

Номер патента: US7090963B2. Автор: Wu-Song Huang,David R. Medeiros,Gregory M. Wallraff,Bill Hinsberg,Frances Houle. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-08-15.

Pattern shape adjustment method, pattern shape adjustment system, exposure apparatus, and recording medium

Номер патента: US09885960B2. Автор: Kazuo Tawarayama,Nobuhiro Komine,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Pattern prediction method, pattern correction method, method of fabricating semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20090233193A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Masaki Satake. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-09-17.

Pattern Verification Method, Pattern Verification System, Mask Manufacturing Method and Semiconductor Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120054695A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Kyoko Izuha,Toshiya Kotani,Shigeki Nojima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Identification information acquisition method, pattern forming method, semiconductor manufacturing facility operation method, processing apparatus, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20240213176A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Negative resist composition, method of forming resist pattern and complex

Номер патента: US20160259244A1. Автор: Daiju Shiono,Yoshiyuki Utsumi,Naoki Yamashita,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-08.

Pattern Measuring Method, Pattern Measuring Tool and Computer Readable Medium

Номер патента: US20190378679A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-12.

Post-cmos processing and 3d integration based on dry-film lithography

Номер патента: WO2014020479A3. Автор: Carlotta Guiducci,Yuksel Temiz,Yusuf Leblebici. Владелец: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL). Дата публикации: 2014-04-10.

Post-cmos processing and 3d integration based on dry-film lithography

Номер патента: US20150371978A1. Автор: Carlotta Guiducci,Yuksel Temiz,Yusuf Leblebici. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2015-12-24.

Pattern-forming method and resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US09607849B2. Автор: Toru Kimura,Takashi Mori,Yoshio Takimoto,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOUMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Metrology for measurement of photosensitizer concentration within photo-sensitized chemically-amplified resist (PS-CAR)

Номер патента: TW201544909A. Автор: Seiji Nagahara,Mark H Somervell,Benjamen M Rathsack,Michael A Carcasi,Joshua S Hooge. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-12-01.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20190278178A1. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2019-09-12.

Pattern forming method, laminate, and resist composition for organic solvent development

Номер патента: US20180120706A1. Автор: Keita Kato,Takashi Yakushiji,Tadashi Omatsu,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240192591A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Pattern Forming Process

Номер патента: US20080113302A1. Автор: Masanobu Takashima,Hiromi Ishikawa,Yuji Shimoyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Pattern forming method

Номер патента: US09891526B2. Автор: Toru Kimura,Yoshio Takimoto,Kazunori Takanashi,Shunsuke Kurita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-30.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: EP2689292A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Polymer, monomer, resist composition, and patterning process

Номер патента: US9790166B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Pattern forming process and shrink agent

Номер патента: US20160124313A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Kenji Funatsu. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US12055853B2. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound

Номер патента: EP4459377A2. Автор: Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Material For Forming Organic Film, Substrate For Manufacturing Semiconductor Device, Method For Forming Organic Film, Patterning Process, And Compound

Номер патента: US20240363335A1. Автор: Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Pattern forming process and process for preparing semiconductor device utilizing said pattern forming process

Номер патента: US5344522A. Автор: Takayuki Yagi,Yasue Sato,Shinichi Kawate,Toshiyuki Komatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Pre-wet liquid, resist film forming method, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20220197137A1. Автор: Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240118610A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Negative resist composition and patterning process

Номер патента: US20140051025A1. Автор: Satoshi Watanabe,Akinobu Tanaka,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

Resist Material, Resist Composition, Patterning Process, And Monomer

Номер патента: US20240361690A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Polyester film as support for dry film resist

Номер патента: US20020197496A1. Автор: Koji Kubo,Kei Mizutani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Polyester film as support for dry film resist

Номер патента: EP1266923B1. Автор: Kei Teijin DuPont Films Japan Limited MIZUTANI,Koji Teijin DuPont Films Japan Limited KUBO. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2009-12-30.

Lamination of dry-film photoresist for forming a conformable solder mask on a printed circuit board

Номер патента: WO1995031885A1. Автор: Amedeo Candore. Владелец: Amedeo Candore. Дата публикации: 1995-11-23.

Photosensitive dry film and process for producing printed wiring board using the same

Номер патента: US09891523B2. Автор: Shoji Minegishi,Nobuhito Ito,Daichi Okamoto. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Preparation method for dry film solder resist and film laminate used therein

Номер патента: US09788434B2. Автор: Byung Ju Choi,You Jin KYUNG,Woo Jae Jeong,Bo Yun Choi,Min Su Jeong,Kwang Joo Lee,Se Jin Ku. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Photoprinting process and apparatus for exposing paste-consistency photopolymers

Номер патента: US4424089A. Автор: Donald F. Sullivan. Владелец: Sullivan Donald F. Дата публикации: 1984-01-03.

Photomask including focus metrology mark, substrate target including focus monitor pattern, metrology method for lithography process, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US09557655B2. Автор: Young-Sik Park,Yong-Chul Kim,Kwang-sub Yoon,Ji-myung Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-31.

Pattern forming method

Номер патента: EP2413194A2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220179312A1. Автор: Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-09.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20200209751A1. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Manufacturing method of printed circuit board using dry film resist

Номер патента: US20020116815A1. Автор: Jang Kim,Jun Choi,Kook Han. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2002-08-29.

Composition for formation of resist protection film, and method for formation of resist pattern using the same

Номер патента: US20100040973A1. Автор: Keita Ishiduka,Toshikazu Takayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-18.

Photosensitive composition and pattern forming process using same

Номер патента: US4735880A. Автор: Kiyoshi Miura,Saburo Nonogaki,Nobuaki Hayashi,Masahiro Nishizawa,Yoshifumi Tomita,Hajime Morishita,Osamu Sasaya,Shoichi Uchino. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-04-05.

Process and apparatus for recovering and reusing resist composition

Номер патента: US5084483A. Автор: Kiyoto Mori,Tsugio Saito,Shiro Shimauchi,Asaaki Yamashita. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 1992-01-28.

Method of developing radiation sensitive negative resists

Номер патента: US4665009A. Автор: Robert G. Brault. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1987-05-12.

Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200292939A1. Автор: Kenta Kimura,Shota Katayama,Aya Momozawa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Pattern forming method for forming a pattern

Номер патента: US10317797B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Pattern forming apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190278186A1. Автор: Hironobu Fujishima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Method of high-density pattern forming

Номер патента: US20220344157A1. Автор: Chen En Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-10-27.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Resist compositions and semiconductor fabrication methods using the same

Номер патента: US20210181628A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Hyunwoo Kim,Naoto Umezawa,Thanh Cuong Nguyen,Daekeon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-17.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050204330A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-09-15.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050174557A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12072627B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound and method of producing polymeric compound

Номер патента: US20130316285A1. Автор: Daichi Takaki,Masatoshi Arai,Yoshiyuki Utsumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-28.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12117728B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Patterns forming method

Номер патента: US09929019B2. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09846360B2. Автор: Jun Hatakeyama,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Dry-developing photosensitive dry film resist

Номер патента: CA1154287A. Автор: Joseph E. Gervay,Abraham B. Cohen. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1983-09-27.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and compound

Номер патента: US20190163057A1. Автор: Masatoshi Arai,Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190361346A1. Автор: Masatoshi Arai,Takuya Ikeda,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro,Mari MURATA,Nobuhiro MICHIBAYASHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

SILICONE SKELETON-CONTAINING POLYMER, PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE DRY FILM, LAMINATE, AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20180004088A1. Автор: Maruyama Hitoshi,Kondo Kazunori,SUGO Michihiro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-01-04.

Photo-curable resin composition and photo-curable dry film using the same

Номер патента: US09971242B2. Автор: Kyoko Soga,Satoshi Asai,Hideto Kato. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Liquid-crystal polymer composition, molded liquid-crystal polymer, and electrical/electronic appliance

Номер патента: US20240141143A1. Автор: Hiroshi Yagi,Hiroyuki Monde. Владелец: Otsuka Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Photo-curable resin composition and photo-curable dry film using the same

Номер патента: KR102290698B1. Автор: 사토시 아사이,교코 소가,히데토 가토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-08-19.

Photo-curable resin composition and photo-curable dry film using the same

Номер патента: TW201713709A. Автор: 加藤英人,淺井聡,曽我恭子. Владелец: 信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-04-16.

Alcohol compound, chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4459376A2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US11773059B2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Alcohol compound, chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4258056A3. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Alcohol compound, chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4258056A2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US09720323B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4325292A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa,Keichii MASUNAGA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240094635A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Novel salt compound, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20200159115A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi,Yuki Kera. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US10012902B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-03.

Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method

Номер патента: US09989849B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Chemically amplified resist composition

Номер патента: GB2446687A. Автор: Takayuki Miyagawa,Yoshiyuki Takata,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Polymers and chemically amplified positive resist compositions

Номер патента: US5844057A. Автор: Osamu Watanabe,Toshinobu Ishihara,Yoshihumi Takeda,Junji Tsuchiya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-01.

Polyhydric compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US8071270B2. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Onium salt compound, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US11762287B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Kenichi Oikawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Amine compound, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240184200A1. Автор: Masahiro Fukushima,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Onium salt, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20240176236A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240192596A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima,Naoki Ishibashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Polyhydric compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20090220886A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-03.

Sulfonium salt, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US09645491B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Epoxy-containing, isocyanurate-modified silicone resin, photosensitive resin composition, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20190064666A1. Автор: Kazunori Kondo,Hideto Kato,Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Onium salt compound, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US09665002B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Pattern forming process

Номер патента: US09658532B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process

Номер патента: EP3640289A1. Автор: Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-22.

Method for manufacturing conductive pattern forming member

Номер патента: US20170363956A1. Автор: Tomotaka Kawano,Tsukuru Mizuguchi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-12-21.

Curable composition, pattern forming method, pattern, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170190820A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Negative resist composition

Номер патента: EP4130877A1. Автор: Tomohiro Nakayama,Tetsuo Akasaka,Takuma Aoki,Taku MIYAZAWA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Heat development image forming process thermally decoloring image recording process and process for decoloring cyanine dye

Номер патента: US20010001704A1. Автор: Yoshiharu Yabuki,Itsuo Fujiwara,Masaki Noro,Masami Sakurada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-24.

Solder resist composition, dry film, printed wiring board, and methods for manufacturing same

Номер патента: US20240061334A1. Автор: Jin Kim,So Young Kim,Na Ra LEE,Jun Young Hwang,Seok Bong LIM,Jong Chul KWON,Young Ho SA,Byeong Jun CHOI,Joon Seok Kim. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Korea Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid generator

Номер патента: US20240210825A1. Автор: Tatsuya Fujii,KhanhTin NGUYEN,Mari MURATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Image forming process and image forming apparatus, electrophotographic image-receiving sheet, and electrophotographic print

Номер патента: US20040131403A1. Автор: Yutaka Nogami,Yoshisada Nakamura. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-08.

Copolymers for lithography and method for producing same, resist composition, method for producing substrate with pattern formed thereupon, method for evaluating copolymers, and method for analyzing copolymer compositions

Номер патента: US09733564B2. Автор: Atsushi Yasuda,Hikaru Momose,Tomoya Oshikiri. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11822245B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Sulfonium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240176238A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Dry film, printed wiring board using same, method for producing printed wiring board, and flip chip mounting substrate

Номер патента: US09596754B2. Автор: Masao Arima,Shoji Minegishi,Arata Endo,Gento Iwayama. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Image forming apparatus and image quality adjustment method capable of suppressing variation in image quality of output image immediately after start of image forming process

Номер патента: US20240329584A1. Автор: Kenichi Hayashi,Masaru Watanabe,Yasuaki Sakamoto,Hideyuki Ogasawara,Ayato Morikami,Yukiko YOSHIMURA. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Dry film developer for an aperture card printer

Номер патента: US4794224A. Автор: Semyon Spektor,Michael Veprinsky,Michael H. Ranger. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1988-12-27.

Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film

Номер патента: US11886118B2. Автор: Seiichiro Tachibana,Daisuke Kori,Keisuke NIIDA,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, patterning process, and sulfonium salt monomer and making method

Номер патента: US20140296561A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Youichi Ohsawa,Seiichiro Tachibana. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and polymer

Номер патента: US20210003920A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Keisuke NIIDA,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film

Номер патента: US20210311395A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Daisuke Kori,Keisuke NIIDA,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Pattern-forming method for forming a conductive circuit pattern

Номер патента: US09980393B2. Автор: Kwang-Seong Choi,Hyun-Cheol Bae,Yong Sung Eom,Jong Tae Moon,Jung Hyun Noh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2018-05-22.

Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer

Номер патента: US09738746B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Curable resin composition, dry film and cured product thereof, and electronic component including cured product

Номер патента: US20220315704A1. Автор: Yoko Shibasaki,Chihiro Funakoshi. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Use of desiccant to control edge fusion in dry film photoresist

Номер патента: CA1287248C. Автор: Donald Joseph Roach. Владелец: HERCULES LLC. Дата публикации: 1991-08-06.

Wafer edge protection film forming method, patterning process, and composition for forming wafer edge protection film

Номер патента: EP4325291A1. Автор: Naoki Kobayashi,Toshiharu Yano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Wafer Edge Protection Film Forming Method, Patterning Process, And Composition For Forming Wafer Edge Protection Film

Номер патента: US20240087905A1. Автор: Naoki Kobayashi,Toshiharu Yano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US20190235386A1. Автор: Masafumi Hori,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and resin

Номер патента: US20220206385A1. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Silicone skeleton-containing polymer compound, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and method for producing same, patterning process, layered product, substrate, and semiconductor apparatus

Номер патента: US20160200877A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-14.

