Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물

화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물

Номер патента: KR20100125768A
Опубликовано: 01-12-2010
Автор(ы): 김성훈, 박순진, 유경욱, 최경미
Принадлежит: 동우 화인켐 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337927A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4407375A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4446812A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11940728B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230393462A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US7304175B2. Автор: Yukako Harada,Ichiki Takemoto,Kouji Toishi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-04.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240004289A1. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Acetal compound, additive including the compound, and resist composition including the compound

Номер патента: US20240043361A1. Автор: Tomohiro Masukawa,Teruyo Ikeda. Владелец: Maruzen Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240219830A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi,Haruka Homma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Thermal acid generator and resist composition using same

Номер патента: US11754920B2. Автор: Naomi Sato,Kentaro Kimura,Junya MIYAKE,Yoshitomo Takeuchi. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical amplification positive type resist composition

Номер патента: KR20060056237A. Автор: 김상태,김태호,박한우,양돈식. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2006-05-24.

Acid-labile polymer and resist composition

Номер патента: EP1254915A3. Автор: Seong-Ju Kim,Dong-Chul Seo,Hyun-Sang Joo,Young-Taek Lim,Joo-Hyeon Park,Seong-Duk Cho. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-19.

Polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20030120009A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Mutsuo Nakashima,Tomohiro Kabayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-26.

Polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20020115807A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Tomohiro Kobayashi,Mutsuo Nakashima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Method for manufacturing organic processing fluid for patterning of chemical amplification type resist film, organic processing fluid for patterning of chemical amplification type resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US10088752B2. Автор: Tsukasa Yamanaka,Naoya Iguchi,Takashi Kawamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-10-02.

Organic process fluid, production method, and applications of organic process fluid for patterning of chemical amplification type resist film

Номер патента: CN105566062A. Автор: 山中司,川本崇司,井口直也. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-11.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20220308451A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230341775A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4270108A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Positive resist composition, method of forming resist pattern using the same, and polymeric compound

Номер патента: US8268529B2. Автор: Daiju Shiono,Tomoyuki Hirano,Takahiro Dazai,Masaru Takeshita,Tasuku Matsumiya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-18.

Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound

Номер патента: US8367296B2. Автор: Daiju Shiono,Tomoyuki Hirano,Takahiro Dazai,Tasuku Matsumiya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20110171580A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takeru Watanabe,Seiichiro Tachibaba. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-14.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US11860540B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230314944A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Positive resist composition and pattern forming method

Номер патента: EP2130094A1. Автор: Yushi c/o FUJIFILM Corporation KANEKA,Kunihiko c/o FUJIFILM Corporation KODAMA,Akinori c/o FUJIFILM Corporation SHIBUYA,Yuko c/o FUJIFILM Corporation YOSHIDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Positive resist material and patterning process

Номер патента: US12013639B2. Автор: Jun Hatakeyama,Naoki Ishibashi,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Resist composition

Номер патента: EP1580600A1. Автор: Isamu Asahi Glass Company Limited Kaneko,Yoko Asahi Glass Company Limited Takebe,Yasuhide Asahi Glass Company Limited KAWAGUCHI,Shinji Asahi Glass Company Limited OKADA,Osamu Asahi Glass Company Limited YOKOKOJI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-28.

Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240248402A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20010031424A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Takeshi Kinsho,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-18.

Resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound

Номер патента: US09890233B2. Автор: Tomoyuki Hirano,Yuta Iwasawa,Kotaro Endo,Miki Shinomiya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Positive-type resist composition for liquid immersion lithography and method for forming resist pattern

Номер патента: US20070190448A1. Автор: Kotaro Endo,Keita Ishiduka. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-16.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20230205084A1. Автор: Masatoshi Arai,Makoto Sakata,Takatoshi INARI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240111212A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240118615A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20200174369A1. Автор: Yasuhiro Yoshii,Takahiro Kojima,Masahito YAHAGI,Yoichi Hori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-04.

Resist polymer, preparing method, resist composition and patterning process

Номер патента: US20070264592A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Takeshi Kinsho,Seiichiro Tachibana,Kenji Funatsu. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-11-15.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240280900A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and patterning process

Номер патента: US20150198876A1. Автор: Satoshi Watanabe,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-16.

Sulfonium salt and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US5691112A. Автор: Satoshi Watanabe,Toshinobu Ishihara,Fujio Yagihashi,Katsuya Takemura,Kazumasa Maruyama,Yoshihumi Takeda,Youichi Ohsawa,Junji Shimada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-11-25.

Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom

Номер патента: US09908831B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230116747A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent

Номер патента: US20170097564A1. Автор: Takashi Nagamine,Kotaro Endo,Hideto Nito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20200249571A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240231226A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi,Haruka Homma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20210395195A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Carboxylate, quencher, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US12060316B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240272548A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US12060317B2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Sulfonium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240302740A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Organic salt, resist composition including the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240327338A1. Автор: Kyuhyun IM,Aram JEON,Hana Kim,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hoyoon PARK,Jinwon JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US12013636B2. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09958776B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11953827B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent

Номер патента: US9851637B2. Автор: Takashi Nagamine,Kotaro Endo,Hideto Nito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Onium Salt, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240184199A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220350243A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11994799B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20200102271A1. Автор: Masaki Ohashi,Yuki Suka,Kazuya HONDA,Yuki Kera. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent

Номер патента: US20170293223A1. Автор: Takashi Nagamine,Kotaro Endo,Hideto Nito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-12.

Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US9562122B2. Автор: Satoshi Yamamoto,Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11899363B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20190369491A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20170184964A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-29.

Onium Salt, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240036466A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion-controlling agent

Номер патента: US11874601B2. Автор: KhanhTin NGUYEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11739056B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Yukako ANRYU. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11820736B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20200004143A1. Автор: Junichi Tsuchiya,Masafumi FUJISAKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Resist composition, patterning process, and barium salt

Номер патента: US20190113846A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Takeshi Sasami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

Resist composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20200174366A1. Автор: Takuya Ikeda,Junichi Miyakawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-04.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240142872A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20170184963A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-29.

Onium Salt, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240176237A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and acid diffusion-controlling agent

Номер патента: US20220011665A1. Автор: KhanhTin NGUYEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Onium Salt, Acid Diffusion Inhibitor, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240103367A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Resist composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20200174365A1. Автор: Takuya Ikeda,Junichi Miyakawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-04.

Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts

Номер патента: US20020006582A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-17.

Novel sulfonydiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

Номер патента: US20040033432A1. Автор: Kazunori Maeda,Satoshi Watanabe,Youichi Ohsawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-02-19.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230023593A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-26.

Positive resist composition, method for forming resist pattern and compound

Номер патента: US20090035691A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20180004087A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Onium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310723A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20240361688A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Onium salts and positive resist materials using the same

Номер патента: US20030096189A1. Автор: Yoshio Kawai,Tomoyoshi Furihata,Jun Watanabe,Akinobu Tanaka,Fujio Yagihashi,Tadahito Matsua. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-22.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4394508A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: EP4394506A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Cheol Kang,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: US20240231223A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: EP4394507A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Onium salt, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20220127225A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Satoshi Watanabe,Kousuke Ohyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-28.

Resist composition and method for forming pattern

Номер патента: US9354517B2. Автор: Yoshihiro Nakata,Junichi Kon. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-05-31.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4393925A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240239820A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230305395A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240279166A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240255846A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Novel epoxy compound having alicyclic structure, polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20030036603A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Takeshi Kinsho,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-20.

Polycarboxylate compound, resist composition comprising the same and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240317672A1. Автор: DMITRY Androsov,Yoonhyun Kwak,Cheol Kang,Haengdeog Koh,Hana Kim,Beomseok Kim,Hoyoon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Onium salt compound, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US09989847B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Metal-containing onium salt compound, photodegradable base, resist composition, and method for manufacturing device using said resist composition

Номер патента: US11347147B2. Автор: Yoshiyuki Utsumi,Masamichi Hayakawa,Michiya NAITO. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-31.

Metal-containing onium salt compound, photodegradable base, resist composition, and method for manufacturing device using said resist composition

Номер патента: US20190243243A1. Автор: Yoshiyuki Utsumi,Masamichi Hayakawa,Michiya NAITO. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20090081580A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-26.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20110091810A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-21.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US7943284B2. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-17.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240231225A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Resist composition and method of forming pattern by using the same

Номер патента: US20240231228A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Cheol Kang,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Onium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230400766A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

Номер патента: US8030515B2. Автор: Takeshi Kinsho,Youichi Ohsawa,Takeru Watanabe,Katsuhiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-04.

Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator

Номер патента: US9012129B2. Автор: Hideo Hada,Takehiro Seshimo,Yoshiyuki Utsumi,Akiya Kawaue. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-21.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20070184382A1. Автор: Yukako Harada,Satoshi Yamaguchi,Isao Yoshida. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-09.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US7527910B2. Автор: Yukako Harada,Satoshi Yamaguchi,Isao Yoshida. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US10620533B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-14.

Salt, quencher, resist composition and method for producing resist pattern, and method for producing salt

Номер патента: US11550219B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro,Yuki Takahashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-10.

Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11822244B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Takuya Nakagawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11815813B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Takuya Nakagawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230314938A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11840503B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20180267403A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-20.

Polyhydric phenol compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20080248417A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando,Junji Shigematsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-09.

Onium salt compound, polymer, resist composition, and patterning process

Номер патента: US20230384677A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Tomomi Watanabe,Tomonari NOGUCHI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20200285152A1. Автор: Satoshi Watanabe,Yoshinori Matsui,Tatsushi Kaneko,Akihiro Seki,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240302741A1. Автор: Shuichi Ishii,Seiji Todoroki,Takuya Ikeda,Hiroki Kato,Koshi ONISHI,KhanhTin NGUYEN,Rin ODASHIMA,Ryo Kawatani,Tetsuo FUJINAMI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240337937A1. Автор: Shuichi Ishii,Hiroki Kato,Tetsuo FUJINAMI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Fluorinated monomer of cyclic acetal structure, polymer, resist protective coating composition, resist composition, and patterning process

Номер патента: US8933251B2. Автор: Jun Hatakeyama,Kazunori Maeda,Koji Hasegawa,Tomohiro Kobayashi,Takeshi Kinsho,Yuji Harada,Takeru Watanabe,Satoshi SHINACHI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-13.

Compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20100151379A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Positive resist composition and pattern forming method

Номер патента: TW200905396A. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Toshiaki Fukuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Chemically amplified negative resist composition and patterning process

Номер патента: US20140329183A1. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-06.

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, A PHOTOSENSITIVE DRY FILM, A METHOD FOR PRODUCING A PHOTOSENSITIVE DRY FILM, A METHOD FOR PRODUCING A PATTERNED RESIST FILM, A METHOD OF MANUFACTURING A TEMPLATE WITH A SUBSTRATE, AND A METHOD OF MANUFACTURING A PLATED SHAPED PRODUCT, AND A MERCAPTO COMPOUND

Номер патента: US20190101825A1. Автор: Kawaue Akiya,Kuroiwa Yasushi,Katayama Shota,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

Chemical amplification type resist composition

Номер патента: US6830871B2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shinichi Kanna,Tomoya Sasaki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-12-14.

Positive resist composition, and resist film, resist-coated mask blank, resist pattern forming method and photomask each using the composition

Номер патента: EP2707776A4. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-21.

Positive resist composition, and resist film, resist-coated mask blank, resist pattern forming method and photomask each using the composition

Номер патента: TW201303509A. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-16.

Chemically amplified positive resist composition and resist film using the composition, resist coating mask blank and forming method of the resist pattern

Номер патента: TW201234116A. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Resin for resist, positive resist composition and resist pattern formation method

Номер патента: TW200506536A. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Ryotaro Hayashi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-16.

Resin for resist, positive resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: KR100985431B1. Автор: 히데오 하다,료타로 하야시,다케시 이와이. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2010-10-05.

Resin for resist, positive resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: CN1832971A. Автор: 林亮太郎,岩井武,羽田英夫. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-13.

Resin for resist positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20060183876A1. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Ryotaro Hayashi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-17.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Copolymer for use in chemical amplification resists

Номер патента: US7479364B2. Автор: Hiroshi Ito. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-20.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20060194148A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Photoacid generator, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20230123180A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Koji Hasegawa,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Polymers, resist compositions and patterning process, novel tetrahydrofuran compounds and their preparation

Номер патента: US20020197559A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Tomohiro Kobayashi,Takeshi Kinsho,Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-26.

Positive-working resist composition

Номер патента: US20030008241A1. Автор: Kunihiko Kodama,Kenichiro Sato. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US5750309A. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Toshinobu Ishihara,Shigehiro Nagura,Kiyoshi Motomi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-12.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1225479A3. Автор: Yasunori Uetani,Junji Nakanishi,Katsuhiko Namba. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-05.

Positive-working chemical-amplification photoresist composition

Номер патента: US20020028407A1. Автор: Kazufumi Sato,Katsumi Oomori,Hiroto Yukawa,Ryusuke Uchida. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-07.

Resist Material, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240361691A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Tomomi Watanabe,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337939A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20160147149A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20150212416A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-30.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4198630A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Polymer compound, positive resist composition, laminate, and resist patterning process

Номер патента: US09944738B2. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Positive resist composition for electron beam, x-ray or euv and pattern forming method using the same

Номер патента: US20090246685A1. Автор: Katsuhiro Yamashita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Copolymer and positive resist composition

Номер патента: US11919985B2. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Copolymer and positive resist composition

Номер патента: EP3868802A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2021-08-25.

Chemically amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1207423A1. Автор: Kenji Ohashi,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-22.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20100010129A1. Автор: Akira Kamabuchi,Takayuki Miyagawa,Junji Shigematsu,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-14.

Positive resist composition

Номер патента: US20030108811A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Toru Fujimori,Shinichi Kanna. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-06-12.

Polymer, Chemically Amplified Positive Resist Composition, Resist Patterning Process, And Mask Blank

Номер патента: US20240134280A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Polymer, chemically amplified positive resist composition, resist patterning process, and mask blank

Номер патента: EP4343433A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240160102A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Positive resist composition, resist film formation method, and laminate manufacturing method

Номер патента: US20200257198A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393461A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393465A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286946A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286944A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20230367213A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20090202943A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Takeshi Kinsho,Youichi Ohsawa,Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: EP4276534A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20140087294A1. Автор: Hideyoshi Yanagisawa,Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-27.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230194986A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4276533A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230367214A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US8349534B2. Автор: Hiroaki Shimizu,Tsuyoshi Kurosawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-08.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20010046641A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroaki Fujishima,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-29.

Positive resist composition containing 1,2-quinone diazide compound, alkali-soluble resin and polyhydroxy phenol additive compound

Номер патента: US5188920A. Автор: Takeshi Hioki,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma,Haruyoshi Osaki. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-02-23.

Positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20090068588A1. Автор: Isao Hirano,Yohei Kinoshita. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-12.

Positive resist composition for thin-film implantation process and method for forming resist pattern

Номер патента: US20090029291A1. Автор: Ken Tanaka,Koji Yonemura,Shoichi Fujita,Takako Suzuki. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-29.

Positive resist compositions and patterning process

Номер патента: US7993811B2. Автор: Takeshi Kinsho,Youichi Ohsawa,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-09.

Resist composition for electron beam, x-ray, or euv, and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2020616A2. Автор: Katsuhiro Yamashita,Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-04.

Positive resist composition and pattern for forming method using the same

Номер патента: EP1795962A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Kei Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-06-13.

Positive resist composition and pattern formation method using the same

Номер патента: US20050064329A1. Автор: Hyou Takahashi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-24.

Polymer, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20170226250A1. Автор: Jun Hatakeyama,Kenji Funatsu,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-10.

Polymer, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20160168296A1. Автор: Jun Hatakeyama,Kenji Funatsu,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-16.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220252983A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11914294B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1770441A3. Автор: Kazuyoshi c/o Fuji Photo Co. Ltd. Mizutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11953832B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20200393760A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20200192221A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Positive resist composition

Номер патента: EP1243968A3. Автор: Toshiaki Fuji Photo Film Co. Ltd. Aoai,Kazuyoshi Fuji Photo Film Co. Ltd. Mizutani,Shinichi Fuji Photo Film Co. Ltd. Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310725A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Electron beam resist composition

Номер патента: EP3177966A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-06-14.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20170235227A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-08-17.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20190324370A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2019-10-24.

Polymer, resist composition including the same, and method of forming pattern using the resist composition

Номер патента: US20240124635A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Jungha Chae,Sungwon Choi,Beomseok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: US20220404701A1. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Chemically amplified resist composition and manufacturing method of semiconductor integrated circuit device with such chemically amplified resist composition

Номер патента: US20080233518A1. Автор: Kazunori Maeda,Satoshi Watanabe,Seiji Nagahara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2008-09-25.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240329529A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US20240345480A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi,Ryunosuke HANDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20230367211A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230418157A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12050402B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210191262A1. Автор: Yasuhiro Yoshii,Yosuke Suzuki,Takahiro Kojima,Yoichi Hori,Mari MURATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310727A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Resist composition, resist pattern forming method, and polymer

Номер патента: US20240295814A1. Автор: Tomotaka Yamada,Takuya Uehara,Keiichi IBATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Onium salt monomer, polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240329527A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443241A2. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240329522A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09921479B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Patterning process and chemically amplified negative resist composition

Номер патента: US09910358B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09869931B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240160101A1. Автор: Jun Hatakeyama,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220206384A1. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230359119A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230305393A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Ionic salt, radiation-sensitive resist composition comprising the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20230022002A1. Автор: TADAO Yagi,Mitsumasa Hamano,Naoki Ogiwara,Nobuji Sakai,Sayaka UCHIDA. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2023-01-26.

