Positive-type resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher, and polymeric compound
Номер патента: US9766541B2
Опубликовано: 19-09-2017
Автор(ы): Daisuke Kawana, Hiroto Yamazaki, Kenta Suzuki, Masatoshi Arai, Tatsuya Fujii, Yoshitaka Komuro
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-09-2017
Автор(ы): Daisuke Kawana, Hiroto Yamazaki, Kenta Suzuki, Masatoshi Arai, Tatsuya Fujii, Yoshitaka Komuro
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Positive-type resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher, and polymeric compound
Номер патента: US20160376233A1. Автор: Daisuke Kawana,Masatoshi Arai,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-29.