Silicone structure-bearing polymer, negative resist composition, photo-curable dry film, patterning process, and electric/electronic part-protecting film

Номер патента: KR102262719B1. Автор: 다카유키 후지와라,고지 하세가와,마사시 이이오,가쓰야 다케무라,히로유키 우라노. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-06-08.

Silicone structure-bearing polymer, negative resist composition, photo-curable dry film, patterning process, and electric/electronic part-protecting film

Номер патента: EP2980172A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Koji Hasegawa,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-03.

Silicone structure-bearing polymer, negative resist composition, photo-curable dry film, patterning process, and electric/electronic part-protecting film

Номер патента: US9377689B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Koji Hasegawa,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Silicone skeleton-containing polymer compound and method for producing same, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and method for producing same, patterning process, layered product, and substrate

Номер патента: US10114287B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-30.

Silicone skeleton-containing polymer compound, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and method for producing same, patterning process, layered product, substrate, and semiconductor apparatus

Номер патента: EP3043206B1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-11.

Silicone structure-bearing polymer, negative resist composition, photo-curable dry film, and patterning process

Номер патента: CN105315467A. Автор: 竹村胜也,藤原敬之,长谷川幸士,浦野宏之,饭尾匡史. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-10.

Silicone skeleton-containing polymer, photo-curable resin composition, photo-curable dry film, laminate, and patterning process

Номер патента: EP3263626B1. Автор: Michihiro Sugo,Kazunori Kondo,Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing the same, patterning process, and laminate

Номер патента: US20170255097A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-07.

Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing the same, patterning process, and laminate

Номер патента: KR101919226B1. Автор: 가츠야 다케무라,다카시 미야자키,마사시 이이오,히로유키 우라노. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-11-15.

Silicone skeleton-containing polymer compound, negative resist material, photo-curable dry film, pattern forming method, and film for protecting electrical and electronic parts

Номер патента: JP6194862B2. Автор: 勝也竹村,幸士長谷川,長谷川　幸士,敬之藤原,匡史飯尾,竹村　勝也,宏之浦野. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-13.

Epoxy-containing polymer, photo-curable resin composition, patterning process, and electric/electronic part protective film

Номер патента: KR101502593B1. Автор: 타카노부 타케다,히데토 카토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-03-13.

Epoxy-containing polymer photo-curable resin composition, patterning process and electric/electronic part protective film

Номер патента: EP2305754B1. Автор: Hideto Kato,Takanobu Takeda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-25.

Epoxy-containing polymer, photo-curable resin composition, patterning process, and electric/electronic part protective film

Номер патента: US20110076465A1. Автор: Hideto Kato,Takanobu Takeda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-31.

Metal material for electric/electronic component, and electric/electronic component using the same

Номер патента: TW200804800A. Автор: Toshio Tani,Akira Morii,Chikahito Sugahara,Akihiro Suzukine. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Female connector, male connector assembled to the same, and electric/electronic apparatus using them

Номер патента: US20110039427A1. Автор: Masanori Mizoguchi. Владелец: Asahi Denka Kenkyusho Co Ltd. Дата публикации: 2011-02-17.

Electric/electronic component waste processing method and electric/electronic component waste processing apparatus

Номер патента: JP7264936B2. Автор: 勝志青木,弘河野. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-04-25.

Vertical non-volatile memory device, method of fabricating the same device, and electric-electronic system having the same device

Номер патента: US09881934B2. Автор: Sung-Min Hwang,Han-Soo Kim,Jae-Hoon Jang,Won-Seok Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-30.

Female connector, male connector to be assembled to the female connector, electrical connection device, and electrical, electronic apparatus using these connectors

Номер патента: TWI399890B. Автор: Masanori Mizoguchi. Владелец: Asahi Denka Kenkyusho Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-21.

Silicone structure-bearing polymer, resin composition, and photo-curable dry film

Номер патента: US20150293447A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-15.

VERTICAL NON-VOLATILE MEMORY DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME DEVICE, AND ELECTRIC-ELECTRONIC SYSTEM HAVING THE SAME DEVICE

Номер патента: US20190074292A1. Автор: KIM Han-soo,HWANG Sung-Min,Cho Won-Seok,JANG Jae-Hoon. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-07.

Cooling Apparatus, and Electric-Electronic Equipment with the Cooling Apparatus

Номер патента: KR100939992B1. Автор: 고성수. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2010-02-03.

Visible ray reflection plate and electric/electronic device using the same

Номер патента: EP1742088A4. Автор: Hiroshi Kanai,Kenji Inada,Ryoji Nishioka,Kohei Ueda,Atsushi Komuro,Ikuya Inoue,Kengo Yoshida. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2010-08-18.

Technical device for optimizing brightness of image display in wind turbine, has lasers, cameras, self-powered or power generators and electrical, electronic or photonic instruments integrated to dampening modules

Номер патента: FR2966206A1. Автор: Gallo Sabrina Steinke. Владелец: Gallo Sabrina Steinke. Дата публикации: 2012-04-20.

Vertical non-volatile memory device, method of fabricating the same device, and electric-electronic system having the same device

Номер патента: US11177274B2. Автор: Sung-Min Hwang,Han-Soo Kim,Jae-Hoon Jang,Won-Seok Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-11-16.

Visible ray reflection plate and electric/electronic device using the same

Номер патента: EP1742088A1. Автор: Hiroshi C/O NIPPON STEEL CORPORATION KANAI,Atsushi NIPPON STEEL CORP. KIMITSU WORKS KOMURO,Ikuya NIPPON STEEL CORP. KIMITSUWORKS INOUE,Kengo NIPPON STEEL CORP. KIMITSU WORKS YOSHIDA,Kenji NIPPON STEEL CORP. KIMITSU WORKS INADA,Ryoji NIPPON STEEL CORP. KIMITSU WORKS NISHIOKA,Kohei Nippon Steel Corporation UEDA. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Polyimide film and electric/electronic equipment bases with the use thereof

Номер патента: US6350844B1. Автор: Kazuhiro Ono,Kiyokazu Akahori,Hidehito Nishimura. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2002-02-26.

Visible light reflector and electrical/electronic device incorporating the same

Номер патента: TWI264565B. Автор: Kenji Inada,Ryoji Nishioka,Atsushi Komuro,Ikuya Inoue,Kengo Yoshida. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2006-10-21.

Insulated electric wire material, method for manufacturing insulated electric wire material, coil, and electric/electronic device

Номер патента: EP3780014A1. Автор: Kenichi Nakamura,Hideo Fukuda,Hirofumi Oshima,Akira Tachibana. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-17.

Insulated wire material and method of manufacturing the same, and coil and electrical/electronic equipment

Номер патента: US20200212602A1. Автор: Kenichi Nakamura,Hideo Fukuda,Hirofumi Oshima,Akira Tachibana. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Insulated wire, coil, and electric/electronic equipments as well as method of producing a film delamination-resistant insulated wire

Номер патента: US09536636B2. Автор: Hideo Fukuda,Makoto Oya,Keiichi Tomizawa,Keisuke Ikeda. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Insulated wire material and method of manufacturing the same, and coil and electrical/electronic equipment

Номер патента: US20200211734A1. Автор: Daisuke Muto,Hirofumi Oshima,Akira Tachibana. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Method of producing copper alloy material having high strength and excellent bendability for automobile and electrical/electronic components

Номер патента: US20210102281A1. Автор: Cheol Min Park,Jun Hyung Kim,Hyo Moon NAM,Sun Young Mun. Владелец: Poongsan Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Nonflammable electric/electronic part having superior contact stability

Номер патента: US20050236262A1. Автор: Yoshiaki Taguchi,Hitoshi Hayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-27.

Copper alloy material for electric/electronic parts

Номер патента: US20110005644A1. Автор: Tatsuhiko Eguchi,Ryosuke Matsuo,Kuniteru Mihara. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Room temperature curable organopolysiloxane composition for protecting electric/electronic parts

Номер патента: US20190177487A1. Автор: Masayuki Onishi,Harumi Kodama. Владелец: Dow Toray Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Room temperature curable organopolysiloxane composition for protecting electric/electronic parts

Номер патента: EP3500629A1. Автор: Masayuki Onishi,Harumi Kodama. Владелец: Dow Corning Toray Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-26.

Pattern forming process and shrink agent

Номер патента: US09632415B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Defect removal device, defect removal method, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20230395366A1. Автор: Ryo Saito,Masahiro Yoshidome,Akihiko Ohtsu,Yukihisa KAWADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Computing system framework with unified storage, processing, and network switching fabrics incorporating network switches and method for making and using the same

Номер патента: US09703738B2. Автор: Daniel Davies. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Computing system with unified storage, processing, and network switch fabrics and method for making and using the same

Номер патента: US09558138B2. Автор: Daniel Davies. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, pattern forming method, and light emitting element

Номер патента: EP4071200A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Tamotsu Oowada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-12.

Fault tolerance decision-making method and system for sensor failure of vehicular wheel hub driving system

Номер патента: US20230278366A1. Автор: Zihui Wang,Zhiyuan He,Weigong ZHAO,Jiongjiong CAI,Zhentao QIAN. Владелец: Zhejiang Lover Health Science and Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Fault tolerance decision-making method and system for sensor failure of vehicular wheel hub driving system

Номер патента: US12126286B2. Автор: Zihui Wang,Zhiyuan He,Weigong ZHAO,Jiongjiong CAI,Zhentao QIAN. Владелец: Zhejiang Lover Health Science and Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Optical waveguide dry film, and optical waveguide manufacturing method and optical waveguide using optical waveguide dry film

Номер патента: US09535216B2. Автор: Shinji Hashimoto,Naoyuki Kondo,Shingo Maeda,Toru Nakashiba,Junko Kurizoe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Concave/convex pattern forming method and information recording medium manufacturing method

Номер патента: US20070199920A1. Автор: Minoru Fujita,Mitsuru Takai,Akimasa Kaizu. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Photosensitive resin composition and dry film photoresist containing the same

Номер патента: US10545403B2. Автор: Kuen-Yuan Hwang,An-Pang Tu,Gai-Chi Chen,Yun-Chung Wu. Владелец: Chang Chun Plastics Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-28.

Decision-making method and system based on external environment multimode information perception

Номер патента: LU503957B1. Автор: Yongchang Zhang,Lifang Gu. Владелец: Hebei Wangxin Tech Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Dry film for optical waveguides, optical waveguide using same, photoelectric composite wiring board using same, and method for producing photoelectric composite wiring board

Номер патента: US09568673B2. Автор: Shinji Hashimoto,Shingo Yoshioka,Naoyuki Kondo,Toru Nakashiba,Junko Kurizoe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Asymmetric correction circuit with negative resistance

Номер патента: US8674743B1. Автор: BO Wang,Qiang Tang. Владелец: Marvell International Ltd. Дата публикации: 2014-03-18.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, patterning process, and light emitting device

Номер патента: US20230030194A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Tamotsu Oowada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Image forming process control apparatus, image forming apparatus, image forming process control method and program

Номер патента: US20070211941A1. Автор: Yuusuke Suzuki. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2007-09-13.

Curable Resin Composition for Light Guide Formation, Curable Dry Film for Light Guide Formation, Cured Resin and Light Guide

Номер патента: US20080226245A1. Автор: Genji Imai,Takahiro Higuchi. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-18.

Pattern forming ink composition, light guide plate, light emitting unit and liquid crystal display element having the light emitting unit

Номер патента: US20120002138A1. Автор: Chih-Hung Lin,Chia Hui Yu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2012-01-05.

Use of full-size matrix image sensor for measurement of film thickness in real time on film making equipment

Номер патента: RU2717384C2. Автор: Пол С. БОНИНО,Роберт П. ГЕРЛОСКИ,Джейсон М. ЛЕФЕВР. Владелец: Зирокс Корпорейшн. Дата публикации: 2020-03-23.

A memory unit using negative resistance element

Номер патента: GB975952A. Автор: . Владелец: KOGYOGIJUTSUIN CHO. Дата публикации: 1964-11-25.

Power source system comprising a plurality of power sources having negative resistance characteristics

Номер патента: US4728807A. Автор: Hideki Yamamoto,Tsutomu Ogata,Yoshihiko Harafuji. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1988-03-01.

Negative resistance diode storage circuits

Номер патента: GB984222A. Автор: Gerald Horace Perry,Eric William Shallow. Владелец: National Research Development Corp UK. Дата публикации: 1965-02-24.

Variable breakdown storage cell with negative resistance operating characteristic

Номер патента: US3660822A. Автор: Richard L Moore,Evan E Davidson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1972-05-02.

Pattern forming method

Номер патента: EP4332677A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Pattern Forming Method

Номер патента: US20240103365A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Pattern forming body

Номер патента: US20050031973A1. Автор: Hironori Kobayashi,Kaori Yamashita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-02-10.

Coloring compound and ink, color filter resist composition, and thermal transfer recording ink sheet containing said coloring compound

Номер патента: WO2014030767A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Ryuji Higashi,Taichi Shintou,Akiko Kitao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2014-02-27.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US8722535B2. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-05-13.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: US20160238756A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-18.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: WO2015046618A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-04-02.

Method and computing system for designing a sheet-metal-forming process

Номер патента: US20140358268A1. Автор: Matthias Pietsch,Waldemar Kubli,Silke Wagner. Владелец: AUTOFORM ENGINEERING GMBH. Дата публикации: 2014-12-04.