Resist composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20190219922A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA,Hajime Furutani,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20170115565A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190285984A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Eun Sol JO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-19.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230251572A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US12072628B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Chemically Amplified Resist Composition and Patterning Process

Номер патента: US20180136558A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220179315A1. Автор: Yasuo Someya,Takaaki Kaiho,Minoru ADEGAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Chain scission resist compositions for euv lithography applications

Номер патента: US20210200085A1. Автор: Marie KRYSAK,James Blackwell,Eungnak Han,Patrick THEOFANIS,Lauren DOYLE. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210405527A1. Автор: Tasuku Matsumiya,Yosuke Suzuki,Yuta Iwasawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240248403A1. Автор: Shuichi Ishii,Tetsuya Matsushita,Junichi Miyakawa,Koshi ONISHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Non-chemically amplified resist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20240142874A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Jiyoung Park,Jinkyu HAN,Seungyeol Baek,Chawon KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US12099298B2. Автор: Masaru Takeshita,Kazufumi Sato,Masahito YAHAGI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240302743A1. Автор: Tomoyuki Hirano,Koji Yonemura,Yusuke Nakagawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20210048748A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-18.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20130244176A1. Автор: Naoto Motoike. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-19.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US12111573B2. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Method for producing resist composition and pattern forming method

Номер патента: US20230045851A1. Автор: Kazunari Yagi,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: KR20090123312A. Автор: 이경호,유경욱,김성훈. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2009-12-02.

Chemically amplified resist composition

Номер патента: US6114086A. Автор: Toshiyuki Ota,Makoto Murata,Akira Tsuji,Eiichi Kobayashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-09-05.

Resist composition

Номер патента: US6010826A. Автор: Hideyuki Tanaka,Tatsuya Sugimoto,Nobunori Abe,Shugo Matsuno,Yasumasa Wada. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2000-01-04.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20230305398A1. Автор: Kenji Yamada,Masayoshi Sagehashi,Takeshi Sasami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Ion implantation thick film resist composition, method for manufacturing processed substrate using the same and method for manufacturing device using the same

Номер патента: WO2023165914A1. Автор: Masato Suzuki,Hiroshi Yanagita,Tetsumasa TAKAICHI. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-07.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A2. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220171286A1. Автор: Daisuke Kawana,Masatoshi Arai,Yoshitaka Komuro,Takaya Maehashi,Sho Kataoka,Takatoshi INARI,Kiwamu Sue. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2022-06-02.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US10534264B2. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-14.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20180224742A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A3. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286945A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393466A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210181633A1. Автор: Masatoshi Arai,Takashi Nagamine,Junichi Miyakawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20220236643A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230105986A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230288804A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US8101335B2. Автор: Jun Hatakeyama,Kazunori Maeda,Koji Hasegawa,Yuji Harada,Satoshi SHINACHI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-24.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20230131303A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Resist composition, patterning process and polymer

Номер патента: US9040223B2. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Kenji Funatsu. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210026243A1. Автор: Jiro Yokoya,Tsuyoshi Nakamura. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20230393470A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4286943A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11822240B2. Автор: Yasuhiro Yoshii,Yosuke Suzuki,Takahiro Kojima,Yoichi Hori,Mari MURATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Resist composition, method of forming resist pattern, and acid diffusion-controlling agent

Номер патента: US11762288B2. Автор: Masahiro Shiosaki,Seiji Todoroki,Hiroto Yamazaki,Nobuhiro MICHIBAYASHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20230107966A1. Автор: Yasuo Someya,Takaaki Kaiho,Minoru ADEGAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Positive-Type Resist Composition

Номер патента: US20140134542A1. Автор: Yoshiharu Terui,Takashi Mori,Haruhiko Komoriya. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230393463A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230288801A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11829067B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US11846884B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Chuanwen Lin. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Acid generator, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20130224657A1. Автор: Masaki Ohashi,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11835859B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Chuanwen Lin. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Positive type lift-off resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: WO2023156419A1. Автор: Hiroshi Hitokawa,Tomotsugu YANO,Yusuke Hama. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-08-24.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20220137511A1. Автор: JINKYUN Lee,Hyuntaek OH,Yejin KU. Владелец: Inha University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-05-05.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230137472A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Resist composition and patterning process

Номер патента: EP3088955A3. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-14.

Resist composition, method of forming resist pattern, and acid diffusion-controlling agent

Номер патента: US20210200089A1. Автор: Masahiro Shiosaki,Seiji Todoroki,Hiroto Yamazaki,Nobuhiro MICHIBAYASHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20220382149A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20180284612A1. Автор: Junichi Tsuchiya,Kotaro Endo,Masafumi FUJISAKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104989A1. Автор: Kenta WATANABE,Tomohide Katayama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Thin film resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: US20220187706A1. Автор: Masato Suzuki,Taku Hirayama,Shunji Kawato,Takayuki Sao,Tetsumasa TAKAICHI. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-06-16.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20220390846A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104940A1. Автор: Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230161254A1. Автор: Kenji Yamada,Kazuhiro Katayama,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Resist composition and patterning process using the same

Номер патента: US20180024435A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-25.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240210830A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Kousuke Ohyama,Yutaro OTOMO,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240027902A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20230350296A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Method of forming resist pattern and negative tone-development resist composition

Номер патента: US8790868B2. Автор: Hiroaki Shimizu,Hideto Nito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-29.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US8795947B2. Автор: Tomoyuki Hirano,Tsuyoshi Kurosawa,Kotaro Endo,Makiko Irie. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-05.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US9012125B2. Автор: Daiju Shiono,Masatoshi Arai,Shinji Kumada,Satoshi Maemori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-21.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US9023577B2. Автор: Masaru Takeshita,Jiro Yokoya,Hirokuni Saito,Tsuyoshi Nakamura. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-05.

Resist composition for EUV or EB, and method of forming resist pattern

Номер патента: US9057948B2. Автор: Daisuke Kawana,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Jun Iwashita,Kenri KONNO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-16.

Method of forming resist pattern and negative tone-development resist composition

Номер патента: US9250531B2. Автор: Daiju Shiono,Tomoyuki Hirano,Daichi Takaki,Isamu Takagi,Kenri KONNO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-02.

Resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US8652753B2. Автор: Satoshi Yamaguchi,Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-18.

Resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US8741543B2. Автор: Satoshi Yamaguchi,Yuki Suzuki,Koji Ichikawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-03.

Resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US8859182B2. Автор: Koji Ichikawa,Akira Kamabuchi,Takahiro YASUE. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-14.

Resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US9176379B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Takahiro YASUE. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-03.

Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same

Номер патента: US6270942B1. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2001-08-07.

Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same

Номер патента: MY129169A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-30.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20080081282A1. Автор: Kenji Wada,Sou Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-04-03.

Substrate coating resist composition and method for manufacturing resist pattern

Номер патента: WO2023222740A1. Автор: Masahiko Kubo,Tetsumasa TAKAICHI. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-11-23.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220179306A1. Автор: Masatoshi Arai,Masahito YAHAGI,Rin ODASHIMA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20190354012A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20200159119A1. Автор: Tatsuya Fujii,Yuki FUKUMURA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Polymer, resist composition, and pattern forming method

Номер патента: US20230244142A1. Автор: Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11703757B2. Автор: Hirokuni Saito,Daichi Takaki,Makoto Sakata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11835857B2. Автор: Tasuku Matsumiya,Yosuke Suzuki,Yuta Iwasawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20180239249A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-23.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US20230132653A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11880136B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11835860B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11747726B2. Автор: Tatsuya Fujii,Yuki FUKUMURA,Yoichi Hori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and resin

Номер патента: US11829068B2. Автор: Masatoshi Arai,Junichi Miyakawa,Koshi ONISHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20130224658A1. Автор: Yoshitaka Komuro,Toshiaki HATO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound

Номер патента: US20200192223A1. Автор: Naoto Motoike,Mijung Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11822239B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11934099B2. Автор: Yosuke Suzuki,Yoichi Hori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Resist composition, method for manufacturing resist film, and method for manufacturing device

Номер патента: WO2024056771A1. Автор: Yuki Yoshida,Tetsumasa TAKAICHI. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-03-21.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11947257B2. Автор: Satoshi Yamaguchi,Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Polymer, method for producing the same, and resist composition containing the same

Номер патента: US8853345B2. Автор: Tae Gon Kim,Jung-Hoon Oh,Hyun Sang Joo,Joon Hee Han. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-07.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20200409264A1. Автор: Hirokuni Saito,Daichi Takaki,Makoto Sakata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230305394A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20200409259A1. Автор: Hirokuni Saito,Daichi Takaki,Makoto Sakata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190361343A1. Автор: Masatoshi Arai,Yoshitaka Komuro,Koshi ONISHI,KhanhTin NGUYEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20190033715A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Ryosuke Taniguchi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240176235A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240036468A1. Автор: Tomoyuki Hirano,Yuzo Yoshida,Yusuke Nakagawa,Shinichi Kohno,Fumitake Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20210397086A1. Автор: Yosuke Suzuki,Tsuyoshi Nakamura,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and copolymer

Номер патента: US20190219920A1. Автор: Tatsuya Fujii,Takuya Ikeda,Takashi Nagamine,Issei Suzuki,Takahiro Kojima,Hideto Nito,Yuki FUKUMURA,KhanhTin NGUYEN,Masafumi FUJISAKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-18.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20180067394A1. Автор: Tatsuya Fujii,Tomotaka Yamada,Yuki FUKUMURA,Takashi KAMIZONO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-08.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210405531A1. Автор: Yosuke Suzuki,Yoichi Hori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240053678A1. Автор: Tomohiro Kobayashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Polymer, method for producing the same, and resist composition containing the same

Номер патента: SG182126A1. Автор: Tae Gon Kim,Jung-Hoon Oh,Hyun Sang Joo,Joon Hee Han. Владелец: Korea Kumho Petrochem Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-30.

Polymer, method for producing the same, and resist composition containing the same

Номер патента: US20120165499A1. Автор: Tae Gon Kim,Jung-Hoon Oh,Hyun Sang Joo,Joon Hee Han. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230236503A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240168382A1. Автор: Jun Hatakeyama,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230324798A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical amplification-type photosensitive composition, photosensitive dry film, production method of patterned resist layer, production method of plated molded article, compound, and production method of compound

Номер патента: US11803122B2. Автор: Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: US20140134541A1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: EP3537217A3. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-27.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: KR101473272B1. Автор: 히로미 칸다,신이치 칸나. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-12-16.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: KR101288459B1. Автор: 히로미 칸다,신이치 칸나. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-07-26.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: EP3537217A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-11.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: US20070134588A1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-06-14.

Chemical amplification positive anti-corrosion agent composition and Resist patterns forming method

Номер патента: CN108255019A. Автор: 大桥正树,小竹正晃,增永惠,增永惠一,渡边聪. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-06.

Alicyclic structure-containing compound, (meth)acrylate, (meth)acrylic polymer and positive resist composition containing the (meth)acrylic polymer

Номер патента: TW201002667A. Автор: Shinji Tanaka,Kazuya Fukushima,Naoya Kawano. Владелец: Idemitsu Kosan Co. Дата публикации: 2010-01-16.

Pattern forming process, chemically amplified positive resist composition, and resist-modifying composition

Номер патента: US8658346B2. Автор: Tsunehiro Nishi,Masashi Iio,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-25.

Pattern forming process, chemically amplified positive resist composition, and resist-modifying composition

Номер патента: TWI408502B. Автор: Tsunehiro Nishi,Masashi Iio,Takeru Watanabe. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2013-09-11.

Pattern forming process, chemically amplified positive resist composition, and resist-modifying composition

Номер патента: TW201122727A. Автор: Tsunehiro Nishi,Masashi Iio,Takeru Watanabe. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-07-01.

Positive resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20090098483A1. Автор: Yusuke Nakagawa,Shinichi Hidesaka,Waki Ohkubo,Makiko Irie,Yohei Kinoshita. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Polymer and positive resist composition

Номер патента: US20180024430A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-01-25.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20210003917A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Method of forming resist pattern, positive resist composition, and layered product

Номер патента: EP1583998A2. Автор: Hideo c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. HADA,Takeshi c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Iwai,Miwa c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. MIYAIRI,Naotaka c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. KUBOTA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-12.

Polymer Compound, Acid Generator, Positive Resist Composition, and Method for Formation of Resist Patterns

Номер патента: US20070231708A1. Автор: Masaru Takeshita,Hideo Hada,Takeshi Iwai,Shogo Matsumaru. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-04.

Positive resist composition for EUV lithography and method of forming resist pattern

Номер патента: US11988964B2. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US11720021B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Resist composition and method for producing resist pattern, and method for producing plated molded article

Номер патента: US20210278765A1. Автор: Takashi Nishimura,Junji Nakanishi,Masako Sugihara. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240319594A1. Автор: Changki Kim,Hyunseok Choi,Cheol Kang,Minsang Kim,Hana Kim,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US12032289B2. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230288800A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Polymers, resist compositions and patterning process

Номер патента: US20020051937A1. Автор: Jun Hatakeyama,Jun Watanabe,Masayuki Endo,Masaru Sasago,Shinji Kishimura,Yuji Harada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-02.

Polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20020115821A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Takeshi Kinsho. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US20010026904A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Takeshi Kinsho,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-04.

Resist polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: EP1505443A3. Автор: Takeru c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Watanabe,Tsunehiro c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Nishi,Junji c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Tsuchiya,Kenji c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Funatsu,Koji c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-01.

Polymer, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240118617A1. Автор: Takahiro Suzuki,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210181634A1. Автор: Masatoshi Arai,Takashi Nagamine,Junichi Miyakawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP3579050A1. Автор: Satoshi Watanabe,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-11.

Resist composition and resist film

Номер патента: US11960207B2. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Polymers, resist compositions and patterning process

Номер патента: US20070148594A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Tomohiro Kobayashi,Kenji Funatsu. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190384174A1. Автор: Masatoshi Arai,Takaya Maehashi,Koshi ONISHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20210096465A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11754922B2. Автор: Masatoshi Arai,KhanhTin NGUYEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230251573A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts

Номер патента: TWI288297B. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2007-10-11.

Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts

Номер патента: EP1154321B1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-25.

Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts

Номер патента: EP1154321A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-14.

Chemical amplification type positive resist

Номер патента: SG76651A1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue,Kenji Oohashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2000-11-21.

Chemical amplification type positive resist

Номер патента: KR100704423B1. Автор: 우에타니야스노리,이노우에히로키,오하시겐지. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-04-06.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOCURABLE COMPOSITION, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150362836A1. Автор: Tsuchimura Tomotaka,SAKITA Kyouhei. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

A kind of more official's photo-acid generators of heterocycle and preparation method thereof and chemical amplification type photoresist obtained

Номер патента: CN110231754A. Автор: 徐亮,郑祥飞,纪昌炜. Владелец: SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd. Дата публикации: 2019-09-13.

CHEMICAL AMPLIFICATION RESERVE COMPOSITION.

Номер патента: BE1019085A3. Автор: Satoshi Yamaguchi,Satoshi Yamamoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2012-03-06.

Method for forming resist pattern, resist pattern splitting agent, split pattern improving agent, resist pattern splitting material, and positive resist composition for forming split pattern

Номер патента: TWI675258B. Автор: 森貴敬,渡部良司,堀洋一,角田力太. Владелец: 日商東京應化工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-21.

Chemical amplification type photoresist composition

Номер патента: JPH10207069A. Автор: Hiroshi Komano,博司 駒野,Kazufumi Sato,Hideo Haneda,英夫 羽田,和史 佐藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1998-08-07.

Chemical amplification type photo-corrosion-resisting agent composition and the photoresist film for using it

Номер патента: CN110178086A. Автор: 金智慧,林敏映,金容美. Владелец: LG Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-27.

Metalloporphyrin-based molecular glass chemical amplification photoresist and preparation method and application thereof

Номер патента: CN113004291B. Автор: 陈龙,杨国强,胡睿,王亚飞,郭旭东,王双青,玉佳婷. Владелец: Institute of Chemistry CAS. Дата публикации: 2022-03-01.

Chemical-amplification-type negative resist composition and method for forming negative resist pattern

Номер патента: US5955241A. Автор: Hiroyuki Yamazaki,Yoshiki Sugeta,Kiyoshi Ishikawa,Mitsuru Sato,Toshimasa Nakayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Process for preparing radiation sensitive compound and positive resist composition

Номер патента: US5283324A. Автор: Hirotoshi Nakanishi,Koji Kuwana,Yasunori Uetani,Ryotaro Hanawa,Yasunori Doi,Hiroshi Takagaki,Jun Tomioka. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-02-01.

Black resist composition, and method for forming black pattern by near-infrared photolithographic method

Номер патента: US20240219833A1. Автор: Akihiko Igawa,Hidekazu Shioda. Владелец: Echem Solutions Japan Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method

Номер патента: WO2004023213A1. Автор: Kentaro Tada,Nobuji Sakai. Владелец: TOYO GOSEI CO., LTD.. Дата публикации: 2004-03-18.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240319592A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jungha Chae,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim,Jinwon JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337935A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Photosensitive polymer containing silicon and a resist composition using the same

Номер патента: US6849382B2. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-02-01.

High heat resistance resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2017084742A1. Автор: Masato Suzuki,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.. Дата публикации: 2017-05-26.

Electron beam negative working resist composition

Номер патента: US6153354A. Автор: Kiyoshi Ishikawa,Katsumi Oomori,Yasuhiko Katsumata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2000-11-28.

Black resist composition and method for forming black pattern by near-infrared photolithography

Номер патента: EP4339701A1. Автор: Akihiko Igawa,Hidekazu Shioda. Владелец: Echem Solutions Japan Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11914291B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Negative-tone resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230314945A1. Автор: Masaru Takeshita,Tomotaka Yamada,Keiichi IBATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Silicon containing positive resist for DUV lithography

Номер патента: US5338818A. Автор: Harbans S. Sachdev,Ratnam Sooriyakumaran,Premlatha Jagannathan,William R. Brunsvold,Steve S. Miura,Melvin W. Montgomery. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-08-16.