Slip-resistant compositions with optical wear indication

Номер патента: US20240150591A1. Автор: Steven W. Hicks. Владелец: Cavana Holdings LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Film-making using style transfer

Номер патента: US20240221787A1. Автор: Robert Salem Abraham. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Voltage-stable negative resistance device

Номер патента: US3576572A. Автор: Norman Braslau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1971-04-27.

Slip-resistant compositions with optical wear indication

Номер патента: WO2024097401A1. Автор: Steven W. Hicks. Владелец: Cavana Holdings, LLC. Дата публикации: 2024-05-10.

Broadband camouflage pattern forming device and operation method thereof

Номер патента: US20240338502A1. Автор: Doo-Hee Cho,Ji-Young Oh,Tae-Youb KIM,Chil Seong Ah,Juhyun Park. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-10-10.

High adhesion resistive composition

Номер патента: EP3942578A1. Автор: Ponnusamy Palanisamy,Andrew SCHUSTER. Владелец: Ferro Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Etching pattern forming method in semiconductor manufacturing process

Номер патента: US12094719B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: US09910196B2. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Negative resistance device using complementary fet's

Номер патента: CA1077622A. Автор: Iwao Teramoto,Susumu Koike,Gota Kano. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1980-05-13.

dry film

Номер патента: KR20220120691A. Автор: 산제이 말릭,비노드 비. 디이,윌리엄 에이. 레이너스. Владелец: 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.. Дата публикации: 2022-08-30.

A process and apparatus for removing radioactive material from water

Номер патента: GB2554878A. Автор: Williams Rebecca,Stephen Porter James,Lam Darren,Hirst Aaron. Владелец: NSG ENVIRONMENTAL Ltd. Дата публикации: 2018-04-18.

Patterning process and resist composition

Номер патента: US20140051026A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

Pattern forming method

Номер патента: US20150079794A1. Автор: Hiroki Tanaka,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Phenol mixture, epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and electrical/electronic component

Номер патента: US20240217907A1. Автор: Kazumasa Ota. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Metallic plate material for electric/electronic instrument and electric/electronic instrument using same

Номер патента: MY129211A. Автор: Osamu Kato. Владелец: Furukawa Sky Aluminum Corp. Дата публикации: 2007-03-30.

Composite material for electrical/electronic part and electrical/electronic part using the same

Номер патента: US20110091739A1. Автор: Akira Tachibana,Satoru Zama,Chikahito Sugahara. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-21.

Material for an electrical/electronic part and electrical/electronic part

Номер патента: US20100323217A1. Автор: Takayori Ito,Akira Tachibana,Chikahito Sugahara. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-23.

Highly heat-resistant composition, varnish for electrical wire coating using the same, and heat-resistant insulating electrical wire using the same

Номер патента: WO2009142448A2. Автор: Dong-Jin Seo,Joon-Hee Lee,Gun-Joo Lee. Владелец: LS CABLE LTD.. Дата публикации: 2009-11-26.

Highly heat-resistant composition, varnish for electrical wire coating using the same, and heat-resistant insulating electrical wire using the same

Номер патента: WO2009142448A3. Автор: Dong-Jin Seo,Joon-Hee Lee,Gun-Joo Lee. Владелец: LS CABLE LTD.. Дата публикации: 2010-03-11.

Silicon rubber composition for electrode circuit protection, electrode circuit protection material and electric, electronic parts

Номер патента: TW200513498A. Автор: Toshio Shiobara,Tsutomu Kashiwagi. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2005-04-16.

Heat-conductive fluorinated curable composition, cured product thereof, and electric/electronic part

Номер патента: US20170121583A1. Автор: Akihiro Endo,Hidenori Koshikawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Powder compact core, method for manufacturing powder compact core, electric/electronic component provided with powder compact core, and electric/electronic apparatus having electric/electronic component mounted therein

Номер патента: EP3579254A1. Автор: Masao Matsui,Satoshi Maruyama. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-11.

Copper alloy materials and electrical / electronic parts for electrical / electronic equipment

Номер патента: JPWO2009123159A1. Автор: 洋金子,浩二佐藤,清慈廣瀬,佐藤　浩二. Владелец: THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2011-07-28.

Metallic plate material for electric/electronic instrument and electric/electronic instrument using same

Номер патента: TW561076B. Автор: Osamu Kato. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-11.

Metallic plate material for electric/electronic instrument and electric/electronic instrument using same

Номер патента: EP1219359B1. Автор: Osamu The Furukawa Electric Co. Ltd. Kato. Владелец: Furukawa Sky Aluminum Corp. Дата публикации: 2006-08-02.

Plated material, method of producing same, and electrical/electronic part using same

Номер патента: US20030091855A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Satoshi Suzuki,Akira Matsuda,Morimasa Tanimoto. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-15.

DUST CORE, METHOD FOR MANUFACTURING DUST CORE, ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT INCLUDING DUST CORE, AND ELECTRIC/ELECTRONIC DEVICE EQUIPPED WITH ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20170278618A1. Автор: MIZUSHIMA Takao,MARUYAMA Satoshi,Matsui Masao. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

Powder core, method for producing same, electric/electronic component provided with same, and electric/electronic device having said electric/electronic component mounted thereon

Номер патента: EP3249664B1. Автор: Masao Matsui,Satoshi Maruyama,Takao Mizushima. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-04.

Dust core, method for producing said dust core, electric/electronic component provided with said dust core, and electric/electronic device on which said electric/electronic component is mounted

Номер патента: TW201712699A. Автор: Akinori Kojima,Ryo Nakabayashi,Seiichi Abiko,Takao Mizushima. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-01.

Powder compact core, method for manufacturing powder compact core, electric/electronic component provided with powder compact core, and electric/electronic apparatus having electric/electronic component mounted therein

Номер патента: EP3579254A4. Автор: Masao Matsui,Satoshi Maruyama. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-02.

Powder core, method for producing same, electric/electronic component provided with same, and electric/electronic device having said electric/electronic component mounted thereon

Номер патента: EP3249664A1. Автор: Masao Matsui,Satoshi Maruyama,Takao Mizushima. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-29.

Powder compact core, method for manufacturing powder compact core, electric/electronic component provided with powder compact core, and electric/electronic apparatus having electric/electronic component mounted therein

Номер патента: WO2018142666A1. Автор: 智史丸山,政夫松井. Владелец: アルプス電気株式会社. Дата публикации: 2018-08-09.

Powder compact core, method for manufacturing powder compact core, electric/electronic component provided with powder compact core, and electric/electronic apparatus having electric/electronic component mounted therein

Номер патента: EP3579254B1. Автор: Masao Matsui,Satoshi Maruyama. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Phenol mixture, epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and electrical/electronic component

Номер патента: EP4375309A1. Автор: Kazumasa Ota. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-29.

PRIMER COMPOSITION, ADHERING METHOD, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART

Номер патента: US20180105720A1. Автор: Yoshida Hiroaki,Yoshida Shin,Yamazaki Ryosuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

HEAT-CONDUCTIVE FLUORINATED CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND ELECTRIC/ELECTRONIC PART

Номер патента: US20170121583A1. Автор: KOSHIKAWA Hidenori,ENDO Akihiro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-04.

Epoxy resin composition, cured product, and electric/electronic parts

Номер патента: KR20220052900A. Автор: 가즈마사 오타. Владелец: 미쯔비시 케미컬 주식회사. Дата публикации: 2022-04-28.

Curable compositions and electric/electronic parts

Номер патента: US6943216B2. Автор: Kenichi Fukuda,Mikio Shiono. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-13.

Curable compositions and electric/electronic parts

Номер патента: EP1380610A1. Автор: Kenichi c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Fukuda,Mikio c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Shiono. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-01-14.

Method for manufacturing electronic device, electronic device manufactured using same, method for manufacturing electric/electronic component, and electric/electronic component manufactured using same

Номер патента: WO2012053463A1. Автор: 敏寛佐藤,江津竹内,川田　政和,楠木　淳也,俊治久保山,広道杉山. Владелец: 住友ベークライト株式会社. Дата публикации: 2012-04-26.

Method for producing silver particles, thermosetting resin composition, semiconductor device, and electric/electronic part

Номер патента: EP4023721A4. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Composite material for electrical/electronic component and electrical/electronic component using the same

Номер патента: CN102066614B. Автор: 橘昭赖,菅原亲人,座间悟. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-10.

Composite material for electrical/electronic component and electrical/electronic component using the same

Номер патента: KR101336559B1. Автор: 아키라 다치바나,치카히토 스가하라,사토루 자마. Владелец: 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-12-03.

Composite material for electrical/electronic component, method for producing the same and electrical/electronic component

Номер патента: EP2298966A4. Автор: Shuichi Kitagawa,Akira Tachibana,Chikahito Sugahara. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-07.

Composite material for electrical/electronic component and electrical/electronic component using the same

Номер патента: TW201005125A. Автор: Akira Tachibana,Satoru Zama,Chikahito Sugahara. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-01.

Powder core, electric/electronic component, and electric/electronic device

Номер патента: WO2016035477A1. Автор: 寿人小柴,山本　豊,水嶋　隆夫,志緒工藤,浩子篠崎. Владелец: アルプス・グリーンデバイス株式会社. Дата публикации: 2016-03-10.

Heat-curable fluoropolyether-based adhesive composition and electric/electronic component

Номер патента: US20180371300A1. Автор: Hidenori Koshikawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Insulated wire, coil, and electric/electronic equipments

Номер патента: US20210005346A1. Автор: Satoshi Saito,Daisuke Muto,Keiichi Tomizawa. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Insulated wire, and electric/electronic equipments, motor and transformer using the same

Номер патента: US20160055940A1. Автор: Daisuke Muto,Makoto Oya,Keiichi Tomizawa. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-25.

Epoxy resin production method, epoxy resin composition, cured product, and electric/electronic component

Номер патента: US20240247095A1. Автор: Wataru Urano. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Liquid crystal polyester resin, molded article, and electrical/electronic component

Номер патента: US20230265238A1. Автор: Yoshihiro Kumagai,Hiroshi Matsuura,Masaki Noguchi,Yumiko NOBORI. Владелец: Eneos Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Epoxy resin production method, epoxy resin composition, cured product, and electric/electronic component

Номер патента: EP4414401A1. Автор: Wataru Urano. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-08-14.

Curable organopolysiloxane composition, cured product, and electric/electronic equipment

Номер патента: EP4004117B1. Автор: CHEN CHEN,Lei Fang,Yan Huang,QI Chen,Masayuki Onishi,Toyohiko Fujisawa,Guijun Yang. Владелец: Dow Toray Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Wholly aromatic liquid crystal polyester resin, molded article, and electrical/electronic component

Номер патента: EP3480240B1. Автор: Gosuke Washino. Владелец: Eneos Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Adhesive composition, die attach material, sealing agent or coating agent for protection, and electrical/electronic component

Номер патента: EP4227377A4. Автор: Kenichi Fukuda,Hidenori Koshikawa,Ryuto Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Lead-free low-melting glass composition, low-temperature sealing glass frit, low-temperature sealing glass paste, conductive material, and conductive glass paste containing glass composition, and glass-sealed component and electric/electronic component prepared using the same

Номер патента: US09670090B2. Автор: Takashi Naito,Tatsuya Miyake,Takuya Aoyagi,Shinichi Tachizono,Kei Yoshimura,Yuji Hashiba,Taigo Onodera. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Lead-free low-melting glass composition, low-temperature sealing glass frit, low-temperature sealing glass paste, conductive material, and conductive glass paste containing glass composition, and glass-sealed component and electric/electronic component prepared using the same

Номер патента: US09556061B2. Автор: Takashi Naito,Tatsuya Miyake,Takuya Aoyagi,Shinichi Tachizono,Kei Yoshimura,Yuji Hashiba,Taigo Onodera. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Insulated electrical wire, motor coil and electrical/electronic apparatus

Номер патента: TW201802831A. Автор: 藤原大,大矢真,武藤大介. Владелец: 古河電磁線股份有限公司. Дата публикации: 2018-01-16.

Insulated electrical wire, coil, and electrical/electronic appliance

Номер патента: WO2020203193A1. Автор: 秀雄福田,恵一冨澤,奈摘子原. Владелец: 古河マグネットワイヤ株式会社. Дата публикации: 2020-10-08.

Multi-layer insulated electrical wiring and electrical/electronic device using same

Номер патента: WO2013146531A1. Автор: 真大矢,佳祐池田,恵一冨澤,武藤　大介. Владелец: 古河マグネットワイヤ株式会社. Дата публикации: 2013-10-03.

Insulated electrical wire, coil, and electrical/electronic appliance

Номер патента: EP3950784A4. Автор: Hideo Fukuda,Keiichi Tomizawa,Natsuko HARA. Владелец: Essex Furukawa Magnet Wire Japan Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Room-temperature-curable silicone composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: US20200002535A1. Автор: Jong-Ok LIM. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

INSULATED WIRE, COIL, AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENTS

Номер патента: US20210005346A1. Автор: Saito Satoshi,Muto Daisuke,TOMIZAWA Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

VERTICAL NON-VOLATILE MEMORY DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME DEVICE, AND ELECTRIC-ELECTRONIC SYSTEM HAVING THE SAME DEVICE

Номер патента: US20150011064A1. Автор: KIM Han-soo,HWANG Sung-Min,Cho Won-Seok,JANG Jae-Hoon. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

COPPER PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING COPPER PARTICLE, COPPER PASTE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20220037049A1. Автор: KIKUCHI Tomonao. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2022-02-03.

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20170025374A1. Автор: NITANAI Yuya,FUJIWARA Masakazu,SATAKE Yu. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2017-01-26.

INSULATED WIRE, AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENTS, MOTOR AND TRANSFORMER USING THE SAME

Номер патента: US20160055940A1. Автор: Oya Makoto,Muto Daisuke,TOMIZAWA Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

LEAD-FREE LOW-MELTING GLASS COMPOSITION, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS FRIT, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS PASTE, CONDUCTIVE MATERIAL, AND CONDUCTIVE GLASS PASTE CONTAINING GLASS COMPOSITION, AND GLASS-SEALED COMPONENT AND ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT PREPARED USING THE SAME

Номер патента: US20160060158A1. Автор: Yoshimura Kei,Tachizono Shinichi,Hashiba Yuji,Naito Takashi,Aoyagi Takuya,Miyake Tatsuya,ONODERA Taigo. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2016-03-03.

GLASS COMPOSITION, GLASS FRIT CONTAINING SAME, GLASS PASTE CONTAINING SAME, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC COMPONENT OBTAINED USING SAME

Номер патента: US20140145122A1. Автор: Naito Takashi,Aoyagi Takuya,SAWAI Yuichi,FUJIEDA Tadashi. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-29.

THERMALLY CONDUCTIVE SILICONE COMPOSITION AND ELECTRICAL/ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20170081578A1. Автор: KODAMA Harumi,ONISHI Masayuki,KATO Tomoko. Владелец: DOW CORNING TORAY CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-23.

ROOM TEMPERATURE CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20210095125A1. Автор: Swier Steven,Horstman John B.,HENNING Jody J.,JANSMA Vennesa O.. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

METHOD OF PRODUCING COPPER ALLOY MATERIAL HAVING HIGH STRENGTH AND EXCELLENT BENDABILITY FOR AUTOMOBILE AND ELECTRICAL/ELECTRONIC COMPONENTS

Номер патента: US20210102281A1. Автор: Park Cheol Min,KIM Jun Hyung,NAM Hyo Moon,Mun Sun Young. Владелец: Poongsan Corporation. Дата публикации: 2021-04-08.

CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION, CURED PRODUCT, AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20220275206A1. Автор: Huang Yan,Chen Qi,CHEN CHEN,Fang Lei,ONISHI Masayuki,Fujisawa Toyohiko,YANG Guijun. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

ROOM-TEMPERATURE-CURABLE POLYORGANOSILOXANE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20150140346A1. Автор: IIDA Isao,MORITA Yasuhito. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2015-05-21.

COMPRESSION MOLDED CORE, METHOD FOR MANUFACTURING THE COMPRESSION MOLDED CORE, INDUCTOR INCLUDING THE COMPRESSION MOLDED CORE, AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENT MOUNTED WITH THE INDUCTOR

Номер патента: US20210233690A1. Автор: SATO Keiichiro,Nakabayashi Ryo,KOJIMA Akinori. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

MOISTURE CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20210238444A1. Автор: Swier Steven,Horstman John B.,DINGMAN David R.. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-05.

LEAD-FREE LOW-MELTING GLASS COMPOSITION, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS FRIT, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS PASTE, CONDUCTIVE MATERIAL, AND CONDUCTIVE GLASS PASTE CONTAINING GLASS COMPOSITION, AND GLASS-SEALED COMPONENT AND ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT PREPARED USING THE SAME

Номер патента: US20160229737A1. Автор: Yoshimura Kei,Tachizono Shinichi,Hashiba Yuji,Naito Takashi,Aoyagi Takuya,Miyake Tatsuya,ONODERA Taigo. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2016-08-11.

INSULATED WIRE MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND COIL AND ELECTRICAL/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20200211734A1. Автор: Muto Daisuke,TACHIBANA Akira,OSHIMA Hirofumi. Владелец: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2020-07-02.

INSULATED WIRE MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND COIL AND ELECTRICAL/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20200212602A1. Автор: NAKAMURA Kenichi,FUKUDA Hideo,TACHIBANA Akira,OSHIMA Hirofumi. Владелец: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2020-07-02.

VERTICAL NON-VOLATILE MEMORY DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME DEVICE, AND ELECTRIC-ELECTRONIC SYSTEM HAVING THE SAME DEVICE

Номер патента: US20170243885A1. Автор: KIM Han-soo,HWANG Sung-Min,Cho Won-Seok,JANG Jae-Hoon. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

LEAD-FREE LOW-MELTING GLASS COMPOSITION, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS FRIT, LOW-TEMPERATURE SEALING GLASS PASTE, CONDUCTIVE MATERIAL, AND CONDUCTIVE GLASS PASTE CONTAINING GLASS COMPOSITION, AND GLASS-SEALED COMPONENT AND ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT PREPARED USING THE SAME

Номер патента: US20170253522A1. Автор: Yoshimura Kei,Tachizono Shinichi,Hashiba Yuji,Naito Takashi,Aoyagi Takuya,Miyake Tatsuya,ONODERA Taigo. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2017-09-07.

SELF-FUSING INSULATED WIRE, COIL AND ELECTRICAL/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20180254120A1. Автор: Saito Takeshi,FUKUDA Hideo. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-06.

PASTE COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20200279792A1. Автор: NITANAI Yuya,FUJIWARA Masakazu. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2020-09-03.

ROOM-TEMPERATURE-CURABLE POLYORGANOSILOXANE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20160304745A1. Автор: Sunaga Takeshi,IIDA Isao. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2016-10-20.

INSULATED WIRE, COIL, AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENTS AS WELL AS METHOD OF PRODUCING A FILM DELAMINATION-RESISTANT INSULATED WIRE

Номер патента: US20160307663A1. Автор: Oya Makoto,Ikeda Keisuke,FUKUDA Hideo,TOMIZAWA Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

MULTILAYER INSULATED WIRE, COIL, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20160307664A1. Автор: AOI Tsuneo,OBIKA Ryosuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

INSULATED WIRE, COIL, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC EQUIPMENT, AND METHOD OF PREVENTING CRACKING OF INSULATED WIRE

Номер патента: US20160322126A1. Автор: Oya Makoto,Ikeda Keisuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-03.

ENAMEL RESIN-INSULATING LAMINATE, INSULATED WIRE USING THE SAME AND ELECTRIC/ELECTRONIC EQUIPMENT

Номер патента: US20150325333A1. Автор: Oya Makoto,Muto Daisuke,TOMIZAWA Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-12.

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20160326420A1. Автор: Ishiuchi Ryujin,ITAMI Shotaro,FUJITA Hidekazu. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2016-11-10.

HEAT-CURABLE FLUOROPOLYETHER-BASED ADHESIVE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT

Номер патента: US20180371300A1. Автор: KOSHIKAWA Hidenori. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-12-27.

Thermosetting resin composition, semiconductor device and electrical/electronic component

Номер патента: WO2015151136A1. Автор: 由宇佐竹,藤原　正和,勇哉似内. Владелец: 京セラケミカル株式会社. Дата публикации: 2015-10-08.

Foamed members, foamed member laminates, and electrical / electronic devices using the foamed members

Номер патента: JP4878869B2. Автор: 誠齋藤,泰之徳永,秀樹長津. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2012-02-15.

Package substrate, module using the same, and electric / electronic device

Номер патента: JP5581933B2. Автор: 充広花邉. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-09-03.

Thermosetting resin composition, semiconductor device and electrical/electronic component

Номер патента: KR101860378B1. Автор: 마사카주 후지와라,유 사타케,유야 니타나이. Владелец: 쿄세라 코포레이션. Дата публикации: 2018-05-23.

Thermally conductive silicone composition and electrical/electronic apparatus

Номер патента: KR102348372B1. Автор: 마사유키 오니시,하루미 고다마,도모코 가토. Владелец: 듀폰 도레이 스페셜티 머티리얼즈 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-01-11.

Insulated wires and electrical / electronic equipment

Номер патента: JP6005153B2. Автор: 大介武藤,秀雄福田,佳祐池田,恵一冨澤,武藤　大介. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-12.

Polyarylene sulfide resin composition and electrical / electronic device parts

Номер патента: JP4502476B2. Автор: 豊坪倉,友良村上,繁正鈴木,智木ノ内. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2010-07-14.

PROCEDURE AND ELECTRICAL, ELECTRONIC AND MECHANICAL DEVICE FOR DISTRIBUTING, DOSING OR DIFFUSING, IN LIQUID OR GASEOUS PHASE, FLAVORS, MEDICINAL PRODUCTS AND OTHER LIQUID OR VISCOSE PRODUCTS.

Номер патента: ES2043306T3. Автор: Yves Privas. Владелец: Conceptair Anstalt. Дата публикации: 1993-12-16.

Process for decolouring one or more aromatic organochlorine compound (s) contained in an oil or constituting said oil - associated installation and electrical / electronic device

Номер патента: FR3108040A1. Автор: Philippe Supiot,Ulrich Maschke,Zohra Bouberka,Chems Eddine GHERDAOUI,Jean-Philippe DELBARRE,Olivier Hutin,Roger SANSANO. Владелец: Ecole Centrale de Lille. Дата публикации: 2021-09-17.

Insulated wire and electrical/electronic device

Номер патента: KR20150054707A. Автор: 게이스케 이케다,히데오 후쿠다,다이스케 무토,게이이치 도미자와. Владелец: 후루카와 마그넷트 와이야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-05-20.

Adhesive composition, die attach material, sealing agent or coating agent for protection, and electrical/electronic component

Номер патента: WO2022075245A1. Автор: 健一福田,英紀越川,竜人林. Владелец: 信越化学工業株式会社. Дата публикации: 2022-04-14.

Thermosetting fluoropolyether adhesive composition and electrical / electronic components

Номер патента: JP6801638B2. Автор: 英紀越川. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Curable organopolysiloxane composition and cured product thereof, protective agent or adhesive, and electrical/electronic device

Номер патента: KR20220123417A. Автор: 노노 토다,마나부 수토,줄리아 선더랜드,요셉 로날드 수츠맨,스티븐 티모시 크루거,닉 에반 셰퍼드. Владелец: 다우 도레이 캄파니 리미티드. Дата публикации: 2022-09-06.

Room-temperature-curable polyorganosiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP2878632B1. Автор: Isao Iida,Yasuhito MORITA. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2017-04-12.

Room-temperature-curable polyorganosiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: CN104487519A. Автор: 饭田勋,森田康仁. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2015-04-01.

Insulated wire and electrical/electronic device

Номер патента: KR101727377B1. Автор: 게이스케 이케다,히데오 후쿠다,다이스케 무토,게이이치 도미자와. Владелец: 후루카와 마그넷트 와이야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-14.

Epoxy resin composition, cured product, and electrical/electronic component

Номер патента: CN111527120A. Автор: 太田员正. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-08-11.

Method for fitting an object with a cable harness comprising at least one flat conductor, and electric/electronic devices connected thereto

Номер патента: US6648675B2. Автор: Norbert Bendicks,Detlef Kerkmann,Jorg Welschholz,Roland Drees,Berthold Eesders. Владелец: Leopold Kostal GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-11-18.

Paste composition, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: EP3712904A4. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-08-25.

Room-temperature-curable polyorganosiloxane composition and electric/electronic device

Номер патента: EP3088471A1. Автор: Takeshi Sunaga,Isao Iida. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2016-11-02.

Heatsink and Electric-Electronic device having the Heatsink

Номер патента: KR101098877B1. Автор: 주동욱,정동수. Владелец: 주식회사 영일프레시젼. Дата публикации: 2011-12-26.

Primer composition, bonding method, and electric/electronic component

Номер патента: EP3275955A4. Автор: Hiroaki Yoshida,Shin Yoshida,Ryosuke Yamazaki. Владелец: Dow Corning Toray Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-01.

Thermosetting resin composition, cured product thereof, and electric/electronic component

Номер патента: EP3101042A4. Автор: Ryujin Ishiuchi,Shotaro Itami,Hidekazu Fujita. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2017-08-16.

Primer composition, bonding method, and electric/electronic component

Номер патента: EP3275955A1. Автор: Hiroaki Yoshida,Shin Yoshida,Ryosuke Yamazaki. Владелец: Dow Corning Toray Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-31.

Lead-free low-melting glass composition, low-temperature sealing glass frit, low-temperature sealing glass paste, conductive material, and conductive glass paste containing glass composition, and glass-sealed component and electric/electronic component prepared using the same

Номер патента: US9950948B2. Автор: Takashi Naito,Tatsuya Miyake,Takuya Aoyagi,Shinichi Tachizono,Kei Yoshimura,Yuji Hashiba,Taigo Onodera. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Room temperature curable organopolysiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: WO2019183318A1. Автор: Steven Swier,John B. Horstman,Jody J. HENNING,Vennesa O. JANSMA. Владелец: Dow Silicones Corporation. Дата публикации: 2019-09-26.

Enamel resin-insulating laminate, insulated wire using the same and electric/electronic equipment

Номер патента: CA2899382A1. Автор: Daisuke Muto,Makoto Oya,Keiichi Tomizawa. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-14.

Separator and electrical/electronic components using the same

Номер патента: US20090029262A1. Автор: Shinji Naruse. Владелец: DuPont Teijin Advanced Papers Japan Ltd. Дата публикации: 2009-01-29.