Chemical amplification type positive resist composition for thermal flow and method of forming a pattern

Номер патента: KR100784310B1. Автор: 야마나카츠카사,니시야마휴미유키. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-12-13.

Positive resist composition of chemical amplification type

Номер патента: KR100647451B1. Автор: 우에타니야스노리,가마부치아키라. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-11-23.

Fluorinated ethylene glycol group-having photosensitive polymer and chemical amplification type resist composition containing the same

Номер патента: JP2003277443A. Автор: Choi Sang-Jun,Sang-gyun Woo,相 均 禹,相 俊 崔,Kwang-sub Yoon,広 燮 尹,基 鎔 宋,Ki-yong Song,Ju-Tae Moon,周 泰 文. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-10-02.

Polymers, chemical amplification resist compositions and patterning process

Номер патента: US20010010890A1. Автор: Jun Hatakeyama,Jun Watanabe,Yuji Harada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-08-02.

Copolymer for use in chemical amplification resists

Номер патента: US7358027B2. Автор: Hiroshi Ito. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-04-15.

Chemical amplification positive photoresist compositions

Номер патента: CN1690856A. Автор: 宫城贤,馆俊聪,新仓聪. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-02.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: GB2370367B. Автор: Kazuhiko Hashimoto,Yasunori Uetani,Hiroaki Fujishima. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-19.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: TW200643628A. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-16.

Thermal flowing chemically amplified positive resist composition and method for forming pattern

Номер патента: TW539924B. Автор: Fumiyuki Nishiyama,Tsukasa Yamanaka. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-01.

Positive resist composition

Номер патента: TW528931B. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shinichi Kanna,Shoichiro Yasunami,Toshiaki Aoai. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-21.

Positive resist composition and pattern formation method using the positive resist composition

Номер патента: TW200728921A. Автор: Kaoru Iwato,Kunihiko Kodama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1703322A2. Автор: Fumiyuki Nishiyama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-20.

Positive resist composition and pattern formation method using the positive resist composition

Номер патента: TWI430030B. Автор: Kaoru Iwato,Kunihiko Kodama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-03-11.

Positive resist composition and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: JP4705897B2. Автор: 慶 山本,邦彦 児玉,薫 岩戸,優子 吉田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAMINATE, AND RESIST PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20170037167A1. Автор: WATANABE Satoshi,Masunaga Keiichi,Domon Daisuke,Kotake Masaaki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-02-09.

Resist compositions with polymers having 2-cyano acrylic monomer

Номер патента: US20040072099A1. Автор: Wenjie Li,Pushkara Varanasi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-15.

Resist compositions with polymers having 2-cyano acrylic monomer

Номер патента: EP1405140A1. Автор: Pushkara Rao Varanasi,Wenjie Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-04-07.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20140045122A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Positive resist composition for forming thick-film resist, thick-film resist laminate, and method of forming resist pattern

Номер патента: US8133653B2. Автор: Masahiro Masujima,Toshihiro Yamaguchi,Hiroshi Shimbori,Sachiko Yoshizawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-13.

Resist compositions with polymers having pendant groups containing plural acid labile moieties

Номер патента: WO2002088077A2. Автор: Wenjie Li,Margaret C. Lawson,Rao Varanasi Pushkara. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2002-11-07.

Positive resist composition

Номер патента: US5612170A. Автор: Yoshio Kawai,Jiro Nakamura,Toshinobu Ishihara,Akinobu Tanaka,Katsuya Takemura,Junji Tsuchiya. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1997-03-18.

Chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: EP2479611A3. Автор: Katsuya Takemura,Noriyuki Koike,Hiroyuki Yasudo. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-09.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: US20240027909A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Positive Resist Material And Patterning Process

Номер патента: US20240241442A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: EP3948418A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-02-09.

Resist compositions

Номер патента: US6709799B2. Автор: Kazuhiko Hashimoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-23.

Resist composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240069437A1. Автор: Jaemyoung Kim,Suk Koo Hong,Kyungoh KIM,Moo Hyun KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Positive Resist Material And Patterning Process

Номер патента: US20240168379A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20030175617A1. Автор: Yoshinori Hirano,Hideto Kato,Toshihiko Fujii,Hiromasa Yamaguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US6866982B2. Автор: Yoshinori Hirano,Hideto Kato,Toshihiko Fujii,Hiromasa Yamaguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-15.

Resist Composition and Resist Pattern Forming Method

Номер патента: US20200201176A1. Автор: Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Congque DINH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240272550A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi,Ryunosuke HANDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method for inspecting resist composition, method for producing resist composition, and resist composition

Номер патента: US20240201599A1. Автор: Kei Yamamoto,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Naohiro Tango. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Resist composition with enhanced X-ray and electron sensitivity

Номер патента: US20040191669A1. Автор: Arthur Snow,Robert Whitlock,Charles Dozier,Samuel Lambrakos. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2004-09-30.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: WO2020193686A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-10-01.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20140147790A1. Автор: Tomohiro Oikawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Chemically amplified resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: EP4204901A1. Автор: Rui Zhang,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-07-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20160231652A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-11.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: US20220163888A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-05-26.

Chemically amplified resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: US20230314943A1. Автор: Rui Zhang,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Patterning process and resist composition

Номер патента: US9029064B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Takeru Watanabe,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-12.

Resist composition with radiation sensitive acid generator

Номер патента: US5585220A. Автор: Hiroshi Ito,Richard A. Dipietro,Gregory Breyta,Donald C. Hofer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-12-17.

Resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20230408917A1. Автор: Masatoshi Arai,Yoshitaka Komuro,Takatoshi INARI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Negative resist composition and patterning process

Номер патента: EP2345934A3. Автор: Satoshi Watanabe,Akinobu Tanaka,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-12.

Resist composition and patterning process

Номер патента: EP1324134A3. Автор: H. Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Kato,Y. Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Hirano,T. Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Fujii,H. Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Yamaguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-11.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20240118619A1. Автор: Tomotaka Yamada,Keiichi IBATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TWI288299B. Автор: Akira Kamabuchi,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2007-10-11.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: KR101004276B1. Автор: 안도노부오,모리우마히로시,아라끼가오루,스에쯔구마스미. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-01-03.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: CN1645254A. Автор: 山口训史,桥本和彦,武元一树. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-27.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: US7205090B2. Автор: Ichiki Takemoto,Satoshi Yamaguchi,Kazuhiko Hashimoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-17.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: GB0207099D0. Автор: . Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-08.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TW200413844A. Автор: Masumi Suetsugu,Hiroshi Moriuma,Nobuo Ando,Kaoru Araki. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2004-08-01.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TWI290264B. Автор: Masumi Suetsugu,Hiroshi Moriuma,Nobuo Ando,Kaoru Araki. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2007-11-21.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: CN1645254B. Автор: 山口训史,桥本和彦,武元一树. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-12.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TWI296740B. Автор: Kunihiro Ichimura,Yasunori Uetani,Okudaira Tsugio,Suetsugu Masumi,Namba Katsuhiko. Владелец: Kunihiro Ichimura. Дата публикации: 2008-05-11.

NON-CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, NON-CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20170174801A1. Автор: HIRANO Shuji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2017-06-22.

Chemical amplification type positive photoresist composition

Номер патента: KR20080060545A. Автор: 박한우,유경욱. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2008-07-02.

Chemical amplification type positive photosensitive resin composition, method for producing substrate with casting mold, and method for producing plated molded article

Номер патента: JP2018151491A. Автор: 和明 海老澤,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Chemical amplification type positive photoresist composition

Номер патента: TWI311689B. Автор: Ken Miyagi,Takako Suzuki,Toshiaki Tachi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-01.

Chemical amplification type positive photoresist composition

Номер патента: TW200617601A. Автор: Ken Miyagi,Takako Suzuki,Toshiaki Tachi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-01.

Resist film, resist coated mask blanks and method of forming resist pattern using the resist film, and chemical amplification type resist composition

Номер патента: US20120214091A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-08-23.

Chemical amplification type negative-working resist composition for electron rays or x-rays

Номер патента: KR100725118B1. Автор: 아데가와유타카. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-06-04.

Resist film, resist coated mask blanks and method of forming resist pattern using the resist film, and chemical amplification type resist composition

Номер патента: US8614033B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-12-24.

A chemical amplification type resist composition

Номер патента: KR100962452B1. Автор: 요시다이사오,다까따요시유끼,나까니시히로또시. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2010-06-14.

Chemical amplification type negative-working resist composition for electron beams or X-rays

Номер патента: US20010036590A1. Автор: Yutaka Adegawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Chemical amplification type resist composition

Номер патента: US20040053171A1. Автор: Isao Yoshida,Hirotoshi Nakanishi,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

Chemical amplification type resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: KR970002472A. Автор: 코지 노자키,마코토 타카하시,에이 야노,케이지 와타나베,다카히사 나미키,미와 이가라시,요코 쿠라미쓰,사또시 다케치,아키코 코타치. Владелец: 후지쓰 가부시키카이샤. Дата публикации: 1997-01-24.

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD OF PATTERNED RESIST LAYER, PRODUCTION METHOD OF PLATED MOLDED ARTICLE, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND

Номер патента: US20210356863A1. Автор: Kuroiwa Yasushi,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-18.

PHOTOSENSITIZATION CHEMICAL-AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL, METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME, SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR LITHOGRAPHY, AND TEMPLATE FOR NANOIMPRINTING

Номер патента: US20160357103A1. Автор: OSHIMA Akihiro,NAGAHARA Seiji,TAGAWA Seiichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

High molecular polymer of chemical amplification type light resistance agent compsn.

Номер патента: CN1228359C. Автор: 李晏成,陈启盛,郑孟勋. Владелец: Everlight USA Inc. Дата публикации: 2005-11-23.

Reserve positive composition for chemical amplification type.

Номер патента: BE1014726A3. Автор: Takata Yoshiyuki,Moriuma Hiroshi. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2004-03-02.

A chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1225479B1. Автор: Yasunori Uetani,Junji Nakanishi,Katsuhiko Namba. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-05.

Chemical amplification resist composition, resist film using the same, resist-coated mask blank, method of forming photomask and pattern, and method of manufacturing electronic device and electronic device

Номер патента: KR101712044B1. Автор: 토모타카 츠치무라,코타로 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-03-03.

Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP1628159A2. Автор: Kenji Wada,Shinji Tarutani,Hyou Takahashi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-22.

Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2031445A2. Автор: Kenji Wada,Shinji Tarutani,Hyou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-04.

Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: US20060040208A1. Автор: Kenji Wada,Shinji Tarutani,Hyou Takahashi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-23.

Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP1628159B1. Автор: Kenji Wada,Shinji Tarutani,Hyou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-09-26.

Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP1628159A3. Автор: Kenji Wada,Shinji Tarutani,Hyou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-04-16.

Chemical amplification resist compositions and process for the formation of resist patterns

Номер патента: US20030073027A1. Автор: Keiji Watanabe,Takahisa Namiki,Yoko Kuramitsu,Ei Yano,Koji Nozaki,Miwa Igarashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Chemical amplification resist compositions

Номер патента: TW538088B. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Kazuhiro Hirahara,Takanobu Takeda,Wataru Kusaki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2003-06-21.

Chemical amplification resist compositions

Номер патента: US6737214B2. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Kazuhiro Hirahara,Akihiro Seki,Takanobu Takeda,Wataru Kusaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-18.

Amplification type positive resist composition

Номер патента: US20040029037A1. Автор: Akira Kamabuchi,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-02-12.

Positive resist composition and method of forming resist pattern using same

Номер патента: TW200510941A. Автор: Kazuyuki Nitta,Waki Ohkubo,Satoshi Shimatani. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-16.

Positive resist composition and method of forming resist pattern using same

Номер патента: TWI263869B. Автор: Kazuyuki Nitta,Waki Ohkubo,Satoshi Shimatani. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Silicone-based chemical-amplification positive-working photoresist composition

Номер патента: TWI282040B. Автор: Daisuke Kawana,Kazufumi Sato,Taku Hirayama,Tomotaka Yamada,Kouki Tamura. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-01.

Positive-working chemical-amplification photoresist composition

Номер патента: US20050042544A1. Автор: Kazufumi Sato,Katsumi Oomori,Hiroto Yukawa,Ryusuke Uchida. Владелец: Ryusuke Uchida. Дата публикации: 2005-02-24.

Chemical amplification positive type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, photosensitive dry film manufacturing method, patterned resist film manufacturing method, mold-provided substrate manufacturing method, and plated molded object manufacturing method

Номер патента: KR20220094114A. Автор: 아키야 가와우에,유스케 기시모토. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-07-05.

3-component chemical amplification photoresist composition

Номер патента: KR0164963B1. Автор: 박주현,김성주,김기대,서동철. Владелец: 김흥기. Дата публикации: 1999-01-15.

Chemical-amplification positive photoresist composition

Номер патента: CN101021683A. Автор: 武元一树,安藤信雄,藤裕介. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-22.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: US6239231B1. Автор: Yasunori Uetani,Hiroaki Fujishima,Karou Araki. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-05-29.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: TWI269118B. Автор: Masumi Suetsugu,Junji Nakanishi,Katsuhiko Namba. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2006-12-21.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: GB2373866B. Автор: Hiroshi Moriuma,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-26.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: EP1225479A2. Автор: Yasunori Uetani,Junji Nakanishi,Katsuhiko Namba. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-24.

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, RESIST PATTERN SPLITTING AGENT, SPLIT PATTERN IMPROVING AGENT, RESIST PATTERN SPLITTING MATERIAL, AND POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR FORMING SPLIT PATTERN

Номер патента: US20160091790A1. Автор: Hori Yoichi,MORI Takayoshi,WATANABE Ryoji,Tsunoda Rikita. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-31.

Positive resist composition and pattern forming method usnig the same

Номер патента: TW200725183A. Автор: Kazuyoshi Mizutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-07-01.

A chemically amplified positive resist composition

Номер патента: TW201005437A. Автор: Akira Kamabuchi,Takayuki Miyagawa,Junji Shigematsu,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2010-02-01.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: TWI267702B. Автор: Yasunori Uetani,Seong-Hyeon Kim. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2006-12-01.

Positive resist composition

Номер патента: TW594412B. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Toru Fujimori,Shinichi Kanna. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-21.

Positive resist composition and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: TW200846828A. Автор: Kenji Wada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-12-01.

Chemical amplification, positive resist compositions

Номер патента: US20010033994A1. Автор: Jun Watanabe,Akihiro Seki,Youichi Ohsawa,Takanobu Takeda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-25.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING PROCESS, AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20180039177A1. Автор: OHASHI Masaki,WATANABE Satoshi,Masunaga Keiichi,Kotake Masaaki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-02-08.

Chemical amplification-type resist composition and production process thereof

Номер патента: US7294450B2. Автор: Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-11-13.

Positive-working resist composition

Номер патента: US20020102492A1. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Satoshi Fujimura. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-01.

Positive resist composition and positive resist base material using the same

Номер патента: US6649322B2. Автор: Hiroto Yukawa,Satoshi Kumon. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-18.

Positive Resist Composition and Method of Forming Resist Pattern

Номер патента: US20080241747A1. Автор: Tomoyuki Ando,Kiyoshi Ishikawa,Takuma Hojo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-02.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US8530148B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-10.

Chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: EP2955576A1. Автор: Yoshinori Hirano,Katsuya Takemura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-16.

Positive resist composition comprising a quinone diazide sulfonic acid ester, a novolak resin and a polyphenol compound.

Номер патента: US5413895A. Автор: Hirotoshi Nakanishi,Koji Kuwana,Ayako Ida,Yasunori Uetani,Jun Tomioka. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1995-05-09.

Positive Resist Composition, Method For Resist Pattern Formation and Compound

Номер патента: US20080145784A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-19.

Positive resist compostion and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1975717A2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shuji Hirano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Color filter black matrix resist composition and carbon black dispersion composition used for the composition

Номер патента: EP1576418A1. Автор: Hirotoshi Showa Denko K. K. KAMATA,Masanao Showa Denko K. K. KAMIJO,Mina Showa Denko K. K. ONISHI. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2005-09-21.

Pattern forming method and resist composition

Номер патента: US20130011785A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

Nitrate polymers as positive resists

Номер патента: CA1044068A. Автор: Hiroyuki Hiraoka. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1978-12-12.

Method of forming an image with a positive resist

Номер патента: GB1481887A. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1977-08-03.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20160062236A1. Автор: Tomoyuki Hirano,Naoki Yamashita,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Negative resist compositions

Номер патента: CA1325353C. Автор: Jean M. J. Frechet,Robert David Allen,Carlton Grant Willson,Robert James Twieg. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Chemically amplified resist and a resist composition

Номер патента: US20030181629A1. Автор: Yong-Joon Choi,Hyeon-Jin Kim,Yoon-Sik Chung,Deog- Bae Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

Pattern forming method and resist composition

Номер патента: WO2011118855A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-09-29.

Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method

Номер патента: US20100330507A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kenji Wada,Shinji Tarutani,Wataru HOSHINO,Kazuyoshi Mizuyoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-12-30.

Resist composition and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20140273513A1. Автор: Koji Arimitsu,Nobuyuki Matsuzawa,Isao Mita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: US6846609B2. Автор: Yasunori Uetani,Kaoru Araki,Takakiyo Terakawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-25.

Chemical amplifying type positive resist composition and sulfonium salt

Номер патента: SG166668A1. Автор: Akira Kamabuchi,Yasunori Uetani,Kenji Oohashi. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2010-12-29.

Resist Material, Resist Composition, Patterning Process, And Monomer

Номер патента: US20240361690A1. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Monomer, Resist Material, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20240360069A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Tomomi Watanabe,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Acetal modifier, polymer, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240329532A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Acetal modifier, polymer, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: EP4455118A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Chemical amplification resist composition, and resist film, resist-coated mask blank, resist pattern forming method and photomask each using the composition

Номер патента: KR20130012916A. Автор: 토모타카 츠치무라,타다테루 야츠오. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-02-05.

Novel Polymers, Chemical Amplification Resist Compositions and Patterning Process

Номер патента: KR100594564B1. Автор: 준 하따께야마,준 와따나베,유지 하라다. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-06-30.

Chemical amplification negative resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: CN110531580A. Автор: 小竹正晃,增永惠一,渡边聪. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-03.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same

Номер патента: US7862980B2. Автор: Yukako Harada,Isao Yoshida,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-04.

Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same

Номер патента: US7611822B2. Автор: Ichiki Takemoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-03.

Solubilization-inhibitor and positive resist composition

Номер патента: US5202217A. Автор: Takashi Taniguchi,Shinji Sato,Masaaki Todoko,Toru Seita,Katuya Shibata. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 1993-04-13.

Method of forming resist pattern, positive resist composition, and layered product

Номер патента: EP1583998A3. Автор: Hideo c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. HADA,Takeshi c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Iwai,Miwa c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. MIYAIRI,Naotaka c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. KUBOTA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-23.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12072627B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Polymer compound, negative resist composition, laminate, patterning process, and compound

Номер патента: US09969829B2. Автор: Koji Hasegawa,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method

Номер патента: US20030235779A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Youichi Ohsawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-25.

Resist compositions and semiconductor fabrication methods using the same

Номер патента: US20210181628A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Hyunwoo Kim,Naoto Umezawa,Thanh Cuong Nguyen,Daekeon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12117728B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Positive resist composition, positive resist composition for thermal flow, and resist pattern forming method

Номер патента: US7741008B2. Автор: Hideo Hada,Yusuke Nakagawa,Sanae Furuya,Akiyoshi Yamazaki. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-22.

Positive resist composition, positive resist composition for thermal flow process, and method for formation of resist patterns

Номер патента: WO2007046388A1. Автор: Hideo Hada,Yusuke Nakagawa,Sanae Furuya,Akiyoshi Yamazaki. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2007-04-26.

Positive Resist Material And Patterning Process

Номер патента: US20240168378A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and compound

Номер патента: US20190163057A1. Автор: Masatoshi Arai,Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230305391A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230305392A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09958777B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Compound, polymer compound, resist composition, and patterning process

Номер патента: US09897916B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Polymer, positive resist composition, and patterning process

Номер патента: TW201233695A. Автор: Ryosuke Taniguchi,Tomohiro Kobayashi,Takayuki Nagasawa,Youichi Ohsawa,Seiichiro Tachibana,Kenji Funatsu. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2012-08-16.

Positive resist composition and pattern formation method using the positive resist composition

Номер патента: KR101185037B1. Автор: 쿠니히코 코다마,카오루 이와토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-09-21.

Novel Sulfonium Salt, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20230418158A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Novel sulfonium salt, resist composition, and patterning process

Номер патента: EP4279991A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20210141306A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Negative resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20230076505A1. Автор: Jun Hatakeyama,Hiroki Nonaka,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20210026244A1. Автор: Hoshino Manabu. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2021-01-28.

Polymer, positive resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190056664A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12001139B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20210286261A1. Автор: Satoshi Yamaguchi,Koji Ichikawa,Yukako ANRYU. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11693313B2. Автор: Takahiro Kojima,Masahito YAHAGI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Polymer, monomer, resist composition, and patterning process

Номер патента: US9790166B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230418159A1. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230314941A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230314939A1. Автор: Koji Ichikawa,Masahiko Shimada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Compound, polymer compound, resist composition, and patterning process

Номер патента: US20170038683A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11820735B2. Автор: Koji Ichikawa,Yukako ANRYU. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Onium salt, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20240103364A1. Автор: Kenji Yamada,Masahiro Fukushima,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and compound

Номер патента: US20190384175A1. Автор: Masatoshi Arai,Takaya Maehashi,Koshi ONISHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Resist composition

Номер патента: US20210263411A1. Автор: Songse YI,Hyunwoo Kim,Ju-Young Kim,Juhyeon Park,Su Min Kim,Hyunji SONG,Suk Koo Hong,Yechan KIM,JinJoo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-26.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240210824A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi,Haruka Homma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Carboxylate, carboxylic acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240210823A1. Автор: Koji Ichikawa,Shohei Terahigashi,Haruka Homma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Radiation-sensitive positive resist composition

Номер патента: CA2036812A1. Автор: Takeshi Hioki,Yasunori Uetani,Yasunori Doi,Seiko Kurio. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1991-08-24.

Negative resist composition, method of forming resist pattern and complex

Номер патента: US20160259244A1. Автор: Daiju Shiono,Yoshiyuki Utsumi,Naoki Yamashita,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-08.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20230266666A1. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro,Saki Kato. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Resist composition and resist pattern formation method

Номер патента: US20240264527A1. Автор: Hiroki Kato,Tetsuya Matsushita,Yuuki Fujimoto,Takuya Uehara,Junichi Miyakawa,KhanhTin NGUYEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor resist composition, and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US11789361B2. Автор: Kyung Soo Moon,Seungyong Chae,Ran Namgung,Jaehyun Kim,Hwansung CHEON,Yoong Hee Na. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Semiconductor resist composition, and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US11789362B2. Автор: Kyung Soo Moon,Seungyong Chae,Ran Namgung,Jaehyun Kim,Hwansung CHEON,Yoong Hee Na. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Positive resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2040122A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Positive resist composition and pattern-forming method using the same

Номер патента: US7611820B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-11-03.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US8841059B2. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-09-23.

Electron beam exposed positive resist mask process

Номер патента: CA1173689A. Автор: James J. Colacino,Ronald A. Leone. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-09-04.

Resist composition

Номер патента: EP1810084A1. Автор: Sheng Wang,Sanlin Hu,Eric Scott Moyer,Sina Maghsoodi. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2007-07-25.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US20120115084A1. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-05-10.

Negative resist composition

Номер патента: US7432034B2. Автор: Shoichiro Yasunami,Koji Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-07.

Negative resist pattern forming method, developer and negative chemical-amplification resist composition used therefor, and resist pattern

Номер патента: KR101730486B1. Автор: 히데아키 츠바키,아키라 아사노,토루 츠치하시,타다테루 야츠오,코지 시라카와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-26.

Polymer for chemical amplification negative photoresist and photoresist composition

Номер патента: KR100749494B1. Автор: 이범욱,유승준,임익철. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2007-08-14.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-30.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: EP2689292A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240118613A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4336261A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa,Keichii MASUNAGA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US10012902B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-03.

Polysiloxane compounds and positive resist compositions

Номер патента: US5691396A. Автор: Osamu Watanabe,Toshinobu Ishihara,Katsuya Takemura,Junji Tsuchiya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-11-25.

Pattern forming method, laminate, and resist composition for organic solvent development

Номер патента: US20180120706A1. Автор: Keita Kato,Takashi Yakushiji,Tadashi Omatsu,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound and method of producing polymeric compound

Номер патента: US20130316285A1. Автор: Daichi Takaki,Masatoshi Arai,Yoshiyuki Utsumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-28.

Positive resists containing dimethylglutarimide units

Номер патента: CA1072243A. Автор: Joachim Bargon,Hiroyuki Hiraoka,Edward Gipstein. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1980-02-19.

Resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20190361346A1. Автор: Masatoshi Arai,Takuya Ikeda,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro,Mari MURATA,Nobuhiro MICHIBAYASHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid generator

Номер патента: US20240210825A1. Автор: Tatsuya Fujii,KhanhTin NGUYEN,Mari MURATA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240192591A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and resin

Номер патента: US20220206385A1. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Onium salt, chemically amplified negative resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US11773059B2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Ryosuke Taniguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Resist composition, patterning process, monomer, and copolymer

Номер патента: US20130309606A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Polymer compound, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and production method thereof, layered product, patterning process, and substrate

Номер патента: US20150056545A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Novel salt compound, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20200159115A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi,Yuki Kera. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Polymers, resist compositions and patterning process

Номер патента: US20010051316A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Mutsuo Nakashima,Takeshi Kinsho,Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-13.

Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and resin

Номер патента: US12111574B2. Автор: Takuya Ikeda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Sulfonium-Salt-Type Polymerizable Monomer, Polymer Photoacid Generator, Base Rein, Resist Composition, And Patterning Process

Номер патента: US20230375928A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, patterning process, and sulfonium salt monomer and making method

Номер патента: US20140296561A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Youichi Ohsawa,Seiichiro Tachibana. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Salt compound, resist composition and patterning process

Номер патента: US20230205083A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Tomomi Watanabe,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Resist composition for euv or eb and method of forming resist pattern

Номер патента: US20140093824A1. Автор: Daisuke Kawana,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Jun Iwashita,Kenri KONNO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Positive-type resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher, and polymeric compound

Номер патента: US9766541B2. Автор: Daisuke Kawana,Masatoshi Arai,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Resist composition comprising a siloxane or silsesquioxane polymer having silanol groups in a composition with a naphthoquinone compound

Номер патента: US5389492A. Автор: Atsushi Sakamoto,Akinobu Tanaka,Tadayoshi Kokubo,Hiroshi Ban. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1995-02-14.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20210181632A1. Автор: Yasuo Someya,Takaaki Kaiho,Minoru ADEGAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20200218154A1. Автор: Kenji Yamada,Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Takeshi Sasami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Method of forming resist pattern, resist composition and method of producing the same

Номер патента: US11754926B2. Автор: Eiichi Shimura. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Onium salt compound, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US11762287B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Kenichi Oikawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US11977330B2. Автор: Yasuo Someya,Takaaki Kaiho,Minoru ADEGAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240118610A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Amine compound, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240184200A1. Автор: Masahiro Fukushima,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Compound, polymeric compound, acid generator, resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US9005874B2. Автор: Masatoshi Arai,Yoshiyuki Utsumi,Akiya Kawaue,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-14.

Compound and method of producing the same, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US9034556B2. Автор: Yasuhiro Yoshii,Hiroaki Shimizu,Hideo Hada,Yoshiyuki Utsumi,Kyoko Ohshita,Keita Ishiduka,Kensuke Matsuzawa,Fumitake Kaneko. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-19.

Resist composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20190204739A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Takashi Nagamine,Kazuishi Tanno. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Iodized aromatic carboxylic acid type pendant-containing polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US11815814B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11774853B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US11822241B2. Автор: Koji Ichikawa,Katsuhiro Komuro,Takashi Nakakoji. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Polyhydric compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US8071270B2. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Alcohol compound, chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4258056A3. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Alcohol compound, chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4258056A2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Onium salt, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20240176236A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Sulfonium salt, resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240176238A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masaki Ohashi,Yuki Suda,Tatsuya Yamahira. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Polyhydric compound and chemically amplified resist composition containing the same

Номер патента: US20090220886A1. Автор: Ichiki Takemoto,Nobuo Ando. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-03.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, COMPOUND USED FOR SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION

Номер патента: US20150168838A1. Автор: KANDA Hiromi,KANNA Shinichi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-06-18.

Positive resist composition and base material carrying layer of the positive resist composition

Номер патента: US20020025495A1. Автор: Hiroshi Komano,Toshiyuki Ogata,Koutaro Endo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-28.

Resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and compound

Номер патента: US20200209741A1. Автор: Junichi Tsuchiya,Kotaro Endo,Hideto Nito,Masafumi FUJISAKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Negative resist composition

Номер патента: EP4130877A1. Автор: Tomohiro Nakayama,Tetsuo Akasaka,Takuma Aoki,Taku MIYAZAWA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US11782343B2. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20220057713A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Ester compounds and their preparation, polymers, resist compositions and patterning process

Номер патента: US7998657B2. Автор: Masaki Ohashi,Takeshi Kinsho,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-16.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US11822245B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tomomi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Cyclic acetal compound, polymer, resist composition and patterning process

Номер патента: US6515150B2. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Koji Hasegawa,Mutsuo Nakashima,Takeshi Kinsho,Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-04.

Water-insoluble coloring compound, ink, thermal transfer recording sheet, and color filter resist composition

Номер патента: US20140349036A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou,Takayuki Ujifusa,Yuko Katsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-11-27.

Chemical amplification type positive photoresist composition and resist pattern forming method using the same

Номер патента: TW200502694A. Автор: Isamu Takagi,Kazuhiko Nakayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-16.

Chemical amplification type resist composition and acid generating agent used therefor

Номер патента: JPH1090901A. Автор: Kazufumi Sato,寿昌 中山,Hideo Haneda,充 佐藤,Katsumi Omori,Mitsuru Sato,克実 大森,英夫 羽田,文武 金子,和史 佐藤,Toshimasa Nakayama,Fumitake Kaneko. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1998-04-10.

Silicon-containing chemical amplification type resist composition

Номер патента: JPH10282678A. Автор: Sang-jun Choi,相俊 崔,春根 朴,海元 李,Chun-Geun Park,Hai-Won Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-10-23.

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD, PHOTOMASK AND POLYMER COMPOUND

Номер патента: US20130302726A1. Автор: Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-14.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20130202999A1. Автор: IWATO Kaoru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-08-08.

RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, CROSSLINKABLE NEGATIVE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, RESIST FILM AND RESIST-COATED MASK BLANKS

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru,Takahashi Koutarou,TSUCHIHASHI Toru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-01-30.

Pattern forming method, chemical amplification resist composition and resist film

Номер патента: TW201144931A. Автор: Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-16.

Pattern forming method, pattern, chemical amplification resist composition and resist film

Номер патента: KR101705673B1. Автор: 소우 카미무라,유이치로 에노모토,신지 타루타니,카오루 이와토,케이타 카토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-02-10.

Pattern forming method, pattern, chemical amplification resist composition and resist film

Номер патента: TW201132654A. Автор: Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-10-01.

Chemical amplification resist composition

Номер патента: KR100781067B1. Автор: 후지와라다다유키,와키사카유키야,도오야마마사유키. Владелец: 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-11-30.

Positive resist composition and pattern forming method

Номер патента: EP2140306A1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Toshiaki Fukuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-01-06.

Chemical amplification photoresist composition based on acid-sensitive epoxy monomer and application thereof

Номер патента: CN114815505A. Автор: 李博,陆新宇,杨贯文. Владелец: Enotu Hangzhou New Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-07-29.

Positive-working chemical-amplification photoresist composition

Номер патента: EP0985975A1. Автор: Katsumi Oomori,Ryusuke Uchida,Hiroto Yukuwa,Yukihiko Sawayanagi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2000-03-15.

Photosensitization chemical amplification resist (ps-car) simulation

Номер патента: JP2022027791A. Автор: Carcasi Michael,Seiji Nagahara,誠司 永原,精一 田川,H Somervell Mark,Seiichi Tagawa,ピー． プリンツ，ウォレス,M Rathsack Benjamen,カルカッシ，マイケル,ラスサック，ベンジャミン，エム．,サマヴェル，マーク，エイチ．,P Printz Wallace. Владелец: Tokyo Electron US Holdings Inc. Дата публикации: 2022-02-14.

Chemical amplification resist

Номер патента: KR19980080093A. Автор: 토시로 이타니. Владелец: 닛폰덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 1998-11-25.

Chemical Amplification Resist

Номер патента: KR100297381B1. Автор: 토시로 이타니. Владелец: 닛본 덴기 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2001-11-22.

For the chemical-amplification positive anti-corrosion agent composition and patterning method of EB or EUV lithographic printings

Номер патента: CN104330955B. Автор: 增永惠,增永惠一,渡边聪,田中启顺,土门大将. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-25.

Positive-working chemical-amplification photoresist composition

Номер патента: US20040191677A1. Автор: Katsumi Oomori,Hiroto Yukawa,Ryusuke Uchida,Yukihiro Sawayanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-30.

Positive resist composition for forming thick resist film, thick resist laminate, and resist pattern forming method

Номер патента: JP4937594B2. Автор: 博 新堀,正宏 増島,敏弘 山口,佐智子 吉澤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-23.

Positive resist composition for thick-film resist film forming, thick-film resist laminated product, and method for forming resist pattern

Номер патента: TW200745757A. Автор: Masahiro Masujima,Toshihiro Yamaguchi,Hiroshi Shimbori,Sachiko Yoshizawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-16.

Positive resist composition for forming thick resist film, object coated with thick resist, and method of forming resist pattern

Номер патента: KR101039545B1. Автор: 도시히로 야마구치,마사히로 마스지마,히로시 심보리,사치코 요시자와. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-06-09.

Positive resist composition for immersion exposure and method for forming pattern using the same

Номер патента: TW200534042A. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-16.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: TW201237017A. Автор: Masaki Ohashi,Ryosuke Taniguchi,Tomohiro Kobayashi,Takayuki Nagasawa. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2012-09-16.

Positive resist composition, multilayer resist material and resist pattern forming method using the same

Номер патента: JP3679206B2. Автор: 寿昌 中山,和行 新田,和史 佐藤,晃義 山崎,与日 坂井. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-03.

Positive resist composition

Номер патента: US5451484A. Автор: Hiroshi Moriuma,Kyoko Nagase,Haruyoshi Osaki. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1995-09-19.

Radiation-sensitive positive resist composition comprising a 1,2-quinone diazide compound, an alkali-soluble resin and a polyphenol compound

Номер патента: US5861229A. Автор: Takeshi Hioki,Yasunori Uetani,Makoto Hanabata,Fumio Oi,Haruyoshi Osaki. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-01-19.