Wholly aromatic liquid crystal polyester resin, molded article, and electrical/electronic component

Номер патента: EP3480240A4. Автор: Gosuke Washino. Владелец: JXTG Nippon Oil and Energy Corp. Дата публикации: 2020-02-26.

Method for manufacturing moisture permeation prevention film using inorganic film, moisture permeation prevention film using inorganic film, and electrical / electronic sealing device

Номер патента: WO2013157770A1. Автор: ソンミンチョ. Владелец: 成均館大学校産学協力団. Дата публикации: 2013-10-24.

Insulated wire, coil and electrical/electronic device

Номер патента: WO2017150625A1. Автор: 秀雄福田,佳祐池田,斎藤　豪. Владелец: 古河マグネットワイヤ株式会社. Дата публикации: 2017-09-08.

Room temperature curable organopolysiloxane composition and electrical/electronic device

Номер патента: CN111836858A. Автор: S·斯威尔,J·B·霍斯特曼,J·J·亨宁,V·O·简诗玛. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2020-10-27.

Metal material, method for producing the same, and electrical electronic component using the same

Номер патента: EP2182093A4. Автор: Kazuo Yoshida,Yoshiaki Kobayashi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-19.

Room-temperature-curable polyorganosiloxane composition and electric/electronic device

Номер патента: KR102276889B1. Автор: 이사오 이이다,다케시 스나가. Владелец: 모멘티브 파포만스 마테리아루즈 쟈판 고도가이샤. Дата публикации: 2021-07-12.

Insulated wire, coil, and electric/electronic device

Номер патента: CN112020751B. Автор: 友松功,斋藤豪,八本智子. Владелец: Essex Guhe Electromagnetic Wire Japan Co ltd. Дата публикации: 2021-11-19.

Room-temperature-curable silicone composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP3583155A4. Автор: Jong-Ok LIM. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2021-01-06.

Flat-type insulated wire, coil, and electric/electronic equipment

Номер патента: TW201539491A. Автор: Hideo Fukuda,Tsuneo Aoi,Dai Fujiwara. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-16.

Insulated wire, coil, and electric/electronic device

Номер патента: CN112020532A. Автор: 福田秀雄,原奈摘子,富泽惠一. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-01.

Room temperature curable organopolysiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP3768778A4. Автор: Steven Swier,John B. Horstman,Jody J. HENNING,Vennesa O. JANSMA. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2021-12-22.

Metal material, method for producing the same, and electrical electronic component using the same

Номер патента: KR101505698B1. Автор: 가즈오 요시다,요시아키 고바야시. Владелец: 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-03-30.

Thermosetting resin composition, semiconductor device and electric / electronic component

Номер патента: JPWO2015151136A1. Автор: 由宇佐竹,正和藤原,藤原　正和,勇哉似内. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Flat-type insulated wire, coil, and electric/electronic equipment

Номер патента: EP3118859B1. Автор: Hideo Fukuda,Tsuneo Aoi,Dai Fujiwara. Владелец: Essex Furukawa Magnet Wire Japan Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-24.

Reactor device and electric / electronic equipment

Номер патента: JP6502173B2. Автор: 利男高橋,隆夫水嶋,直孝片瀬,高橋　利男,水嶋　隆夫. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-17.

Vapor barrier and electric/electronic equipments

Номер патента: KR101989631B1. Автор: 유헤이 다나카,도시오 신타니,유키오 아리미츠. Владелец: 닛토덴코 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-06-14.

Enamel paint insulation resin lamination body and the insulated wire and electric/electronic using the enamel paint insulation resin lamination body

Номер патента: CN104321833B. Автор: 大矢真,武藤大介,富泽惠一,富泽惠. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-09.

Piezoelectric vibration device having structure including self-amplification function of vibration and electric/electronic device using same as vibrating means

Номер патента: WO2011052973A3. Автор: 이한상. Владелец: Lee HanSang. Дата публикации: 2011-10-13.

Insulated wires, motor coils and electrical / electronic equipment

Номер патента: JPWO2017142036A1. Автор: 大介武藤,真大矢,大藤原,武藤　大介. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Metal material, method for producing the same, and electrical/electronic component using the same

Номер патента: US20110036621A1. Автор: Kazuo Yoshida,Yoshiaki Kobayashi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2011-02-17.

Adhesive composition, die attach material, sealing agent or coating agent for protection, and electrical/electronic component

Номер патента: CA3197708A1. Автор: Kenichi Fukuda,Hidenori Koshikawa,Ryuto Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Insulated wire, coil and electrical/electronic device

Номер патента: EP3389060A1. Автор: Makoto Oya. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-17.

Insulated wire and electrical/electronic device

Номер патента: EP2927911B1. Автор: Daisuke Muto,Hideo Fukuda,Keiichi Tomizawa,Keisuke Ikeda. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-09.

Thermally conductive silicone composition and electrical/electronic apparatus

Номер патента: WO2015155948A1. Автор: 正之大西,春美小玉,加藤　智子. Владелец: 東レ・ダウコーニング株式会社. Дата публикации: 2015-10-15.

Foamed member, layered product including foamed member, and electrical/electronic appliance employing foamed member

Номер патента: EP1867471A4. Автор: Yasuyuki Tokunaga,Hideki Nagatsu,Makoto Saitou. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2011-05-18.

Multilayer insulated wire, coil and electrical/electronic equipment

Номер патента: EP3089170B1. Автор: Tsuneo Aoi,Ryosuke Obika. Владелец: Essex Furukawa Magnet Wire Japan Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-02.

Flat rectangular insulated wires, coils and electrical / electronic equipment

Номер патента: JP6373358B2. Автор: 恒夫青井,秀雄福田,大藤原. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-15.

Insulated wire, coil, and electric/electronic device

Номер патента: CN114051644A. Автор: 富泽惠一,池田佳祐,山元爱弓. Владелец: Essex Guhe Electromagnetic Wire Japan Co ltd. Дата публикации: 2022-02-15.

Flat-type insulated wire, coil, and electric/electronic equipment

Номер патента: EP3118859A1. Автор: Hideo Fukuda,Tsuneo Aoi,Dai Fujiwara. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-18.

Insulated wire, coil and electrical/electronic device

Номер патента: EP3514803A4. Автор: Hideo Fukuda,Isao Tomomatsu,Satoko Yamoto. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-15.

Curable perfluoropolyether gel composition, cured perfluoropolyether gel product, and electric/electronic component sealed using said cured product

Номер патента: WO2023140134A1. Автор: 浩之安田. Владелец: 信越化学工業株式会社. Дата публикации: 2023-07-27.

Room-temperature-curable silicone composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: WO2018151450A1. Автор: Jong-Ok LIM. Владелец: Dow Silicones Corporation. Дата публикации: 2018-08-23.

Wholly aromatic liquid crystal polyester resin, molded article, and electrical/electronic component

Номер патента: TW201819459A. Автор: Gosuke Washino. Владелец: Jxtg Nippon Oil & Energy Corp. Дата публикации: 2018-06-01.

Epoxy resin composition for casting, and electrical/electronic component

Номер патента: WO2021193166A1. Автор: 切替　徳之,関谷　勝則,伸悟金光. Владелец: 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社. Дата публикации: 2021-09-30.

Abrupt metal-insulator transition element, high-voltage noise removal circuit using the abrupt metal-insulator transition element, and electric / electronic system including the circuit

Номер патента: JP2009503841A. Автор: キム、ヒュン‐タク,チェ、ビュン‐ギュ,カン、クワン‐ヨン,キム、ボン‐ジュン,リー、ヨン‐ウク,ユン、スン‐ジン,キム、ギュン‐オク. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2009-01-29.

Silver particles, method for producing silver particles, paste composition, semiconductor device, and electric/electronic components

Номер патента: WO2021039361A1. Автор: 藤原　正和,勇哉似内. Владелец: 京セラ株式会社. Дата публикации: 2021-03-04.

Wholly aromatic liquid crystalline polyester resin-containing resin molded article and electric/electronic component capable of reducing dielectric loss tangent by heat treatment

Номер патента: CN112292421A. Автор: 鹫野豪介. Владелец: Eneos Corp. Дата публикации: 2021-01-29.

Wireless power receiving device and electrical-electronic device driving method using wireless power.

Номер патента: WO2015152590A1. Автор: 이재용. Владелец: 이재용. Дата публикации: 2015-10-08.

Adhesive composition, die attach material, sealing agent or coating agent for protection, and electrical/electronic component

Номер патента: US20230374355A1. Автор: Kenichi Fukuda,Hidenori Koshikawa,Ryuto Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Curable organopolysiloxane composition, cured product thereof, protective agent or adhesive, and electric/electronic device

Номер патента: EP4083127A4. Автор: Manabu Sutoh,Nick Evan Shephard,Julia Sunderland,Nohno TODA,Joseph Ronald SOOTSMAN,Steven Timothy KRUEGER. Владелец: Dow Toray Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-17.

Thermosetting resin composition and electrical/electronic component which contains cured product of same

Номер патента: EP4032922A4. Автор: Yusuke Harada. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-12-13.

Curable organopolysiloxane composition and cured product thereof, protective agent or adhesive, and electric/electronic device

Номер патента: EP4083141A4. Автор: Manabu Sutoh,Nohno TODA. Владелец: Dow Toray Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Thermosetting resin composition, semiconductor device and electrical/electronic component

Номер патента: US20230411335A1. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI,Yu SATAKE. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Paste composition, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: US11859112B2. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Moisture curable organopolysiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP3802717A4. Автор: Steven Swier,John B. Horstman,David R. DINGMAN. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2022-03-16.

Liquid crystal polyester resin, molded article, and electrical/electronic component

Номер патента: US20230287172A1. Автор: Yoshihiro Kumagai,Hiroshi Matsuura,Masaki Noguchi,Yumiko NOBORI. Владелец: Eneos Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Silver particles, method for producing silver particles, paste composition, semiconductor device, and electric/electronic components

Номер патента: EP4023361A1. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-07-06.

Silver particles, method for producing silver particles, paste composition, semiconductor device, and electric/electronic components

Номер патента: EP4023361A4. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Thermosetting resin composition, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: US11784153B2. Автор: Masakazu Fujiwara,Yuya NITANAI,Yu SATAKE. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Fluoropolyether-based curable composition and cured product, and electric/electronic component

Номер патента: EP4365235A1. Автор: Kenichi Fukuda,Ryuto Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Room-temperature-curable silicone composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP3583155B1. Автор: Jong-Ok LIM. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Thermosetting resin composition and electrical/electronic component which contains cured product of same

Номер патента: EP4032922A1. Автор: Yusuke Harada. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-07-27.

Electroconductive fiber, clothing including electroconductive fiber, and electrical/electronic instrument including electroconductive fiber

Номер патента: US20230323572A1. Автор: Hidekazu Kano,Masafumi Sudo,Hiroo Katsuta,Shingo Takechi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-10-12.

Moisture curable organopolysiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: EP3802717A1. Автор: Steven Swier,John B. Horstman,David R. DINGMAN. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

Copper particle, method for producing copper particle, copper paste, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: EP3903966A1. Автор: Tomonao Kikuchi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-11-03.

Copper particle, method for producing copper particle, copper paste, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: EP3903966A4. Автор: Tomonao Kikuchi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Copper particle, method for producing copper particle, copper paste, semiconductor device, and electrical/electronic component

Номер патента: US20220037049A1. Автор: Tomonao Kikuchi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Lead-free low-melting glass composition and low-melting glass composite material and low-melting glass paste containing lead-free low-melting glass composition, and sealing structure, electric/electronic part and coated part using same

Номер патента: EP4023616B1. Автор: Takashi Naito,Tatsuya Miyake,Takuya Aoyagi,Shinichi Tachizono,Yuji Hashiba,Taigo Onodera. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-09.

RESIN COMPOSITION FOR SEALING ELECTRICAL ELECTRONIC PARTS, METHOD OF PRODUCING ELECTRICAL ELECTRONIC PARTS, AND SEALED ELECTRICAL ELECTRONIC PARTS

Номер патента: US20150322258A1. Автор: WATANABE Yosuke,Shiga Kenji. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-12.

Lead-free low-melting glass composition and low-melting glass composite material and low-melting glass paste containing lead-free low-melting glass composition, and sealing structure, electric/electronic part and coated part using same

Номер патента: EP4023616A4. Автор: Takashi Naito,Tatsuya Miyake,Takuya Aoyagi,Shinichi Tachizono,Yuji Hashiba,Taigo Onodera. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-09-13.

Copper alloy sheets for electrical/electronic part

Номер патента: US09631260B2. Автор: Ryoichi Ozaki,Yosuke Miwa,Yasuhiro Aruga. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

POLYESTER RESIN COMPOSITION FOR ELECTRICAL/ELECTRONIC PART-SEALING MATERIAL, SEALED PRODUCT, AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20130338318A1. Автор: Sakai Junko,Shiga Kenji. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-19.

ROOM TEMPERATURE CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION FOR PROTECTING ELECTRIC/ELECTRONIC PARTS

Номер патента: US20190177487A1. Автор: KODAMA Harumi,ONISHI Masayuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

Component carrier for electrical/electronic parts for attachment in a motor vehicle door lock

Номер патента: US20190194984A1. Автор: Sascha Maciolowski. Владелец: Kiekert AG. Дата публикации: 2019-06-27.

A CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION AND A PROTECTANT OR ADHESIVE COMPOSITION OF ELECTRIC/ELECTRONIC PARTS

Номер патента: US20200347229A1. Автор: ONISHI Masayuki,Fujisawa Toyohiko. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-05.