Resist composition

Номер патента: CA1337627C. Автор: Hirotoshi Nakanishi,Koji Kuwana,Yasunori Uetani,Makoto Hanabata,Fumio Oi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1995-11-28.

Thermally stable positive resist

Номер патента: CA1265948A. Автор: Medhat A. Toukhy. Владелец: Olin Hunt Specialty Products Inc. Дата публикации: 1990-02-20.

Lithographic resist composition for a lift-off process

Номер патента: US4284706A. Автор: Carlton G. Willson,Barbara D. Grant,Nicholas J. Clecak. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1981-08-18.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: KR100885223B1. Автор: 우에타니야스노리,야마다아이리,스에츠구마스미. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-02-24.

A chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TW200407668A. Автор: Koshiro Ochiai,Yoshiyuki Takata,Young-Joon Lee. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2004-05-16.

Positive resist composition of chemical amplification type, resist coated material, method of forming resist pattern, and process for producing semiconductor device

Номер патента: EP1400853A4. Автор: Kazuyuki Nitta,Takeyoshi Mimura,Satoshi Shimatani,Tatsuya Matsumi,Waki Okubo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-12.

Chemical amplification-type positive-working or negative-working photoresist composition for low-temperature dry etching and method for photoresist pattern formation using the same

Номер патента: TW200836009A. Автор: Koji Saito,Koichi Misumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-01.

Chemical amplification-type resist composition and production process thereof

Номер патента: EP1748318A3. Автор: Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-02-02.

Chemical amplification-type resist composition and production process thereof

Номер патента: KR101453350B1. Автор: 신지 타루타니. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-10-21.

Organic processing liquid for patterning chemical amplification resist film, container for organic processing liquid for patterning chemical amplification resist film, and pattern forming method, method of manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US10705428B2. Автор: Tsukasa Yamanaka,Takashi Kawamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-07-07.

Thick film or ultrathick film responsive chemical amplification type photosensitive resin composition

Номер патента: EP1688793A4. Автор: Yoshinori Nishiwaki,Toshimichi Makii,Kazumichi Akashi. Владелец: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-21.

Pattern forming method, chemical amplification resist composition and resist film

Номер патента: KR20130038816A. Автор: 신지 타루타니,카나 후지이. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-04-18.

PHOTOLITHOGRAPHY METHOD USING CHEMICAL AMPLIFICATION RESIN

Номер патента: FR2979716A1. Автор: Benedicte Mortini. Владелец: STMicroelectronics Crolles 2 SAS. Дата публикации: 2013-03-08.

Chemical-amplification positive-working photoresist composition

Номер патента: TWI308259B. Автор: Kazuyuki Nitta,Naoto Motoike. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-01.

Positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW200530749A. Автор: Taku Hirayama,Tomotaka Yamada,Toshikazu Takayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-16.

Positive resist composition for manufacturing LCD and method for forming resist pattern

Номер патента: TW200428150A. Автор: Toshihiro Yamaguchi,Satoshi Niikura,Masaki Kurihara. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2004-12-16.

Positive resist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW200710574A. Автор: Masaru Takeshita,Ryotaro Hayashi,Yoshiyuki Utsumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-16.

Positive resist composition and positive resist base material using the same

Номер патента: TW573226B. Автор: Hiroto Yukawa,Satoshi Kumon. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2004-01-21.

Negative resist process with simultaneous development and chemical amplification of resist structures

Номер патента: DE10131489B4. Автор: Jörg Dr. Rottstegge. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-04-12.

Chemical amplification photoresist composition, photoresist layer laminate, method for producing photoresist composition, method for producing photoresist pattern and method for producing connecting terminal

Номер патента: EP1818722A4. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-17.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20140072905A1. Автор: Inasaki Takeshi,Tsuchimura Tomotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-03-13.

Chemical amplification photoresist composition, photoresist layer laminate, method for producing photoresist composition, method for producing photoresist pattern and method for producing connecting t

Номер патента: CN1842741A. Автор: 鹫尾泰史,斋藤宏二. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-04.

Container for organic treatment solution for forming structure of resistol film of chemical amplification, and method of forming structure, method of manufacturing electronic device

Номер патента: RU2615158C2. Автор: Цукаса ЯМАНАКА,Такаси КАВАМОТО. Владелец: Фуджифилм Корпорэйшн. Дата публикации: 2017-04-04.

Chemical amplification photoresist composition, photoresist layer laminate, method for producing photoresist composition, method for producing photoresist pattern and method for producing connecting terminal

Номер патента: WO2006059392A1. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2006-06-08.

Chemical-amplification positive-working photoresist composition

Номер патента: TW200416488A. Автор: Kazuyuki Nitta,Naoto Motoike. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2004-09-01.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: KR100888557B1. Автор: 우에타니야스노리,미야요시코,후지시마히로아키. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-03-16.

Chemical amplifying type positive resist composition

Номер патента: TWI222439B. Автор: Yoshiko Miya,Yasunori Uetani,Hiroaki Fujishima. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2004-10-21.

Chemically amplified positive resist composition and patterning process

Номер патента: TW201245883A. Автор: Hiroyuki Yasuda,Katsuya Takemura. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2012-11-16.

A chemically amplified positive resist composition

Номер патента: TWI375116B. Автор: Kouji Toishi,Satoshi Yamaguchi,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2012-10-21.

Positive resist composition

Номер патента: TW200421027A. Автор: Tasuku Matsumiya,Kiyoshi Ishikawa,Mitsuru Sato,Naotaka Kubota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-16.

METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC PROCESSING FLUID FOR PATTERNING OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, ORGANIC PROCESSING FLUID FOR PATTERNING OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20160026088A1. Автор: KAWAMOTO Takashi,Yamanaka Tsukasa,IGUCHI Naoya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-01-28.

Chemical amplification type resist composition

Номер патента: US20080269506A1. Автор: Airi Yamada,Akira Kamabuchi,Yasunori Uetani. Владелец: Yasunori Uetani. Дата публикации: 2008-10-30.

Pattern forming method, chemical amplification resist composition and resist film

Номер патента: SG176867A1. Автор: Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-01-30.

Silsesquioxane resin, positive resist composition, layered product including resist, and method of forming resist pattern

Номер патента: KR100725430B1. Автор: 츠요시 나카무라,다쿠 히라야마,다이스케 가와나,고키 다무라,도모타카 야마다,다카유키 호소노. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-06-07.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4325292A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa,Keichii MASUNAGA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240094635A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Polymers and chemically amplified positive resist compositions

Номер патента: US5844057A. Автор: Osamu Watanabe,Toshinobu Ishihara,Yoshihumi Takeda,Junji Tsuchiya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-01.

Pigment dispersion, ink composition including pigment dispersion, and color filter yellow resist composition including pigment dispersion

Номер патента: EP2707436A1. Автор: Masao Nakano,Satoshi Saito,Takeshi Miyazaki,Kaoru Takahashi,Yutaka Tani,Masashi Hirose,Taichi Shintou,Takayuki Ujifusa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-03-19.

Solder resist composition, dry film, printed wiring board, and methods for manufacturing same

Номер патента: US20240061334A1. Автор: Jin Kim,So Young Kim,Na Ra LEE,Jun Young Hwang,Seok Bong LIM,Jong Chul KWON,Young Ho SA,Byeong Jun CHOI,Joon Seok Kim. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Korea Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Chemically amplified resist composition

Номер патента: GB2446687A. Автор: Takayuki Miyagawa,Yoshiyuki Takata,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Method of producing polymeric compound, resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US8987386B2. Автор: Takahiro Dazai,Masatoshi Arai,Yoshiyuki Utsumi,Takaaki Kaiho. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-24.

Chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240192596A1. Автор: Jun Hatakeyama,Masahiro Fukushima,Naoki Ishibashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Chemical amplification type positive photosensitive resin composition, a photosensitive dry film, a method for producing a photosensitive dry film, a method for producing a patterned resist film, a method of manufacturing a template with a substrate, and a method of manufacturing a plated shaped product, and a Mercapto compound

Номер патента: US11061326B2. Автор: Akiya Kawaue,Shota Katayama,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-13.

Resist composition for use in chemical amplification and method for forming a resist pattern thereof

Номер патента: US20010036594A1. Автор: Keiji Watanabe,Ei Yano,Koji Nozaki,Miwa Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2001-11-01.

Method of Forming a Relief Pattern by E-Beam Lithography Using Chemical Amplification, and Derived Articles

Номер патента: US20110045387A1. Автор: Qinghuang Lin,Ratnam Sooriyakumaran,Alshakim Nelson,Robert D. Allen,Phillip Brock,Luisa Bozano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-02-24.

Positive resist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US8105747B2. Автор: Yasuhiro Yoshii,Hiroaki Shimizu,Yoshiyuki Utsumi,Kyoko Ohshita. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-31.

Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20140255833A1. Автор: Hiroyuki Yasuda,Katsuya Takemura,Shohei Tagami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-11.

Process and apparatus for recovering and reusing resist composition

Номер патента: US5084483A. Автор: Kiyoto Mori,Tsugio Saito,Shiro Shimauchi,Asaaki Yamashita. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 1992-01-28.

Resist composition, resist protective coating composition, and patterning process

Номер патента: US8057981B2. Автор: Jun Hatakeyama,Kazunori Maeda,Tomohiro Kobayashi,Yuji Harada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-15.

Negative resist composition and patterning process

Номер патента: US20140051025A1. Автор: Satoshi Watanabe,Akinobu Tanaka,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD OF FORMING PHOTOMASK AND PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150072274A1. Автор: Tsuchimura Tomotaka,Takahashi Koutarou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-03-12.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20140205947A1. Автор: IWATO Kaoru,Kato Keita. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-24.

CHEMICAL AMPLIFICATION METHODS AND TECHNIQUES FOR DEVELOPABLE BOTTOM ANTI-REFLECTIVE COATINGS AND DYED IMPLANT RESISTS

Номер патента: US20180315596A1. Автор: Scheer Steven,Carcasi Michael A.,Hooge Joshua S.,Rathsack Benjamen M.,Somervell Mark H.. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

Chemical amplification methods and techniques for developable bottom anti-reflective coatings and dyed implant resists

Номер патента: JP2019215562A. Автор: Scheer Steven,H Somervell Mark,シェーア，スティーヴン,カーカシ，マイケル，エー,A Carcasi Michael,ラスサック，ベンジャミン，エム,M Rathsack Benjamen,ソマーヴェル，マーク，エイチ,フーゲ，ジョシュア，エス,S Hooge Joshua. Владелец: Tokyo Electron US Holdings Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Chemical amplification type positive resist composition

Номер патента: TWI263866B. Автор: Yasunori Uetani,Hiroki Inoue. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2006-10-11.

Chemical amplification type positive photosensitive polyimide coating adhesive and preparation method and application thereof

Номер патента: CN114874441B. Автор: 杨士勇,贾斌,孙朝景,王立哲,曹雪媛. Владелец: Minseoa Beijing Advanced Materials Development Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-01.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: TW201239535A. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-10-01.

Chemical amplification type light resistance composition, photoresistance film, blank light shield, photoresistance pattern formation method, light shield and polymerizable compound

Номер патента: CN103329045B. Автор: 土村智孝,八尾忠辉. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-08-11.

Chemical amplification resist composition, resist film using the composition, resist-coated mask blanks, resist pattern forming method, photomask and polymer compound

Номер патента: US9625813B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Photosensitization chemical-amplification type resist material, method for forming pattern using same, semiconductor device, mask for lithography, and template for nanoimprinting

Номер патента: CN106030417A. Автор: 永原诚司,田川精,田川精一,大岛明博. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2016-10-12.

Photosensitization chemical-amplification type resist material, method for forming pattern using same, semiconductor device, mask for lithography, and template for nanoimprinting

Номер патента: WO2015125788A1. Автор: 誠司 永原,精一 田川,大島　明博. Владелец: 国立大学法人大阪大学. Дата публикации: 2015-08-27.

Positive resist composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP4098672A4. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-12.

Method for forming resist pattern, resist pattern splitting agent, split pattern improving agent, resist pattern splitting material, and positive resist composition for forming split pattern

Номер патента: KR102445499B1. Автор: 다카요시 모리,리키타 츠노다,요이치 호리,료지 와타나베. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-09-20.

Method for forming resist pattern, resist pattern splitting agent, split pattern improving agent, resist pattern splitting material, and positive resist composition for forming split pattern

Номер патента: KR20160037106A. Автор: 다카요시 모리,리키타 츠노다,요이치 호리,료지 와타나베. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-04-05.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: TW200916961A. Автор: Kazuhiko Hashimoto,Masumi Suetsugu,Makoto Akita. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2009-04-16.

5-methylene-1,3,-dioxolane-4-one inducer, doubling body, chemical amplification type anti-corrosion composition and forming method

Номер патента: CN1413992A. Автор: 大竹敦,加门良启,百濑阳,藤原匡之,安齐龙一,桑野英昭. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-30.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20170369616A1. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Kazuya HONDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-28.

Solder resist composition, board for package comprising solder resist opening using the composition, and method for preparing the board for package

Номер патента: US20130089703A1. Автор: Tae Ho Kim,Cheol Ho Choi,Da Hye KIM,Dae Jo HONG,Chang Bo Lee,Archana S. Patole,Jeong Min Hyeon. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-11.

Patterning process and resist composition

Номер патента: US20140051026A1. Автор: Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masayoshi Sagehashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

Water-insoluble coloring compound, ink, thermal transfer recording sheet, and color filter resist composition

Номер патента: US20140370207A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou,Takayuki Ujifusa,Yuko Katsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-12-18.

Positive resist composition and patterning process

Номер патента: TW200421030A. Автор: Tomoyoshi Furihata,Hideto Kato. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2004-10-16.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: US20160238756A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-18.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: WO2015046618A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-04-02.

Slip-resistant compositions with optical wear indication

Номер патента: US20240150591A1. Автор: Steven W. Hicks. Владелец: Cavana Holdings LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Slip-resistant compositions with optical wear indication

Номер патента: WO2024097401A1. Автор: Steven W. Hicks. Владелец: Cavana Holdings, LLC. Дата публикации: 2024-05-10.

Dye compound, ink, and resist composition for color filter

Номер патента: US09910196B2. Автор: Takeshi Miyazaki,Takeshi Sekiguchi,Shosei Mori,Taichi Shintou. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Coloring compound and ink, color filter resist composition, and thermal transfer recording ink sheet containing said coloring compound

Номер патента: WO2014030767A1. Автор: Takeshi Miyazaki,Ryuji Higashi,Taichi Shintou,Akiko Kitao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2014-02-27.

Silicone skeleton-containing polymer compound, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and method for producing same, patterning process, layered product, substrate, and semiconductor apparatus

Номер патента: US20160200877A1. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-14.

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIN COMPOSITION.

Номер патента: BE1018262A3. Автор: Takayuki Miyagawa,Yoshiyuki Takata,Kunishige Edamatsu. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2010-08-03.

ORGANIC PROCESSING LIQUID FOR PATTERNING CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST FILM, CONTAINER FOR ORGANIC PROCESSING LIQUID FOR PATTERNING CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST FILM, AND PATTERN FORMING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20150227049A1. Автор: KAWAMOTO Takashi,Yamanaka Tsukasa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-08-13.

Chemical amplification of photoresist, used as mask in microchip manufacture, uses resist based on polymer with acid-labile groups and anchor groups, liquid medium in coupling with amplification agent and water for final wash

Номер патента: DE10208786A1. Автор: Michael Sebald,Joerg Rottstegge,Gertrud Falk,Ernst Richter,Siew Siew Yip,Kerstin Seibold,Marion Kern. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Amplification Methods and Techniques for Developable Bottom Anti-reflective Coatings and Dyed Implant Resists

Номер патента: US20150241782A1. Автор: Scheer Steven,Carcasi Michael A.,Hooge Joshua S.,Rathsack Benjamen M.,Somervell Mark H.. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-27.

LITHOGRAPHIC PROCESS USING A CHEMICAL AMPLIFICATION RESIN AND COMPRISING STEPS FOR LIMITING RESIN LEAK

Номер патента: FR2841004B1. Автор: Benedicte Mortini. Владелец: STMICROELECTRONICS SA. Дата публикации: 2004-12-17.

High adhesion resistive composition

Номер патента: EP3942578A1. Автор: Ponnusamy Palanisamy,Andrew SCHUSTER. Владелец: Ferro Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Innocent until proven guilty (IUPG): adversary resistant and false positive resistant deep learning models

Номер патента: US11856003B2. Автор: Yuchen Zhou,II William Redington Hewlett,Oleksii Starov,Brody James Kutt. Владелец: Palo Alto Networks Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Innocent until proven guilty (iupg): adversary resistant and false positive resistant deep learning models

Номер патента: US20240064156A1. Автор: Yuchen Zhou,II William Redington Hewlett,Oleksii Starov,Brody James Kutt. Владелец: Palo Alto Networks Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Enhancing PRS searches for shorter LPP-type positioning sessions

Номер патента: US09949067B2. Автор: Suresh Kumar Bitra. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for imprinting ophthalmic laminates and resist composition therefor

Номер патента: EP4454872A1. Автор: Aref Jallouli,Zbigniew Tokarski,Elliot FRENCH,Burcin Ikizer. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2024-10-30.

Lift-type positioning structure for bracket of computer interface card

Номер патента: US6960720B2. Автор: Yu Wen-Lung. Владелец: Shuttle Inc. Дата публикации: 2005-11-01.

Electromagnetic induction type position detector

Номер патента: US20190170538A1. Автор: Tomohiro Tahara. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Hanging type positioning and supporting device for laser level

Номер патента: EP3636980A1. Автор: Min Xu. Владелец: Zhejiang Shijing Tools Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-15.

Optical-type position and posture detecting device

Номер патента: US5510893A. Автор: Toru Suzuki. Владелец: Digital Stream Corp. Дата публикации: 1996-04-23.

Magnetic Inductive Type Position Sensor

Номер патента: US20130141083A1. Автор: Changhwan Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Magnetic inductive type position sensor

Номер патента: US9116017B2. Автор: Changhwan Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-25.

Electrostatic capacitance-type position detection device

Номер патента: US20150247943A1. Автор: Hiroshi Shigetaka,Naoya SHIMADA. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-03.

Induction type position measuring apparatus

Номер патента: US20150219434A1. Автор: Fujio Maeda,Shozaburo Tsuji. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Induction type position measuring apparatus

Номер патента: US9568300B2. Автор: Fujio Maeda,Shozaburo Tsuji. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Chemical amplification type photoresist composition, method for producing a semiconductor device using the composition, and semiconductor substrate

Номер патента: TW200301923A. Автор: Toyohisa Sakurada,Takao Yoshihara,Seiji Nagahara. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2003-07-16.

Chemical amplification type photoresist composition, method for producing a semiconductor device using the composition, and semiconductor substrate

Номер патента: TW594850B. Автор: Toyohisa Sakurada,Takao Yoshihara,Seiji Nagahara. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2004-06-21.

Chemical amplification of photosensitive layers

Номер патента: US3409432A. Автор: Paul B Gilman. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1968-11-05.

Method for manufacturing organic processing fluid for patterning of chemical amplification type resist film, organic processing fluid for patterning of chemical amplification type resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: KR101732050B1. Автор: 츠카사 야마나카,나오야 이구치,타카시 카와모토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-05-02.

Chemical amplification in self-strengthening materials

Номер патента: US20180105678A1. Автор: Paul V. Braun,Shuqi Lai,Ariane Vartanian. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2018-04-19.

Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

Номер патента: WO2000008525A1. Автор: Georg Pawlowski,Hiroshi Okazaki,Yoshiaki Kinoshita,Yuko Yamaguchi,Aritaka Hishida,Naoko Tsugama,Xiao-Ming Ma. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD.. Дата публикации: 2000-02-17.

Water resistant compositions containing a heterocyclic compound and an alkoxysilane

Номер патента: EP2838502A2. Автор: Nghi Van Nguyen,Catherine Chiou,Grégory Shmuylovich. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2015-02-25.

Wear-resistant composite material based on aluminum and method of its production

Номер патента: RU2714005C1. Автор: Николай Мартемьянович Русин,Александр Леонидович Скоренцев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН). Дата публикации: 2020-02-11.

Composition of heat-resistant composite material and method for manufacturing a product from heat-resistant composite material

Номер патента: RU2750808C1. Автор: Сергей Владимирович Романюта,Максим Александрович Чернышёв. Владелец: Сергей Владимирович Романюта. Дата публикации: 2021-07-02.

Lightproof and heat-resistant composition

Номер патента: RU2351621C2. Автор: Вероник БОССЕННЕК,Тьерри ШАРБОННО. Владелец: Родианил. Дата публикации: 2009-04-10.

Method of producing fire-resistant composite and composite obtained using said method

Номер патента: RU2414489C2. Автор: Ян НОРДЕГРАФ,Петрус Фредерикус Мария РЕНСЕН,Христианус Маркус Гейсбертус Мария БЮЭЙК,Вильхельмус Петрус Теодорус КЕМПЕРМАН,СВАРТ Хенрикус Йоханна ДЕ,Абрахам АРАЙА,Эрик Петрус Вильхельмус Элизабет СМЕТС. Владелец: Эртесе Б.В.. Дата публикации: 2011-03-20.

Fire-resistant composition and wood impregnation method

Номер патента: RU2565686C2. Автор: Киммо СААРИ. Владелец: ЭфПи ВУД ОЙ. Дата публикации: 2015-10-20.

High-strength high-toughness and wear-resistant composite steel plate and manufacturing method therefor

Номер патента: AU2018376037B2. Автор: Hongbin Li,Xiaojun LIANG,Sihai JIAO,Liandeng Yao,Xiangqian YUAN. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for obtaining a wear-resistant composite material based on silicon carbide

Номер патента: RU2759858C1. Автор: Петр Александрович Витязь,Александр Федорович Ильющенко,Лариса Николаевна Дьячкова,Владимир Анатольевич Осипов. Владелец: ГОСУДАРСТВЕННОЕ НАУЧНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ИНСТИТУТ ПОРОШКОВОЙ МЕТАЛЛУРГИИ ИМЕНИ АКАДЕМИКА О.В. РОМАНА. Дата публикации: 2021-11-18.

Heat-resistant composite diamond sintered article and the method of its production

Номер патента: RU2312844C2. Автор: Минору АКАИШИ,Кейго КАВАМУРА. Владелец: Нэшэнл Инститьют Фор Материалз Сайенс. Дата публикации: 2007-12-20.

Fire-resistant compositions with modified impact strength made from polyalkylene terephthalate/polycarbonate

Номер патента: RU2504563C2. Автор: Экхард ВЕНЦ,Дитер ВИТТМАНН,Пьер МУЛИНИ,Вера ТАШНЕР. Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2014-01-20.

Fire-resistant composite panel

Номер патента: RU2422598C2. Автор: Сергей Петрович Амельчугов,Александр Ибадулович Клименков,Виталий Андреевич Негин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Краспан". Дата публикации: 2011-06-27.

Weather-resistant composite floor and preparation method thereof, and artificial mineral board and preparation method thereof

Номер патента: US20200047469A1. Автор: Qinghua FANG. Владелец: Zhejiang Tianzhen Bamboo & Wood Development Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.

Tarnish resistant compositions and methods of using same

Номер патента: WO2006002408A1. Автор: Scott M. Croce. Владелец: Steridyne Laboratories, Inc.. Дата публикации: 2006-01-05.

Method of preparing water- and oil-repellent soil-resistant composition

Номер патента: EP2362883A2. Автор: Peter Cheshire Hupfield,Yasuo Itami,Akihiko Ueda,Tetsuya Masutani,Jean-Paul Lecomte,Janet Smith. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2011-09-07.

1,3-propanediol soil resist compositions

Номер патента: EP2449166A2. Автор: Joyce Monson Materniak,Edward Patrick Carey. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-05-09.

Propanediol soil resist compositions

Номер патента: WO2011008508A2. Автор: Joyce Monson Materniak,Edward Patrick Carey. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-01-20.

Resistive composition

Номер патента: US09805839B2. Автор: Hiroshi Mashima,Yukari MOROFUJI. Владелец: Shoei Chemical Inc . Дата публикации: 2017-10-31.

A flame cutting resistant composite coated bulletproof steel plate

Номер патента: LU506222B1. Автор: Yujiao Lu. Владелец: Chongqing Vocational Inst Eng. Дата публикации: 2024-07-26.

Sprayable fire-resistant composition and production method therefor

Номер патента: AU2021377556A1. Автор: Kiyoyuki Komatsubara,Yuto Suzuki. Владелец: Shinagawa Refractories Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Sprayable fire-resistant composition and production method therefor

Номер патента: AU2021377556B2. Автор: Kiyoyuki Komatsubara,Yuto Suzuki. Владелец: Shinagawa Refractories Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Fire-resistant composition and fire-resistant thermal insulating plate

Номер патента: RU2645538C2. Автор: Жиксин КСЮ,Ганг ШЕН,Джинхонг ЛИ. Владелец: Азия Куанон Текнолоджи (Шанхай) Ко., Лтд. Дата публикации: 2018-02-21.

Composition for making heat-resistant composites

Номер патента: RU2602542C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Аят Крымович Кайракбаев. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2016-11-20.

Fire-resistant composite material (versions) and method of obtaining it

Номер патента: RU2346017C1. Автор: Ральф Бауэр,Дорук ЕНЕР. Владелец: Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк.. Дата публикации: 2009-02-10.

Fire resistant composite material

Номер патента: RU2435801C2. Автор: Йоханнес Петрус Йозеф ВЕРЛАН,ЙОНГ Алдерт Йоханнес ДЕ. Владелец: Акцо Нобель Н.В.. Дата публикации: 2011-12-10.

Heat-resistant compositions of scale formation inhibitors

Номер патента: RU2725189C2. Автор: Анжела И. ПАДИЛЬЯ-АСЕВЕДО. Владелец: Дау Глоубл Текнолоджиз Ллк. Дата публикации: 2020-06-30.

Fire-resistant composition

Номер патента: RU2688622C1. Автор: Олег Иванович Тужиков,Олег Олегович Тужиков,Борис Андреевич Буравов,Евгений Сергеевич Бочкарёв,Валентин Вениаминович Майзель,Ирина Владимировна Лавникова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2019-05-21.

Composition for producing heat-resistant composites

Номер патента: RU2626488C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский национальный исследовательский университет имени академика С.П. Королева". Дата публикации: 2017-07-28.

Fire-resistant compositions

Номер патента: US20230374319A1. Автор: Daniel Pacheco,Kevin Fortier. Владелец: Hexion Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Fire-resistant compositions

Номер патента: WO2023230011A1. Автор: Daniel Pacheco,Kevin Fortier. Владелец: Hexion Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Method of part manufacturing out of heat resistant composite material, method of manufacturing fiber structure, fibre structure manufactured by this method, and composite structure that contains this structure

Номер патента: RU2324597C2. Автор: Пьер ОЛРИ,Янник Клод БРЕТОН,Сильви БОННАМИ,Натали НИКОЛАУС,Кристиан РОБИН-БРОССЕ,Эрик СИОН. Владелец: Снекма Пропюльсьон Солид. Дата публикации: 2008-05-20.

Polyimide binder for heat-resistant composite materials

Номер патента: RU2671719C2. Автор: Евгений Сергеевич Козлов,Михаил Анатольевич Жаринов,Андрей Львович Наркон,Павел Анатольевич Астахов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2018-11-06.

High-heat resistance composition

Номер патента: RU2592524C2. Автор: Малкит Сингх ДЕОГОН,Манмохан Сингх ДЕОГОН. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2016-07-20.

Halogen-free fire-resistant composition of thermoplastic polyurethane

Номер патента: RU2494138C2. Автор: Дон Сык КИМ,Юн Ву КИМ,Та Ву ЛИ,Хва Йон ЛИ. Владелец: Лубризол Эдванст Мэтиэриэлз, Инк.. Дата публикации: 2013-09-27.

Arc resistant composition

Номер патента: CA1102107A. Автор: Donald G. Needham. Владелец: Phillips Petroleum Co. Дата публикации: 1981-06-02.

Composition for producing heat-resistant composites

Номер патента: RU2623387C1. Автор: Елена Сергеевна Абдрахимова. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2017-06-26.

Refractory or heat-resistant composite articles

Номер патента: GB2093012A. Автор: . Владелец: Didier Werke AG. Дата публикации: 1982-08-25.

Fire resistive composition and textile materials containing same

Номер патента: RU2572970C2. Автор: Шулон ЛИ,Ричард А. МАЙЕРНИК,Уильям С. КИМБРЕЛЛ. Владелец: Милликен Энд Компани. Дата публикации: 2016-01-20.

Composition for heat-resistant composites production

Номер патента: RU2616199C1. Автор: Елена Сергеевна Абдрахимова. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2017-04-13.

Flame-resistant composite materials and articles containing carbon nanotube-infused fiber materials

Номер патента: WO2011142785A2. Автор: Tushar K. Shah,Mark R. Alberding,Harry C. Malecki,Daniel Jacob Adcock. Владелец: APPLIED NANOSTRUCTURED SOLUTIONS, LLC. Дата публикации: 2011-11-17.

Water resistant composition and heat-sensitive recording sheet containing the same

Номер патента: US4708947A. Автор: Takuji Okaya,Junnosuke Yamauchi,Hitoshi Maruyama,Isao Ono,Hiroji Kohno. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-24.

Fire resistant compositions and composites

Номер патента: US4364991A. Автор: Norman R. Byrd,Daniel C. Peek. Владелец: McDonnell Douglas Corp. Дата публикации: 1982-12-21.

Shock resistant composite products

Номер патента: GB1274685A. Автор: Robert Le Grand. Владелец: Cegedur GP. Дата публикации: 1972-05-17.

Heat-resistant composite magnet and method for producing the same

Номер патента: US4264361A. Автор: Yoshio Hasegawa,Seishi Yajima,Takehiro Yamane,Masaaki Hamano,Kimiyuki Kamino. Владелец: Research Institute for Special Inorganic Materials. Дата публикации: 1981-04-28.

Impact-resistant compositions based on vinyl chloride polymers and their use

Номер патента: US5362790A. Автор: Daniel Gloesener. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 1994-11-08.

Erosion Resistant Composition and Method of Making Same

Номер патента: US20180353831A1. Автор: Glenn Kafka. Владелец: Kafka Granite LLC. Дата публикации: 2018-12-13.

Erosion Resistant Composition and Method of Making Same

Номер патента: US20200254323A1. Автор: Glenn Kafka. Владелец: Kafka Granite LLC. Дата публикации: 2020-08-13.

Erosion resistant composition and method of making same

Номер патента: US11420104B2. Автор: Glenn Kafka. Владелец: Kafka Granite LLC. Дата публикации: 2022-08-23.

Co-Cured UV/Visible Light-Resistant Composite Material for Structural Aircraft Assembly

Номер патента: US20230311470A1. Автор: Patrice K. Ackerman,Jason A. BOLLES,Melinda D. Miller. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-10-05.

Co-Cured UV/Visible Light-Resistant Composite Material for Structural Aircraft Assembly

Номер патента: US20230391063A1. Автор: Patrice K. Ackerman,Jason A. BOLLES,Melinda D. Miller. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-12-07.

Co-cured uv/visible light-resistant composite material for structural aircraft assembly

Номер патента: EP4253034A1. Автор: Patrice K. Ackerman,Jason A. BOLLES,Melinda D. Miller. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-10-04.

Co-cured uv/visible light-resistant composite material for structural aircraft assembly

Номер патента: CA3181944A1. Автор: Patrice K. Ackerman,Jason A. BOLLES,Melinda D. Miller. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-09-30.

Resistive composition

Номер патента: MY183351A. Автор: MASHIMA Hiroshi,MOROFUJI Yukari. Владелец: Shoei Chemical Ind Co. Дата публикации: 2021-02-18.

Ozone resistant composition

Номер патента: GB1081114A. Автор: . Владелец: Uniroyal Inc. Дата публикации: 1967-08-31.

Rotary vane type positive displacement fluid pressure intensifier or dual pump

Номер патента: CA3084513A1. Автор: Gerald J. Vowles. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-18.

Method of preparing water- and oil-repellent soil-resistant composition

Номер патента: WO2010055932A3. Автор: Peter Cheshire Hupfield,Yasuo Itami,Akihiko Ueda,Tetsuya Masutani,Jean-Paul Lecomte,Janet Smith. Владелец: Dow Corning Corporation. Дата публикации: 2010-11-04.

Use of thermoplastic polyurethane and impact resistant composite laminate

Номер патента: EP4365217A1. Автор: Ting-Ti Huang,zhen-wei Chen,Chiu-Peng Tsou,Sheng-Mao Tseng. Владелец: Sunko Ink Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Highly erosive and abrasive wear resistant composite coating system

Номер патента: US4855188A. Автор: Paul N. Dyer,Diwakar Garg,Leslie E. Schaffer,Ernest L. Wrecsics,Duane Dimos,Carl F. Mueller. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 1989-08-08.

Microcrack resistant composites

Номер патента: CA1306149C. Автор: George Elias Zahr,Beverly Klingensmith Roberts. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1992-08-11.

High strength weather resistant composite

Номер патента: CA1039003A. Автор: Michael A. Dudley,Clermont A. Roy. Владелец: Canada Wire and Cable Co Ltd. Дата публикации: 1978-09-26.

Tree resistant compositions

Номер патента: CA1326085C. Автор: Barry Topcik. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1994-01-11.

Corrosion resistant composites useful in chemical reactors

Номер патента: US6068925A. Автор: Doug Wilson,Raj Mathur,Gary Pruett,Robert Howard Metter. Владелец: Hitco Carbon Composites Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Resistive composition

Номер патента: CA2939537C. Автор: Hiroshi Mashima,Yukari MOROFUJI. Владелец: Shoei Chemical Inc . Дата публикации: 2017-07-18.

Highly durable and abrasion resistant composite diamond-like carbon decorative coatings with controllable color for metal substrates

Номер патента: US20030060302A1. Автор: Joseph Rogers,Rudolph Petrmichl,Fred Kimock,Victor Zeeman,Joseph Sydlo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Fire resistant composite material and fabrics made therefrom

Номер патента: CA2560054C. Автор: Younger Ahluwalia. Владелец: Elk Corp. Дата публикации: 2008-07-22.

Oil-resistant agent and oil-resistant composition

Номер патента: US20230250589A1. Автор: Tetsuya Uehara,Nozomi Yamaguchi,Hirotoshi Sakashita,Michio Matsuda,Daisuke Noguchi,Shun Shibata. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Flame resistant composite fabrics

Номер патента: US20150110993A1. Автор: Moshe Rock,Gadalia Vainer,David Costello,Jane Hunter,Shawn Flavin,Michael Batson,Heidi Carlone. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-04-23.

Fire resistant composite material and fabrics made therefrom

Номер патента: WO2005094546A3. Автор: Younger Ahluwalia. Владелец: Elk Corp. Дата публикации: 2006-12-14.