Component carrier for electrical/electronic parts for attachment in a motor-vehicle door lock

Номер патента: EP3510845A1. Автор: Sascha Maciolowski. Владелец: Kiekert AG. Дата публикации: 2019-07-17.

Room temperature curable silicone rubber composition for protecting electric.electronic parts, and mounting circuit board, silver electrode and silver chip resistor

Номер патента: KR20060117258A. Автор: 쯔네오 기무라,준 호리꼬시. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-11-16.

Method for producing copper alloy material for electric / electronic parts

Номер патента: JP4913902B2. Автор: 立彦江口,邦照三原,亮佑松尾. Владелец: THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-04-11.

Polyester resin composition for electrical / electronic part-sealing material, sealed product and production method therefor

Номер патента: EP2687573A1. Автор: Kenji Shiga,Junko SAKAI. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-22.

Copper alloy sheets for electrical/electronic part

Номер патента: CN101899587B. Автор: 有贺康博,尾崎良一,三轮洋介. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Process for producing copper alloy sheets for electrical/electronic part

Номер патента: EP2045344B1. Автор: Ryoichi Ozaki,Yasuhiro Aruga,Yosuke MIWA. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-05-23.

Copper alloy sheets for electrical/electronic part

Номер патента: US20090311128A1. Автор: Ryoichi Ozaki,Yosuke Miwa,Yasuhiro Aruga. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2009-12-17.

Method for producing copper alloy material for electric / electronic parts

Номер патента: JPWO2010016429A1. Автор: 立彦江口,邦照三原,亮佑松尾. Владелец: THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-19.

Room temperature curable organopolysiloxane composition for protecting electric/electronic parts

Номер патента: EP3500629B1. Автор: Masayuki Onishi,Harumi Kodama. Владелец: Dow Toray Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-31.

Two-column reactor system and method of hydrolysis and digestion of wood chips with chemically amplified washing method

Номер патента: RU2465384C2. Автор: Намхи ШИН,Бертил СТРОМБЕРГ,Уильям Дж. КАНН,Вентзислав КИРОВ. Владелец: Андритц Инк.. Дата публикации: 2012-10-27.

Applicator for applying dry film solder mask on a board

Номер патента: SG50503A1. Автор: Jose L Correa,Robert C Stumpf,Charles L Farnum. Владелец: Morton Int Inc. Дата публикации: 1998-07-20.

Applicator and method for applying dry film solder mask on a board

Номер патента: AU626633B2. Автор: Jose L. Correa,Robert C. Stumpf,Charles L. Farnum. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1992-08-06.

Film making method (versions) and film produced using such method (versions)

Номер патента: RU2278033C2. Автор: ВИНТЕР Хюго ДЕ,Жан УИЛЛЕМС. Владелец: Ректисель. Дата публикации: 2006-06-20.

Cold cathode forming process and electron emission element, and applied device of the same

Номер патента: US20020061694A1. Автор: Yoshikazu Hori,Takehito Yoshida,Nobuyasu Suzuki,Yuka Yamada,Toshiharu Makino. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-23.

Method for determining the proper progress of a superplastic forming process

Номер патента: US5870304A. Автор: Ken K. Yasui. Владелец: McDonnell Douglas Corp. Дата публикации: 1999-02-09.

Flush system for dry film photoresist remover

Номер патента: US20030196684A1. Автор: Kai-Ming Ching,Wen-Hsiang Tseng,Szu-Yao Wang,Ta-Min Lin,Chia-Fu Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-10-23.

Process and Steam Generating Device for Generating Process Steam

Номер патента: US20240310035A1. Автор: Marcus Budt,Sven Klute. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-09-19.

Efficient and stable accurate coating process and device for flexible perovskite solar cells

Номер патента: LU506713B1. Автор: Yingguo YANG. Владелец: Univ Fudan. Дата публикации: 2024-10-01.

Method of manufacturing semiconductor device using plasma doping process and semiconductor device manufactured by the method

Номер патента: US09825153B2. Автор: Sunghyun Choi,Yong-Suk Tak,Kyungin Choi,JaeJong Han,Bonyoung Koo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of manufacturing semiconductor device using plasma doping process and semiconductor device manufactured by the method

Номер патента: US09577075B2. Автор: Sunghyun Choi,Yong-Suk Tak,Kyungin Choi,JaeJong Han,Bonyoung Koo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-21.

High-heat resistance composition

Номер патента: RU2592524C2. Автор: Малкит Сингх ДЕОГОН,Манмохан Сингх ДЕОГОН. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2016-07-20.

Process and hydrocarbon soluble saline hydride catalyst for hydrogen mediated saline hydride initiated anionic chain transfer polymerization and polymer distribution compositions produced therefrom

Номер патента: US11739170B2. Автор: William J. Layman, Jr.. Владелец: Albemarle Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

Image forming process and image forming apparatus and ink set therefor

Номер патента: EP1610955A1. Автор: Hiroshi Adachi,Juichi Furukawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-04.

Image forming process and image forming apparatus

Номер патента: US20020175986A1. Автор: Akio Miyamoto. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-28.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20070218695A1. Автор: Shinya Momose,Kazushige Hakeda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-09-20.

Tuning Range Enhancement by Negative Resistance

Номер патента: US20220085759A1. Автор: Ahmed Mahmoud,Mustafa ÖZEN,Ufuk Özdemir,Peter Caputa. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2022-03-17.

Box template folding process and mechanisms

Номер патента: CA3096006C. Автор: David Michel PROVOOST,Herman Germain DE DYCKER,Dimitri Daniel Raphael Van Steenkiste,Stefaan Albert Marie-Louise HAMERLINCK. Владелец: Avercon BVBA. Дата публикации: 2023-09-19.

Method for producing a dry film, rolling device, dry film, and substrate coated with the dry film

Номер патента: US20240274784A1. Автор: Stefan Kaskel,Holger Althues,Benjamin SCHUMM,Daniel Jordan,Sebastian TSCHOECKE,Christian Girsule,Kay SCHOENHERR. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-08-15.

Process and apparatus for forming images

Номер патента: US20020088538A1. Автор: Kenji Suzuki,Yoshinari Yasui,Hiroshi Ochiai,Toru Nagata,Hiroshi Miyamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-11.

Method for selective etching using dry film photoresist

Номер патента: US09960081B1. Автор: Lianjun Liu,Ruben B. Montez,Colin Bryant Stevens. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Spin forming process and apparatus for manufacturing articles by spin forming

Номер патента: US09597721B2. Автор: Omer Music,Julian M. Allwood. Владелец: CAMBRIDGE ENTERPRISE LTD. Дата публикации: 2017-03-21.

Water soluble mask formation by dry film lamination

Номер патента: US09583375B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Wear-resistant composite material based on aluminum and method of its production

Номер патента: RU2714005C1. Автор: Николай Мартемьянович Русин,Александр Леонидович Скоренцев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН). Дата публикации: 2020-02-11.

Method of gas turbine engine parts protection against fire

Номер патента: RU2669429C1. Автор: Робин МАНДЕЛЬ,Эмили ГОНКАЛЬВ,БОРНЬ Бенедикт ЛЕ,Элен КИЙАН,Жан-Кристоф РИЧ. Владелец: Сафран. Дата публикации: 2018-10-11.

Method of film making, system for film making and polymer film

Номер патента: RU2699636C1. Автор: Фолькмар ШУЛЬЦЕ,Норберт НИКОЛАЙ,Андре ВУТЦЛЕР,Ханнес БЛОМБЕРГ,Габриэле ТОККИ. Владелец: Адлер Пельцер Холдинг Гмбх. Дата публикации: 2019-09-06.

Composition of heat-resistant composite material and method for manufacturing a product from heat-resistant composite material

Номер патента: RU2750808C1. Автор: Сергей Владимирович Романюта,Максим Александрович Чернышёв. Владелец: Сергей Владимирович Романюта. Дата публикации: 2021-07-02.

Lightproof and heat-resistant composition

Номер патента: RU2351621C2. Автор: Вероник БОССЕННЕК,Тьерри ШАРБОННО. Владелец: Родианил. Дата публикации: 2009-04-10.

Method of producing fire-resistant composite and composite obtained using said method

Номер патента: RU2414489C2. Автор: Ян НОРДЕГРАФ,Петрус Фредерикус Мария РЕНСЕН,Христианус Маркус Гейсбертус Мария БЮЭЙК,Вильхельмус Петрус Теодорус КЕМПЕРМАН,СВАРТ Хенрикус Йоханна ДЕ,Абрахам АРАЙА,Эрик Петрус Вильхельмус Элизабет СМЕТС. Владелец: Эртесе Б.В.. Дата публикации: 2011-03-20.

Fire-resistant composition and wood impregnation method

Номер патента: RU2565686C2. Автор: Киммо СААРИ. Владелец: ЭфПи ВУД ОЙ. Дата публикации: 2015-10-20.

Applicator for applying dry film solder mask on a board

Номер патента: CA1301953C. Автор: Jose L. Correa,Robert C. Stumpf,Charles L. Farnum. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1992-05-26.

High-strength high-toughness and wear-resistant composite steel plate and manufacturing method therefor

Номер патента: AU2018376037B2. Автор: Hongbin Li,Xiaojun LIANG,Sihai JIAO,Liandeng Yao,Xiangqian YUAN. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Negative resistance element composed of a semiconductor element

Номер патента: US4023196A. Автор: Shoei Kataoka,Hiroshi Tateno. Владелец: Agency of Industrial Science and Technology. Дата публикации: 1977-05-10.

Fastening member with loops and process and machine for producing it

Номер патента: WO1998023181A1. Автор: Luis Parellada. Владелец: Velcro Industries, B.V.. Дата публикации: 1998-06-04.

Oled panel lower part protection film, and organic light-emitting display apparatus comprising same

Номер патента: US20240244879A1. Автор: Sangwoo Lee,Youngseo CHOI,Sangshin KIM,Jinhyuk Kim,Youngdon PARK,Youngbin BAEK. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electroluminescent device with drying film and method for fabricating the same

Номер патента: US20030160563A1. Автор: Yen-Shih Huang,Jwo-huei Jou,Yung-Sheng Chiu,Feng-Ju Chuang,San-Bao Lin,Min-Der Lin. Владелец: Opto Tech Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Roll forming process with heat source locations for forming a metal article

Номер патента: WO2024163158A1. Автор: Vincent Millioto. Владелец: Martinrea International US Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Roll forming process with heat source locations for forming a metal article with selective thermal forming/flanging/trimming operations

Номер патента: US20240254587A1. Автор: Vincent Millioto. Владелец: Martinrea International US Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Very narrowband and wideband negative resistance amplifiers with a tuneable center frequency using a coupler

Номер патента: US12052002B2. Автор: Alfred Ira Grayzel,Ashok Gorwara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-30.

Buildings explosion-proof enclosure destructible part protective shield disc elastic elements safety package

Номер патента: RU2658947C2. Автор: Мария Михайловна Стареева. Владелец: Мария Михайловна Стареева. Дата публикации: 2018-06-26.

Generator with element having negative resistance

Номер патента: RU2486660C1. Автор: Тосихико ОУТИ,Риота СЕКИГУТИ. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2013-06-27.

Method of performing heat barrier in multilayer metal part protection system and part equipped with such protective system

Номер патента: RU2600781C2. Автор: Жюльетт ЮГО,Клод ЭСТУРН,Матье БУАДО,Даниэль МОНСО,Джар ОКАБ. Владелец: Юниверсите Поль Сабатье-Тулуз Iii (Юпс). Дата публикации: 2016-10-27.

Fire-resistant compositions with modified impact strength made from polyalkylene terephthalate/polycarbonate

Номер патента: RU2504563C2. Автор: Экхард ВЕНЦ,Дитер ВИТТМАНН,Пьер МУЛИНИ,Вера ТАШНЕР. Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2014-01-20.

Fire-resistant composite panel

Номер патента: RU2422598C2. Автор: Сергей Петрович Амельчугов,Александр Ибадулович Клименков,Виталий Андреевич Негин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Краспан". Дата публикации: 2011-06-27.

Bending fatigue-resistant composite cable

Номер патента: RU2749526C1. Автор: Хьертур ЭРЛЕНДССОН. Владелец: Хэмпиджан Хф.. Дата публикации: 2021-06-11.

Method for obtaining a wear-resistant composite material based on silicon carbide

Номер патента: RU2759858C1. Автор: Петр Александрович Витязь,Александр Федорович Ильющенко,Лариса Николаевна Дьячкова,Владимир Анатольевич Осипов. Владелец: ГОСУДАРСТВЕННОЕ НАУЧНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ИНСТИТУТ ПОРОШКОВОЙ МЕТАЛЛУРГИИ ИМЕНИ АКАДЕМИКА О.В. РОМАНА. Дата публикации: 2021-11-18.

Heat-resistant composite diamond sintered article and the method of its production

Номер патента: RU2312844C2. Автор: Минору АКАИШИ,Кейго КАВАМУРА. Владелец: Нэшэнл Инститьют Фор Материалз Сайенс. Дата публикации: 2007-12-20.

Voltage controlled oscillator capable of tuning negative resistance

Номер патента: US7760038B2. Автор: Ho-Jin Lee,Seong-Pal Lee,Yong-Deuk Lee,Cheol-Oh Jeong,Jong-Won Eun. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2010-07-20.