Oil-resistant agent and oil-resistant composition

Номер патента: EP4230667A1. Автор: Tetsuya Uehara,Nozomi Yamaguchi,Hirotoshi Sakashita,Michio Matsuda,Daisuke Noguchi,Shun Shibata. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Oil-resistant agent and oil-resistant composition

Номер патента: EP4230667A8. Автор: Tetsuya Uehara,Nozomi Yamaguchi,Hirotoshi Sakashita,Michio Matsuda,Daisuke Noguchi,Shun Shibata. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Use of thermoplastic polyurethane and impact resistant composite laminate

Номер патента: US11981811B2. Автор: Ting-Ti Huang,zhen-wei Chen,Chiu-Peng Tsou,Sheng-Mao Tseng. Владелец: Sunko Ink Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Use of thermoplastic polyurethane and impact resistant composite laminate

Номер патента: US20230104699A1. Автор: Ting-Ti Huang,zhen-wei Chen,Chiu-Peng Tsou,Sheng-Mao Tseng. Владелец: Sunko Ink Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Fire-resistant composition and method for preparation and use thereof

Номер патента: RU2292376C2. Автор: Лоррэн ЛЕЙТ,Жан-Эмиль ЗАНЕТТО,Алексис ПОННУРАДЖУ,Андре ЛАМБЕР. Владелец: Родиа Шими. Дата публикации: 2007-01-27.

Scorch resistant compositions based on water-curable thermoplastic polymers having hydrolyzable, pendant silane moieties, and organo titanates

Номер патента: CA1282522C. Автор: Gary Harry Williams,Michael John Keogh. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1991-04-02.

Flame-resistant composition, and electrical product thereof

Номер патента: US4123586A. Автор: Fred F. Holub,Joseph E. Betts. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1978-10-31.

Scorch resistant compositions based on water-curable thermoplastic polymers having hydrolyzable, pendant silane moieties, and organo titanates

Номер патента: US4598116A. Автор: Gary H. Williams,Michael J. Keogh. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1986-07-01.

Stiff and impact resistant compositions containing polypropylene or poly ethylene-propylene copolymer and calcium carbonate for closures

Номер патента: CA2414493A1. Автор: Anatoliy Goldman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Polyester based shock resistant compositions and process for their preparation

Номер патента: US5252665A. Автор: Antonio Chiolle,Gaetano Andreoli. Владелец: Ausimont SpA. Дата публикации: 1993-10-12.

Wear-resistant composite material

Номер патента: US3933482A. Автор: Daniil Andreevich Dudko,Boleslav Ivanovich Maximovich,Grigory Valentinovich Samsonov,Vitaly Ivanovich Zelenin,Alexandr Sergeevich Klimanov,Vladimir Nikolaevich Potseluiko,Gennady Vasilievich Trunov,Vasily Mikhailovich Sleptsov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-01-20.

Chemical protective, fire resistant composition

Номер патента: CA1130942A. Автор: Gil M. Dias,Armando C. Delasanta. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1982-08-31.

Ballistic-resistant composite with blocked isocyanate

Номер патента: EP3921589A2. Автор: Jason van Heerden. Владелец: BARRDAY CORP. Дата публикации: 2021-12-15.

Ballistic-resistant composite with blocked isocyanate

Номер патента: WO2020226713A9. Автор: Jason van Heerden. Владелец: Barrday Corp.. Дата публикации: 2021-01-28.

Ballistic-resistant composite with blocked isocyanate

Номер патента: WO2020226713A3. Автор: Jason van Heerden. Владелец: Barrday Corp.. Дата публикации: 2020-12-10.

Saltwater corrosion-resistant composite coating

Номер патента: US11530327B1. Автор: Mohamed Abdrabou HUSSEIN,Jobin Jose,A. Madhan Kumar. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2022-12-20.

Fire resistant compositions and laminates

Номер патента: GB2255560A. Автор: Karikath Sukumar Varma,David Peter Parkes. Владелец: PILKINGTON PLC. Дата публикации: 1992-11-11.

Resist resin, chemical amplification type resist, and method of forming of pattern with the same

Номер патента: US20030211734A1. Автор: Shigeyuki Iwasa,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2003-11-13.

Chemical amplification electrochemical detecting method for affinity reaction and agent case thereof

Номер патента: CN1504746A. Автор: 王娜,程京,郭良宏,李元光,王福泉,杨夕强. Владелец: BOAO BIOCHIP Co Ltd BEIJING. Дата публикации: 2004-06-16.

Bending fatigue-resistant composite cable

Номер патента: RU2749526C1. Автор: Хьертур ЭРЛЕНДССОН. Владелец: Хэмпиджан Хф.. Дата публикации: 2021-06-11.

Improved fire resistant composite pole

Номер патента: CA3147296A1. Автор: Robert PAULIN. Владелец: Valmont Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-25.

Improved method for producing high-resistance composite vessels with inner metal liner and vessels made by said method

Номер патента: RU2675173C2. Автор: Джованни ФРАТТИ. Владелец: К.Н.Г.В. д.о.о.. Дата публикации: 2018-12-17.

Amplification type hair dryer

Номер патента: US20220312925A1. Автор: Yiyang Chen. Владелец: Guangdong Wuye Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Three-dimensional memory device with corrosion-resistant composite spacer

Номер патента: US20210104540A1. Автор: LU Zhang,Bo Xu,Chuan Yang,Ping Yan,Jing Gao,Zongliang Huo. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Puncture resistant composite

Номер патента: EP1937470A1. Автор: Yunzhang Wang,Thomas E. Mabe. Владелец: Milliken and Co. Дата публикации: 2008-07-02.

Chemical resistant composite support pad mold and method of manufacturing the support pad

Номер патента: US20170136663A1. Автор: Paul Kirby Reber. Владелец: Great Plains Coatings Inc. Дата публикации: 2017-05-18.

Stain-resist compositions

Номер патента: EP1730346A1. Автор: Yanhui Sun. Владелец: Invista Technologies SARL Switzerland. Дата публикации: 2006-12-13.

Stain-resist compositions

Номер патента: CA2559192A1. Автор: Yanhui Sun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-06.

High Temperature-Resistant Composite Nanofiltration Membrane And Preparation Method Thereof

Номер патента: US20240100488A1. Автор: Hui Yu,Jun Peng,Bo Peng,Pan He,Hongwei LU,Qunhui Hu,Yanbo He,Qian Liao. Владелец: Hunan Ovay Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Cut-resistant composite yarn structure

Номер патента: EP4424890A2. Автор: Jing Xu,Rui Luo. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Adjustable pliers with lever type positioning device

Номер патента: US20230226666A1. Автор: Chin-Lung Yu,Fang-Chih Lee. Владелец: Tytool Enterprise Co ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Impact resistant composite article

Номер патента: EP2501542A1. Автор: Bryan Benedict Sauer,Jeffrey Alan Hanks. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-09-26.

Thermally-resistant composite fabric sheet

Номер патента: CA2576970A1. Автор: Yves Bader,Genevieve M. Laverty. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-09.

Thermally-resistant composite fabric sheet

Номер патента: EP1796492A1. Автор: Yves Bader,Genevieve M. Laverty. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2007-06-20.

Shark resistant composite fabric

Номер патента: US12063997B2. Автор: Haydon Burford. Владелец: Shark Stop Australia Pty Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Composition for making heat-resistant composites

Номер патента: RU2594240C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Габибулла Рабаданович Хасаев,Аят Крымович Кайракбаев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный экономический университет". Дата публикации: 2016-08-10.

Induction type position system

Номер патента: CA1178654A. Автор: Toshimasa Miyazaki,Kazuo Asakawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-11-27.

Moisture/oil resistant composite materials

Номер патента: US20240052571A1. Автор: Xing Jin,Randal L. Shogren,San Hein. Владелец: World Centric. Дата публикации: 2024-02-15.

Inertial mass amplification type tuned mass damper

Номер патента: US20210087841A1. Автор: Yao Jiang,Gang Li,Xing FU,Hongnan Li,Wenlong DU,Zhiqian DONG. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2021-03-25.

Moisture/oil resistant composite materials

Номер патента: WO2024030534A2. Автор: Xing Jin,Randal L. Shogren,San Hein. Владелец: World Centric. Дата публикации: 2024-02-08.

Moisture/oil resistant composite materials

Номер патента: WO2024030534A3. Автор: Xing Jin,Randal L. Shogren,San Hein. Владелец: World Centric. Дата публикации: 2024-03-14.

Fire-resistant composition for manufacturing mullite brick and plates

Номер патента: RU2369579C1. Автор: Валерий Павлович Лузин,Людмила Павловна Лузина. Владелец: ФГУП Центральный научно-исследовательский институт геологии нерудных полезных ископаемых. Дата публикации: 2009-10-10.

Water-resistant composition

Номер патента: RU2663150C2. Автор: Эндрю Уилльям Джон СМИТ,Элизабет РОУСЕЛ,Стефен ПАУЛСТОН. Владелец: Англо Платинум Маркетинг Лимитед. Дата публикации: 2018-08-01.

Thermal resistant composition of aerosol fire extinguishing for wide temperature storage conditions and applications in fire extinguishing generators of different weights and dimensions, methods for manufacture of charges and new fields of application of fire extinguishing generators

Номер патента: RU2656701C2. Автор: Владимир Александрович Соловьев,Владимир Давыдович Фельдман,Николай Иванович Шишов,Борис Петрович Перепеченко,Татьяна Павловна Коробенина,Галина Григорьевна Шахрай,Елизавета Дмитриевна Перепеченко,Зиновий Петрович Пак. Владелец: Борис Петрович Перепеченко. Дата публикации: 2018-06-06.

Wear resistant composites

Номер патента: CA1162467A. Автор: James H. Kramer. Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 1984-02-21.

Flexible, tear resistant composite sheet material and a method for producing the same

Номер патента: CA1338204C. Автор: Robert E. Weber,David W. Guthrie. Владелец: Kimberly Clark Corp. Дата публикации: 1996-04-02.

Method of making a wear resistant composites

Номер патента: US4923550A. Автор: James H. Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-05-08.

Wear resistant composites

Номер патента: US4596734A. Автор: James H. Kramer. Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 1986-06-24.

Resistance composition and method of making electrical resistance elements

Номер патента: US3916037A. Автор: Lynn J Brady,Marion E Ellis. Владелец: CTS Corp. Дата публикации: 1975-10-28.

Lighting resistant composite structures

Номер патента: US5175665A. Автор: Leslie Pegg. Владелец: British Aerospace PLC. Дата публикации: 1992-12-29.

Improved fire resistant composite pole

Номер патента: AU2020351088A1. Автор: Robert PAULIN. Владелец: Valmont Industries Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Fire resistant composite pole

Номер патента: US11879258B2. Автор: Robert PAULIN. Владелец: Valmont Industries Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

Fire resistant composite pole

Номер патента: US20240093524A1. Автор: Robert PAULIN. Владелец: Valmont Industries Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Penetration resistant composite and article comprising same

Номер патента: CA2617258A1. Автор: Minshon J. Chiou. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-22.

Penetration resistant composite and article comprising same

Номер патента: EP1920210A2. Автор: Minshon J. Chiou. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2008-05-14.

Rotor-type positive-displacement machine

Номер патента: RU2376478C2. Автор: Александр Владимирович Дидин,Илья Яковлевич Яновский. Владелец: Илья Яковлевич Яновский. Дата публикации: 2009-12-20.

Scroll-type positive displacement apparatus with oil supply to compression chamber

Номер патента: US4842499A. Автор: Etsuo Morishita,Mitsuhiro Nishida,Isamu Etou. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-06-27.

Fire resistant composite mat

Номер патента: WO2017081672A1. Автор: Patrick Getty,Garry Balthes,Karl Richard NICHOLAS,John C. Norton. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-05-18.

Jelly roll-type positive temperature coefficient (ptc) device and fabrication method thereof

Номер патента: EP3836167A1. Автор: GUO Weiqing,Boris Golubovic. Владелец: Littelfuse Inc. Дата публикации: 2021-06-16.

Fire resistant composite material and fabrics made therefrom

Номер патента: CA2560097A1. Автор: Younger Ahluwalia. Владелец: Elkcorp. Дата публикации: 2005-10-13.

Multi-contact type position detection apparatus for target board

Номер патента: US9885546B2. Автор: Kwang HU. Владелец: 3ip Hangung Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Multi-contact type position detection apparatus for target board

Номер патента: US20170131068A1. Автор: Kwang HU. Владелец: 3ip Hangung Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-11.

Water-resistant composition

Номер патента: CA2916502C. Автор: Andrew William John Smith,Elizabeth Rowsell,Stephen Poulston. Владелец: Anglo Platinum Marketing Ltd. Дата публикации: 2021-05-18.

Fire resistant composite material and fabrics made therefrom

Номер патента: CA2559874C. Автор: Younger Ahluwalia. Владелец: Elk Corp. Дата публикации: 2008-06-03.

Water resistant compositions containing a lactone compound and an amine compound chosen from amino alcohol compounds and alkoxylated amine compounds

Номер патента: US20130272975A1. Автор: Nghi Van Nguyen,Catherine Chiou,Grégory Shmuylovich. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2013-10-17.

Highly heat-resistant composition, varnish for electrical wire coating using the same, and heat-resistant insulating electrical wire using the same

Номер патента: WO2009142448A2. Автор: Dong-Jin Seo,Joon-Hee Lee,Gun-Joo Lee. Владелец: LS CABLE LTD.. Дата публикации: 2009-11-26.

Microcracking and permeability resistant composite materials, articles, and methods

Номер патента: US20240167625A1. Автор: Brian Rice,Kevin Retz,Lingchuan Li,Paul Kladitis. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2024-05-23.

Highly heat-resistant composition, varnish for electrical wire coating using the same, and heat-resistant insulating electrical wire using the same

Номер патента: WO2009142448A3. Автор: Dong-Jin Seo,Joon-Hee Lee,Gun-Joo Lee. Владелец: LS CABLE LTD.. Дата публикации: 2010-03-11.

Wear-resistant overlay forming method and wear-resistant composite members

Номер патента: US5852272A. Автор: Masaharu Amano. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 1998-12-22.

Wear-resistant overlay forming method and wear-resistant composite members

Номер патента: CA2173213C. Автор: Masaharu Amano,Ltd. Komatsu. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2005-05-17.

Fire resisting compositions for coating or impregnating textile materials

Номер патента: GB498181A. Автор: . Владелец: LAURENCE MACFARLANE. Дата публикации: 1939-01-04.

Drapable, water vapor permeable, wind and water resistant composite fabric and method of manufacturing same

Номер патента: US5126182A. Автор: Moshe Rock,Yechiel Naor,Douglas Lumb. Владелец: Malden Mills Industries Inc. Дата публикации: 1992-06-30.

Penetration resistant composite

Номер патента: US7648757B2. Автор: Uwe Rockenfeller,Kaveh Khalili. Владелец: Rocky Research Corp. Дата публикации: 2010-01-19.

Impact-resistant composite structure

Номер патента: US20200094519A1. Автор: Chun-Chung LIU. Владелец: Chun-Chung LIU. Дата публикации: 2020-03-26.

Shark resistant composite fabric

Номер патента: GB2599248A. Автор: Burford Haydon. Владелец: Shark Stop Australia Pty Ltd. Дата публикации: 2022-03-30.

Shark resistant composite fabric

Номер патента: AU2020256634A1. Автор: Haydon Burford. Владелец: Shark Stop Australia Pty Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Shark resistant composite fabric

Номер патента: WO2020206496A1. Автор: Haydon Burford. Владелец: H. Burford Pty. Ltd.. Дата публикации: 2020-10-15.

Shark resistant composite fabric

Номер патента: US20240188664A1. Автор: Haydon Burford. Владелец: Shark Stop Australia Pty Ltb. Дата публикации: 2024-06-13.

Detection of biological molecules using boronate-based chemical amplification and optical sensors

Номер патента: US6002954A. Автор: Thomas A. Peyser,John Joseph Mastrototaro,Stephen M. Lane,William Peter Van Antwerp,Christopher B. Darrow,Joe H. Satcher, Jr.,Jennifer Harder. Владелец: Minimed Inc. Дата публикации: 1999-12-14.

Ultrasensitive bioanalytical assays based on the use of high-gain catalytic chemical amplification

Номер патента: US7820394B2. Автор: Mark Lelental,Henry J. Gysling. Владелец: CatAssays. Дата публикации: 2010-10-26.

Chemical amplification based on fluid partitioning

Номер патента: USRE47080E1. Автор: Christopher J. Elkin,Brian L. Anderson,Bill W. Colston. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2018-10-09.

Chemical amplification based on fluid partitioning

Номер патента: US7041481B2. Автор: Billy W. Colston, Jr.,Brian L. Anderson,Chris Elkin. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2006-05-09.

Detection of biological molecules using chemical amplification and optical sensors

Номер патента: CA2235738C. Автор: John Joseph Mastrototaro,William Peter Van Antwerp. Владелец: Medtronic Minimed Inc. Дата публикации: 2005-07-26.

Detection of biological molecules using chemical amplification and optical sensors

Номер патента: US6011984A. Автор: John Joseph Mastrototaro,William Peter Van Antwerp. Владелец: Minimed Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

CHEMICAL AMPLIFICATION IN SELF-STRENGTHENING MATERIALS

Номер патента: US20180105678A1. Автор: Braun Paul V.,LAI Shuqi,VARTANIAN Ariane. Владелец: The Board of Trustees of the University of Illinois. Дата публикации: 2018-04-19.

Macroporous support for chemical amplification reaction and its utilization

Номер патента: JP2006223309A. Автор: Stephan Dertinger,シュテファン，デアティンガー,Marco Kluehr,マルコ，クリューア,Thomas Haneder,トーマス，ハネダー. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-08-31.

Detection of biological molecules using chemical amplification and optical sensors

Номер патента: US6319540B1. Автор: John Joseph Mastrototaro,William Peter Van Antwerp. Владелец: Minimed Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Macroporous support for chemical amplification reactions

Номер патента: KR100774713B1. Автор: 스테판 데르틴거,마르코 클루에흐,토마스 하네더. Владелец: 인피니언 테크놀로지스 아게. Дата публикации: 2007-11-08.