Negative Resistance Amplifier

Номер патента: GB1182336A. Автор: . Владелец: International Standard Electric Corp. Дата публикации: 1970-02-25.

Dry film and manufacturing method of dry film

Номер патента: US20110059304A1. Автор: Yoshitaka USHIYAMA. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-03-10.

Dry film resist and printed circuit board producing method

Номер патента: US20030232193A1. Автор: Masayuki Iwasaki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-18.

Cmos negative resistance/q enhancement method and apparatus

Номер патента: WO2006014692A3. Автор: Yannis Tsividis,Nebojsa Stanic. Владелец: Nebojsa Stanic. Дата публикации: 2006-03-16.

Improved fire resistant composite pole

Номер патента: CA3147296A1. Автор: Robert PAULIN. Владелец: Valmont Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-25.

Flame-resistant composite member

Номер патента: US09707742B2. Автор: Kunio Nagasaki,Yusuke Sugino,Yusuke Nakayama,Kohei Doi,Takafumi Hida,Keisuke Hirano. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Installation of oil processing and petrochemical processes on heterogeneous catalysts

Номер патента: RU2444401C1. Автор: Кирилл Зыськович Бочавер. Владелец: Кирилл Зыськович Бочавер. Дата публикации: 2012-03-10.

Synergistic combination of lenacil compound and flurochloridone for dry film protection

Номер патента: RU2679249C2. Автор: Кеннет М. ДОННЕЛЛИ,Пьерр Мари ЛЕНУАР,Лукас Л. ФИЛЛИГЕР. Владелец: Ром Энд Хаас Компани. Дата публикации: 2019-02-06.

Synergistic combination of lenacil compound and carbendazim for dry film protection

Номер патента: RU2650521C2. Автор: Кеннет М. ДОННЕЛЛИ,Пьерр Мари ЛЕНУАР,Лукас Л. ФИЛЛИГЕР. Владелец: Ром Энд Хаас Компани. Дата публикации: 2018-04-16.

Improved method for producing high-resistance composite vessels with inner metal liner and vessels made by said method

Номер патента: RU2675173C2. Автор: Джованни ФРАТТИ. Владелец: К.Н.Г.В. д.о.о.. Дата публикации: 2018-12-17.

Method of forming thin films, device for forming thin films, and thin film forming process monitoring method

Номер патента: RU2324765C2. Автор: Тосиаки КАКЕМУРА,Хирото КАСИМА,Манабу ЦУДЗИНО. Владелец: Топпан Принтинг Ко., Лтд.. Дата публикации: 2008-05-20.

Single- or multiple-part protective cover for traction drives

Номер патента: US4878467A. Автор: Konrad Schmidt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-11-07.

BICMOS monolithic microwave oscillator using negative resistance cell

Номер патента: US5578970A. Автор: Thai M. Nguyen,David E. Bien. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 1996-11-26.

System for wet application of a dry film to a panel

Номер патента: US5372670A. Автор: John M. Griffin,Curtis L. Miller,Michael J. Cummings. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-12-13.

Improvements in or relating to electric negative resistances

Номер патента: GB368770A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1932-02-29.

A multilayer film for dry film resist

Номер патента: WO2009084929A2. Автор: Gi Sang SONG. Владелец: KOLON INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2009-07-09.

Very narrowband and wideband negative resistance amplifiers with a tuneable center frequency using a coupler

Номер патента: US20240039485A1. Автор: Alfred Ira Grayzel,Ashok Gorwara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-01.

Tuning range enhancement by negative resistance

Номер патента: EP3918709A1. Автор: Ahmed Mahmoud,Mustafa ÖZEN,Ufuk Özdemir,Peter Caputa. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2021-12-08.

Tuning range enhancement by negative resistance

Номер патента: WO2020156647A1. Автор: Ahmed Mahmoud,Mustafa ÖZEN,Ufuk Özdemir,Peter Caputa. Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2020-08-06.

Water soluble mask formation by dry film lamination

Номер патента: US20150294892A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-10-15.

Conveyorized vacuum applicator and method of applying a dry film to a printed circuit board

Номер патента: SG83814A1. Автор: Osvaldo Novello,Charles R Keil. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-10-16.

A multilayer film for dry film resist

Номер патента: WO2009084929A3. Автор: Gi Sang SONG. Владелец: Gi Sang SONG. Дата публикации: 2009-08-20.

Very narrowband and wideband negative resistance amplifiers with a tuneable center frequency

Номер патента: US11863131B1. Автор: Alfred Ira Grayzel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-02.

Negative resistance generator, load including negative resistance and load of amplifier

Номер патента: US20150214936A1. Автор: Hsuan-Yi Su. Владелец: Realtek Semiconductor Corp. Дата публикации: 2015-07-30.

Method and device for producing a dry film

Номер патента: US20240162408A1. Автор: Sven Schopf,Sebastian Reuber,Ludger Bußwinkel,Roland Schmidt-Lobach. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and device for producing a dry film

Номер патента: CA3218978A1. Автор: Sven Schopf,Sebastian Reuber,Ludger Bußwinkel,Roland Schmidt-Lobach. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2024-05-11.

Water soluble mask formation by dry film lamination

Номер патента: WO2015160555A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-10-22.

Conveyorized vacuum applicator and method of applying a dry film resist to a printed circuit board

Номер патента: US20030051790A1. Автор: Osvaldo Novello,Charles KEIL. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-03-20.

Water resistant compositions containing a heterocyclic compound and an alkoxysilane

Номер патента: EP2838502A2. Автор: Nghi Van Nguyen,Catherine Chiou,Grégory Shmuylovich. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2015-02-25.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220084833A1. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090146113A1. Автор: Noboru Uehara,Toshiyuki Kobayashi,Sachiko Endo,Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Tire including a pattern forming area with a unit pattern

Номер патента: US12036822B2. Автор: Hee Sung Jang. Владелец: Hankook Tire and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Method for manufacturing circular knitting fusible interlining having outer edge forming process by thermal fixing, and the fusible interlining manufactured by the method

Номер патента: US10718078B2. Автор: Jung-Min Han,Soon-Koo HAN,Doo-Yeon KIM. Владелец: Jj Trading Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-21.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Chemical resistant composite support pad mold and method of manufacturing the support pad

Номер патента: US20170136663A1. Автор: Paul Kirby Reber. Владелец: Great Plains Coatings Inc. Дата публикации: 2017-05-18.

Weather-resistant composite floor and preparation method thereof, and artificial mineral board and preparation method thereof

Номер патента: US20200047469A1. Автор: Qinghua FANG. Владелец: Zhejiang Tianzhen Bamboo & Wood Development Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.

Circuit pattern forming device and circuit pattern forming method

Номер патента: US20060288932A1. Автор: Nobuhito Yamaguchi,Takashi Mori,Masao Furukawa,Seiichi Kamiya,Yuji Tsuruoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-28.

Synergistic combination of a lenacil compound and terbutryn for dry film protection

Номер патента: US20150320045A1. Автор: Pierre Marie Alain Lenoir,Kenneth M. Donnelly,Lukas Thomas JOHANNES VILLIGER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2015-11-12.

Synergistic combination of lenacil and terbutryn for dry film protection

Номер патента: EP2925133A1. Автор: Pierre Marie Alain Lenoir,Kenneth M. Donnelly,Lukas Thomas JOHANNES VILLIGER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2015-10-07.

Weaving machine and method for manufacturing fabrics with pattern-forming weft threads such as kelim or gobelin fabrics

Номер патента: EP1078117A1. Автор: Jacques Di Van Geluwe. Владелец: Van Geluwe Philippe A M J L. Дата публикации: 2001-02-28.

Tire including a pattern forming area with a unit pattern

Номер патента: US20230202242A1. Автор: Hee Sung Jang. Владелец: Hankook Tire and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of preparing water- and oil-repellent soil-resistant composition

Номер патента: EP2362883A2. Автор: Peter Cheshire Hupfield,Yasuo Itami,Akihiko Ueda,Tetsuya Masutani,Jean-Paul Lecomte,Janet Smith. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2011-09-07.

Resin substrate having metal film pattern formed thereon

Номер патента: US20140178571A1. Автор: Hideyuki Yamada,Kouichi Kugimiya,Kazuhisa Tsujimoto,Akimitsu Bamba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-06-26.

Three-dimensional memory device with corrosion-resistant composite spacer

Номер патента: US20210104540A1. Автор: LU Zhang,Bo Xu,Chuan Yang,Ping Yan,Jing Gao,Zongliang Huo. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Stain-resist compositions

Номер патента: EP1730346A1. Автор: Yanhui Sun. Владелец: Invista Technologies SARL Switzerland. Дата публикации: 2006-12-13.

Stain-resist compositions

Номер патента: CA2559192A1. Автор: Yanhui Sun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-06.

Corrosion resistant dry film lubricants

Номер патента: EP4180507A1. Автор: Vijay V. Pujar,Marc E. Gage,Blair A. Smith,Steven Poteet. Владелец: Hamilton Sundstrand Corp. Дата публикации: 2023-05-17.

Weaving machine and method for manufacturing fabrics with pattern-forming weft threads such as kelim or gobelin fabrics

Номер патента: WO1999057351A1. Автор: Jacques Van Geluwe. Владелец: VAN GELUWE, Philippe, A., M., J., L.. Дата публикации: 1999-11-11.

1,3-propanediol soil resist compositions

Номер патента: EP2449166A2. Автор: Joyce Monson Materniak,Edward Patrick Carey. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-05-09.

Propanediol soil resist compositions

Номер патента: WO2011008508A2. Автор: Joyce Monson Materniak,Edward Patrick Carey. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-01-20.

Switch, negative resistance cell, and differential voltage controlled oscillator using the same

Номер патента: US20090108946A1. Автор: Sang-Gug Lee,Chang Sun Kim,In Young Lee,Seong Hoon Choi,Seok-Ju YUN. Владелец: Information and Communications University Research and Cooperation Group. Дата публикации: 2009-04-30.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090148679A1. Автор: Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090145639A1. Автор: Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

High Temperature-Resistant Composite Nanofiltration Membrane And Preparation Method Thereof

Номер патента: US20240100488A1. Автор: Hui Yu,Jun Peng,Bo Peng,Pan He,Hongwei LU,Qunhui Hu,Yanbo He,Qian Liao. Владелец: Hunan Ovay Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Tarnish resistant compositions and methods of using same

Номер патента: WO2006002408A1. Автор: Scott M. Croce. Владелец: Steridyne Laboratories, Inc.. Дата публикации: 2006-01-05.

Cut-resistant composite yarn structure

Номер патента: EP4424890A2. Автор: Jing Xu,Rui Luo. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Puncture resistant composite

Номер патента: EP1937470A1. Автор: Yunzhang Wang,Thomas E. Mabe. Владелец: Milliken and Co. Дата публикации: 2008-07-02.

Forming process for aluminum alloy bracket of solar photovoltaic panel

Номер патента: ZA202400305B. Автор: XU Wang,Xiong Zhang,Hua Xiang,Maoqing Xiong,Zutang Pan. Владелец: An Hui Krant Aluminum Products Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Hot-bath forming process of high-corrosion-resistant and easy-to-weld hot-pressed part

Номер патента: US20240368721A1. Автор: Liang Hao,Gang Chen,PENG Gao,Guangyu Jin,Weihua Sun,Peixing Liu,Xingchang Gao,Xiaoying Hou,Huasheng Tang. Владелец: Shandong Iron&steel Group Rizhao Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Semiconductor light-emitting device having a photonic crystal pattern formed thereon, and method for manufacturing same

Номер патента: US09806231B2. Автор: Taegeun Kim,Homyoung An,Jaein Sim. Владелец: Intellectual Discovery Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Resistive composition

Номер патента: US09805839B2. Автор: Hiroshi Mashima,Yukari MOROFUJI. Владелец: Shoei Chemical Inc . Дата публикации: 2017-10-31.

Synergistic combination of a flurochloridone compound and zinc pyrithione for dry film protection

Номер патента: US09686989B2. Автор: Pierre Marie Lenoir,Kenneth M. Donnelly,Lukas Thomas JOHANNES VILLIGER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2017-06-27.

Processes for producing weather resistant compositions and products obtained therefrom

Номер патента: US09617192B2. Автор: David P. Holzgraefe,Basil Bevans,Bruce W. Moechnig,Dan S. Hickman. Владелец: Archer Daniels Midland Co. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for producing a resin substrate having a metal film pattern formed thereon

Номер патента: US09578751B2. Автор: Hideyuki Yamada,Kouichi Kugimiya,Kazuhisa Tsujimoto,Akimitsu Bamba. Владелец: Seiren Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Dry film solder mask composite laminate materials

Номер патента: US09545011B2. Автор: Jing Zhang,Joseph Kuczynski,Jason T. Wertz,Sarah K. Czaplewski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Synergistic combination of a lenacil compound and terbutryn for dry film protection

Номер патента: US09526248B2. Автор: Pierre Marie Alain Lenoir,Kenneth M. Donnelly,Lukas Thomas JOHANNES VILLIGER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Temperature sensor attachment member treated with dry film lubricant

Номер патента: US09410468B2. Автор: Masamichi Ito,Takuma Nomura,Wakako Kinose. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Fire-resistant composition and fire-resistant thermal insulating plate

Номер патента: RU2645538C2. Автор: Жиксин КСЮ,Ганг ШЕН,Джинхонг ЛИ. Владелец: Азия Куанон Текнолоджи (Шанхай) Ко., Лтд. Дата публикации: 2018-02-21.

Foam plastic sheet forming process and foam plastic sheet with hair-like piles

Номер патента: US3809734A. Автор: T Watanabe. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-05-07.

Composition for making heat-resistant composites

Номер патента: RU2602542C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Аят Крымович Кайракбаев. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2016-11-20.

A bimodal film making hdpe composition a process for the production thereof and films prepared thereof

Номер патента: IL138733A. Автор: . Владелец: Borealis Tech Oy. Дата публикации: 2006-12-10.

Composition for making heat-resistant composites

Номер патента: RU2594240C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Габибулла Рабаданович Хасаев,Аят Крымович Кайракбаев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный экономический университет". Дата публикации: 2016-08-10.

Fire-resistant composite material (versions) and method of obtaining it

Номер патента: RU2346017C1. Автор: Ральф Бауэр,Дорук ЕНЕР. Владелец: Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк.. Дата публикации: 2009-02-10.

Negative resistance microwave power generator

Номер патента: GB1514840A. Автор: . Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1978-06-21.

Fire resistant composite material

Номер патента: RU2435801C2. Автор: Йоханнес Петрус Йозеф ВЕРЛАН,ЙОНГ Алдерт Йоханнес ДЕ. Владелец: Акцо Нобель Н.В.. Дата публикации: 2011-12-10.

Glass making method for manufacturing glasstelle glass

Номер патента: RU2733761C2. Автор: Павел Павлович Баканов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "СЕНСТЭК АРТ". Дата публикации: 2020-10-06.

Device for the skates-ski trail mechanized making method

Номер патента: RU2652943C2. Автор: Анатолий Степанович Дресвянкин. Владелец: Анатолий Степанович Дресвянкин. Дата публикации: 2018-05-03.

Silicone resin bonded dry film lubricants

Номер патента: CA2365550C. Автор: Subhash K. Naik,Michael J. Barber,James M. Klotz. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2005-07-05.

Negative resistance compensated transformer

Номер патента: CA1225125A. Автор: Philip L. Dillon. Владелец: Reliance Electric Co. Дата публикации: 1987-08-04.

Negative resistance oscillator

Номер патента: US3858123A. Автор: T Ohta,S Makino. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1974-12-31.

Thermoplastic resin-coated aluminum alloy plate and process and apparatus for producing the same

Номер патента: CA2250136C. Автор: Keiichi Shimizu,Shinji Shirai,Jun-Ichi Tanabe,Masao Komai,Ayumu Taniguchi. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-18.

Method and apparatus for variable current control of a negative resistance device such as a fluorescent lamp

Номер патента: US4385262A. Автор: Lawrence P. Trubell,Craig S. Cambier,Gary W. Jorgenson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1983-05-24.

Process and apparatus for micro-pattern forming on roll surface, metal sheets for pressworking prepared by the roll, and the method of preparing same

Номер патента: CA1321625C. Автор: Hideo Abe,Takaaki Hira,Kunio Isobe,Takaaki Iguchi,Ikuo Yarita,Takanori Tamari. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-08-24.

Dry film lubricants

Номер патента: US5262074A. Автор: Frank Erickson,David L. Folkins. Владелец: International Lubricants Inc. Дата публикации: 1993-11-16.

Silicone resin bonded dry film lubricants

Номер патента: WO2000053702A1. Автор: Subhash K. Naik,Michael J. Barber,James M. Klotz. Владелец: Allison Engine Company, Inc.. Дата публикации: 2000-09-14.

Pattern forming method for quartz surface and pattern forming device for quartz surface

Номер патента: CA3001392A1. Автор: Paul Lee,Jin Seok Kwak,Ju Yeon Won,Suk Whan Ko,Joong Heon Lee,Jung Sang Lee,Yang Won Yun,Chung Man Kim. Владелец: LG HAUSYS LTD. Дата публикации: 2019-05-15.

Process and equipment for micro-pattern forming on roll surface, metal sheets for pressworking prepared by the roll, and method of preparing same

Номер патента: US4959275A. Автор: Hideo Abe,Takaaki Hira,Kunio Isobe,Takaaki Iguchi,Ikuo Yarita,Takanori Tamari. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1990-09-25.

Improvements in and relating to negative-resistance circuit arrangements

Номер патента: GB1049711A. Автор: . Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1966-11-30.

Four-terminal, negative-resistance amplifying circuit

Номер патента: GB993850A. Автор: . Владелец: JOJI HAMASKI. Дата публикации: 1965-06-02.

Electrically assisted forming process and device for high-strength metal alloy thin-walled pipe

Номер патента: US20220347733A1. Автор: YONG Li,Bo Zhao,Changjun WANG,Chunxu WANG,Zhiqing LYU,Shun Han,Le ZHAN,Jianxiong Liang,Zhenbao LIU. Владелец: YANSHAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-03.

Curable resin composition, dry film, resin-clad copper foil, cured product, and electronic component

Номер патента: US11891474B2. Автор: Hidekazu Miyabe,Yoshitomo Aoyama,Kazuhisa Yamoto. Владелец: Taiyo Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

OLED panel lower part protection film, and organic light-emitting display apparatus comprising same

Номер патента: US11963383B2. Автор: Sangwoo Lee,Youngseo CHOI,Sangshin KIM,Jinhyuk Kim,Youngdon PARK,Youngbin BAEK. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Cold cathode forming process and electron emission element, and applied device of the same

Номер патента: EP1209716A3. Автор: Yoshikazu Hori,Takehito Yoshida,Nobuyasu Suzuki,Yuka Yamada,Toshiharu Makino. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-17.

Cmos negative resistance/q enhancement method and apparatus

Номер патента: WO2006014692A2. Автор: Yannis Tsividis,Nebojsa Stanic. Владелец: The Trustees Of Columbia University In The City Ofnew York. Дата публикации: 2006-02-09.

Method for producing a dry film, rolling device

Номер патента: US11990599B2. Автор: Stefan Kaskel,Holger Althues,Benjamin SCHUMM,Daniel Jordan,Sebastian TSCHOECKE,Christian Girsule,Kay SCHOENHERR. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-05-21.

Compressive forming processes for enhancing collapse resistance in metallic tubular products

Номер патента: US20180229289A1. Автор: Peter W. Moore,Bisen LIN. Владелец: United States Steel Corp. Дата публикации: 2018-08-16.

Air- and/or oven-drying lubricant paint composition for producing dry-film lubricants

Номер патента: US4355124A. Автор: Wilhelm Huber,Gilbert Baumann,Paul Deyber,Werner Lapple,Horst Trautmann. Владелец: Dow Corning GmbH. Дата публикации: 1982-10-19.

Flash cell and forming process thereof

Номер патента: US20170141200A1. Автор: Jianjun Yang,Yuan-Hsiang Chang,Chih-Chien Chang,Shen-De Wang,Aaron Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-18.

Forming process for ultra-large-diameter annular reinforcing mesh component

Номер патента: ZA202311598B. Автор: Tian Wei,Chen Bin,Zhang Xiaoping,ZHANG Hong,Chen Ming,Huang Jian,LI Tao,LI Dongdong,Xia Hao,WU Xuefeng,ZHANG Yipeng,Yi Fei,YANG XiuLi,Zhang Yongtao,Xiao Hao,FAN Chenyang,JI Xiaoyu,Cheng Maolin,Wu Zhongzheng,Yan Shuangqiao,Yu Changwen,Dong Qifeng,Zhu Mingqing,Tu Tongheng,Pan Daohui,Leng Zhijian,Hua Xiaotao,Liu Xiucheng,Guan Zhenglin,Fang Zhiyao. Владелец: Cccc Highway Bridges Nat Eng Res Center Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Impact resistant composite article

Номер патента: EP2501542A1. Автор: Bryan Benedict Sauer,Jeffrey Alan Hanks. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-09-26.

Photo-curable resin composition, photo-curable dry film, cured product and printed circuit board

Номер патента: CN104516201A. Автор: 槙田昇平. Владелец: Taiyo Ink Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM THEREOF, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRICAL/ELECTRONIC PART PROTECTIVE FILM

Номер патента: US20120094222A1. Автор: KATO Hideto,SOGA Kyoko,Takeda Takanobu. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-19.

Photo-curable resin composition, photo-curable moisture-proof insulating paint, electronic component using the same, and flat panel display

Номер патента: JP5561511B2. Автор: 敬司小野,誠鍛治. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-30.

Dust core, method for producing the dust core, electric / electronic component including the dust core, and electric / electronic device on which the electric / electronic component is mounted

Номер патента: JP6326185B1. Автор: 智史丸山,政夫松井. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-16.

Epoxy resin, epoxy resin composition, cured product and electrical / electronic parts

Номер патента: JP6772680B2. Автор: 員正太田. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-10-21.

High dielectric constant resin moldings, films and electrical / electronic parts

Номер патента: JP6471661B2. Автор: 耕己内田,弘直藤木,孝則鈴木,直樹原田,原田　直樹,藤木　弘直. Владелец: Nissin Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Plating material, manufacturing method thereof, and electric / electronic parts using the same

Номер патента: JP4043834B2. Автор: 智鈴木,仁志田中,晃松田,守正谷本. Владелец: THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2008-02-06.

Epoxy resin composition, method for producing electric / electronic element, and electric / electronic element

Номер патента: JP4926616B2. Автор: 聡▲英▼ 猪狩. Владелец: Somar Corp. Дата публикации: 2012-05-09.

Insulated wire, coil, rotary electric machine and electric/electronic device

Номер патента: JP2023047971A. Автор: Daisuke Muto,大介武藤,Keiichi Tomizawa,Sho Yoshida,恵一冨澤,祥吉田,奈摘子原,Natsuko HARA,友実建部,Tomomi Takebe. Владелец: Furukawa Magnet Wire Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

PACKAGE SUBSTRATE, MODULE AND ELECTRIC/ELECTRONIC DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20120068322A1. Автор: Hanabe Mitsuhiro. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-22.

PIEZOELECTRIC VIBRATION DEVICE HAVING STRUCTURE INCLUDING SELF-AMPLIFICATION FUNCTION OF VIBRATION AND ELECTRIC/ELECTRONIC DEVICE USING SAME AS VIBRATING MEANS

Номер патента: US20120212100A1. Автор: Lee Han Sang. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-23.

Foam members and electrical / electronic devices

Номер патента: JP5684775B2. Автор: 誠齋藤,泰之徳永,秀樹長津,齋藤　誠,徳永　泰之,長津　秀樹. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2015-03-18.

Curable polyorganosiloxane composition and electric/electronic apparatus

Номер патента: JP2018058951A. Автор: Kazuhisa Ono,和久小野. Владелец: Momentive Performance Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-12.

Curable polyorganosiloxane composition and electrical / electronic equipment

Номер патента: JP6762189B2. Автор: 和久小野. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC. Дата публикации: 2020-09-30.

Heat-resistance protection film, its manufacture method and electric electronic element

Номер патента: CN1325696C. Автор: 菅原章,成枝宏人,尾崎太一. Владелец: Dowa Mining Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-11.

Epoxy resins, compositions, cured products, and electrical / electronic components

Номер патента: JP6439612B2. Автор: 員正太田. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2018-12-19.

Soldering method, joining structure, and electric/electronic component

Номер патента: JP2005057117A. Автор: 敦史山口,Atsushi Yamaguchi,Masato Hirano,Kazuto Nishida,一人西田,正人平野. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-03.

Fe-based amorphous alloy, magnetic metal powder, magnetic member, magnetic component, and electrical / electronic equipment

Номер патента: JP6486262B2. Автор: 岡本　淳,淳岡本,金四郎高舘,寿人小柴,高舘　金四郎. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-20.

Plating material having lubricating particles, method for producing the same, and electric / electronic component using the same

Номер патента: JP5255225B2. Автор: 秀一北河,岳夫宇野. Владелец: THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2013-08-07.

Heat-resistance protection film, its manufacture method and electric electronic element

Номер патента: CN1368562A. Автор: 菅原章,成枝宏人,尾崎太一. Владелец: Japan Olin Stretched Copper Corp. Дата публикации: 2002-09-11.

Molding resin composition and electric/electronic equipment

Номер патента: JP2003246913A. Автор: 太郎山下,Taro Yamashita,Takashi Shirakashi,Shuichi Urabe,修一浦辺,Yoshifumi Hodota,善文保土田,Sachio Yoshihara,佐知雄吉原,高史白樫. Владелец: Toko Electric Corp. Дата публикации: 2003-09-05.

Thermoplastic resin composition for heat dissipation electric / electronic parts and heat dissipation electric / electronic parts comprising the same

Номер патента: JP6079490B2. Автор: 秀之梅津,大秋田,秋田　大,梅津　秀之. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-02-15.

Electrical / electronic parts

Номер патента: JP4379019B2. Автор: 貞紀熊澤,裕千大目. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2009-12-09.

Epoxy resin composition and high voltage electric/ electronic part using the same

Номер патента: JPH11236491A. Автор: Toshiyuki Fujita,Katsuhiko Yasu,克彦安,利之藤田,尋佳進藤,Hiroyoshi Shindou. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

Method for producing high dielectric constant resin molded product for electric / electronic parts

Номер патента: JP2602257B2. Автор: 昇梅本. Владелец: エヌティエヌ株式会社. Дата публикации: 1997-04-23.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120003437A1. Автор: Kodama Kunihiko,WADA Kenji,OHTA Masaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERNS FORMED ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002860A1. Автор: Sakai Kaoru,Shibuya Hisae,Maeda Shunji,Nishiyama Hidetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.