Macroporous support for chemical amplification reactions

Номер патента: CN1861800A. Автор: S·德尔廷格,M·克吕尔,T·哈内德. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-11-15.

Fast drying, high build, sag-resistant compositions, coatings, two-component pack and coating process

Номер патента: US12054642B2. Автор: Vincent J. GOLDMAN,Andrew RECKER,Pallavi BAPAT,Kyle KAMPF. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-08-06.

MICRO-FLUIDIC PARTITIONING BETWEEN POLYMERIC SHEETS FOR CHEMICAL AMPLIFICATION AND PROCESSING

Номер патента: US20150224504A1. Автор: Anderson Brian L.. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-13.

Composition for making heat-resistant composites

Номер патента: RU2592922C1. Автор: Елена Сергеевна Абдрахимова. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2016-07-27.

Ceramic oxidating-resistant composite material and product made from it

Номер патента: RU2560046C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Олег Юрьевич Сорокин,Денис Вячеславович Гращенков,Сергей Станиславович Солнцев,Сергей Анатольевич Евдокимов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2015-08-20.

Composition for producing heat-resistant composites

Номер патента: RU2521980C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Ирина Юрьевна Рощупкина,Александр Викторович Колпаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2014-07-10.

Procedure for application of wear-resistant composite coating on wear surfaces of steel products

Номер патента: RU2598738C2. Автор: Василий Сигизмундович Марцинковский,Вячеслав Борисович Тарельник. Владелец: Василий Сигизмундович Марцинковский. Дата публикации: 2016-09-27.

Composition for manufacturing heat-resistant composites

Номер патента: RU2526090C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Ирина Юрьевна Рощупкина,Александр Викторович Колпаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет" (СГАУ). Дата публикации: 2014-08-20.

Maleimide copolymer, process of obtaining thereof and heat-resistant compositions of resins, containing thereof

Номер патента: RU2513100C2. Автор: Тецуо НОГУЧИ,Коичи ОДЗАВА. Владелец: Денки Кагаку Когио Кабушики Каиша. Дата публикации: 2014-04-20.

Sheet layered polymer wear-resistant composite material (versions)

Номер патента: RU2597372C2. Автор: Александр Петрович Краснов,Дмитрий Игоревич Буяев,Валентин Геннадиевич Митин,Вячеслав Васильевич Муратов. Владелец: Вячеслав Васильевич Муратов. Дата публикации: 2016-09-10.

Method for production of moisture-resistant composite boards from vegetable waste-and polyethylene

Номер патента: RU2314195C2. Автор: Юрий Геннадьевич Скурыдин,Елена Михайловна Скурыдина. Владелец: Елена Михайловна Скурыдина. Дата публикации: 2008-01-10.

Composition for production of heat resistant composites

Номер патента: RU2521244C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Ирина Юрьевна Рощупкина,Александр Викторович Колпаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2014-06-27.

Flame-resisting composition

Номер патента: RU2312876C1. Автор: Петр Яковлевич Хлебной,Андрей Эдуардович Антошин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Альфакон-Строй". Дата публикации: 2007-12-20.

Corrosion-resistant composite polymer-matrix polysulphone-based powder coating

Номер патента: RU2544644C2. Автор: Виктор Викторович Чердынцев,Сергей Дмитриевич Калошкин,Константин Сергеевич Ергин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" (НИТУ "МИСиС"). Дата публикации: 2015-03-20.

Method of producing sealed articles from heat resistant composites

Номер патента: RU2552545C2. Автор: Вячеслав Максимович Бушуев,Максим Вячеславович Бушуев,Игорь Лазаревич Синани. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2015-06-10.

Oil-resistant composition of rubber-modified polystyrene and a method for preparation thereof

Номер патента: RU2222555C2. Автор: Кодзи КАВАНО,Кенитиро МАЦУБА. Владелец: Тойо Инджиниринг Корпорейшн. Дата публикации: 2004-01-27.

Wear resistant composite ceramic nanostructured material and method of its obtaining

Номер патента: RU2525538C1. Автор: Валентин Николаевич Фищев,Сукяс Семенович Орданьян,Янина Геннадьевна Дятлова,Андрей Сергеевич Осмаков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Вириал". Дата публикации: 2014-08-20.

Wear resistant composite coating and method of its production

Номер патента: RU2361970C2. Автор: Михаил Михайлович Криштал,Николай Александрович Макаровец,Валерий Владимирович Гаевский,Василий Александрович Большаков,Михаил Олегович Рюмкин. Владелец: ФГУП "Государственное научно-производственное предприятие "Сплав". Дата публикации: 2009-07-20.

Textile technology mixed material for polymer wear-resistant composite products

Номер патента: RU2405073C1. Автор: Александр Петрович Краснов,Павел Алексеевич Чукаловский,Дмитрий Игоревич Буяев,Валентин Геннадиевич Митин,Вячеслав Васильевич Муратов. Владелец: Валентин Геннадиевич Митин. Дата публикации: 2010-11-27.

Method of processing of external surface of rotation parts of printing machines from wear-resistant composites based on aluminum with diamond bars using ultrasound

Номер патента: UA100129U. Автор: Тетяна Анатоліївна Роїк,Юлія Юріївна Віцюк,Петро Олексійович Киричок,Анатолій Павлович Гавриш,Світлана Миколаївна Зигуля. Владелец: Анатолій Павлович Гавриш. Дата публикации: 2015-07-10.

Method of gas-dynamic sputtering of anticorrosion coating from a corrosion-resistant composition onto the surface of container for transporting and/or storing spent nuclear fuel, made from high-strength iron with globular graphite

Номер патента: RU2593041C2. Автор: Борис Иванович Зайцев,Владимир Дмитриевич Гуськов,Марат Артемович Белоцерковский,Владимир Владимирович Воронцов,Владимир Юльянович Сувалко,Константин Борисович Ходасевич,Андрей Валерьевич Царёв,Игорь Леонидович Поболь,Алексей Игоревич Поболь. Владелец: Акционерное общество "Конструкторское бюро специального машиностроения". Дата публикации: 2016-07-27.

Composition for manufacturing heat resistant composites

Номер патента: RU2521005C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Ирина Юрьевна Рощупкина,Александр Викторович Колпаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2014-06-27.

Composition for manufacture of heat-resistant composites

Номер патента: RU2568203C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный экономический университет". Дата публикации: 2015-11-10.

Fire-resistant composition

Номер патента: RU2273616C2. Автор: Багир Алекпер оглы Сулейманов,Меджид Заид оглы Керимов,Веджиха Ибрагим Паша кызы Абдуллаева,Низами Алигулу оглы Азимов. Владелец: Государственный научно-исследовательский проектный институт "Гипроморнефтегаз". Дата публикации: 2006-04-10.

Fire-resistant composition based on epoxy-diane resin

Номер патента: RU2590551C1. Автор: Виктор Федорович Каблов,Наталья Александровна Кейбал,Александр Александрович Живаев,Тамара Викторовна Крекалева,Екатерина Сергеевна Осипова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2016-07-10.

Wear-resistant composite material with eutectic infiltrate

Номер патента: RU2482202C2. Автор: Альмир Амирович Ганеев,Олег Борисович Деменок,Евгений Николаевич Шлыгин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2013-05-20.

Wear and impact resistant composite cast (version)

Номер патента: RU2397872C2. Автор: Михаил Ефимович Гарбер,Леонид Григорьевич Гарбер,Эдуард Аронович Гродский. Владелец: Эдуард Аронович Гродский. Дата публикации: 2010-08-27.

Fire-resistant composite material and method for production thereof

Номер патента: RU2545284C2. Автор: Сергей Константинович Есаулов. Владелец: Сергей Константинович Есаулов. Дата публикации: 2015-03-27.

Production method of wear resistant composite nano-structured coating

Номер патента: RU2439198C2. Автор: Дмитрий Анатольевич Геращенков,Борис Владимирович Фармаковский,Алексей Филиппович Васильев,Евгений Александрович Самоделкин,Евгений Юрьевич Земляницын,Руслан Юрьевич Быстров,Оксана Сергеевна Сергеева,Никита Владимирович Маренников. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Центральный Научно-Исследовательский Институт Конструкционных Материалов "Прометей" (Фгуп "Цнии Км "Прометей"). Дата публикации: 2012-01-10.

Method of making water-resistant composite object (versions) and composite object, made using said method

Номер патента: RU2375386C1. Автор: . Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Преображение". Дата публикации: 2009-12-10.

Corrosion-resistant composite polymer-matrix powder polysulphone-based coating

Номер патента: RU2525906C2. Автор: Виктор Викторович Чердынцев,Сергей Дмитриевич Калошкин,Константин Сергеевич Ергин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МИСиС" (НИТУ "МИСИС"). Дата публикации: 2014-08-20.

Composition for producing heat-resistant composites

Номер патента: RU2524155C1. Автор: Владимир Закирович Абдрахимов,Елена Сергеевна Абдрахимова,Ирина Юрьевна Рощупкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ). Дата публикации: 2014-07-27.

Wear-resistant composite powder material on copper base for contact plates of current collectors of electric stock

Номер патента: RU2400550C2. Автор: Алла Владимировна Алешина,Игорь Владимирович Мелешко,Алексей Сергеевич Богатов,Александр Владимирович Сахненко,Сергей Александрович Сахненко. Владелец: Сергей Александрович Сахненко. Дата публикации: 2010-09-27.

Ballistic-resistant composite article

Номер патента: CA1312487C. Автор: Dusan Ciril Prevorsek,Gary A. Harpell,Young D. Kwon,Hsin L. Li. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 1993-01-12.

Atmosphere-resistant composition for protection of wood

Номер патента: RU2091415C1. Автор: А.Ф. Воронов,Б.С. Романов,В.Ф. Харитонов,Г.И. Юдина,Г.П. Наумова. Владелец: Производственное объединение "Алексинский химический комбинат". Дата публикации: 1997-09-27.

One component detergent resistant compositions

Номер патента: CA1238997A. Автор: Paul F. D'angelo. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1988-07-05.

Photoacid generator, method for manufacturing the same, and resist composition comprising the same

Номер патента: SG176397A1. Автор: Jin HO KIM,Dae Hyeon Shin,Seung Duk Cho,Joon Hee Han. Владелец: Korea Kumho Petrochem Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-29.

Method of making articles from heat-resistant composite materials

Номер патента: RU2569385C1. Автор: Вячеслав Максимович Бушуев,Максим Вячеславович Бушуев,Андрей Георгиевич Докучаев,Вадим Александрович Некрасов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Уральский научно-исследовательский институт композиционных материалов". Дата публикации: 2015-11-27.

Wear-resistant overlay forming method and wear-resistant composite members

Номер патента: CA2473139C. Автор: Masaharu Amano. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2009-03-17.

Tree resistant compositions

Номер патента: CA2022312C. Автор: Alfred Mendelsohn,Jeffrey D. Umpleby,Robert J. Turbett,Austin E. Barnabeo,Eric P. Marsden. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 2001-05-01.

Resistance composition

Номер патента: GEP201706784B. Автор: Jimsher Aneli,Lana Shamanauri. Владелец: ) Lepl Raphiel Dvali Institute Of Mashine Mechanics. Дата публикации: 2017-11-27.

Additive for resist and resist composition comprising same

Номер патента: SG191481A1. Автор: Jin HO KIM,Seung Duk Cho,Dae Kyung Yoon,Dong Chul Seo. Владелец: Korea Kumho Petrochem Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST COATED MASK BLANKS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120202141A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-08-09.

Chemical amplification type positive type resist composition

Номер патента: JPH11305444A. Автор: Yasunori Kamiya,保則 上谷,Hiroaki Fujishima,浩晃 藤島. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-11-05.

Chemical amplification type positive photoresist composition for thick film, thick film photoresist laminate, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connection terminal

Номер патента: JP4318944B2. Автор: 浩一 三隅,俊樹 奥井. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-26.

Chemical amplification type positive photoresist composition for thick film, thick film photoresist laminate, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connection terminal

Номер патента: JP4318945B2. Автор: 浩一 三隅,俊樹 奥井,宏二 斎藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-26.

Chemical amplification type positive photoresist composition for thick film, thick film photoresist laminate, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connection terminal

Номер патента: JP4318946B2. Автор: 浩一 三隅,俊樹 奥井. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-26.

Chemical amplification type positive photoresist composition for thick film, thick film photoresist laminate, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connection terminal

Номер патента: JP4267356B2. Автор: 浩一 三隅,俊樹 奥井. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-27.

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20130029254A1. Автор: Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-01-31.

Chemical amplification type register

Номер патента: KR980010624A. Автор: 최상준. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1998-04-30.

Positive chemical amplification type photosensitive resin composition, and production of resist image

Номер патента: JPH10123712A. Автор: Koji KATO,Tadahiro Kimura,忠広 木村,Shigeru Koibuchi,通晰 橋本,Masahiro Hashimoto,政弘 橋本,幸治 加藤,Michiaki Hashimoto,Shigeru Nishio,滋 鯉渕,繁 西尾. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-15.

Chemical amplification type photoresist composition and pattern forming method using same

Номер патента: JPH10171122A. Автор: 勝美 前田,嘉一郎 中野,悦雄 長谷川,Shigeyuki Iwasa,繁之 岩佐,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-06-26.

Chemical amplification-type photosensitive composition, image forming material and method for forming image

Номер патента: JP2004240120A. Автор: Yuuji MIZUHO,右二 瑞穂,恵理子 利光,Eriko Toshimitsu. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2004-08-26.

Polymer for chemical amplification type photoresist, photoresist composition and process for producing semiconductor device using it

Номер патента: JP2003261657A. Автор: Osamu Onishi,治 大西. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-19.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20120058427A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-03-08.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20120077122A1. Автор: IWATO Kaoru,Kato Keita. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-03-29.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20120148957A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Tarutani Shinji,IWATO Kaoru,Kato Keita,Kamimura Sou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-06-14.

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20120288691A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Tarutani Shinji,IWATO Kaoru,Kato Keita,Kamimura Sou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-11-15.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20120322007A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Tarutani Shinji,IWATO Kaoru,Kato Keita,Kamimura Sou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-12-20.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20130011619A1. Автор: Tarutani Shinji,FUJII Kana. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-01-10.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20130045365A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Tarutani Shinji,IWATO Kaoru,Kato Keita,Kamimura Sou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-02-21.

RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, CROSSLINKING NEGATIVE CHEMICAL-AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, NANOIMPRINT MOLD, AND PHOTOMASK

Номер патента: US20130045440A1. Автор: TSUCHIHASHI Toru,SHIBATA Michihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-02-21.

NEGATIVE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM, AND, RESIST-COATED MASK BLANKS, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PHOTOMASK, EACH USING THE SAME

Номер патента: US20130084518A1. Автор: Inasaki Takeshi,Tsuchimura Tomotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM

Номер патента: US20130115556A1. Автор: KATAOKA Shohei,IWATO Kaoru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-05-09.

Monomer or polymer having fluorine-containing acetal or ketal structure, and chemical amplification resist composition

Номер патента: JP2003252928A. Автор: 勝美 前田,嘉一郎 中野,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2003-09-10.

Positive resist composition, pattern formation method using the positive resist composition, and compound used in the positive resist composition

Номер патента: JP4597009B2. Автор: 薫 岩戸. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Chemical Amplification Resist Pattern Formation Method

Номер патента: KR960002593A. Автор: 문승찬,민영홍. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1996-01-26.

Polystyrene-based polymer compound, chemical amplification positive type resist material and pattern formation

Номер патента: JPH11236416A. Автор: Osamu Watanabe,修 渡辺,茂広 名倉,Shigehiro Nagura,隆信 武田,Takanobu Takeda,Junji Shimada,順次 島田. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

MICRO-FLUIDIC PARTITIONING BETWEEN POLYMERIC SHEETS FOR CHEMICAL AMPLIFICATION AND PROCESSING

Номер патента: US20120298288A1. Автор: Anderson Brian L.. Владелец: . Дата публикации: 2012-11-29.

Chemical amplification resist resin

Номер патента: JP5089303B2. Автор: 浩敏 溝田,斉 友部,博生 山中,法正 岩崎. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-05.

Chemical amplification positive type resist material

Номер патента: JPH1083079A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　　潤,Fujio Yagihashi,不二夫 八木橋,歩 清森,Tomoyuki Iwasaki,智之 岩崎,Ayumi Kiyomori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-03-31.

Chemical amplification positive type resist material

Номер патента: JP2002099090A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　　潤. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-05.

Chemically amplified positive resist composition, and resist film, resist coated mask blank, resist pattern formation method, and photomask using the same

Номер патента: JP2013182191A. Автор: 智孝 土村,Tomotaka Tsuchimura,孝太郎 高橋,Takuya TSURUTA,毅 稲崎,Kotaro Takahashi,拓也 鶴田,Takeshi Inazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-12.

Chemically amplified positive resist composition

Номер патента: TW434459B. Автор: Jun Hatakeyama,Takeshi Nagata,Toshinobu Ishihara,Shigehiro Nagura,Kiyoshi Motomi. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2001-05-16.

RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION, NANOIMPRINT MOLD AND PHOTOMASK

Номер патента: US20130052568A1. Автор: TSUCHIHASHI Toru,SHIBATA Michihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-02-28.

Method for forming resist pattern with excellent heat resistance and positive resist composition used therefor

Номер патента: JP4221788B2. Автор: 保則 上谷. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-12.

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20120009520A1. Автор: Utsumi Yoshiyuki,TAKESHITA Masaru. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-12.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND

Номер патента: US20120202151A1. Автор: Dazai Takahiro,Shiono Daiju,Hirano Tomoyuki,Matsumiya Tasuku. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-09.

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20120329969A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-12-27.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND

Номер патента: US20130053518A1. Автор: Dazai Takahiro,Shiono Daiju,Hirano Tomoyuki,Matsumiya Tasuku. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2013-02-28.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.